工業所有権・日印協力覚書の下で第4回会合を開催|インド科学技術ニュース|Science Portal India インドの科学技術の今を伝える

# 工業所有権・日印協力覚書の下で第4回会合を開催

インド商工省の発表（3月19日）によると、インドの同省産業国内取引促進局（DPIIT）と日本の特許庁（JPO）は、工業所有権（Industrial Property）に関する協力覚書の下での第4回会合を開催した。

同会合では日印特許審査ハイウェイ（PPH）試行プログラムの初年度のレビューが行われた。また、インドと日本の工業所有権に関する協力覚書（MoC）の下での進捗状況や、インド特許意匠商標総局（CGPDTM）とJPOとの間の行動計画を検討し、MoCに基づいて今後の協力に向けた両者の協力関係をさらに深めることを確認した。

また、会合ではCovid-19のパンデミックの困難な状況下で、社会をサポートするイノベーションの重要性と、投資とイノベーションを促進するための堅牢な工業所有権システムの必要性が再確認された。両者は知的財産権の執行を強化し、能力開発を強化し、知的財産権の認識を向上させてイノベーションを奨励することの重要性を確認した。

DPIITは前回の会合以来、インドからの研修生を受け入れる研修プログラムの実施に協力してくれたJPOに感謝の意を表明し、JPOはインドのステークホルダー向けの招聘研修プログラムを継続して実施することに合意した。また、工業所有権としての工業デザインの重要性を確認し、工業デザイン教育における協力を継続することに合意した。

両者は2021年7月1日から、特許協力条約（PCT）の下でJPOとCGPDTMが国際調査機関（ISA）と国際予備審査機関（IPEA）としての機能を開始することに合意し、円滑かつ適切な運営のために必要に応じて専門家会議を開催することに合意した。

また、両者は日印特許審査ハイウェイ（PPH）試行プログラムの機能について議論するために、少なくとも年に1回、専門家の会合を開くことを決定し、特許審査実務の相互理解をさらに深めるために特許専門家による情報交換プログラムを継続して開催することで合意し、ITインフラ開発に関するイニシアチブに関する情報と経験を共有するために両者でIT専門家会議を開催することに合意した。