Die besonderen Bedingungen der Abscheidung von diamantähnlichen Kohlenstoffschichten in Hohlkathodenanordnungen mit hohen Aspektverhältnissen In dieser Arbeit wurde eine Hohlkathodenentladung (engl.: hollow cathode discharge kurz HCD) und die damit erzeugte diamantartige Kohlenstoffschicht (engl.: diamond like carbon kurz DLC) in einer Sacklochgeometrie untersucht. Es wurde eine keramische Kapillare zur Gasführung verwendet welche über eine Positionierungsstrecke von außerhalb des Sacklocheinganges bis nahe an das innere Sacklochende verfahren wurde. Zur elektrischen Anregung wurde eine gepulste Gleichspannung mit einer Frequenz von 200 kHz direkt an den Probenkörper angeschlossen. Das Hauptziel war die Erarbeitung eines Grundlagenverständnisses über die Wirkmechanismen bei der Plasmagenerierung und der DLC Beschichtung. Aufbauend auf die Analyse der Gasdruckverteilung und des Anregungssignals wurden Spannungs Strom Charakteristiken unter Argonatmosphäre bestimmt. Dabei konnte die Spannungs Strom Charakteristik in drei Bereiche unterteilt werden: die anormale Glimmentladung die Hohlkathodenentladung und ein Übergang zur Lichtbogenentladung. Anhand eines Referenzprozesses wurden DLC Schichten hergestellt. Die Haupteinflussgrößen elektrische Spannung und Gasdruck wurden während des Argonbombardements zur Plasmafeinreinigung in Bezug auf die Schichthaftung untersucht. Eine Verbesserung der Schichthaftung konnte durch die mit der Spannungssteigerung einhergehende Leistungserhöhung beobachtet werden. Der positive Effekt einer Re Depositionsschicht aus Kathodenmaterial auf die Schichthaftung konnte nachgewiesen werden. Die Einflüsse auf die Schichteigenschaften wie Wachstumsraten sowie Schichtdickenprofile und Schichthärte auf der Probenlängsachse konnten messtechnisch identifiziert werden. Die Schichtbereiche mit unterschiedlichen Wachstumsraten hängen stark von der Kapillarenposition ab. In weiteren Beschichtungsexperimenten wurden der Gesamtdruck die elektrische Anregungsspannung und das Verhältnis aus Reaktivgas und Arbeitsgas variiert. Eine Unterscheidung von Bereichen nach Druck und aktiver Kathodenfläche in der Hohlkathode bei eingefahrener Kapillare konnte vorgenommen werden. Nachdem die Einflussgrößen und Mechanismen in den einzelnen HCD Zonen identifiziert und analysiert wurden werden die Prozesse zur Beschichtung von Sacklochgeometrien beherrscht. Aufbauend auf den Ergebnissen der Arbeit können die Parameter der Beschichtung in einer Sacklochgeometrie gezielt verändert werden.