jeanflop/post_ocr_correction2 huggingface dataset:
rayons X a été utilisée pour suivre au cours du temps l'apparition puis la transformation des produits solides de la réaction. Dans le domaine de température compris entre 280 et 326°C, les courbes Am =f(t) et Am (calc.) =f(t) des figures 1, 2 et 3 sont assez bien représentatives d'un processus de germination-croissance, même si elles présentent un «accident» comme dans le cas de la transformation de Cu3Si avec CuCl à une température inférieure à 304°C. Pour la réaction Si/CuCl, la température de 326°C représente une température particulière à partir de laquelle la vitesse de la réaction devient trop grande par rapport à la vitesse de condensation de SiCl4(g) dans le piège à azote liquide. Cette accélération de la réaction se traduit par une projection violente de matières pulvérulentes dans le tube laboratoire. À cette température l'allure des courbes Am=f(t) et Am(calc.)=f(t) relatives aux réactions Cu3Si/CuCl et Cu5Si/CuCl (fig. 2 et 3) diffère aux taux de transformation élevés de Cu3Si et de Cu5Si. En effet les courbes résultant du dosage rendent compte de la formation continue de SiCl4 alors que les courbes résultant de la pesée indiquent une légère reprise de masse en fin de réaction. Après avoir exclu la possibilité d'une réaction entre les constituants solides ou une oxydation superficielle de ces derniers, nous avons fait l'hypothèse que Si2Cl6 qui accompagne la formation de SiCl4 mais en faible proportion, réagit avec Cu puis CuCl pour donner naissance à Si (s) et SiCl4 (g), conformément au schéma proposé par H. W. Kohlschütter et coll. En ce qui concerne la nature des produits solides formés, la réduction de Cu5Si par CuCl conduit uniquement au cuivre. En revanche la transformation de Cu3Si avec CuCl s'effectue en donnant naissance successivement à Cu5Si et Cu. La réaction du silicium avec CuCl met en jeu un processus de même type : Cu3Si, Cu5Si et Cu sont formés par des réactions consécutives au cours de la transformation globale du silicium. Dans tous les cas le cuivre est le produit final de la réaction tandis que les composés Cu3Si et Cu5Si sont des intermédiaires qui réagissent au
possibilité d'une réaction entre les constituants solides ou une oxydation superficielle de ces derniers, nous avons fait l'hypothèse que Si2Cl6 qui accompagne la formation de SiCl4 mais en faible proportion, réagit avec Cu puis CuCl pour donner naissance à Si (s) et SiCl4 (g), conformément au schéma proposé par H. W. Kohlschütter et coll. En ce qui concerne la nature des produits solides formés, la réduction de Cu5Si par CuCl conduit uniquement au cuivre. En revanche la transformation de Cu3Si avec CuCl s'effectue en donnant naissance successivement à Cu5Si et Cu. La réaction du silicium avec CuCl met en jeu un processus de même type : Cu3Si, Cu5Si et Cu sont formés par des réactions consécutives au cours de la transformation globale du silicium. Dans tous les cas le cuivre est le produit final de la réaction tandis que les composés Cu3Si et Cu5Si sont des intermédiaires qui réagissent au contact de CuCl. L'étude comparée des courbes Am =f(t) et Am (calc.) =f(t) a montré là encore, que le chlorure cuivreux était susceptible de réagir avec le silicium ou les composés Cu3Si et Cu5Si aussi bien à l'état solide qu'à l'état de vapeur. Bien qu'il soit difficile d'apprécier la contribution de CuCl (g), on peut penser que sa réaction avec le silicium à travers les défauts (pores, microfissures, ...) de la couche de silice protectrice mis en évidence par S. W. Ing et coll. et E. A. Irene, facilite son amorçage. En résumé la réaction du silicium avec le chlorure cuivreux par perte de masse en continu ou point par point, apparaît comme une réaction complexe, résultant de réactions simultanées successives du type : L'absence du composé Cu15Si4 dans le cas de l'étude de la réaction en système ouvert, s'interprète en considérant que sa vitesse de formation à partir du composé Cu3Si est inférieure à sa vitesse de transformation avec CuCl pour donner le composé Cu5Si. Pour rendre compte de la formation sélective du composé Cu3Si en système fermé, il faut considérer que SiCl4 qui reste au contact du mélange pulvérulent empêche la réaction de Cu3Si avec CuCl uniquement lorsque
