質問: 酸化銅膜厚を測定できる膜厚計をご存じであれば教えてください。 膜厚管理のための工程導入が目的になりますので、”分析”ではなく、”測定”のイメージになります。 被測定物情報は下記になります。 ・基材(銅)上に数百nm~数μmの酸化銅膜が製膜されており、この膜厚を測定したい ・酸化銅膜は透明ではなく有色(赤褐色) ・酸化銅膜は針状結晶をしているため、膜表面は凹凸形状 下記手法を検討したのですが、測定が難しいようです。 ?光干渉法式の膜厚計 → 表面の凹凸で乱反射するため測定不可 ?渦電流式の膜厚計 → 機器精度不足のため測定不可(nmレベルは測定できない) ?レーザー変位計を利用した膜厚測定 → 機器精度不足のため測定不可(nmレベルは測定できず) 宜しくお願いします。
回答: 使えそうなものだと エリプソメーター: 干渉式膜厚計としてテスト済み? 変位計: マスキングをしたテストピースと同時加工して段差測定。 測定にはAFM(原子間力顕微鏡)やキーエンスSIシリーズ変位計を利用。 分解能1nm位行けるはず。 共焦点型変位計: キーエンスLTシリーズ変位計もテスト済み? 分解能10nmはあるみたいですが。 X線反射率膜厚計: 表面粗さまで測定可能 とても高額 吸光による膜厚推定: FTIRで測定可能らしい。 ほかに酸化銅の透過波長と吸収波長を同軸照射して散乱反射光の 強度比を測定すれば膜厚に換算できるかもしれません。 (膜厚既知の標準試料で校正) 干渉計が使えないということは表面粗さが100nm以上あるということなので 10nm精度は厳しいかもしれません。 参考URL: