hpprc/llmjp-kaken huggingface dataset:
炭化水素ガスの反応性熱ＣＶＤ法による多孔性炭素－セラミック複合薄膜の創製

C3H6,iso-C4H8,およびトルエンを前駆体として,対向拡散CVD法により炭素-SiO2膜を作製した.有機ガスはシリンダ状アルミナ基材の外側から供給され,基材の内側から供給された酸素と基材上中間層の細孔内で反応した.C3H6を用いて400 Cで製膜した場合,200 CにおけるHeの透過率は,3.9x10-7 mol m2 s-1 Pa-1であり,He/N2およびHe/SF6透過率比はそれぞれ27と215であった.一方,iso-C4H8およびトルエンを用いた場合は,He/N2,He/SF6透過率比は74, 343(iso-C4H8)および121, 1620(トルエン)と大きく改善された.1.CVD操作条件の最適化,前駆体の影響の検討C3H6よりも分子サイズが大きいiso-C4H8ガスを用いて炭素膜蒸着を行った.基材膜上流からiso-C4H8 : N2 =30:22.5 ccm,膜下流からO2: N2=30:30の流量比で供給し,上流圧0.135 MPa,下流圧0.130 MPa,蒸着温度400oС,合計30分間のCVD操作を行った.C3H6を前駆体として用いた場合,200°CにおいてHe透過率:3.9 ×10-7mol m-2s-1Pa-1,He/N2 = 26.7,He/SF6 = 215が得られたのに対して,iso-C4H8を用いた場合,CVD操作後,C3H6の場合と同様に透過率は減少し選択性は増加したが,蒸着開始後10分における透過率の減少が大きく,200°CにおいてHe透過率:2.8 ×10-7 mol m-2s-1Pa-1,He/N2 = 73.9,He/SF6 = 343が得られた.C3H6(4.5nm)と比較してiso-C4H8(5nm)は分子径が大きく,熱分解反応により生じる炭素蒸着物の構造が大きい為細孔を閉塞しやすく,C3H6よりもiso-C4H8を用いた方が高透過選択性を有する膜となることが示唆された.2.炭素含有セラミック膜のキャラクタリゼーションiso-C4H8を前駆体として一方向拡散CVDおよび対向拡散CVD法で作製した炭素蒸着膜のSEM観察およびEDX分析を行ったところ,いずれの場合も炭素成分の蒸着が確認され,基材表面上に欠陥のない蒸着層が形成されている様子が見られた.しかし,対向拡散CVD法で作製された膜の方が蒸着量が少なく,薄膜化できること示された.キレートとして炭素成分を添加することで作製した炭素含有セラミック膜では,ピンホールの閉塞によるHe, CO2などの透過選択性の向上が認められ,炭素成分の担持効果が確認された.C3H6,iso-C4H8,およびトルエンを前駆体として,対向拡散CVD法により炭素-SiO2膜を作製した.有機ガスはシリンダ状アルミナ基材の外側から供給され,基材の内側から供給された酸素と基材上中間層の細孔内で反応した.C3H6を用いて400 Cで製膜した場合,200 CにおけるHeの透過率は,3.9x10-7 mol m2 s-1 Pa-1であり,He/N2およびHe/SF6透過率比はそれぞれ27と215であった.一方,iso-C4H8およびトルエンを用いた場合は,He/N2,He/SF6透過率比は74, 343(iso-C4H8)および121, 1620(トルエン)と大きく改善された.1.対向拡散CVD装置の作製既存の一方向拡散CVD装置を改良し,膜下流側からも同時に原料ガスを任意の圧力・流量で供給できる製膜/膜性能評価装置を作製した.膜上流側からは窒素で希釈したC3H6ガスを供給し,下流側からは窒素で任意の組成に希釈した酸素ガスを所定の流量で供給した.操作圧力は常圧から0.2気圧程度の微加圧になる仕様とし,電子式マスフロー制御器を用いて,10 200 ml/minでの厳密なガス流量および組成制御を行った.炭素膜を蒸着させる基材としては,αアルミナ多孔質管に多孔性SiO2膜をコーティングした膜エレメントを用いた.2.一方向拡散CVDおよび対向拡散CVDの操作条件の最適化一方向拡散CVDでは過剰炭素の基材膜表面への堆積による厚膜化を防ぎ,かつ細孔に蒸着できるように,また対向拡散CVD操作では,シリカ膜細孔内でC3H6の酸化分解・蒸着反応が進行するように,それぞれ原料ガス圧力や組成・流量を調節する必要がある.本年度は,蒸着温度は400oCとし,一方向拡散CVDでは,供給ガス流量:15150ccm,C3H6ガス組成:1040%,上流側圧力:0.150.25MPa,また対向拡散CVDでは,供給ガス流量2040ccm,C3H6組成:50%,上流・下流側圧力:0.16MPa,という条件下で蒸着を行うことにより分子篩性を有する膜の作製が可能であった.蒸着前後でHe/N2透過率比は,9から33へと選択性の向上が見られた.

