氧化铟锡 氧化铟锡 ITO或者掺锡氧化铟是一种铟III族氧化物 InO and 锡IV族氧化物 SnO的混合物通常质量比为 InO SnO它在薄膜狀時為透明無色在块状态时它呈黄偏灰色 氧化铟锡主要的特性是其电学传导和光学透明的组合然而薄膜沉积中需要作出妥协因为高浓度电荷载流子将会增加材料的电导率但会降低它的透明度 氧化铟锡薄膜最通常是用电子束蒸鍍物理气相沉积或者一些溅鍍沉积技术的方法沉积到表面 因为铟的价格高昂和供应受限ITO层的脆弱和柔韧性的缺乏以及昂贵的层沉积要求真空其它取代物正被设法寻找碳纳米管导电镀膜是一种有前景的替代品这类镀膜正Eikos由发展为廉价的力学强度更高的ITO替代品PEDOT和PEDOTPSS已经被愛克發和HC Starck制造出来PEDOTPSS层已经进入应用阶段但它也有当暴露与紫外辐射下时它会降解以及一些其他的缺点别的可能性包括诸如铝参杂的锌氧化物