物理气相沉积 物理气相沉积英語Physical vapor depositionPVD是一種工業製造上的工藝屬於鍍膜技術的一種是主要利用物理方式來加熱或激發出材料过程来沉积薄膜的技术即真空鍍膜蒸鍍多用在切削工具與各種模具的表面處理以及半導體裝置的製作工藝上 和化学气相沉积相比物理气相沉积适用范围广泛几乎所有材料的薄膜都可以用物理气相沉积来制备但是薄膜厚度的均匀性是物理气相沉积中的一个问题 主要的物理气相沉积的方法有