一方,He/SF6透過率比は5700から1400へと減少した.蒸着炭素層はHeのような小さなガスの抵抗にはなりにくいが,窒素が透過するSiO2細孔は蒸着炭素により閉塞したと思われる.また,SF6が漏れるような大きなSiO2細孔は閉塞が進みにくいことが示唆された.蒸着量が多くなるとHe/N2透過率比は徐々に増加し,最大で186となった.1.分子動力学法による非晶質・スリット状膜構造の作製と分子透過シミュレーションスリット状細孔,およびカーボン結晶を溶融・冷却することにより非晶質カーボン構造を計算機上に作製し,非平衡分子動力学透過シミュレーションにより,気体分子および液体分子の膜透過シミュレーションを行った.スリット状細孔における液体状分子の透過には通常のHagen-Poiseuille流れからの偏倚が観測され,細孔表面からの相互作用が透過分子に影響することが示唆された.非晶質カーボン構造における気体透過では,Knudsen拡散的な傾向が見られ,炭素膜としては比較的大きい細孔構造となっていることが示された.これは緻密な炭素膜における透過傾向とは異なり,炭素膜のモデル化の精度向上が必要であると思われる.2.炭素ーセラミック複合膜による気体選択透過性評価と性能向上さらなる気体透過選択性の向上を目指して,トルエン蒸気を炭素前駆体として用いた対向拡散反応性熱CVD法により炭素膜をセラミック基材上に作製した.この膜のHe/SF6透過率比は1620を示し,前駆体としてC3H6(分子径4.5nm,He/SF6=215)やiso-C4H8(同5nm,343)を使用した膜に比べて高いHe選択性が得られた.ゾルゲル法でセラミック膜にベンゼン環を有する有機キレートを添加・熱処理した場合にも高いHe透過選択性が観測されたことから,分子サイズが大きいトルエン(0.585nm)では,基材の大きい細孔内にも炭素が効率良く蒸着することによりSF6の透過を阻害したと思われる.しかし,CO2/N2選択性については200°Cで4程度でありCO2選択性は高くなかった.また,トルエンの場合も400°C酸素雰囲気下で蒸着炭素は分解除去されたが,前駆体がC3,C4の場合に比べて分解に要する時間は長く,分解されにくい蒸着物が形成されていることが示唆された.化学工学2年目の研究計画として,「CVD操作条件の最適化,前駆体および基材膜細孔径の影響の検討」および「蒸着炭素のキャラクタリゼーション」を計画していた.分子ふるい的な炭素蒸着膜の作製に適した蒸着温度,圧力,流量条件を見出しており,基材膜細孔径としては,現在使用している前駆体(C3H6, iso-C4H8)については,細孔径12 nm程度でピンホールのないものが必要であった.また,前駆体による製膜性の違いも確認された.炭素含有セラミック材料についてゲル粉体および膜の状態での評価・分析により,炭素を付加されたセラミック材料の特異的な細孔構造や気体透過特性も明らかとしている.3年目の目標の一部である,各種ガス分子の透過選択性にも着手しており,2年目までの目標は概ねクリアできていると考えている.初年度の研究計画として,「対向拡散CVD装置の作製」および「一方向拡散/対向拡散CVDの操作条件の最適化」を計画していた.装置作製を完了し,各種CVD操作に取り組んだ結果,分子ふるい性を有するカーボンーシリカ膜を作製可能な製膜条件の洗い出しに成功した.現在,2年目の目標の一部である,更に高選択性・高透過性を有するCVD膜のための作製条件の最適化に引き続き取り組んでいる最中であり,初年度の目標は概ねクリアできていると考えている.・分子動力学法による非晶質・炭素膜構造の作製と分子透過シミュレーション経験的なカーボン構造を再現するポテンシャルなどを用いて非晶質相を有するカーボン構造を再現し,当研究室で開発した非平衡分子動力学透過シミュレーションシステムを用いて各種分子の膜透過シミュレーションを行う.膜構造と気体透過性の関係を明らかとし,特に二酸化炭素およびオレフィンガスの透過選択性に寄与する膜の細孔構造および膜表面に残存する有機官能基に関する知見を得る.