de CuCl (g), on peut penser que sa réaction avec le silicium à travers les défauts (pores, microfissures, ...) de la couche de silice protectrice mis en évidence par S. W. Ing et coll. et E. A. Irene, facilite son amorçage. En résumé la réaction du silicium avec le chlorure cuivreux par perte de masse en continu ou point par point, apparaît comme une réaction complexe, résultant de réactions simultanées successives du type : L'absence du composé Cu15Si4 dans le cas de l'étude de la réaction en système ouvert, s'interprète en considérant que sa vitesse de formation à partir du composé Cu3Si est inférieure à sa vitesse de transformation avec CuCl pour donner le composé Cu5Si. Pour rendre compte de la formation sélective du composé Cu3Si en système fermé, il faut considérer que SiCl4 qui reste au contact du mélange pulvérulent empêche la réaction de Cu3Si avec CuCl uniquement lorsque le rapport molaire est fixé à 0,50. Note reçue et acceptée le 4 juillet 1988. RÉFÉRENCES BIBLIOGRAPHIQUES [1] K. KUBO et W. KOMATSU, J. Chem. Soc. Japon, 74, 1953, p. 709-712. [2] K. KUBO et W. KOMATSU, J. Chem. Soc. Japon, 74, 1953, p. 793-795. [3] Y. KOMATSU, J. Chem. Soc. Japan, 75, 1954, p. 1078-1082. [4] S. S. TAMHANKAR, A. N. GOKARN et L. K. DORAISWAMY, Chem. Eng. Sci, 36, 1981, p. 1365-1372. [5] H. W. KOHLSCHUTTER et H. MATTNER, Z. anorg. allg. Chem., 282, 1955, p. 169-176. [6] H. W. KOHLSCHUTTER, H. SCHIFFERDECKER et O. KLUMP, Z. anorg. allg. Chem., 283, 1956, p. 257-262. [7] H. W. KOHLSCHUTTER et O. KLUMP, Z. anorg. allg. Chem., 286, 1956, p. 193-204. [8] E. G. ROCHOW, J. Am. Chem. Soc., 67, 1945, p. 963-965. [9] D. T. HURD et E. G. ROCHOW, J. Am. Chem. Soc., 67, 1945, p. 1057-1059. [10] G. WEBER, Thèse de Doctorat d'État, Dijon, 1988. [11] S. W. ING, R. E. MORRISON et J. E. SANDOR, J. Electrochem. Soc., 109, 1962, p. 221-226. [12] E. A. IRENE, J. Electrochem. Soc., 125, 1978, p. 1708-1714. Laboratoire de Recherches sur la Réactivité des Solides, U.A. n° 23, Faculté des
Soc. Japan, 75, 1954, p. 1078-1082. [4] S. S. TAMHANKAR, A. N. GOKARN et L. K. DORAISWAMY, Chem. Eng. Sci, 36, 1981, p. 1365-1372. [5] H. W. KOHLSCHUTTER et H. MATTNER, Z. anorg. allg. Chem., 282, 1955, p. 169-176. [6] H. W. KOHLSCHUTTER, H. SCHIFFERDECKER et O. KLUMP, Z. anorg. allg. Chem., 283, 1956, p. 257-262. [7] H. W. KOHLSCHUTTER et O. KLUMP, Z. anorg. allg. Chem., 286, 1956, p. 193-204. [8] E. G. ROCHOW, J. Am. Chem. Soc., 67, 1945, p. 963-965. [9] D. T. HURD et E. G. ROCHOW, J. Am. Chem. Soc., 67, 1945, p. 1057-1059. [10] G. WEBER, Thèse de Doctorat d'État, Dijon, 1988. [11] S. W. ING, R. E. MORRISON et J. E. SANDOR, J. Electrochem. Soc., 109, 1962, p. 221-226. [12] E. A. IRENE, J. Electrochem. Soc., 125, 1978, p. 1708-1714. Laboratoire de Recherches sur la Réactivité des Solides, U.A. n° 23, Faculté des Sciences Mirande, B.P. n° 138, 21004 Dijon Cedex. PLANCHE I/PLATE I GUY WEBER Fig. 1. — Influence de la température sur la forme des courbes (a) Am=f(t) et (b) Am (calc.)= f(t) relatives à la marche de la réaction du silicium avec le chlorure cuivreux. Les pertes de masse sont rapportées à 100 mg du réactif limitatif. Fig. 1. — Effect of the temperature on the shape of curves (a)Am=f(t) and (b) Am (calc.) =f(t) for the reaction between silicon and copper chloride. Loss mass are calculated for 100 mg of CuCl. Fig. 2. — Influence de la température sur la forme des courbes (a) Am =f(t) et (b) Am (calc.) =f(t) relatives à la marche de la réaction de Cu3Si avec CuCl. Les pertes de masse sont rapportées à 100 mg du réactif limitatif. Fig. 2. — Effect of the temperature on the shape of curves (a)Am=f(t) and (b) Am (calc.) =f(t) for the reaction of Cu3Si with CuCl. Loss mass are calculated for 100 mg of CuCl. Fig. 3. — Influence de la température sur la forme des courbes (a)Am=f(t) et (b)Am(calc.)=f(t) relatives à la marche de la réaction de Cu5Si avec CuCl. Les pertes de masse sont
