質問: 無電解ニッケルメッキの膜厚測定 半導体素子に無電解ニッケルメッキを行っているのですが、膜厚測定の方法に困っています。 膜厚は5μmを狙っているのですが、今のところ素子を割って膜厚を測定する方法しか思いつきません。何か良い方法はないでしょうか?よろしくお願いします。
回答: 電解式膜厚計ではどうでしょうか? (たしか、めっき膜を溶解し材質変化時の電位変化を検出するはずですので、もしかしたら使えるかもしれません。←間違いがありましたらご指摘下さい。) #1のがおっしゃる様に半導体素子な点が問題ですが、蛍光x線よりは可能性が高いのではないかと思います。 参考url:http://www.densoku-jp.co.jp/j.ct2.html