光・電子デバイスへの応用を指向した高機能ケイ素ポリマー材料の開発

新規ケイ素系ポリマーの合成を各種の手法で行い、合成したポリマーの機能を評価した。1)含水溶媒中での薗頭反応によってポリマーを合成した。この反応では、反応系中の水の量にしたがって生成するポリマーの構造を制御することができる。得られたポリマーがEL(電界発光)素子のホール輸送層に用いることができること、その機能性は反応系中の水の量で制御できることを明らかにした。2)ポリ(シリレンフェニレン)のケイ素上に蛍光発光性の置換基を導入した。これらのポリマーが、パターニング可能な発光性フィルムや蛍光性のイオンセンサーとして利用できることを明らかにし、また、その機能発現について、詳細に検討した。また、ポリ(シリレンフェニレン)上にシアノフェニル基を導入したところ、ポリマーフィルムに感光性があること、嫌気下でフィルムを高温処理するとフィルムが導電性のセラミックスに変換できることが分かった。これを利用すると、パターン化したセラミックス薄膜基板上に形成することが可能であった。3)含ケイ素環状骨格の一つで、その特異な電子状態から注目されているシロール環を主鎖および側鎖に導入したポリマーを各種合成し、それらのEL素子への応用について検討した。そのうち、ジチエノシロールを主鎖に持つポリマーは、単層のEL素子材料としても機能することを見出した。また、ポリマー主鎖中に導入したシロール環を配位子として、鉄カルボニルとの錯形成を行い、このことでポリマーの電子状態を制御できることを明らかにした。4)ケイ素-オリゴチオフェン交互ポリマーを合成し、その半導体特性、発光機能、ドープ時の導電特性について検討し、これらが有機EL、薄膜トランジスタ(TFT)に利用できることを見出した。5)異種のπ電子系をケイ素で架橋しポリマー化することにより、光励起エネルギー移動がスムースに起こることを明らかにした。1.高耐熱性材料としては,ケイ素原子上にペンダント基として3,5-ジエチニルフェニル基を1ヶまたは2ヶ導入したポリ(シリレン-p-フェニレン)を合成した。2ヶのペンダント基を導入したポリマーは特に耐熱性に優れており,5%重量減温度が791°C,1000°Cにおける重量減が6%と非常に良い特性を示した。その理由は,熱重量分析で200-210°Cの領域に発熱ピークが見られることから,この温度域で末端エチニル基の架橋が容易に進むためと推定される。事実,本ポリマーを窒素雰囲気下210°Cで3分間加熱すると不溶化し,IRスペクトルではエチニル基のC-H伸縮振動強度の減少が見られた。また,本ポリマーを石英基盤上にスピンコートした薄膜を真空下1200°Cで熱処理することにより,膜厚74nm,伝導度が9 S/cmの導電性薄膜を得ることに成功した。2.発光機能を持つ材料としては,異なるπ電子系をケイ素基で交互に連結した,[-π1-Hex_2Si-π2-Hex_2Si-]_nなる構造のポリマーを合成した。合成にはクロロフルオロシランのSi-Cl基とSi-F基の大幅に異なる反応性を利用して,π1としてジエチニルアントラセン,ジエチニルピレン,またはジエチニルカルバゾールπ系,π2としてビチオフェンまたはターチオフェンπ系を持つポリマーを得た。いずれのポリマーも,どちらのπ系を励起しても一方のπ系からの発光しか観測されず,この構造由来の高効率な分子内励起移動が起こることを見いだした。

