hpprc/llmjp-kaken huggingface dataset:
睡眠時無呼吸に対する防御機構としての低酸素応答の分子基盤

低酸素応答の分子基盤の解明と睡眠時無呼吸症候群の有効な予防法と治療法の開発を目的に、低酸素によるヒトヘムオキシゲナーゼ1(HO-1)遺伝子の発現制御機構の解析と換気応答以上を呈するマウスを探索した。HO-1はヘム分解系の律速酵素であり、ヘムを酸化的に開裂して一酸化炭素(CO)、ビリベルジン(最終的にはビリルビン)、鉄を生成する。我々は、昨年、転写抑制因子Bach1が低酸素により誘導されることを発見し、低酸素下におけるHO-1の発現低下は、Bach1の作用によることを明らかにした。しかし、ヒト網膜色素上皮細胞(RPE)を用いてHO-1遺伝子の発現機構を解析した結果、同細胞ではHO-1とBach1の両方の発現が低酸素により誘導された。すなわち、Bach1の発現量だけでHO-1遺伝子の転写レベルが規定されるわけではなく、他の因子の関与が示唆された。RPEは血液-網膜関門を形成する一層の細胞であり、生体内で最も低酸素になり難い細胞である。よって、RPEには固有な低酸素応答系が存在すると考えられる。一方、小眼球症関連転写因子(Mitf)は、神経堤由来のメラノサイトとRPEの分化制御因子であり、一部のアイソフォームは脳などでも発現されている。Mitf変異マウスであるbwが低酸素換気応答の異常を呈することを発見した。そこで、換気応答に関与する分子を同定するために、bwマウスの呼吸中枢(延髄孤束核、視床下部)あるいは皮膚において発現が変化するmRNAをcDNA microarray法にて探索した。既に、発現が変化する遺伝子の候補を複数同定しており、各候補分子を詳細に解析している。睡眠時無呼吸症候群の治療法の開発を目的に研究を実施し、低酸素によるヒトヘムオキシゲナーゼ1(HO-1)遺伝子の転写抑制機構を解明した。一般に、ヒト細胞が低酸素環境に曝露されると、血管新生や解糖などに関与する一群の遺伝子の転写が促進される。その際、低酸素誘導性の転写活性化因子であるhypoxia-inducible factor 1が中心的な役割を演じる。しかし、どのような代謝系であってもバランスが重要であり、低酸素誘導性の転写抑制因子の存在も合目的と考えられる。我々は、転写抑制因子Bach1が低酸素により誘導されることを世界に先駆けて発見した。従って、低酸素下におけるヒト細胞特異的なHO-1の発現低下は、Bach1の作用によると考えられる。さらに、Bach1の発現はHO-1の発現を低下させる鉄キレート剤やインターフェロン-γによっても誘導され、逆にHO-1の誘導剤である塩化コバルトによってBach1の発現は低下する。Bach1は細胞内の代謝センサーとして機能することが示唆される。一方、ラット、ウシ、サル由来の細胞では、低酸素によりHO-1の発現は誘導される。すなわち、低酸素応答における種差の存在が明らかになった。このような種差はヒト特異的な生体防御機構を反映すると推定される。低酸素応答に関与する小眼球症関連転写因子(MITF)は、神経堤由来のメラノサイトと網膜色素上皮細胞の分化制御因子である。MITFがWntシグナル伝達系の転写因子LEF-1と協調的に作用してメラノブラストマーカー遺伝子を活性化することを発見した。よって、MITFはWntシグナル伝達系の構成因子でもある。さらに、転写因子OTX2が網膜色素上皮細胞の機能維持に関与することを示唆した。
Coded Apertureを用いた高速X線ビームプロファイルモニターの研究

ATF(先端加速器試験装置)のATF2取り出しビームラインでX線Coded Aperture(符号化口径)を用いて低エミッタンスビームのサイズ測定に成功した。ATF2ビーム取り出しラインの上流にある偏向電磁石をX線源とするX線ビームラインを建設し、Coded Apertureを通して検出されたX線のパターンを解析することにより、ビーム調整で絞ったビームサイズが最小で7.5μm程度であることが判った。これはCoded Apertureを利用して測定したビームサイズとしては世界最小記録である。本研究の目的はCoded Aperture法による高速X線ビームプロファイルモニターの解像度限界を研究、評価することにある。Coded Aperture法は現在の、また、将来における低エミッタンスLepton加速器において、ビームプロファイルの評価方法として、高い空間分解能(数ミクロン)、早い時間応答(ナノ秒領域)を持つ手段として、特に、シングルショットでのバンチのビームプロファイル精密測定を可能とする点で重要である。ATF2ビームラインにおいて縦方向5μmのビームサイズの評価について研究することを目的とする。平成22年度にはATF2加速器の変更電磁石(BH3X)にX線放射光取り出しラインの設置を行なって、Coded Apertureマスクシステムを設置したX線取り出しラインに組み込んだ。ビームプロファイルをはっきり測れるように偏向電磁石BH3XのX線取り出しチェンバーに設置された元の粗い表面のベリリウム窓を交換した。表面が研磨されたベリリウム窓を作製し採用した。その窓の約9m下流のX線検出器の間にX線が吸収されないように、真空を引いたビームラインを設置し、そのビームラインの両端に25μm厚さのカプトン窓を設置した。X線マスク(Coded Aperture)もX線検出器も可動・回転ステージに設置した。X線検出器としてはInGaAsのフォトダイオードを利用して、ATF2のビームを使ってビームラインのアラインメントを行った。そしてマスクを通ってディテクターで信号が見えることを確認した。その後、ビームプロファイルの評価・研究を開始する予定であったが、ATF2のクライストロン関係のトラブルとその続きに東日本大震災の影響でマシーンタイムがなくなり、できなかった。したがって平成23年度は、ビームプロファイルの評価・研究を行なう。平成22年度にATF2加速器の変更電磁石、(BH3X)にX線放射光取り出しラインの設置を行なって、Coded Apertureマスクシステムを設置したX線取り出しラインに組み込みました。それからATF2のクライストロン関係のトラブルと東日本大震災の影響でマシーンタイムが限られていたが、23年度にはシングルピクセルのディテクターでスキャンニング測定を行った。結果としては15umのビームサイズが測れた。さらに小さいビームを得るにはチューニングの為にもっと早い読み出しシステムが必要とされている。本年度後半には、ハワイ大学と協力してデザイン、製作したピクセル検出器を設置して高空間分解下でのシングルショットバンチの高速評価の研究を行なう。またこれらの研究と平行して、ATF2及びCesrTAでとったCoded Apertureデータを使って非ガウス成分を含めてビームプロファイルのリコンストラクション方法に関する研究を進め、結果発表をする予定である。今年はATF加速器のATF2取り出しラインでX線Coded Aperture(符号化口径)を用いて低エミッタンスビームのサイズ測定に成功した。ATF加速器のオプティクス専門家がX線の発光点でのビームサイズを7.5μmまで絞って頂いて、その発光点からのX線をCoded Apertureを通してディテクターで検出したパターンがその程度のビームサイズに一致していることを確認出来た。今年測ったビームサイズは去年のATF2加速器のオプティクス調整で出来た最小ビームサイズの半分ぐらいであり、且つCesrTA加速器で今までCoded Apertureで測った最小ビームサイズよりも小さいため、今回の測定結果がCoded Aperture測定法に関しては世界新記録になる。この成功で研究の最大の目的に到達した。データ解析の方法の開発も進んだ。32コアのCPUで今までより早くて精度よくビームプロファイルによるCoded Apertureを使う時のディテクターで観測した信号の計算が出来て、そしてディテクターで観測した信号から元のビームプロファイル(サイズ、位置、及び非ガウス成分含み)を求めることが出来る様になった。

