等离子体浸没离子注入 等离子体浸没离子注入PIII或脉冲等离子掺杂脉冲PIII是通过应用高电压脉冲直流或纯直流电源将等离子体中的加速离子作为掺杂物注入合适的基体或置有电极的半导体晶片的靶的一种表面改性技术电极对于正电性等离子体是阴极对于负电性等离子体是阳极等离子体可在设计好的真空室中以不同的等离子体源产生如可产生最高离子密度和最低污染水平的电子回旋共振等离子体源及氦等离子体源电容耦合等离子体源电感耦合等离子体源直流辉光放电和金属蒸汽弧对金属物质来说真空室可分为两种二极式和三极式前者电源应用于基体而后者应用于穿孔网格