3.パターニング機能を持つ材料としては,ケイ素上にペンダント基としてアントリルエチニル,ピレニルエチニル,またはテルチエニル基を比率を変えて導入した一連のポリ(シリレン-p-フェニレン)を合成した。いずれのポリマーも溶液または薄膜状態でPL発光を示し,また感光性であったので,発光性パターニング材料としての展開を行っている。新規ケイ素系ポリマーの合成を各種の手法で行い、合成したポリマーの機能を評価した。1)含水溶媒中での薗頭反応によってポリマーを合成した。この反応では、加水分解による脱シリル化が重合と並行して進行するため、反応系中の水の量にしたがって生成するポリマーの構造を制御することができる。得られたポリマーがEL(電界発光)素子のホール輸送層に用いることができること、その機能性は反応系中の水の量で制御できることを明らかにした。2)ポリ(シリレンフェニレン)のケイ素上に蛍光発光性の置換基を導入した。これらのポリマーが、パターニング可能な発光性フィルムや蛍光性のイオンセンサーとして利用できることを明らかにし、また、その機能発現について、詳細に検討した。また、ポリ(シリレンフェニレン)上にシアノフェニル基を導入し、その性質を調べたところ、ポリマーフィルムに感光性があること、嫌気下でフィルムを高温処理するとフィルムが導電性のセラミックスに変換できることが分かった。このことを利用すると、パターン化したセラミックス薄膜基板上に形成することが可能であった。3)含ケイ素環状骨格の一つで、その特異な電子状態から注目されているシロール環を主鎖および側鎖に導入したポリマーを各種合成し、それらのEL素子への応用について検討した。そのうち、ジチエノシロールを主鎖に持つポリマーは、単層のEL素子材料としても機能することを見出した。また、ポリマー主鎖中に導入したシロール環を配位子として、鉄カルボニルとの錯形成を行い、このことでポリマーの電子状態を制御できることを明らかにした。昨年度までの研究を継続して、光・電子デバイスへの応用を指向した高機能のσ-π共役型ケイ素ポリマー材料の開発を検討した。この目的のために、1)高耐熱性でパターニング可能なケイ素ポリマーの開発、2)良好なキャリア輸送性を持ちパターニング可能なケイ素ポリマーの開発、3)発光機能を持つケイ素ポリマーの開発という3つの立場から、新規σ-π共役ケイ素ポリマーの合成法を開拓するとともに光・電子デバイスへの応用をはかり、その材料特性を評価した。具体的な研究実績を以下に示す。1.パターニング可能なセラミックス前駆体の開発高い耐熱性を有するポリマーとして、新規なシリレンフェニレン系ポリマーの合成を行った。また、これらの固体フィルムを不活性雰囲気下で高温処理すると、100S/cm程度の導電性を有するセラミックス薄膜が得られること、さらに熱処理前に光照射すると被照射部の部分が絶縁性になるので、導電性薄膜のパターンニングが可能であることを見出した。2.キャリア輸送性を持ちパターニング可能なケイ素ポリマーの開発各種のシリレンオリゴチエニレン系オリゴマーを合成し、その蒸着薄膜のp-型半導体特性を調査したところ、トリス(キンケチオフェニル)誘導体で、約0.1cm^2/Vsという良好な移動度を観測することが出来た。この結果を理解するために、分子内オリゴチオフェン間のエネルギー移動機構を光化学的な手法で検討した。
機械製品のフレキシブル微小調整セルの研究

(1)直交2軸の水平多関節型位置決め装置の先端に,開発した積層形圧電素子を用いたマイクロインパクトハンマー(MIH)を装着した.この装置をもちいて,治具ベースプレート上にボルト締結された部品の平面内における位置偏差および姿勢偏差を組立誤差の許容値内に収めるよう自動微小調整させた.その結果,開発した装置により,初期偏差として位置偏差30μm,姿勢偏差0.001radをもった治具部品を,位置偏差5μm,姿勢偏差0.0002radの組立誤差許容値内に安定して調整できることを実験的に確認した.(2)一般的な機械部品の調整アルゴリズム構築を目的として,複数の締結部品のそれぞれの位置,姿勢偏差からそれらの組立誤差の最大値を3次元的に解析可能な手法を開発した.すなわち,個々の部品の偏差を3次元微小座標変換で表現し,組立品におけるそれらの累積値を線形計画法により効率的に算出する方法を提案した.