CesrTA及びSuperKEKBでは同じディテクターも使用するため、そのデータの解析に必要なピクセルの効果的な幅等のディテクターの特徴をATF2取り出しラインで測定した。これから、新しいディテクター及び読み出しシステムのテストのためにATF2のX線取り出しラインを続けて使用する予定である。特に、別の予算で開発中のSuperKEKB用シングルバンチ、シングルショットの読み出しシステムをATF2でテストしたい。今年度の実験にはそのSuperKEKB用読み出しシステムが間に合わなかったが、シングルピクセルのスロースキャンで最小ビームサイズのデータを取ることが出来た。東日本大震災の影響でATF2のマシーンタイムが減った上、x線原点でのビームサイズチューニングする時間は限られていた。ハワイ大学で開発中の高速読み出しシステムは開発が遅れたため、シングルショットの測定はできなかった。しかし、スロースキャン方式でビームサイズは測れた。24年度が最終年度であるため、記入しない。先ず、ビームサイズそのもののチューニングが必要。このため、スロースキャンの自動化を進んで、もっと効率的にビームのチューニングが出来るようになることを対策とする。高速読み出しシステムができたら、シングルショットのビームサイズを測る予定である。それに、非ガウス成分を含めたビームプロファイルのリコンストラクション方法に関する研究の重大さが分かったため、ATF2及びCesrTAでとったCoded Apertureデータを使ってその研究を進める予定である。
小中学生の対人葛藤解決力発達支援モデルの開発‐友人関係における志向性に着目して‐

まず,日本における外国人児童のウェルビーイングに関する国内共同研究において,外国人児童の対人葛藤解決方略について日本語能力に着目した検討を行い,論文化した(「学校メンタルヘルス」印刷中)。学校生活において児童が日常的に経験する児童間の対人葛藤場面を取り上げ,日本人児童(809名)と外国人児童(278名,学習面における個別支援の要・不要の観点から,日本語能力低群.日本語能力高群に分類)の解決方略を比較した。主な結果として,外国人児童は日本語能力の高低にかかわらず,日本人児童よりも総じて多様な方略を用いやすいことが示唆された。こうした外国人児童の傾向は,葛藤解決に向けた積極的な振る舞いとして評価できる一方で,彼らが安定した対処様式や得意とする解決方略を持ち合わせていないことの表れとみることも可能であると考えられた。加えて,言語能力に対する自信の不足が推測される外国人児童は,「説得」による葛藤解決に難しさを感じていることも示唆された。次に,教育支援センター通級児童生徒(支援群,34名)の他者の意図が曖昧な場面における意図解釈,内言,反応行動の特徴について,登校している児童生徒(登校群,167名)との比較を通して検討し,2018年7月の日本学校心理学会で成果報告した。主な結果として,意図解釈と適応感及び自尊感情には有意な関連が認められた。場の充実感は支援群が登校群より高く,自尊感情は登校群が支援群より高かった。また,登校群,支援群ともに意図解釈の特徴によって生活の場の適応感や自尊感情に違いが示された。さらに,登校群との比較を通して,支援群には,他者の意図が曖昧な場面において,合理的な解決が図られにくいこと,「その後」に他者を頼る行動が生活の場の適応感とも関連する重要な対処行動の一つであることが示唆された。ただし,支援群は少数であるため,今後データを蓄積し,より詳細な検討を要する。2017年度に実施した大学生の「からかい場面」に関する調査結果及び先行研究を参考に,小学校高学年児童を対象とした調査セットは準備したが,調査実施はこれからである。小学校高学年児童を対象とした対人葛藤解決方略と友人関係における志向性,友人関係満足に関する調査を実施する。まず,小学生の対人葛藤解決方略に関する成果として2論文を公表した。うち高学年児童計1,867名を対象に実施した質問紙調査では,授業中の意見層場面に焦点をあて,児童の学級内の対人葛藤解決方略と承認・被侵害感との関連を検討した。主な結果として,1承認感が高く被侵害感が低い児童(満足群)は,承認感が低く被侵害感が高い児童(不満足群)より互恵的・協調的な方略を用いやすく,非言語的攻撃・抑制などの一方向的な方略を用いにくいこと,2所属学級の状態(学級内の満足群児童の占める割合)によって,承認感が高く被侵害感が低い児童であっても個人が用いる方略が異なることなどが示された。これらのことより,学級観察の際に,対人葛藤解決方略には個人の承認・被侵害感のみでなく,学級全体の状態も考慮する必要性が示唆された。また本成果より,学級における仲間関係の認知が児童の対人葛藤解決方略に重要な意味を持つことが示唆された。次に,これまで報告のなかった日本における外国人児童の対人葛藤解決方略について,日本語能力に着目した対人葛藤解決方略の検討を行った。外国人児童の在籍率の高い小学校5校の高学年児童計1,096名(日本人809名,外国人287名)を対象に質問紙調査を行ったところ,外国人児童は日本語能力の高低にかかわらず,日本人児童よりも多様な方略を用いやすいことが示唆された。こうした傾向は外国人児童の葛藤解決に向けた積極的な振る舞いとして評価できる一方で,安定した対処方略の未獲得とみることも可能と思われた。さらに,重要な友人間葛藤場面の作成を目的に,教員養成課程に所属する大学生(約120名)を対象に小学校高学年から中学生に時期を回想し,当時,気になり今も印象に残っている場面を挙げるよう求めた。その結果,「からかい場面」と認知する判断する基準は様々であり,その個人差の大きさが再確認された。友人間葛藤場面の作成について,大学生を対象にした調査は実施したが,結果を踏まえた小学校高学年及び中学生を対象とした調査は実施できておらず,場面作成には至っていない。

