Jabarkan Senyawa dari Hafnium

Karena adanya kontraksi lantanida, jari-jari ionik hafnium(IV) (0,78 ångström) hampir sama dengan jari-jari zirkonium(IV) (0<79 ångström). Akibatnya, senyawa hafnium(IV) dan zirkonium(IV) memiliki sifat kimia dan fisik yang sangat mirip. Hafnium dan zirkonium cenderung muncul bersama di alam dan kesamaan jari-jari ioniknya membuat pemisahan kimianya agak sulit. Hafnium cenderung membentuk senyawa anorganik dalam keadaan oksidasi +4. Halogen akan bereaksi dengannya membentuk hafnium tetrahalida. Pada suhu yang lebih tinggi, hafnium bereaksi dengan oksigen, nitrogen, karbon, boron, belerang, dan silikon. Beberapa senyawa hafnium dalam keadaan oksidasi yang lebih rendah telah diketahui.

Hafnium(IV) klorida dan hafnium(IV) iodida memiliki beberapa aplikasi dalam produksi dan pemurnian logam hafnium. Mereka adalah padatan yang volatil dengan struktur polimer. Tetraklorida ini adalah prekursor untuk berbagai senyawa organohafnium seperti hafnosena diklorida dan tetrabenzilhafnium.

Hafnium oksida (HfO2) yang berwarna putih, dengan titik lebur 2.812 °C dan titik didih kira-kira 5.100 °C, sangat mirip dengan zirkonia, tetapi sedikit lebih basa. Hafnium karbida adalah senyawa biner paling tahan api yang diketahui, dengan titik lebur lebih dari 3.890 °C, dan hafnium nitrida adalah yang paling tahan api dari semua logam nitrida yang diketahui, dengan titik lebur 3.310 °C. Hal ini menimbulkan usulan bahwa hafnium atau karbidanya mungkin berguna sebagai bahan konstruksi yang terkena suhu sangat tinggi. Campuran karbida tantalum hafnium karbida () memiliki titik lebur tertinggi dari setiap senyawa yang diketahui saat ini, . Simulasi superkomputer baru-baru ini menunjukkan adanya sebuah paduan hafnium dengan titik lebur 4.400 K.