さらに,組立誤差を許容値内に収めるために,個々の部品の位置・姿勢偏差の許容値である寸法公差値・幾何公差値をどのように配分すべきかについて理論的考察を行い,これを非線形最適化問題として表現し,遺伝的アルゴリズムによりこの問題を有限時間内に解くための手法を提案し,加工コスト・組立コスト・検査コストの和が最小となるような公差値を導出するためのシステムを作成した.(1)直交2軸の水平多関節型位置決め装置の先端に,開発した積層形圧電素子を用いたマイクロインパクトハンマー(MIH)を装着した.この装置をもちいて,治具ベースプレート上にボルト締結された部品の平面内における位置偏差および姿勢偏差を組立誤差の許容値内に収めるよう自動微小調整させた.その結果,開発した装置により,初期偏差として位置偏差30μm,姿勢偏差0.001radをもった治具部品を,位置偏差5μm,姿勢偏差0.0002radの組立誤差許容値内に安定して調整できることを実験的に確認した.(2)一般的な機械部品の調整アルゴリズム構築を目的として,複数の締結部品のそれぞれの位置,姿勢偏差からそれらの組立誤差の最大値を3次元的に解析可能な手法を開発した.すなわち,個々の部品の偏差を3次元微小座標変換で表現し,組立品におけるそれらの累積値を線形計画法により効率的に算出する方法を提案した.さらに,組立誤差を許容値内に収めるために,個々の部品の位置・姿勢偏差の許容値である寸法公差値・幾何公差値をどのように配分すべきかについて理論的考察を行い,これを非線形最適化問題として表現し,遺伝的アルゴリズムによりこの問題を有限時間内に解くための手法を提案し,加工コスト・組立コスト・検査コストの和が最小となるような公差値を導出するためのシステムを作成した.1)電極分離形積層形圧電素子とその駆動回路を作成し、その基本性能を実験により確かめた。この結果、素子と部品との接触力を約0.005Nの分解能で0-30Nの範囲で検出可能であること、また駆動性能として発生力3000N・変位分解能0.01μm・最大変位60μmであることを確認し、当初計画したマイクロインパクトハンマーの性能として十分であることを明らかにした。2)CNC3次元測定機とギャップセンサを組み合わせた計測装置を開発し、調整対象部品である治具部品の初期位置・姿勢誤差を自動計測させ、その計測データに基づいて簡単な自動調整実験を行なわせた。この結果、部品の移動範囲として併進移動5μmから60μm、回転移動0.0002rad0.002radの範囲で調整が可能であり、最大併進ずれ30μm・回転ずれ0.001radの範囲にあるボルト締結部品を、併進ずれ5μm・回転ずれ0.0002radの許容組立精度の範囲に安定して調整可能であることを確認した。以上の成果について、平成4年度精密工学会秋期大会および平成5年度精密工学会春期大会で発表を行った.(1)直交2軸の水平多関節型位置決め装置の先端に,開発した積層形圧電素子を用いたマイクロインパクトハンマー(MIH)を装着した.この装置をもちいて,治具ベースプレート上にボルト締結された部品の平面内における位置偏差および姿勢偏差を組立誤差の許容値内に収めるよう自動微小調整させた.その結果,開発した装置により,初期偏差として位置偏差30μm,姿勢偏差0.001radをもった治具部品を,位置偏差5μm,姿勢偏差0.0002radの組立誤差許容値内に安定して調整できることを実験的に確認した.(2)一般的な機械部品の調整アルゴリズム構築を目的として,複数の締結部品のそれぞれの位置,姿勢偏差からそれらの組立誤差の最大値を3次元的に解析可能な手法を開発した.すなわち,個々の部品の偏差を3次元微小座標変換で表現し,組立品におけるそれらの累積値を線形計画法により効率的に算出する方法を提案した.さらに,組立誤差を許容値内に収めるために,個々の部品の位置・姿勢偏差の許容値をどのように配分すべきかについて理論的考察を行い,これを非線形最適化問題として表現し,遺伝的アルゴリズムにより許容値を求める方法を新たに提案した.
