In this task, you need to Translate Czech text to English.

Q: Pyroelektrický detekční element s optimalizovanou  íVlastnl elektrickou časovou  konstantou, zhotovený Jako deskový výbrus  (1) s monokrystalického PbíGejOjj, orientovaný  kolmo ke krystalografické ose z a  opatřený kovovými kontaktními elektrodami  (2, 3). Elektrická časová konstanta elementu  umožňuje jeho přímé připojení na vetup  polem řízeného tranzistoru FE bez nutnosti  apllkaoe paralelního vyaokoohmlokáho režietoru.

A: Optimized Pyroelectric Detection Element  He owns the electric time  constant, made as a plate cut  (1) with monocrystalline PyGeyOjj, oriented  perpendicular to the crystallographic axis of a  provided with metal contact electrodes  (2, 3). Electric time constant of the element  it allows direct connection to the wind  field driven transistor FE without necessity  apllkaoe parallel vyaokohmločového camera.
****
Q: ﻿Způsob hodnocení adheze funkční vrstvy k substrátu s využitím akustické emise vrypové zkoušky při kontinuálním monitorování a záznamu zátěžné síly a polohy nanoindentoru (4) vzhledem k testované vrstvě (52) zkušebního tělesa (5) a snímání akustické emise nanoindentačního procesu, jehož podstata spočívá v tom, že v řízeném průběhu nanoindentace se současně sledují jednak údaje z prováděné vrypové zkoušky zahrnující závislosti hloubky vrypu na velikosti zátěžové síly působící na nanoindentor (4) po celé délce vrypové zkoušky a jednak se detekuje akustická emise probíhajícího procesu, přičemž se získané údaje průběžně transformují do grafických ztvárnění vzájemně nezávislých datových souborů, které se následně společně s mikrosnímky rýhy vrypu zkompletují vzhledem k okamžiku zahájení vrypové zkoušky, načež se vyhodnocením grafů stanoví kritická mez soudržnosti L.sub.CA.n.mezi substrátem (51) a povrchovou vrstvou (52) zkušebního tělesa (5).

A: A method for assessing the adhesion of a functional layer to a substrate using a scratch test acoustic emission with continuous monitoring and recording of the load and position of the nanoindentor (4) relative to the test body layer (52) and sensing the nanoindentation process. that in the controlled nanoindentation process, the scratch test data, including the scratch depth dependence on the nanoindentor load force (4), are simultaneously monitored over the entire scratch test, and the acoustic emission of the ongoing process is detected, with the data being continuously transformed into graphical representations of mutually independent data sets, which are then assembled together with the scratch micrographs relative to the time of the scratch test, whereupon the critical coherence limit of the L.sub.CCA.n is determined by graph evaluation. the substrate (51) and the surface layer (52) of the test specimen (5).
****
Q: Skleněná deska je tvořena vrchní vrstvou o tloušťce 4 až 6 mm, zhotovenou slinutím skelného granulátu o zrnitosti do 12 mm a spodní vrstvou o tloušťce 7 až 20 mm, zhotovenou slinutím skelného granulátu o zrnitosti do 3 mm. Způsob výroby skleněné desky spočívá v tom, že se obsah formy předehřeje zespodu na teplotu 400 až 550.degree.C, poté se zahřívá současně zespodu i svrchu na sintrovací teplotu 850 až 1150.degree.C, při níž se ponechá maximálně 5 min., načež se obsah formy prudce ochladí na 520 až 560.degree.C, poté se deska chladí rychlostí 0,6 až 2.degree.C/min. na teplotu 450 až 500.degree.C a dále se chladí rychlostí 5 až 15.degree.C/min. na manipulační teplotu 60 až 80.degree.C. Zařízení pro výrobu skleněných desek sestávající ze zásobníku na suroviny, dopravníků a pece, spočívá v tom, že pec /3/ sestává ze tří částí, v kterých jsou umístěny na sebe navazující dopravníky pro posuv forem, v první části /A/ je umístěn první dopravník /1.1/ a druhý dopravník /1.2/, v druhé části /Bŕ

A:
In this process of producing a two-layer glass plate the bottom layer of glass granulate with thickness of 7 to 20mm and granularity up to 3mm is poured into a form, equipped with a separation layer. The upper layer of thickness of 4 to 6mm and granularity up to 12mm is poured on top, whereupon the content of the form is heated from below to 400 to 550 degrees C, then heated from both below and above to a sintering temperature of 850 to 1150 degrees C, which is maintained for a maximum of 5 min., whereupon the content of the form is quickly cooled from below and above to 520 to 560 degrees C, then the plate is cooled from below and above at a rate of 0.6 to 2 degrees C/min. to 450 to 500 degrees C and further cooled at a rate of 5 to 15 degrees C/min. to handling temperature of 60 to 80 degrees C. The apparatus for producing the glass plates consists of a raw material reservoir, conveyors and a furnace (3). The furnace (3) consists of three sections in which there is an integrated set of conveyors for moving the forms. In the first section (A) there are the first and the second conveyor (1.1, 1.2), in the second section (B) the third conveyor (1.3) and in the third section (C) the fourth and the fifth conveyor (1.4, 1.5). All the conveyors have independently controlled speeds. In the first section (A), above and below the first and second conveyors (1.1, 1.2), there are heating units (2.1, 2.2) divided into at least two independently regulated zones (A1, A2). In the second section (B), above and below the third conveyor (1.3.), there are cooling units (6.1, 6.2) and above the third conveyor (1.3) there are pressing elements (4) with negative form in the form of a plate or cylinder. In the third section (C), above and below the fourth and the fifth conveyor (1.4, 1.5), there is a cooling unit (7) divided into at least three independently regulated zones (C1, C2 and C3).<IMAGE>
****