次に,教育支援センター通級児童生徒(支援群,34名)の他者の意図が曖昧な場面における意図解釈,内言,反応行動の特徴について,登校している児童生徒(登校群,167名)との比較を通して検討し,2018年7月の日本学校心理学会で成果報告した。主な結果として,意図解釈と適応感及び自尊感情には有意な関連が認められた。場の充実感は支援群が登校群より高く,自尊感情は登校群が支援群より高かった。また,登校群,支援群ともに意図解釈の特徴によって生活の場の適応感や自尊感情に違いが示された。さらに,登校群との比較を通して,支援群には,他者の意図が曖昧な場面において,合理的な解決が図られにくいこと,「その後」に他者を頼る行動が生活の場の適応感とも関連する重要な対処行動の一つであることが示唆された。ただし,支援群は少数であるため,今後データを蓄積し,より詳細な検討を要する。2017年度に実施した大学生の「からかい場面」に関する調査結果及び先行研究を参考に,小学校高学年児童を対象とした調査セットは準備したが,調査実施はこれからである。友人間葛藤場面の作成について,小学校高学年及び中学生を対象にした調査を実施し,場面作成を行う。また,対人葛藤解決方略と友人関係における志向性,友人関係満足,葛藤解決に関する調査を実施する。加えて,平成29年度に実施した調査結果について,国内学会で成果公表を行う。小学校高学年児童を対象とした対人葛藤解決方略と友人関係における志向性,友人関係満足に関する調査を実施する。理由:友人間葛藤場面の作成について,年度内に大学生の調査結果を踏まえた小学校高学年及び中学生を対象とした調査が実施できなかったためである。使用計画:上記の変更を踏まえ,2018年度の主な研究費使用計画を示す。(理由)年度内に小学校高学年児童を対象とした調査が実施できなかったためである。(使用計画)小学校高学年児童を対象にした調査を実施し,データ解析を行う。加えて,国内において過年度の成果公表を進める。
イオンスプレーによる表面電位変化を利用した非接触型表面抵抗計の開発

コロナ放電により生成された気中イオンで被測定物を強制的に帯電させ、その表面電位を測定することにより、非接触で表面抵抗を測定する手法について実験的に検討した。針対円筒電極系でコロナ放電を起こし、気流で試料表面にイオンを供給する方法(吹き付け法)と、穴あき接地電極に高電圧針電極を挿入して試料表面に近づけることでイオンを供給する方法(針電極挿入法)を用いて、イオンによる試料表面の電位を測定した。吹き付け法は、試料表面にイオンを供給したあとの漏洩拡散による表面電位の時間変化から表面抵抗に換算しようと試みたものであり、針電極挿入法は、イオンを試料表面に照射している状態で定常的な表面電位の値から表面抵抗に換算するものである。吹き付け法では、材料表面を数百ボルトに高めることができたが、1)試料の表面抵抗が変化することによって、イオンの供給量自体が変化すること、2)試料の表面抵抗を大きく変化させても、表面電位の時間変化に大きな差異は認められなかったことから、表面抵抗計としては機能しないことが判明した。一方、針電極挿入型では、表面電位の大きさと表面抵抗との間に相関関係がみられ、表面抵抗計として機能することが判明した。針電極への印加電圧が2kVの場合、針電極直下の試料の表面では1.5kVとなり、針電極から遠ざかるにつれて表面電位が減衰する。表面電位の測定位置を適当な位置に配置することにより、10^810^<16>Ω□の表面抵抗において、1.5kV0.3kVの範囲で表面電位が変化した。表面抵抗が小さいほど、表面電位が大きい。この方法は、比較的簡単に試料と接触させずに表面抵抗を測定できるので、今後、精度の向上を図れば、応用範囲は極めて広い。アクリル、テフロン、ガラス、シリコンゴムなどの絶縁板試料にイオンスプレーを照射して帯電させ、その表面電位の減衰の速さと、接触型表面抵抗計で計測した表面抵抗との関係を調べた。線対金網平板電極系で正極性の直流コロナ放電を起こし、網電極の開口部からすり抜ける正イオンで絶縁板を帯電させた。このとき、網電極にも500V2kVの直流電圧を加え、帯電時の表面電位をその電圧に固定することが可能となった。帯電後の絶縁板は、スライドさせて表面電位のプローブの下部に移動させるが、このとき、試料と試料の背後にある接地との間の距離によって表面電位が大きく変化することが確認された。これは、同じ帯電量であっても、試料と接地との間の距離によって表面電位およびその減衰特性が異なることを意味する。そこで、網電極の下部に丸穴を開けた接地電極板を置き、試料表面の近傍で接地電位を固定することを試みた。これにより、試料と試料背後の接地との距離が変化しても、表面電位に変化が現れないことを確認した。これを含めた予備実験により、帯電電位は2kV程度、丸穴付き接地板の孔系は2cm程度が表面電位減衰の計測に適していることを確認した。上の条件でガラス、アクリル、テフロン試料の表面電位減衰を測定した結果、減衰時間に大きな差が現れた。接触型表面抵抗で測定したこれらの試料の表面抵抗値は10^<11>10^<17>の範囲にあり、表面電位の減衰時定数と比例関係にあることを確認した。次年度は、さらに測定精度を高めるために測定データを蓄積するとともに、測定可能範囲を同定し、汚損した絶縁材料の表面抵抗の実測を行う予定である。
繊維・樹脂間のぬれ性を考慮した新たな浸透性評価理論の構築

