化学气相沉积 化學氣相沉積英語chemical vapor deposition簡稱CVD是一種用來產生純度高性能好的固態材料的化學技術半導體產業使用此技術來成長薄膜典型的CVD製程是將晶圓基底暴露在一種或多種不同的前趨物下在基底表面發生化學反應或及化學分解來產生欲沉積的薄膜反應過程中通常也會伴隨地產生不同的副產品但大多會隨著氣流被帶走而不會留在反應腔reaction chamber中 微制程大都使用CVD技术来沉积不同形式的材料包括单晶多晶非晶及磊晶材料这些材料有硅碳纤维碳奈米纤维奈米线奈米碳管SiO硅锗钨硅碳氮化硅氮氧化硅及各种不同的高介電係數英语Highκ dielectric等材料CVD制程也常用来生成合成钻石