rapportées à 100 mg du réactif limitatif. Fig. 1. — Effect of the temperature on the shape of curves (a)Am=f(t) and (b) Am (calc.) =f(t) for the reaction between silicon and copper chloride. Loss mass are calculated for 100 mg of CuCl. Fig. 2. — Influence de la température sur la forme des courbes (a) Am =f(t) et (b) Am (calc.) =f(t) relatives à la marche de la réaction de Cu3Si avec CuCl. Les pertes de masse sont rapportées à 100 mg du réactif limitatif. Fig. 2. — Effect of the temperature on the shape of curves (a)Am=f(t) and (b) Am (calc.) =f(t) for the reaction of Cu3Si with CuCl. Loss mass are calculated for 100 mg of CuCl. Fig. 3. — Influence de la température sur la forme des courbes (a)Am=f(t) et (b)Am(calc.)=f(t) relatives à la marche de la réaction de Cu5Si avec CuCl. Les pertes de masse sont rapportées à 100 mg du réactif limitatif. Fig. 3. — Effect of the temperature on the shape of curves (a)Am=f(t) and (b)Am(calc.)=f(t) for the reaction of Cu5Si with CuCl. Loss mass are calculated for 100 mg of CuCl. C. R. Acad. Sci. Paris, t. 307, Série II, p. 1163-1166, 1988 Chimie nucléaire et radiochimie/Nuclear Chemistry Radiation Chemistry Lixiviation de UO2 solide dans l'eau minérale de Volvic Marie-Pierre LAHALLE, Pascal FRANCO, Patrick TROCELLIER, Jean-Claude KRUPA, Michel GENET, Geoffrey ALLEN et Nigel HOLMES Résumé — L'analyse de la surface d'échantillons de UO2 après lixiviation a été effectuée par spectroscopie de photoélectron (XPS) et parallèlement la concentration en uranium dans les lixiviats a été déterminée par fluorimétrie. Lorsque UO2 est lixivié par l'eau de Volvic à 90°C, il se forme en surface un dépôt composé de silicium et de magnésium qui a pour effet de ralentir considérablement la dissolution de l'uranium d'un facteur 103 à 104 par rapport au même test effectué avec de l'eau déionisée. Leaching of solid UO2 in Volvic mineral water Abstract — Surface analysis of UO2 leached in aqueous solutions was carried out using photoelectron spectroscopy and the amount of dissolved uranium in the solution was determined by fluorimetric
Chimie nucléaire et radiochimie/Nuclear Chemistry Radiation Chemistry Lixiviation de UO2 solide dans l'eau minérale de Volvic Marie-Pierre LAHALLE, Pascal FRANCO, Patrick TROCELLIER, Jean-Claude KRUPA, Michel GENET, Geoffrey ALLEN et Nigel HOLMES Résumé — L'analyse de la surface d'échantillons de UO2 après lixiviation a été effectuée par spectroscopie de photoélectron (XPS) et parallèlement la concentration en uranium dans les lixiviats a été déterminée par fluorimétrie. Lorsque UO2 est lixivié par l'eau de Volvic à 90°C, il se forme en surface un dépôt composé de silicium et de magnésium qui a pour effet de ralentir considérablement la dissolution de l'uranium d'un facteur 103 à 104 par rapport au même test effectué avec de l'eau déionisée. Leaching of solid UO2 in Volvic mineral water Abstract — Surface analysis of UO2 leached in aqueous solutions was carried out using photoelectron spectroscopy and the amount of dissolved uranium in the solution was determined by fluorimetric measurement. In Volvic mineral water at a temperature of 90°C, a magnesium and silicon-rich layer was formed on the UO2 surface, which reduced uranium dissolution by a factor 103 to 104 compared to the same test in deionised solutions. 