質問: euvの波長13.5nmについて リソグラフィ用のeuvの波長はなぜ13.5nmなのでしょうか? 使用するmo/si多層膜ミラーの反射率に起因するような印象を受けましたが、合っていますでしょうか? もし、ミラーのためならば、13.5nmより短波長の領域に大きな反射率を持つ新たなミラーが作られたら、使用されるeuv光は13.5nmより短い領域を使用したりするのでしょうか。 どうぞよろしくお願いいたします。
回答: すみません。徹夜明けで嘘を書いてます。 (リソグラフィーには使えませんが、mo/siよりも反射率が高い薄膜があるので勘違いしました。) 「mo/si多層膜ミラーの反射率に起因」というので正解です。 euvリソの光学系を選ぶときは 1.レーザーからx線への変換効率 2.ミラーの反射率 3.デブリの発生度合い といったモノを考慮します。 基本的には1と2の積の大きいモノを選べば良いですね。 mo/siは13.5nmに反射のピークをもち、snもこの付近にピークをもちます。(多層膜ミラーは1つの波長にしか使えないのでピークの幅は関係ありません) 13.5nmより短い波長で反射率の高いミラーも存在します。 mo/be多層膜ミラーで、一番効率が良いのは11nmです。 11nm付近にピークがあるのがxeです。 しかも、固体ターゲットより気体ターゲットの方がデブリが少なく、これがベストの組み合わせだと考えられていました。 しかし、毒性があり、耐久力に欠けるbeは実用的でないと考えられたのです。 今後もっと良いミラーが見つかったとしても、(というか、上に挙げたように実際にありますが) 直径300mmの範囲に結像できるかだとか、実用に耐えうるかとか、 変換効率の良い光源があるかどうか、とか言ったことがネックになるのです。