场致发射 电子场致发射也称为场致发射 Field Emission 和电子场发射场发射是由静电场引起的电子发射最常见的情况是从固体表面到真空的场致发射然而场发射可以从固体或液体表面真空流体例如空气或任何绝缘或弱导电电介质中发生电子从半导体的价带到导带的场致促进齐纳效应也可以看作是场发射的一种形式该术语的使用是具有历史意义的因为表面光效应热电子发射或RichardsonDushman 效应和冷电子发射即强静态或准静态电场中的电子发射的相关现象是在  年代到  年代被独立发现和研究的不带限定词地使用场致发射这个词时它通常表示冷发射 纯金属中的场致发射发生在强电场中电场强度大小通常高于十亿伏特每米并且强烈依赖于功函数虽然基于场致发射的电子源有许多应用但场致发射是真空击穿和放电这一不良现象的主要来源工程师在防治这种现象表面场致发射的应用包括构建用于高分辨率电子显微镜的强电子源或从航天器中释放感应电荷消除感应电荷的装置称为电荷中和器  年代后期场致发射由电子的量子隧穿效应解释这是新生的量子力学的成果之一大块金属的场致发射理论由Ralph H Fowler和Lothar Wolfgang Nordheim提出 近似方程FowlerNordheim 方程以他们命名严格来说FowlerNordheim 方程仅适用于块状金属的场致发射经过适当修正后也可用于其他一些块状晶体但它通常用来粗略地描述其他材料的场致发射