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[EX Q]: Letztere besteht aus Initial- und Reflexionsladung.
[EX A]: The latter consists of initial and reflection charge.

[EX Q]: Desweiteren sind Mittel zum Verfahren des Troges vorgesehen.
[EX A]: In addition, means for displacing the trough are provided.

[EX Q]: von maximal 2 nm auf.
[EX A]:
not higher than 2 nm.