Silicon dioxide
原硅酸氧钆是一种无机化合物，化学式为Gd2OSiO4。它可由K3GdCl6和四氯化硅或无定形二氧化硅在氧气流中加热至950~1100 °C反应得到。它也可在氧化钆和二氧化硅的固相高温反应中生成。掺杂其它镧系元素（如Ce3+、Yb3+）的Gd2OSiO4晶体在光学方面已有较多研究。