在外日本人と現地住民との間の対人コミュニケーション摩擦研究:中国、米国進出日系企業への派遣社員とその家族を中心に

本研究では以下の側面についてデータを収集・分析した-(1)中国・米国進出日系企業で働く日本人と現地従業員(中国人、米国人)の間の行動様式の相違から生じる認知摩擦、(2)日本人と現地従業員の職場環境のとらえ方の相違から生じる認知摩擦(以後「職場環境調査」とする)、(3)日本人と現地従業員のリーダーシップ行動の相違から生じる認知摩擦、(4)スキーマ理論に基づいた異文化ト.レーニング、(5)中国・米国進出日系企業の経営システムの相違点・類似点、(6)日本、中国、米国における交友関係コミュニケーション行動の相違点・類似点、(7)中国メディアの日本報道の傾向、(8)米国における労働倫理の歴史的変遷、(9)中国進出日系企業の歴史的変遷。ここで、「認知摩擦」とは、日本人が現地従業員の行動、考え方、姿勢に、また、現地従業員が日本人の行動、考え方、姿勢に文化の違いを感じる度合いを意味する。同様に、職場環境調査においては、日本人及び現地従業員の間に存在する職場環境のとらえ方の相違を指す。上記の調査1、2、3に関しては、中国、米国で65社の日系企業(中国製造業31社、非製造業11社、米国製造業18社、非製造業5社)で働く1,459名から回答を得た。これらの調査では、協力企業からの回答を基にx^2検定、±検定、クラスター分析を実施し、日本人と中国人、日本人と米国人の間の認知摩擦について分析した。また、調査5では中国で25社(25名)、米国で22社(22名)の協力を得た。これらの企業からの回答を基に、経営システムの相違点・類似点について分析した。さらに、調査6では日本で220名、中国で200名、米国で227名から回答を得て、日本人、中国人、米国人の交友関係コミュニケーション行動について分析した。1.中国、米国進出日系企業における認知摩擦調査のための枠組みを構築するために、中国人、米国人の行動ルールについて文献調査を実施。それに続き、中国、米国進出日系企業における認知摩擦調査をマレーシア、フィリピン進出日系企業の調査結果と比較分析するための統計分析用の枠組みを構築。この枠組みを構築するために、マレーシア・フィリピン調査結果を詳細に分析し、SPSS(統計分析用コンピューターソフト)に入力するための枠組みを構築した。また、マレーシア・フィリピンで用いた質問票で調査を実施する上で問題がある箇所(23カ所のマイナーな訂正)を修正した。さらに、質問票の自由回答の内容分析の枠組みも構築。マレーシア・フィリピンの調査結果との比較が可能になるようにした。2.中国人、米国人の交友関係についての文献調査を実施し、質問票(マレーシア・フィリピン調査で使用したもの)を修正した。その後、中国、米国の現地調査を実施し、調査協力者を確保した。3.日本の新聞にみられる中国人・中国企業のイメージ、米国人・米国企業のイメージ、米国の新聞られる日本人・日本企業イメージ、中国人・中国企業のイメージ、さらに中国の新聞にみられる日本人・日本企業イメージ、米国人・米国企業のイメージを調査するための枠組みを構築した。調査方法として内容分析を用いるが、日本、中国、米国の三国間での比較を可能にするための内容分析の方法を構築した。4.中国人、米国人の勤労倫理、労働観念についての文献調査を実施した。5.中国、米国進出日系企業における労務管理調査のための質問票を作成した(マレーシア・フィリピン調査で使用した質間票の修正を含む)。また、中国、米国の現地調査を実施し、マレーシア・フィリピン調査とは異なった質問が必要な側面につては質問項目を加えた。1.中国、米国進出日系企業で働く日本人と現地従業員との間の認知摩擦調査を実施した。

ここで「認知摩擦」とは「文化背景の異なる者同士のコミュニケーションにおいて、相手の行動、考え方、姿勢に文化の違いを感じる度合い」を意味する。互いに文化の違いを感じる度合いが高ければ高いほど、あるいはどちらか一方が文化の違いを感じる度合いが高ければ高いほど認知摩擦が生じていることを意味する。認知摩擦調査では、中国では53社(日本人253名、中国人1,335名)、米国では34社(日本人172名、米国人896名)の協力を得た。この調査を通して、日本人と現地従業員の間では、どのような状況で認知摩擦が生じているのかという点についてのデータを得ることができた。2.中国人、米国人の交友関係について中国、米国で現地調査を実施した。