1. INTRODUCTION. — Dans le cadre des études visant à modéliser le comportement à long terme des combustibles irradiés en situation de stockage profond ([1], [2], [3]), nous nous sommes attachés à l'analyse, par spectroscopie de photoélectron (XPS), de la surface d'échantillons de UO2 après lixiviation dans des conditions de température et de temps d'immersion variables. Deux types d'eau ont été éprouvés : l'eau minérale de Volvic, dont la composition semble caractéristique des eaux souterraines granitiques et l'eau déionisée prise comme eau de référence. Parallèlement, la concentration en uranium des lixiviats a été mesurée par spectrofluorométrie laser « résolue dans le temps ». Ces études ont été conduites sur des monocristaux de UO2 obtenus par refroidissement de UO2 fondu à l'échelle du kilogramme (Laboratoire Euratom, Ispra-Italie) et sur des échantillons de UO2 fritté (C.E.A., Saclay). Chaque échantillon se présente sous la forme d'une plaquette d'environ 1 mm d'épaisseur maintenue sur un support en « téflon » immergé dans un pot en
le comportement à long terme des combustibles irradiés en situation de stockage profond ([1], [2], [3]), nous nous sommes attachés à l'analyse, par spectroscopie de photoélectron (XPS), de la surface d'échantillons de UO2 après lixiviation dans des conditions de température et de temps d'immersion variables. Deux types d'eau ont été éprouvés : l'eau minérale de Volvic, dont la composition semble caractéristique des eaux souterraines granitiques et l'eau déionisée prise comme eau de référence. Parallèlement, la concentration en uranium des lixiviats a été mesurée par spectrofluorométrie laser « résolue dans le temps ». Ces études ont été conduites sur des monocristaux de UO2 obtenus par refroidissement de UO2 fondu à l'échelle du kilogramme (Laboratoire Euratom, Ispra-Italie) et sur des échantillons de UO2 fritté (C.E.A., Saclay). Chaque échantillon se présente sous la forme d'une plaquette d'environ 1 mm d'épaisseur maintenue sur un support en « téflon » immergé dans un pot en « téflon » dans lequel la lixiviation statique s'effectue. Le pH des solutions est d'environ de 7 pour l'eau de Volvic et de 5,5 pour l'eau déionisée. Le rapport entre la surface apparente lixiviée en contact avec la solution et le volume de lixiviat a été fixé à 0,1. Les températures de lixiviation ont été de 60 et 90°C et les temps d'immersion d'au minimum 1 mois. Les spectres XPS ont été obtenus pour la radiation Ka de l'aluminium à 1486,6 eV avec une pression dans la chambre d'analyse inférieure à 107 Torr. Les résultats obtenus pour les deux types d'UO2 sont tout à fait similaires : seuls les échantillons ayant été au contact de l'eau de Volvic à la température de 90°C présentent des différences marquées par rapport aux échantillons non lixiviés (référence). Il apparaît alors sur les spectres XPS des pics caractéristiques du magnésium et du silicium (éléments contenus dans l'eau de Volvic), indiquant l'existence de dépôts sur la surface des échantillons. Note présentée par Robert GUILLAUMONT. Spectre XPS de UO2 fritté (obtenu à partir de la radiation Al Kα). Fig. 1. — XPS spectrum of sintered UO2 (recorded using Al Kα X-rays). 2. RÉSULTATS. — 2.1. Spectres
températures de lixiviation ont été de 60 et 90°C et les temps d'immersion d'au minimum 1 mois. Les spectres XPS ont été obtenus pour la radiation Ka de l'aluminium à 1486,6 eV avec une pression dans la chambre d'analyse inférieure à 107 Torr. Les résultats obtenus pour les deux types d'UO2 sont tout à fait similaires : seuls les échantillons ayant été au contact de l'eau de Volvic à la température de 90°C présentent des différences marquées par rapport aux échantillons non lixiviés (référence). Il apparaît alors sur les spectres XPS des pics caractéristiques du magnésium et du silicium (éléments contenus dans l'eau de Volvic), indiquant l'existence de dépôts sur la surface des échantillons. Note présentée par Robert GUILLAUMONT. Spectre XPS de UO2 fritté (obtenu à partir de la radiation Al Kα). Fig. 1. — XPS spectrum of sintered UO2 (recorded using Al Kα X-rays). 