Jabarkan Dari alkoksida dari Tantalum pentoksida

Tantalum oksida sering digunakan dalam elektronika, sering kali dalam bentuk film tipis. Untuk aplikasi ini dapat diproduksi dengan metode deposisi uap kimia logam organik (, MOCVD) (atau teknik terkait), yang melibatkan hidrolisis halida atau alkoksida volatilnya:

Ta2(OEt)10 + 5 H2O → Ta2O5 + 10 EtOH

2 TaCl5 + 5 H2O → Ta2O5 + 10 HCl