繊維に対する樹脂の充填予測が重要な技術課題となっている繊維強化プラスチック(FRP)では、Darcyの法則に基づき繊維に対する樹脂の浸透性が評価されているが、構成材料の変化に応じて個別に浸透性を測定する必要がある。本研究では、繊維・樹脂間のぬれ性と、樹脂に対する繊維基材の浸透性の間に存在する相関性を評価した。微視的な繊維束内への浸透はぬれ性の向上とともに向上し、見かけの浸透性と逆相関性を示した。繊維束周りと繊維束内の2つのスケールにおける浸透挙動を評価した結果、繊維束単位の微視的領域における浸透性が、従来測定されている巨視的な繊維織布の浸透性を支配することが明らかとなった。繊維織布のぬれ性が樹脂の浸透性におよぼす影響の定量的評価に着手した.繊維織布には平織ガラスクロスを使用し,繊維束内の接触角を変化させるため,シランカップリング処理を施したもの(AR) ,ARのシランカップリング剤をアセトンで除去したもの(WS),WSに離型処理を施したもの(MR)の3種類を用いた.ガラスクロスに浸透させる樹脂には,浸透過程で粘度が変化しないグリセリンを用いて,Darcy則に基づき浸透性を比較評価した.その結果,ぬれ性の高い界面を有するガラスクロスほど浸透性が低いことが明らかとなった.一方,樹脂浸透後のガラスクロス断面を観察した結果,ぬれ性の相違により繊維束内部の樹脂浸透挙動に大きな差異が見られ,ぬれ性が低い繊維織布ではボイドが多数見られた.このことから,繊維基材レベルの見かけの樹脂浸透と,繊維束レベルでの毛管現象による微視的な樹脂浸透は,互いに相関性を有するものの,異なる現象としてあつかう必要があると考えられる.そのため,強化繊維に樹脂が含浸する際の巨視的な見かけの樹脂浸透と,毛管現象により繊維束に樹脂が浸透する際の微視的な浸透挙動について,実験的な評価を行ない,その相関性について検討した.その結果,繊維束内の浸透速度は,ぬれ性が良いと明らかに速いことがわかった.一方,初期浸透速度はぬれ性が良いと速いものの,その後の浸透速度はぬれ性に関わらずほぼ同等の速度を示した.従って,微視的な毛管現象による繊維束内の浸透速度と繊維基材の浸透速度の差異が,繊維束内のボイド形成に影響すると考えられる.繊維に対する樹脂の充填(=含浸)予測が重要な技術課題となっている繊維強化プラスチック(FRP)では,Darcyの法則に基づき繊維に対する樹脂の浸透のしやすさ(=浸透性)が評価されているが,構成材料の変化に応じて個別に浸透性を測定する必要がある.そこで本研究では,繊維・樹脂間のぬれ性と,樹脂に対する繊維基材の浸透性の間に存在する数理的相関性を求め,ぬれ性を考慮した新たな浸透性評価理論を構築することを目的とした.<平成25年度の研究成果>繊維/樹脂間のぬれ性を変化させるために,繊維の界面処理を変化させ樹脂浸透挙動を評価したところ,巨視的な繊維束周りの浸透速度はぬれ性の向上と共に低下したが,成形後のFRPの断面観察より,微視的な繊維束内への浸透はぬれ性の向上とともに向上し,見かけの浸透速度と逆相関性を示した.この結果から,ぬれ性をパラメータとして,繊維束周りと繊維束内の2つのスケールにおける浸透挙動を評価する必要性が推察された.<平成26年度の研究成果>繊維束周りに樹脂が浸透する際の巨視的な見かけの樹脂浸透と,毛管現象により繊維束内に樹脂が浸透する際の微視的な浸透挙動の相関性を検討するため,樹脂圧力を制御することにより,微視的浸透が支配的な条件と巨視的浸透が支配的な条件をつくり,両者の樹脂浸透挙動を比較した.その結果,毛管現象による微視的な浸透が支配的な条件下では,接触角が90度以下の場合,繊維束内の樹脂浸透速度は繊維束周りの浸透速度を上回り,時間の経過とともに速度差は小さくなった.一方,樹脂圧力により巨視的な浸透が支配的な条件下では,繊維束周りの浸透速度が繊維束内の浸透速度を上回り,その関係は測定に用いた10kPaまでの圧力範囲で変化がなかった.以上の結果より,繊維束単位の微視的領域における浸透性が,従来測定されている巨視的な繊維織布の浸透性を支配することが明らかとなった.複合材料工学初年度に計画していた繊維織布の表面処理法の検討,繊維織布と樹脂のぬれ性の実験的評価,浸透性評価がおおむね実施できたため.さらに,微視的な浸透性について検討を始めることができたため.微視的な浸透性について検討を行ないつつ,浸透性におよぼすぬれ性の数理的相関性の検討と新たな浸透性理論の構築に取り組み,さらに異なる材料系を用いた構築理論の検証を行なう.

購入設備が当初計画より低額で購入できたため.また,授業等の業務と重複したため,当初予定した学会への参加を見送り,出張旅費が不要となったため.学会参加の旅費,および実験消耗品に充当する.
ベンザインの選択的環化付加反応を用いた光学活性ヘリセンの不斉構築と応用