質問票調査を通して、米国では298名、中国では204名から回答を得た。3.日本、中国、米国におけるマスメディア(1999年2月、5月、8月、11月の新聞-日本では「朝日新聞」「日本経済新聞」、中国では「新民晩報」「北京青年報」、米国では「New York Times」「Wall Street Journal」)で、各国の企業と人々(例えば、日本の新聞では米国企業、米国人、中国の企業と中国人)をどのように扱っているのか量的(記事数、記事が新聞全体に占める割合)と質的(各記事の扱い方-「好意的」「中立」「批判的」)分析を実施。4.日本、中国、米国における勤労倫理行動についての文献調査を実施。日本人、中国人、米国人の勤労倫理行動の特質を抽出した。5.上記(1)への協力企業において労務管理システム調査を実施した。各企業(中国では53社、米国では34社)の労務管理担当者に対し、労務管理について質問票調査を実施。上記(1)の認知摩擦の基盤となる企業環境の概要についてのデータを得た(「聞き取り調査」を実施することにより、労務管理についてさらに詳細なデータが得られるが、今年度は実施できなかった)。
統合失調症の遺伝要因機構解明を目指した新たな病態認識論仮説の検証

統合失調症への遺伝要因の関与は明確だが、近年の全ゲノム解析はその遺伝要因機構の詳細を未だ明らかにできていない。全ゲノム解析が立脚するCommon Disease Common Variants (CD-CV)仮説の限界を示すと同時に、次世代シーケンシング技術の到来を受けてCommon Disease Rare Variants (CD-RV)仮説による研究が推進されている。しかしCD-CVとCD-RVを二項対立で捉えては、精神疾患の真の構築は解明できない。CVとRVとの関連性を同時に解析する認識論でこそ、精神疾患の遺伝要因構築を正しく認識出来る。本提案ではこのCD-CV-RV認識の基盤となる知見を創出することを目的としている。本年度は、CNVの確認解析を完了させ、RVの統合失調症への寄与がどの程度か確定させることを目標に実施した。CNV-wiseの解析では、ゲノムワイドで有意なCNVは同定できなかった。しかし、CNVを持つ患者群と持たない患者群でのPolygenic riskscore (PRS)が異なるかどうかを検討したところ(PRS:リスクとなりうるSNPから算出される統合失調症リスクとなりうる遺伝的スコア。その際に用いられるリスクの定は、統計的有意とされる5X10-8以下の有意水準を用いるのではなく、あえて緩めの有意水準を用いて、すなわち検出力をあげて解析し(例えばP<0.5など)、CNVを持たない統合失調症は持つ統合失調症に比し、PRSが高い傾向にあった。また、CNVを持つ統合失調症の中でも特にPRSが低いサンプルに着目した解析を実施し、下位10%には有望なCNVが集積する可能性を見出した。平成30年度が最終年度であるため、記入しない。本提案ではこのCD-CV-RV認識の基盤となる知見を創出することを目的とする。本研究では、治療抵抗性統合失調症を対象に150名のエクソーム解析(WES)を行い、リスクとなりうるSNVの同定を目指した。しかし、膨大な候補SNVとなり、絞り込みが極めて困難であることが同時に判明した。また、WESや全ゲノムSNP関連解析をまとめていく中で、白人を中心とした既報で確実なリスクであるMHC領域(HLAを含む)における関連の傾向は認められなかった。そのため、稀なHLAアレルに関する関連解析を企図し、本領域の関連性の確度を検討している。今後、CVであるSNP情報を加味したリスク推定を行うため、Riks Profile Score解析(統計的有意とされる5X10-8以下の有意水準を用いるのではなく、あえて緩めの有意水準を用いて、すなわち検出力をあげてリスクを定義し(例えばP<0.5など)、その「リスク」アレルが独立したデータセットにおいて統合失調症により多く存在するかを検討する推定論)を適宜行う予定としている。その際、RVを考慮することで本研究の目的を完遂したい。エクソーム解析(WES)は完了し、現在最終QC中であるが、候補SNVの絞り込みが困難である。理由はサンプル数不足によるものと考える。本年度は、RVであるコピー数変異(CNV)の同定するための解析(3000名の統合失調症とほぼ同数の対照者)と、稀なHLAアレルと統合失調症の関連を検討した。CNV解析では、個々のCNVにおける座位での関連は認められなかったが、全体として統合失調症にCNVの数が有意に多い結果が得られた。このことは、既報の結果を支持するものである。また、HLAの関連解析も同数で行ったが、稀なHLAを含め、有意な関連は得られていない。本年度は稀な変異であるCNV解析とHLA解析の一部を完了させた。

