RIS素子の実現可能な抵抗値の範囲を拡大するための技術的アプローチとして、新しい材料や構造の導入が考えられます。例えば、より高度な製造技術や材料工学の進歩により、より広い抵抗値の範囲を持つ素子を開発することが可能です。また、電子部品の微細化や高度化により、より精密な抵抗値を制御できる素子が実現される可能性もあります。