ベンゼン環がオルト位で縮環したヘリセンと呼ばれるらせん状の化合物群は、現在、多くの科学者の注目を集め、様々な応用研究が進められている。しかし、合成に長い工程を経る必要があるのに加えて、目的の機能を持たせた誘導体を合成することが困難であり、研究を推進する上で大きな障害となっていた。今回、代表者は、ベンザインとフランの反応を利用する新しいヘリセン合成法を提案し、実際にその合成に成功した。更に、別途、新反応を開発し、ヘリセンとは異なる新しいタイプのらせん分子を合成することにも成功した。本申請研究は、申請者が独自に開発中の位置選択性制御法を用いて多様な光学活性ヘリセン類を不斉合成し、種々の機能を有する新規ヘリセン誘導体を創製することを目的とする。本年度は、新規ヘリセン合成の基盤となる基礎反応を確立するため、ベンザインの位置制御法を確立するのと同時に、新規ベンズジイン等価体の開発を中心に検討した。特に、ベンズジイン等価体の開発に関して以下詳細を論述する。まず、二種類の1,3-ベンズジイン等価体候補化合物(二つのTMS基を有する前駆体1と、TMS基とTBDMS基を有する前駆体2)を合成し、目的の位置でベンザインが発生するかどうかを調べた。すなわち、2,5-ジメチルフラン存在下、等価体候補化合物1又は2のアセトニトリル溶液中、フッ化セシウムを添加して室温で3時間撹拌した。その結果、候補化合物1を用いた場合、標的としていた1回ベンザインが発生し、フランとの環化付加反応が進行した環化付加体や、二回の環化付加反応が進行した生成物は全く観測されなかったが、候補化合物2を原料とした場合では、目的の位置でベンザインが一回のみ発生し、フランとの環化付加反応が進行した付加体3が収率58%で得られた。続いて、得られた3をフラン存在下、THF中、0 °CでBu4NF(tBuOH)4と反応させたところ、2回目の環化付加反応が進行し、五環性の化合物を収率59%で合成することができた。以上の結果より、2は二回の環化付加反応がstep-by-stepで進行する、優れた1,3-ベンズジイン等価体であることが分かった。また、同様にstep-by-stepでベンザインを発生させる1,4-ベンズジイン等価体についても開発に成功した。以上、今回に成功したベンズジイン等価体を用いれば、多様な官能基を有するヘリセン類を容易に合成できるものと期待される。ヘリセンは複数の芳香環がそれぞれオルト位で縮環したらせん状分子であり、不斉を有する特徴的な化合物として注目を集めている。現在、その合成法に関する研究が活発に行われているが、従来の合成法は、原料合成に多工程を要することや官能基を所望の位置へ導入することが困難であること等の問題を有している。そこで著者は、連続的にベンザインの位置選択的環化付加反応を行うことで官能基化されたヘリセン合成が容易に達成できるとの考えのもと研究を行った。本年度は、ヘリセン構築に重要な単位反応である1,2-ナフタラインの環化付加反応の検討を行った。種々の条件検討の結果、反応系中で1,2-ナフタラインを発生させ、フランとの環化付加反応が進行した1,4-エポキシ-1,4-ジヒドロフェナントレンを収率よく与える条件を見つけた。このとき、位置選択性は全く発現しておらず、無置換の1,2-ナフタラインの環化付加反応では選択性が発現しないことが明確になった。そこで、8位にシリル基が置換した1-ナフチルトリフラートの合成を検討した。その結果、シリルベンザインとフランとの位置選択的環化付加反応とエポキシ環の開環、トリフラート化が収率よく進行することが分かった。そこで、得られた8-シリル-1-ナフチルトリフラートをフラン存在下、-78°CでLTMPと反応させた。しかし、8-シリル-1,2-ナフタラインは発生するもののTMPの付加反応が進行するのみで環化体は全く生成しなかった。現在、比較的高温条件下で8-シリル-1,2-ナフタラインを発生させ、フランとの環化付加反応が位置選択的に進行する反応条件を探索中である。ヘリセンは他に類を見ない特異な性質を示し、機能性分子として様々な応用が期待されている。しかし、従来の合成法では、ヘリセンの所望の位置に選択的に官能基を導入することは困難である。今回申請者は、ベンザインとフランとの環化付加反応を繰り返してベンゼン環を順次縮合し、官能基化されたヘリセンを合成することを目的として研究を行った。前駆体より系中で発生させたベンザインと、置換基を有するフランとの[4+2]環化付加反応/エーテル開環反応/O-トリフリル化の一連の変換を連続的に2回繰り返し、四環性芳香環を合成した。このとき、[4+2]環化付加反応の位置選択性は、フラン2位の置換基の嵩高さにほとんど影響されなかった。

次に、3回目のベンザイン発生とフランの反応による芳香環伸長反応を検討したところ、発生した四環性ベンザインとの[4+2]環化付加反応は全く進行せず、2分子の四環性ベンザインが高位置選択的に[2+2]環化付加反応を起こしたと考えられる、新規らせん状分子が収率よく得られた。なお、本反応は、四環性ベンザイン上の置換基を種々変えても同様に進行する一般性の高い反応であることが分かった。更に、溶媒をトルエンへと変えることにより、[2+2]環化付加反応を[4+2]環化付加反応へと反応を切り替える事にも成功した。この手法により置換基を有する[6]ヘリセンまでを首尾よく合成することにも成功した。今回、新たに開発した二種類の合成法を用いることで、新規な機能性を有するらせん分子の開発が大いに期待できる。ベンゼン環がオルト位で縮環したヘリセンと呼ばれるらせん状の化合物群は、現在、多くの科学者の注目を集め、様々な応用研究が進められている。しかし、合成に長い工程を経る必要があるのに加えて、目的の機能を持たせた誘導体を合成することが困難であり、研究を推進する上で大きな障害となっていた。今回、代表者は、ベンザインとフランの反応を利用する新しいヘリセン合成法を提案し、実際にその合成に成功した。更に、別途、新反応を開発し、ヘリセンとは異なる新しいタイプのらせん分子を合成することにも成功した。本年度は、ヘリセン合成を行うために重要な鍵反応となる2位置換フランとナフタラインの環化付加反応が進行することを確認した。既に、著者はこの反応を連続的に行うことで[4]ヘリセンを合成することに成功しており、今後、更なる伸長は容易であり、ヘリセンの不斉合成やその応用研究にも全く支障はないと考えられる。有機化学平成25,26年度は順調に実施計画が進行したので、平成27年度も継続してヘリセン合成の基盤となる基礎反応の研究(1)と、当初の計画通り23のヘリセン合成研究及び4応用研究を推進する。11,2-ナフタラインと2位置換フランとの位置選択的環化付加反応2上記1にて開発した反応の連続利用によるヘリセン合成3シリルベンザインやホウ素ベンザインを用いるヘリセン類の不斉合成4不斉有機触媒又は不斉リガンド機能を有するヘリセン類の開発申請者は、科学研究費補助金[スタートアップ(1回)、若手研究B(計2回)]を拝受し、ホウ素やケイ素を用いたベンザイン又はピリダインの反応位置制御法を開発している。本年度は、同補助金(基盤研究C)の初年度として、ヘリセン合成のために重要な鍵反応となるフラン類との位置選択的環化付加反応が進行することを確認した。更に、ヘリセン合成に有用な新規1,3-及び1,4-ベンズジイン等価体を開発することにも成功した。これらの成果を合わせれば、次年度以降、官能基化されたヘリセン類を自在に合成できると確信している。平成26年度は、ヘリセン合成ための単位反応となる1,2-ナフタラインとフランとの環化付加反応を中心に研究してきた。従って、当初購入を予定していた高価な光学活性試薬を殆ど購入しなかったため、予定よりも試薬の購入費用がかからなかった。平成27年度は、実際にヘリセンを不斉合成する予定であり、昨年度使用しなかった多くの光学活性試薬を購入する必要がある。従って、昨年度までの繰越金は殆ど消耗品として、200,000円分を学会等への旅費として使用する予定である。また、当初予定していた平成26年度の研究費については予定通りの使用計画である。平成25年度は順調に実施計画が進行したので、平成26年度も継続してヘリセン合成の基盤となる基礎反応の研究(1)と、当初の計画通り23のヘリセン合成研究を推進する。1初年度(平成25年度)に開発したベンズジイン等価体は、その合成に多段階を要する。そこで、本等価体の短段階合成法を開発すると同時に、より単純なベンズジイン等価体の開発研究を行う。2上記1にて開発したベンズジイン等価体を用いて、ヘリセン合成を行う。
生物分子認識機能界面の構築および機能制御