2. RÉSULTATS. — 2.1. Spectres XPS. — Sur le spectre de référence de UO2 (fig. 1) apparaissent les pics caractéristiques de l'oxygène, de l'uranium et du carbone de pollution. Les valeurs des énergies de liaison associées aux pics les plus intenses pour l'uranium et pour l'oxygène, respectivement le doublet U4f5/2, 7/2 et O1s (tableau I), sont très proches de celles connues jusqu'à présent pour les oxydes d'uranium [4]. Le pic relatif à O1s est constitué de deux pics, le premier vers 530 eV (pic A) correspond à l'oxygène de l'oxyde d'uranium et le second dont l'énergie de liaison associée est supérieure de 2 eV environ (pic B) est très probablement dû à la formation en surface de formes hydrolysées et/ou hydratées de U(IV) dues à l'altération naturelle de UO2. Tous les échantillons lixiviés ayant subi un traitement dans de l'eau déionisée, quels qu'en soient le temps et la température de lixiviation (60 ou 90°C), ne présentent pas dans l'ensemble de modifications par rapport à l'échantillon de référence. Seul le pic O1s (B) est légèrement différent, indiquant une contribution due aux groupements OH ou aux molécules d'eau liées plus faible puisque ces formes passent préférentiellement en solution lors de la lixiviation. En revanche, les échantillons ayant
sont très proches de celles connues jusqu'à présent pour les oxydes d'uranium [4]. Le pic relatif à O1s est constitué de deux pics, le premier vers 530 eV (pic A) correspond à l'oxygène de l'oxyde d'uranium et le second dont l'énergie de liaison associée est supérieure de 2 eV environ (pic B) est très probablement dû à la formation en surface de formes hydrolysées et/ou hydratées de U(IV) dues à l'altération naturelle de UO2. Tous les échantillons lixiviés ayant subi un traitement dans de l'eau déionisée, quels qu'en soient le temps et la température de lixiviation (60 ou 90°C), ne présentent pas dans l'ensemble de modifications par rapport à l'échantillon de référence. Seul le pic O1s (B) est légèrement différent, indiquant une contribution due aux groupements OH ou aux molécules d'eau liées plus faible puisque ces formes passent préférentiellement en solution lors de la lixiviation. En revanche, les échantillons ayant été au contact de l'eau de Volvic sont plus ou moins altérés, selon la température. Après une lixiviation à 60°C, les pics Si 2s, Si 2p1/2, 3/2 apparaissent ainsi que le doublet Ca2p1/2 3/2, mais tous présentent une intensité très faible. Le pic C 1s est plus intense ainsi que le pic O1 s (B), alors que les pics U4f5/2 7/2 sont inchangés. Sur les échantillons traités à 90°C les changements observés sur les spectres XPS (fig. 2) sont plus importants. Les pics associés au silicium sont plus intenses, le doublet Ca2p1/2, 3/2 n'est plus présent et les pics correspondant au magnésium apparaissent très clairement (tableau I). Parallèlement, on observe toujours le pic O1s avec une intensité encore plus forte, alors que les pics U4f5/2 7/2 de l'uranium ont diminué considérablement, allant jusqu'à leur disparition totale pour certains échantillons monocristallins. Cela nous conduit à admettre l'existence de nouvelles liaisons impliquant l'oxygène et le magnésium et/ou le silicium. Par ailleurs le spectre XPS obtenu est tout à fait similaire à celui relatif au trisilicate de magnésium [5]. L'ensemble de ces modifications met en évidence la formation d'un dépôt à la surface de UO2 dont la composition exacte en magnésium, silicium et
