Der Prozess der plasmaunterstützten Aluminiumbedampfung und die Eigenschaften dadurch hergestellter Schichten Diese Arbeit befasst sich mit der Untersuchung eines Kombinationsprozesses bestehend aus einer Aluminiumverdampfung und einer zusätzlichen Plasmaunterstützung zur Bandbeschichtung von Kunststofffolie. Als Plasmaquelle kommt dabei eine Hohlkathodenbogenentladung zum Einsatz. Auf Grund der Interaktiondes Plasmas mit dem Aluminiumdampf werden Aluminiumteilchen vorrangig durch Elektronenstoß und Penning Prozesseionisiert. Die Ionisation bewirkt ein verändertes Streuverhalten der Al Teilchen und bedingt eine Abnahme der Beschichtungsrate. Gleichzeitig steigt der Energieeintrag während der Schichtbildungdurch die kinetische und Rekombinationsenergie der Ionen. Dieser Energieeintrag bewirkt Veränderungen innerhalb der aufwachsenden Schicht welche sich auf diverse Schichteigenschaften auswirken. Auf Grund geringerer Korngrößen innerhalb der plasmaunterstützt aufgedampften Schichten verringert sich deren elektrische Leitfähigkeit. Ihre optischen Eigenschaften bleiben dagegen weitestgehend unbeeinflusst. In Abhängigkeit vom jeweiligen Permeenten wird dessen Permeation durch die Schichten unterschiedlich durch die Plasmaunterstützung beeinflusst. Währenddie Permeation von Wasserdampf kaum verändert wird reduziert sich diejenige von Sauerstoff um ca. 50%. Mittels eines einfachen Modells des Schichtwachstums wurde diese unterschiedliche Wirkungder Plasmaunterstützung auf die Permeation näher untersucht. Es stellte sich heraus dass für die unterschiedlichen Permeenten unterschiedliche Defektgrößen maßgeblich sind. Die Anzahl größerer Defekte durch die Sauerstoff permeieren kann wird durch die Plasmaunterstützung effektiv verringert. Der Einfluss auf die für den Wasserdampf wichtigen kleinen Defekte ist dagegen gering. Zum Vergleich wurden die Eigenschaften der bedampften Proben denen gesputterter gegenübergestellt. Die wichtigsten Unterschiede betreffen die elektrischen und die Permeationseigenschaften. Ohne eine Plasmaunterstützung aufgedampfte Schichten zeigen die höchste elektrische Leitfähigkeit. Die gesputterten Schichten weisen ähnliche Werte wie die plasmaunterstützt aufgedampften auf. Die Permeation von Gasen und Dämpfen wird zumindest für dickere Schichten durch die gesputterten Schichten besser verhindert. Für Sauerstoff zeigen dünne Schichten plasmaunterstützt bedampfter Proben die geringsten Permeationen.