電子移動特性の向上を目指した二通りの分子インターフェイスを設計し、その構築と基礎的評価を行なった。ここで、(1)多孔質金黒電極を用いた、酸化還元酵素-電極の多次元近接分子インターフェイス、(2)金属イオンを酸化還元酵素中の補酵素に配位するとともに電気化学的に還元析出させ、補酵素-電極間の良好な配向関係を得る、電気化学析出分子インターフェイス、のそれぞれの分子インターフェイスを設計・創製した。(1)では、化学修飾によりSH基を導入した電子メディエータ修飾グルコース酸化酵素(GOD)を多孔質金黒電極表面にメルカプチド結合により分子集積した結果、酵素分子が多くの点で電極と接する「多点接触インターフェイス」が構築された。この分子インターフェイスにより、酵素分子による触媒電流は、平滑な電極による系と比べて2.5倍程度大きくなることが示された。このことは、分子-電極間の電子移動が、多点接触により円滑に行われるようになったことを示している。(2)では、2価金属イオンと複合体を形成したGODを電極上に電気化学的に還元析出することにより、インターフェイスを構築した。電極上で、還元され0価となった金属とGODとの複合体はぼぼ一定の分子配向をもって析出されていることが明らかとなった。また、ここで析出したGOD/Cuは電極と直接電子移動が出来ることが示された。このことは、酵素分子1分子中に2つあるフラビンに配位している2原子の金属と電極との間で電子移動を円滑に行なわせるアトミックインターフェイスが構築されていることを示唆している。ここで設計・創製した分子インターフェイスはどちらも本研究において新規に創製されたものであり、酸化還元酵素-電極間の電子移動特性について検討を行なうモデルシステムとして優れたシンプルなシステムである。このそれぞれについて、分子と電極の関係について詳細な検討を加えることにより、分子-電極間電子移動を行なうための分子界面設計の指針が得られるものと考えられる。
関節リウマチの重症度、治療反応性に関わる遺伝子多型の検索

関節リウマチ(RA)の治療反応性に関わる遺伝子多型を検索するため、tocilizumab(抗IL-6R抗体)に対する治療反応性に関連する遺伝子多型を検索することを主眼とし、tocilizumabを多数使用している数施設(大阪大学、産業医科大学、慶応大学、埼玉医科大学総合医療センター、北海道大学、和歌山医科大学、筑波大学)と共同して、検体および臨床情報収集を行った。420検体のDNAと臨床情報(治療反応性)データが集まり、全ゲノムタイピングを開始する準備が整った。関節リウマチ(RA)の発症に関わる遺伝子多型は多数報告されているが、重症度や治療反応性に関わる遺伝子多型はわずかの報告しかない。我々は最近1001例のRA患者の全ゲノムにわたる30万から61万個の一塩基多型(single nucleotide polymorphism: SNP)のタイピングを遂行した。このゲノムデータに臨床像を加味したサブ解析を行い、重症度に関わる遺伝子多型や治療反応性(特に生物学的製剤に対する反応性)に関わる遺伝子多型を検索することが本研究の目的である。本年度、まずは生物学的製剤への反応性に関わる遺伝子を検索するため、まずは京都大学のサンプルでDNAをすでに採取済みの500例の中から生物学的製剤使用患者を選び出した。134例が生物学的製剤を使用し、そのうち104例が治療反応性の評価が可能であった。このうちすでに全ゲノムタイピングが終了している患者がそれぞれ82例、71例みられた。症例数が少ないため、すでにタイピングの終わっている症例の協力病院の臨床データを現在収集中である。また、生物学的製剤使用したが、まだタイピングのされていない検体を現在、新たに全ゲノムタイピングを行っている。症例数が200を越えた時点で関連解析を行い、候補遺伝子をみつけ、別のコホートで確認を行っていく予定である。重症度に関わる遺伝子検索も同様に、現在最重症型RAと軽症型RAの症例を増やしているところである。関節リウマチ(RA)の重症度や治療反応性に関わる遺伝子多型の報告は数少ない。TNF阻害剤の反応性に関わる遺伝子多型の報告が数報みられるが、複数の施設で確認された多型はほとんどない。我々は最近1001例のRA患者の全ゲノムにわたる30万から61万個の一塩基多型(single nucleotide polymorphism : SNP)のタイピングを遂行した。上記のような状況の中で、我々の独自性を出すために、日本で開発され世界に先駆けて日本で発売され効果をあげているtocilizumab(抗IL-6R抗体)に対する治療反応性に関連する遺伝子多型を検索することを主眼とし、tocilizumabを多数使用している数施設(大阪大学、産業医科大学、慶応大学など)に新たに研究協力者となっていただき、検体収集を始めている。今年度は検体収集と臨床情報の収集、整理に終始したが、来年度予定しているゲノムタイピング、関連解析の基礎固めを着実に進めている。重症度に関わる遺伝子検索に関しては、現在我々の保有している最重症型RAと軽症型RAの症例のDNAを用いて、これまでにRAの発症に関わると報告された遺伝子多型および我々が新たに発見した(論文作成中)日本人でのRA発症に関連する遺伝子多型を総じてrisk alleleの頻度に差がないかを検討中である。420検体のDNAと臨床情報(治療反応性)データが集まり、来年度から全ゲノムタイピングを開始予定である。本年度は抗CCP抗体(ACPA)陰性RAに関連するHLA解析を主に行った。ACPA(-)RAは診断に苦慮することも多く、またACPA(+)RAと比較して病態も不明な点が多く、ACPA(-)RAの発症に関連する遺伝子多型を調べるためにまずはHLA-DRB1のアレル頻度を健常人と比較した。869例のACPA(-)RAと2,008例の健常人DNAを用いてHLA-DRB1タイピングを行い、関連解析をおこなった。その結果、HLA-DRB1*12:01(p=0.000088,OR1.72)、*04:05(p=0.0063,OR1.26)、*14:03(p=0.0043,OR1.81)が感受性アレルとして同定された。このようにACPA(-)RA発症とHLAとの関連はACPA(+)RAほど強くないものの、関連を認めるアレルが存在することが明らかとなった。

