Diskussion:Fotolithografie (Halbleitertechnik)/Archiv

message: Hi, ich dachte es könnte nicht schaden,
irgendwo eine Formel zur Auflösung 
der Projektionsbelichtung einzufügen:
 d_{\rm min} \approx k\cdot{\frac{1,22\cdot\lambda}{NA}}
 
mit numerischer Apertur NA, Wellenlänge  \lambda,
und dem mysteriösen Vorfaktor k, den man für periodische 
Strukturen im Rahmen der Wellenoptik (Phasenmasken, Zusatzstrukturen etc.) 
unter eins drücken kann.
die 1.22 kommen vom Rayleigh Kriterium (sie z.B.)
http://www.greier-greiner.at/hc/aufloesung.htm
Gruß Gunnar
--137.248.131.84 18:53, 13. Nov 2005 (CET)
thread_title:  Formel zur Auflösung? 

message: Der Absatz über Deep-UV liest sich so, als ob DUV etwas völlig neues wäre, womit man 29nm Strukturen erzeugen könnte.
Tatsächlich wird DUV (248nm oder 193nm!) seit Jahren (mit nur einem Laser und ohne Immersionsmedium) eingesetzt und liefert in der bisherigen Variante natürlich geringere Auflösungen als EUV.
Wer sich's zutraut möge den Absatz bitte umformulieren, ich selbst weiß über das neue Verfahren von IBM nichts. --Afrank99 18:05, 21. Mai 2006 (CEST)
thread_title:  DUV??? 

message: In der Drucktechnik werden in diesem Verfahren Halbtonnegative auf beschichtete Steinplatten belichtet - Meines Wissens nach braucht man zum Drucken einen Raster, um Halbtöne zu erzeugen, oder wie ist dieser Satz zu verstehen? --Nikater 14:14, 1. Jul. 2009 (CEST)
replies: text: Wird dies nicht durch die nachfolgenden Sätze erklärt? --Cepheiden 15:00, 1. Jul. 2009 (CEST)
replies: text: Ich kann dort keine Erklärung erkennen. Auf jeden Fall kann man von einem auf den Stein kopierten Halbtonnegativ nicht drucken, das geht nur mit Hilfe des Rasters. Fotolithografie in der Drucktechnik ist außerdem etwas anderes, als es hier beschrieben wird. Ich habe hierzu ein Kapitel unter Lithografie verfasst. --Nikater 18:06, 1. Jul. 2009 (CEST)
replies: text:  Mag sein, bin nur ein Laie was das angeht. Ich empfand die Beschreibung aber als okay. Die Information ist auch schon seit Ewigkeiten im Artikel . Wenn du eh schon einen längen Abschnitt darüber erstellt hast, dann gestallte doch bitte den Abschnitt hier entsprechend um und verweise auf deinen Text. So kann Redundanz minimiert werden. --Cepheiden 20:52, 1. Jul. 2009 (CEST)
replies: text:  Ich frage mich nur, ob man aus dem Lemma "Fotolithografie" nicht zwei getrennte Artikel machen sollte. Denn im Prinzip haben diese ja nichts miteinander zu tun. Zum Beispiel hat Fotolithografie (Halbleitertechnik) wohl keinen Bezug zu "Litho", also dem Stein. Oder siehst du das anders? --Nikater 22:06, 1. Jul. 2009 (CEST)
replies: text:  Nein mit Steinen hat dies nichts zu tun. Stellst du dir unter Aufteilung vor zwei Artikel also Fotolithografie (Drucktechnik) und Fotolithografie (Halbleitertechnik) vor (Fotolithografie wird dann zur BKL), oder was genau? Nur eine Ausgliederung der Halbleitertechnik würde ich nicht gern sehen. Denn es ist der (einzige) Begriff für dieses Technik in der Halbleitertechnik (mit Ausnahme der Verkürzungen Lithographie und Litho) und macht den Hauptteil des Artikels aus.  Prizipiell wäre ich erstmal dafür deinen Abschnitt zur Fotolithografie aus Lithographie hier zu integrieren. Soweit ich das überblicke läuft bei beiden Techniken die Strukturierung gleich ab (andere Materialien mal ausgenommen) --Cepheiden 08:09, 2. Jul. 2009 (CEST)

