Thin film
薄膜は、PVD（Physical Vapor Deposition:物理気相成長法：スパッタリング、蒸着など）、CVD（Chemical Vapor Deposition:化学気相成長法）とエピタキシャル成長を利用したエピタキシーなどがある。1番目と2番目は主に光学薄膜の製造に利用され、3番目は主に半導体薄膜に利用されている。