Photokatalytische Schichtsysteme für hochtransparente selbstreinigende Gläser Ziel dieser Arbeit war die Herstellung selbstreinigender Schichtsysteme mit hoher Transmission im Wellenlängenbereich von 380 bis 800 nm auf Floatglas mittels reaktivem DC Sputtern. Es wurden zunächst umfassende Untersuchungen zu photokatalytisch aktiven Titanoxid Schichten durchgeführt. Dabei wurde der Einfluss von Schichtdicke Sputterdruck und Partialdruckverhältnis sowie die Auswirkungen einer nachfolgenden Temperung auf Struktur und Eigenschaften von SiO2 TiO2 Schichtsystemen erforscht. Weiterhin erfolgte die Untersuchung von auf TiO2 basierenden photokatalytisch aktiven Interferenzschichtsystemen. Dazu wurden SiO2 TiO2 SnO2 Schichtsysteme abgeschieden und der Einfluss der Schichtdicken von Titanoxid und Zinnoxid Schicht sowie des zur TiO2 Abscheidung genutzten Sputterdrucks und eines nachfolgenden Temperschrittes auf die Eigenschaften der Schichtsysteme untersucht. Durch die Wahl geeigneter Abscheidebedingungen und Schichtdicken konnten Schichtsysteme mit den gewünschten Eigenschaften erzeugt werden.