Context: Ada kombinasi proses yang digunakan untuk mempersiapkan bahan semikonduktor untuk IC. Satu proses disebut oksidasi termal, yang membentuk silikon dioksida pada permukaan silikon. Ini digunakan sebagai insulator gerbang dan oksida medan. Proses lain disebut fotomask dan fotolitografi. Proses ini adalah apa yang menciptakan pola pada sirkuit dalam sirkuit terpadu. Cahaya ultraviolet digunakan bersama dengan lapisan fotoresist untuk menciptakan perubahan kimia yang menghasilkan pola untuk sirkuit. Etching adalah proses berikutnya yang diperlukan. Bagian dari silikon yang tidak ditutupi oleh lapisan fotoresist dari langkah sebelumnya sekarang dapat diukir. Proses utama yang biasanya digunakan saat ini disebut etching plasma. Etching plasma biasanya melibatkan etch gas dipompa dalam ruang plasma tekanan rendah untuk membuat umum. Etch gas klorofluoro, atau lebih dikenal sebagai klorofluoro.

Berdasarkan bagian ini, berikan daftar proses yang digunakan untuk mempersiapkan bahan semikonduktor untuk sirkuit terpadu (IC).

-Oksidasi termal -Photomask/photolithography -Etching (terutama plasma etching) -Diffusion/doping