translate English to French: Annealing at 1000 °C for 5 s gives low emitter resistance (RE ≈ 100 Ω μm2) while maintaining good suppression of back injection (GE ≥ 1014 scm−4).
Un recuit à 1000 °C pendant 5 s donne une faible résistance d'émetteur (RE ≈ 100 Ω μm2) tout en maintenant une bonne suppression de la réinjection.