text: Ist denn nun auch deiner Meinung nach das Verfahren der Strukturierung gleich in beiden Techniken? Ich würde gern Redundanzen minimieren. --Cepheiden 09:30, 2. Jul. 2009 (CEST)
replies: text: Wenn ich das richtig verstanden habe, entspricht die Kontaktbelichtung dem Verfahren in der Drucktechnik. Was im Artikel fehlt, ist die Erklärung für die Bezeichnung "Fotolithografie". Warum dieser Ausdruck? --Nikater 13:11, 2. Jul. 2009 (CEST)
replies: text:  kA, Fotolithografie bezeichnet halt analog zu Lithogrfie das strukturieren von Schichten (Fotolacke usw.) mittels Licht.Es ist ein Ableitung aufgrund der Ähnlichkeit der Verfahren, so wie man es häufiger mal in der Sprache antrifft. --Cepheiden 14:11, 2. Jul. 2009 (CEST)
replies: text: Danke für die Erklärung. War für mich etwas verwirrend, da ich vorher von diesem Verfahren noch nichts gehört hatte. Man lernt bekanntlich nie aus ;-). Ich verfasse jetzt zunächst mal den Artikel "Fotolithografie (Drucktechnik)" auf der Basis des Kapitels in der Lithografie. --Nikater 14:51, 2. Jul. 2009 (CEST)
thread_title:  Fotolithografie in der Drucktechnik 

message: Fotolithografie ist nicht wirklich eine sinvolle Benennung. Der Artikel sollte einfach nur Lithographie heißen (Halbleitertechnik). Dann kann man relevante verfahren wie Elektronen strahl Lithographie oder Hot Embossing (gehört zu NIL wird aber ohne Licht gemacht) richtig dazu nehmen. Das bedeutet vor allem, dass man den wesentlichen Teil aller Verfahren (negativ/positiv) Lack immer wieder findet. Und Belichten (ebeam oder optisch) immer eine chemische veränderung des Lacks ist das die Löslichkeit verändert. Slept 13:39, 6. Feb. 2011 (CET)
replies: text: Die alternativen Verfahren sollten in diesem Artikel nicht ausführlich beschrieben werden. Hier sind eigenständige Artikel vorzuziehen. Denn wer was zu Elektronenstrahl-Lithographie oder Hot Embossing lesen möchte, will nicht erst mit vorher verwendeten Verfahren belastet werden. Andernfalls würde ich es begrüßen, wenn du vor einer Verschiebung die neue Gliederung des Artikels besprichst. Grüße --Cepheiden 14:07, 6. Feb. 2011 (CET)
thread_title:  Lemma 

message: EUV-Lithografie und Röntgenlithografie sind das selbe, ich lege die Beiträge zusammen.
Slept 13:39, 6. Feb. 2011 (CET)
replies: text: Ich würde mich freuen, wenn du diesen Fakt zunächst durch Fachliteratur belegst. --Cepheiden 14:07, 6. Feb. 2011 (CET)
thread_title:  EUV-Lithografie und Röntgenlithografie 

message: Wofür wird die Fotolithografie gebraucht, was sind ihre Anwendungsgebiete- Das geht aus dem Artikel nicht hervor. Wofür wird sie in der Wirtschaft gebraucht? Als Laie ist dies nicht nachzuvollziehen. Könnte das jemand nachtragen? 
carsten 139.18.17.45 17:51, 4. Mai 2011 (CEST)
replies: text: Nunja, Herstellung von integrierten Schaltkreisen und Mikrosystemen, wie es in der Einleitung steht. Aber du hast recht, dieser Aspekt kommt viel zu kurz. Ich kümmere mich in den kommenden Tagen darum. --Cepheiden 09:21, 5. Mai 2011 (CEST)

text: Als ich damit anfangen wollte ist mir aufgefallen, dass da noch ne ganze Menge Informationen zu dem Thema fehlt. Es kann also noch eine Weile dauern, bis der Artikel die wichtigsten Punkte umfasst. Grüße --Cepheiden 01:29, 7. Mai 2011 (CEST)
thread_title:  Anwendungen?