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独立行政法人日本学術振興会　インターナショナルトレーニングプログラム　International Training Program, Japan Society for the Promotion of Science

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長期派遣プログラム－派遣先３

２０１１年度派遣募集

派遣先３
テキサス大学ダラス校　International Center for Advanced Materials Processing (ICAMP)への研究派遣

派遣概要 バイオに関連したプラズマプロセスから半導体加工に至るまで研究に力をいれている、
テキサス大学ダラス校へ博士前期、後期課程学生あるいは若手研究者２名を２ヶ月間派遣し、
派遣先の教員と討論をおこないつつ研究をおこなう。
時　期 平成２３年９月(出発)～１０月(帰国)　＊計６０日間、２名（予定）
派遣先 テキサス大学ダラス校
International Center for Advanced Materials Processing (ICAMP)
アメリカ　リチャードソン市（ダラス北東約25km）
研究内容詳細 受け入れ先における研究内容の詳細については、以下URLを参照してください。
http://www.utdallas.edu/~goeckner
※なお、派遣学生は、派遣決定後に受入教員との間で詳細打ち合わせをおこなっていただきます。
応募条件 １）日本国内の研究機関に在籍し、プラズマ科学および応用に関する研究活動をおこなっている博士前期、後期課程学生あるいは若手研究者
２）派遣先教員と議論をおこなったうえでテキサス大学ダラス校における研究成果を修士あるいは博士論文に含め、博士論文は英語にて論文を作成すること。
支　給 旅費および滞在費
応募方法 応募用紙に必要事項を記入の上、名古屋大学プラズマナノ工学研究センター事務局 itp@plasma.engg.nagoya-u.ac.jp まで電子メールにて応募のこと。
選考方法 選考は第１次選考と第２次選考からなります。
＜第１次選考＞
応募書類をもとに、名古屋大学プラズマナノ工学研究センターおよびテキサス大学ダラス校International Center for Advanced Materials Processing (ICAMP)の教員が選考にあたる。
＜第２次選考＞
第1次選考に合格した学生を対象に名古屋大学において面接を行い、派遣者を最終決定する。
応募締切 平成２３年８月１５日
応募書類 テンプレート（右クリックでダウンロード、保存）
注意事項
１）本派遣に係る研究成果の発表に際しては、本事業として交付された資金による成果であることに触れ、プロシーディングスなどのアブストラクト原稿に以下の文を記載すること。
“This work was supported by the JSPS International Training Program (ITP).”
２）派遣にあたり、十分な英語力が必要です。事前に英語教育を受けていただきます。
（詳細は派遣学生に後日連絡します。）
３）派遣期間中における事故等について、本プログラムからの補償はありません。テキサス大学が規定する保険契約内容に沿って、各自で海外旅行傷害保険等に加入すること。
（参加前に加入済みであることを確認させていただきます。）
４）J1ビザを取得する必要があります。ビザ申請は派遣者自身で時間に余裕を持って行ってください。
５）パスポート取得費用等は各自で負担すること。
６）本派遣実施後に、報告書を提出すること(英文および和文) 。
選考結果の通知 応募受付後、２週間以内を目安に応募者へご連絡いたします。

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