le pic O1 s (B), alors que les pics U4f5/2 7/2 sont inchangés. Sur les échantillons traités à 90°C les changements observés sur les spectres XPS (fig. 2) sont plus importants. Les pics associés au silicium sont plus intenses, le doublet Ca2p1/2, 3/2 n'est plus présent et les pics correspondant au magnésium apparaissent très clairement (tableau I). Parallèlement, on observe toujours le pic O1s avec une intensité encore plus forte, alors que les pics U4f5/2 7/2 de l'uranium ont diminué considérablement, allant jusqu'à leur disparition totale pour certains échantillons monocristallins. Cela nous conduit à admettre l'existence de nouvelles liaisons impliquant l'oxygène et le magnésium et/ou le silicium. Par ailleurs le spectre XPS obtenu est tout à fait similaire à celui relatif au trisilicate de magnésium [5]. L'ensemble de ces modifications met en évidence la formation d'un dépôt à la surface de UO2 dont la composition exacte en magnésium, silicium et oxygène reste à déterminer. Le magnésium et le silicium sont initialement présents dans l'eau de Volvic dans les proportions respectives de 6 et 35 ppm (sous forme de SiO2) environ, pour une minéralisation totale (produit sec) de 110 ppm. D'autre part, il semblerait que ce dépôt ne se forme de façon appréciable qu'à partir de la température de 90°C. 2.1. Concentration en uranium dissous. — La fluorimétrie laser permet de détecter U(VI) en solution jusqu'à des concentrations de l'ordre du ppb [6]. Pour mesurer la concentration en uranium dans les lixiviats, une partie aliquotée est ajustée aux conditions suivantes : H3PO4 0,75 M—HNO3 0,25 M. L'uranium en solution sous forme de précipités ou adsorbé sur les parois des pots de lixiviation n'est pas pris en compte. Les études réalisées par K. Ollila [3] sur des lixiviats d'eau synthétique ont montré qu'à pH 8,2 ces contributions pouvaient être du même ordre de grandeur que la fraction d'uranium dissous, ce qui bien qu'important ne change pas fondamentalement les résultats. Les mesures effectuées après 2 mois de lixiviation (tableau II) montrent que la concentration en uranium est considérablement plus faible dans les lixiviats d'eau de Volvic que dans les lixiviats d'eau déionisée, notamment
façon appréciable qu'à partir de la température de 90°C. 2.1. Concentration en uranium dissous. — La fluorimétrie laser permet de détecter U(VI) en solution jusqu'à des concentrations de l'ordre du ppb [6]. Pour mesurer la concentration en uranium dans les lixiviats, une partie aliquotée est ajustée aux conditions suivantes : H3PO4 0,75 M—HNO3 0,25 M. L'uranium en solution sous forme de précipités ou adsorbé sur les parois des pots de lixiviation n'est pas pris en compte. Les études réalisées par K. Ollila [3] sur des lixiviats d'eau synthétique ont montré qu'à pH 8,2 ces contributions pouvaient être du même ordre de grandeur que la fraction d'uranium dissous, ce qui bien qu'important ne change pas fondamentalement les résultats. Les mesures effectuées après 2 mois de lixiviation (tableau II) montrent que la concentration en uranium est considérablement plus faible dans les lixiviats d'eau de Volvic que dans les lixiviats d'eau déionisée, notamment dans le cas du traitement à 90°C où la différence atteint un facteur 103 à 104. Ce résultat est en accord avec la mise en évidence par XPS de la formation d'un dépôt d'origine minérale à la surface de UO2 qui a pour effet de réduire la dissolution de cet oxyde en bloquant partiellement la surface. 3. CONCLUSION. — Ces expériences d'analyse en surface, par XPS, d'échantillons de UO2 monocristallin ou fritté après lixiviation, et parallèlement les mesures de concentration d'uranium en solution, ont permis de mettre en évidence une forte interaction entre l'eau minérale de Volvic et la surface de UO2, lorsque la lixiviation est effectuée à 90°C. Tableau I Énergies de liaison (eV) des principaux pics observés sur les spectres XPS d'oxyde d'uranium monocristallin et fritté, pour des échantillons de référence et après 2 mois au contact avec de l'eau de Volvic à 90°C. Binding energy (eV) of the main peaks observed on the XPS spectra of single crystal or sintered uranium oxide in reference samples and leached by mineral Volvic water at 90°C for 2 months. Échantillon Element fritté monocristallin Référence O1s 529.9 530.1 U4f5/2 7/2 380.5 380.7 W5/2 391.3 391.5 C1s 285.2 285.0 Après 2 mois