光刻 光刻工艺英语photolithography 或 optical lithography台湾称为微影製程是半导体器件制造工艺中的一个重要步骤该步骤利用曝光和显影在光阻层上刻画几何图形结构然后通过刻蚀工艺将光掩模上的图形转移到所在衬底上这里所说的衬底不仅包含矽晶圆还可以是其他金属层介质层例如玻璃SOS中的蓝宝石