質問: 半導体スケーリング則について 半導体のスケーリング則についてですが、ゲート酸化物は膜厚を薄くすると絶縁破壊することを聞きました。ふと思ったのですが、それならばゲート酸化物の膜厚を一定にしてスケーリングは出来ないのでしょうか?調べてみてもスケーリングにおいてゲート酸化物の膜厚は薄くするとしか説明していません。もちろん私の考えは間違っているから行われていないのでしょうが、ゲート酸化膜一定のスケーリングは何がどうなるのでしょうか?
回答: ムーアの法則によってmos-fetの横サイズも小さくなり、駆動電圧も下がりますのでゲート膜も薄い方向にシフトせざるを得ないのではないかと思います。fetの動作の維持だと思います。