光刻机 曝光機英語Aligner是積體電路製造的关键設備從發展歷史來看一共五種機型分别為接觸式contact接近式proximity步進式stepper掃描式scanner重複式repeat截至年吋以上的晶圓大多使用掃描式對準機來做曝光其晶圓產能也是五種機型內最佳的