极紫外光刻 极紫外光刻英语extreme ultraviolet lithography台湾称为极紫外光微影简称EUV或EUVL又稱作超紫外線平版印刷術 是一种使用極紫外光波長的光刻技術目前用于納米以下的先進製程于年得到廣泛應用