Aufbau und Optimierung einer Dreifach Elektronenstrahlverdampfungsanlage zur Herstellung binärer und ternärer Systeme für Thermosensoren In dieser Arbeit wurde auf Grundlage der weltweit ersten kommerziellen Dreifach Elektronenstrahlverdampfereinheit (e Strahl) ein System aus drei parallel und individuell steuerbaren e Strahlverdampfern entworfen aufgebaut und optimiert. Damit können unäre binäre und ternäre Thermoelektrika mit frei wählbarer Stöchiometrie abgeschieden werden. Besonderer Wert wurde dabei auf die reproduzierbare und homogene Beschichtung von 10cm Standardsubstraten gelegt um eine spätere Verwendung in der serientauglichen Herstellung von Sensoren zu ermöglichen. Zur Optimierung der Ratenbestimmung und Umsetzung einer automatisierten Echtzeitregelung der Raten wurde in einem Zwischenschritt eine Zweifach e Strahlverdampfungsanlage in Betrieb genommen und optimiert. Zur Qualifizierung wurden binäre BiSb Schichten hergestellt und mit thermisch verdampften Proben einem Standard Fertigungsverfahren vergleichend charakterisiert. Dabei wurde die Stöchiometrie im Bereich von 0 08 ≤ x ≤ 0 16 variiert. Im Zuge der Optimierung erreichten mittels e Strahl Co Verdampfung hergestellten Schichten vergleichbare thermoelektrische Eigenschaften mit geringer Streuung der Schichtqualität und guter Reproduzierbarkeit der Beschichtung. Die gewonnenen Erkenntnisse wurden zur Optimierung der dreifach e Strahlanlage genutzt. Bei der abschließenden Qualifizierung konnten ternäre BiSbTe Schichten zuverlässig und reproduzierbar in der gewünschten Stöchiometrie abgeschieden werden wobei die reale Stöchiometrie mittels wellenlängendispersiver e Strahlmikroanalyse überprüft wurde. Durch eine anschließende thermische Nachbehandlung konnten Powerfaktor und Gütezahl zT weiter gesteigert werden. Dabei wurde eine im Vergleich mit typischen Literaturwerten sehr gute maximale thermoelektrische Gütezahl zT=0 92 erreicht.