以上からACPA(-)RAと関連するHLAはACPA(+)RAとは異なったており、さらにACPA(-)RAはRF(+)とRF(-)のサブセットで異なるHLAアレルを使用していることが明らかになった。このこように、シトルリン化抗原を主に抗原提示するHLAとそうでないHLAを使い分けていることから今後、ACPA(-)RAの関連するHLAが提示する自己抗原などの検索を進めていくことで病態の解明につなげたい。
品質保証を目的としたボルトの疲労試験方法に関する研究

ISOでは、1977年にねじ部品の疲労試験方法に関するISO規格を制定した。わが国では、1986年に、このISO規格と整合したJISを制定したが、これに統計的疲労試験方法を付け加えた。その後、ISO規格にもJISの統計的疲労試験方法が採用されることになった。この改正規格には「品質管理のための疲労試験」という項目を含んでいるが、この項目の記述は簡単で、これを実際に適用するには、多くの検討が必要である。疲労強度はボルトの品質特性のうちの重要なものの一つで、この品質の保証をどのように行なうかを規定することは関係者の最も要望するものの一つである。以上のような状況から、統計的疲労試験方法を基礎にして、品質保証を目的としたボルトの疲労試験方法について検討し、上述の国際規格の不備な箇所を補充したいと考えて、この研究を開始し、以下のような成果が得られた。(1)M10、強度区分8.8のボルト及び強度区分8のナットを試験片として、上述の規格に規定されている14S-N試験法を適用して疲労試験を行なった。平均応力を3段階に変化させ、4個所で分担して試験を実施した。1シリーズ試験に必要とする試験片は14個である。(2)品質保証を目的とした、ボルトの疲労試験方法として、いろいろ検討した結果、二つの方法に紋りこんだ。(3)提案する方法(1)は14S-N試験法を簡略にした方法で、必要とする試験片は、8個である。(4)提案する方法(2)はボルトの疲労限度の基準値を基にする方法で、必要とする試験片は4個である。(5)これらの試験方法について、より広範囲な実験を行ない、それらの長所及び短所を明らかにした。品質保証という立場からは、方法(2)がすぐれていることを確認した。ねじ締結体の強度設計には,ボルトの疲労強度に関するデ-タの蓄積が必要である。そのために,ISOボルトの疲労試験方法の標準化が計画され,1977年にISO 3800(ねじ部品の疲労試験方法)が制定された。これには統計的疲労試験方法が推奨されているにも拘らず,その規定は将来の問題として残されていたが,最近ドイツおよび日本の研究成果を取り入れてISO規格の改正が進行中である。しかし,改正予定のISO規格でも,品質保証を目的とした試験方法については不十分である。われわれのグル-プによる統計的疲労試験方法をさらに発展させてボルトの品質保証にも適するようにし,上述の規定の完成に寄与することが本研究の目的である。平成3年度には,上述のISO規格改正案および宇宙航空用ボルトの試験方法に関するISO規格案(DIS 7961)の中の疲労試験に関する部分を検討し,その問題点を明かにし,これをふまえて平成4年度における実験計画を立てた。この検討を行うために,研究代表者,研究分担者(2名)のほかに,日本ねじ研究協会常務理事,同協会会員のねじメ-カ技術者(2名)からなる委員会を組織し,3回の会合を開催した。また,研究分担者の所属する大学(2箇所)および上述の委員会メンバの所属するねじメ-カ(2箇所)に設置された疲労試験機を利用して,上述の計画による疲労試験を平成4年度に実施する予定である。そのために必要な疲労試験片および試験片取付治具の一部を平成3年度に準備した。また,本年度購入したAE計測装置に関しては,現在,性能試験を行うと同時に操作手順のマニュアルを作成している。わが国では、1986年にこのISO規格と整合したJISを制定したが、これに統計的疲労試験方法を付け加えた。

その後、ISO規格にもJISの統計的疲労試験方法が採用されることになった。この改正規格には「品質管理のための疲労試験」という項目を含んでいるが、この項目の記述は簡単で、これを実際に適用するには、多くの検討が必要である。疲労強度は、ボルトの品質特性のうちの重要なものの一つで、この品質の保証をどのように行なうかを規定することは、関係者の最も要望するものの一つである。以上のような状況から、統計的疲労試験方法を基礎にして、品質保証を目的としたボルトの疲労試験方法について検討し、上述の国際規格の不備な個所を補充したいと考えて、この研究を開始し、以下のような成果が得られた。(1)M10、強度区分8.8のボルト及び強度区分8のナットを試験片として、上述の規格に規定されている14S-N試験法を適用して疲労試験を行なった。平均応力を3段階に変化させ、4個所で分担して試験を実施した。1シリーズの試験に必要とする試験片は14個である。(2)品質保証を目的とした、ボルトの疲労試験方法として、いろいろ検討した結果、二つの方法に絞りこんだ。(3)提案する方法(1)は14S-N試験法を簡略にした方法で、必要とする試験片は8個である。(4)提案する方法(2)はボルトの疲労限度の基準値を基にする方法で、必要とする試験片は4個である。(5)これらの試験方法について、より広範囲な実験を行ない、それらの長所及び短所を明らかにした。品質保証という立場からは、方法(2)がすぐれていることを確認した。
散乱媒体下における三次元形状計測手法

霧や煙といった散乱光が生じることにより視認性が低下する環境(散乱媒体)下において,ロボットや自動運転車がカメラで取得した画像から,そのシーンの三次元情報を認識するための基盤技術の開発を行う.深層学習を用いた統計的アプローチを採用し,散乱光で劣化した画像を入力として,シーンの距離画像を出力する深層学習モデルの設計と学習方法について研究を行い,散乱媒体下で三次元情報を取得できることを明らかにする.霧や煙といった散乱光が生じることにより視認性が低下する環境(散乱媒体)下において,ロボットや自動運転車がカメラで取得した画像から,そのシーンの三次元情報を認識するための基盤技術の開発を行う.深層学習を用いた統計的アプローチを採用し,散乱光で劣化した画像を入力として,シーンの距離画像を出力する深層学習モデルの設計と学習方法について研究を行い,散乱媒体下で三次元情報を取得できることを明らかにする.
出土資料調査からみたサーサーン式銀貨の流通実態の研究

