Litografi ultraviolet ekstrim

Litografi ultraviolet ekstrim, dalam bahasa Inggris disingkat sebagai EUV atau EUVL, merupakan teknologi litografi optis yang digunakan dalam fabrikasi perangkat semikonduktor untuk membuat sirkuit terpadu (IC). Teknologi ini menggunakan panjang gelombang ultraviolet ekstrim yang mendekati 13,5 nm, menggunakan tetesan plasma timah (Sn), untuk menghasilkan suatu pola dengan menggunakan reflective photomask untuk meng-expose substrat yang tertutup oleh photoresist. Teknologi ini baru diterapkan dalam fabrikasi perangkat semikonduktor yang paling maju. Hingga 2023, ASML Holding merupakan satu-satunya perusahaan yang memproduksi dan menjual sistem-sistem EUV untuk produksi cip.