光刻胶 光刻胶英語photoresist亦稱為光阻或光阻劑是指經過紫外光深紫外光电子束离子束X射线等光照或辐射後溶解度发生变化的耐蚀刻薄膜材料是光刻工艺中的关键材料主要应用于積體电路和離散元件的细微图形加工