本研究の目的は、サーサーン朝ペルシアおよび初期イスラーム政権が発行した「サーサーン式銀貨」が、周辺地域または後の時代にどのように流通、継承されたかを、出土資料から得られる情報をもとに検討することである。具体的には、コインが流通する中で付加される「後刻印」(コインの端に打たれる小さい刻印)に注目した。一括出土コインを精査することで、後刻印がコイン裏面の深い傷「擦痕」と密接な関係にあることを実証し、後刻印は周辺政権が信用度の高い既存銀貨を利用する手段であり、擦痕は銀質検査である可能性を指摘した。その観点から国内外所蔵のサーサーン式銀貨の後刻印データを集め、後刻印の最分類を実施した。前年度同様、国内外のサーサーン式銀貨の情報のデータ化を進めた。本研究の大きな最終目標は、サーサーン式銀貨がサーサーン朝ペルシア領域内外でどのように利用(模倣も含む)されてきたかを知ることにある。したがって、以上のサーサーン式銀貨の調査と平行して、当時のサーサーン朝ペルシアと周辺地域の歴史的概観の把握にもつとめた。2012年度は東領域の状況を把握すべくインド、パキスタン方面のコインについての実地見学等を行ったが、2013年度は西側境界域、すなわちユーフラテス川領域におけるサーサーン朝ペルシアの実態を把握すべく、シリア北部の遺跡から出土するコインおよび関連資料の再検討を行った。本研究の目的は、サーサーン朝ペルシアおよび初期イスラーム政権が発行した「サーサーン式銀貨」が西アジア中央アジア中国西域でどのように流通し、利用されてきたかの実態にせまることにある。一括出土した資料を丹念に実施することで得られる情報、特にコインが流通する中で付加される要素(墨書、後刻印、擦痕、針書等)に注目することで、出自来歴が不明確な国内外の美術館、博物館、個人所蔵の資料を再調査し、サーサーン式銀貨のデータを再構築する。研究計画は(1)一括出土サーサーン式銀貨の精査と公開、(2)国内外に所蔵されているサーサーン式銀貨における後刻印と擦痕の調査、データ化、分類検討という2つの大きなテーマよりなる。2014年度は、前年度までに収集した国内外のサーサーン式銀貨における後刻印、擦痕、墨書等の実地調査についてのデータのまとめに入った。既に国内調査の一部についてはBulletin of Ancient Orient Museumやヘレニズムイスラーム考古学研究会にて「サーサーン式銀貨の後刻印再分類への試み」として報告している。海外調査としては、2013年度に実施したイギリスの大英博物館の調査が最も数量の多い情報であり、その最終的な分類を進めた。以上の実地調査とカタログ等によって収集した最新データをあわせて、サーサーン式銀貨の特に「後刻印」に焦点をあて、日本オリエント学会第56回大会において「サーサーン式銀貨における後刻印の再分類」として発表した。以上のサーサーン式銀貨そのものの調査と平行して、当時のサーサーン朝ペルシアと周辺地域の歴史的概観の把握にもつとめた。既に実施したインド、パキスタン方面のコインについての実地見学等に加えて、西側境界域、すなわちユーフラテス川領域におけるサーサーン朝ペルシアの実態を把握すべく、シリア北部の遺跡から出土するコインおよび関連資料についての再検討を行った。シリアにおける現地調査については現在非常に困難な状況にあるため、報告書や発掘後未発表資料についての資料を中心に考察を加え、ヘレニズムイスラーム考古学研究会において発表した。本研究の目的は、西アジア、中央アジアにおいて複数の政権が林立する地域において異なる貨幣や度量衡制度がどのように共存したか、信用度の高い貨幣がどのように利用、継承されたかを検討するものである。具体的には、サーサーン朝ペルシアおよび初期イスラーム政権が発行した信用度の高い「サーサーン式銀貨」が西アジア、中央アジア、中国西域でどのように流通し、利用されてきたかを、実際に出土する貨幣や度量衡関連の遺物を丹念に精査することで、その実態に迫った。特に、コインが流通する中で付加される要素(墨書、後刻印、擦痕、針書等)に焦点をあて、中国新疆出土の900枚のサーサーン式銀貨の精査から得られた情報を核として、国内外の美術館、博物館、個人所蔵の資料を調査したデータを整備し、分類を実施した。調査結果は適宜学会等で発表した。最終年度は特に調査の一般公開につとめ、研究協力者であるダリユーシュ・アクバルザーデ氏(Professor Daryoosh Akbarzadeh:イラン文化遺産観光庁イラン学研究所教授)を日本に招聘して講演会を実施したり、古代オリエント博物館にて古代ペルシアの文字に関する小企画展示や文字の展覧会にてサーサーン朝ペルシアの銀貨について紹介した。また、代表者によって「古代オリエントのコイン:サーサーン朝ペルシアとその境界域のコイン」とする講演会(古代オリエント博物館)や「シルクロードを渡るコイン」(奈良・シルクロードの会講演会)の講演を行い、学会等で発表した内容を一般向けに紹介した。

その観点から国内外所蔵のサーサーン式銀貨の後刻印データを集め、後刻印の最分類を実施した。最終年度に予定していた中近東地域における調査および発表について、諸事情により現地への渡航および招聘等が年度内に遂行できなかった。西アジア・中央アジア史研究期間を1年延期したことで、海外諸事情に鑑みながら、実施できなかった調査および発表等を進める。最終的な統括をするとともに、一般向けの公開の準備に入る。サーサーン式銀貨の後刻印についての海外調査については2013年度に予定していた機関を全て網羅できたわけではない。しかし、先行研究の核となっている大英博物館所蔵コレクションの精査が終了し、再分類を可能とするデータが固まった。イラン所蔵資料については、当初現地調査を予定していたが現地調査が困難な時期にあったため、現地研究員のDr. Daryoosh Akbarzadehの協力でデジタルデータを送付してもらい、データベース化を進めている。海外の資料調査については、カタログ、報告書からの集積、データ化は進んだが、実際の現地調査については24年度に予定していた全てを網羅できていない。25年度に集中的に実施する予定である。予定していた海外(中近東)の現地調査および招聘が諸事情により延期となったため、全体の総括に遅延が発生した。2014年度は最終年であり、カタログ等でデータ化した海外所蔵資料の最終確認を実施し、公開する準備を進める。報告書、カタログ等からのデータ化については、23年度同様に進める。実地調査については、24年度に実施できなかった分も含めて、集中的に実施する。海外諸事情を鑑みながら調査を遂行し、統括する。該当なし