Технология лазерной очистки использует сфокусированный лазерный луч для быстрого испарения или удаления загрязнений с поверхности материалов. По сравнению со всеми видами традиционных физических или химических методов очистки, лазерная очистка не имеет контакта с материалами, не требует расходных материалов, не загрязняет окружающую среду, отличается высокой точностью, отсутствием повреждений или незначительных повреждений материалов подложки и т. д. Лазер является идеальным выбором для новое поколение промышленных технологий очистки. Принцип работы Принцип работы лазерной очистки сложен и может включать в себя как физические, так и химические процессы. В большинстве случаев преобладает физическая. Когда высокоэнергетический лазер облучает поверхность материала, поверхность поглощает лазерную энергию от поверхности к внутренней подложке. В то же время температура поверхности быстро повышается и достигает точки испарения, так что загрязняющие вещества испаряются с поверхности материала. Это избирательное испарение обычно происходит, когда скорость поглощения лазерного луча загрязняющими веществами на поверхности значительно выше, чем на подложках. Одним из типичных случаев применения является очистка поверхности камня от грязи. Загрязнение на поверхности камня имеет высокую скорость поглощения лазера и быстро испаряется. Когда загрязнения очищаются, скорость поглощения поверхности камня очень низкая. Большая часть лазерной энергии рассеивается на загрязняющие вещества на поверхности камня, а изменение температуры поверхности камня очень мало. Таким образом, поверхность камня защищена от повреждений, в то время как загрязнения удаляются.