CVとRVとの関連性を同時に解析する認識論でこそ、精神疾患の遺伝要因構築を正しく認識出来る。本提案ではこのCD-CV-RV認識の基盤となる知見を創出することを目的としている。本年度は、CNVの確認解析を完了させ、RVの統合失調症への寄与がどの程度か確定させることを目標に実施した。CNV-wiseの解析では、ゲノムワイドで有意なCNVは同定できなかった。しかし、CNVを持つ患者群と持たない患者群でのPolygenic riskscore (PRS)が異なるかどうかを検討したところ(PRS:リスクとなりうるSNPから算出される統合失調症リスクとなりうる遺伝的スコア。その際に用いられるリスクの定は、統計的有意とされる5X10-8以下の有意水準を用いるのではなく、あえて緩めの有意水準を用いて、すなわち検出力をあげて解析し(例えばP<0.5など)、CNVを持たない統合失調症は持つ統合失調症に比し、PRSが高い傾向にあった。また、CNVを持つ統合失調症の中でも特にPRSが低いサンプルに着目した解析を実施し、下位10%には有望なCNVが集積する可能性を見出した。WESのサンプル数を拡大することは困難であるため、SNP情報を加味したリスク推定を急ぐ。すなわち、Riks Profile Score解析を急ぎ、CD-CV-RVの観点から解析を加えていく。最終年度である来年度は、CVとRVを融合させた解析を完了させる。すなわち、RVの有無によりCVの総体を反映するRisk Profile scoreがどうのように異なるかを検討することにより、CVが主体となって発症リスクが上昇する群、RVが主体となって発症リスクが上昇する群のような分類が可能かどうかを検討する平成30年度が最終年度であるため、記入しない。平成30年度が最終年度であるため、記入しない。
メダカにおける人為的性転換反応の多様性と逆説的性転換

メダカを用いて、胚へ性ステロイドを投与した時に起こる性転換について6つの近交系間の比較を行った。雌性ステロイドホルモンを投与した場合5系統でオスからメスへの性転換を誘導できたが、全ての個体には性転換を起こせない系統、通常の1/10量でも100%の個体が性転換する系統が見られた。一方、雄性ステロイドホルモンを投与した場合には、通常のメスからオスへの性転換以外に高濃度を投与した場合オスからメスへの「逆説的性転換」が、4系統で見られたが、その程度は様々であった。またMT投与群ではほとんどの系統でXX、XYいずれの場合も投与後に生殖巣が萎縮し、その後回復するものの発達過程は正常と比較して遅れていた。本研究では、メダカにおける逆説的性転換と、胚への性ステロイド投与による性転換反応の系統差を明らかにすることを目的としている。24年度には新たな系統として、HO5系統およびHN11A系統でどのような性転換が見られるかを解析した。HO5系統では胚にE2を0.10.6ug/mlの濃度で投与した場合に遺伝的性にかかわらず卵巣形成が誘導され、雄から雌への性転換が起こることが明かとなった。しかしこの際、初期性分化時の生殖幹細胞の動態を調べると正常な卵巣分化時とは異なり、精巣分化と卵巣分化の中間形となっていた。一方MT投与では0.000050.001ug/mlの範囲ではXX個体にも精巣が形成された。すなわち、胚への性ステロイド投与で両方向への性転換を起こせる系統が見いだされた。さらに、より高い濃度のMTを投与した場合には、一部のXY個体に卵巣が形成されるという逆説的性転換も見られた。これらのことから、逆説的性転換が起こるのは特定の系統の性質ではなくMTへの感受性に系統差があり、より感受性が高い系統を逆説的性転換系統としてきた可能性が示唆された。HB11A系統ではE2投与個体については0.2ug/ml0.6ug/mlの範囲で雄から雌への性転換率が100%となった。昨年度の結果も踏まえると、E2の効果は系統間でほぼ一定でありHNI系統のみが特殊な系統と見なせる。一方MT投与では0.001ug/mlでは雌から雄への性転換が見られたが、このとき初期性分化時には遺伝的性にかかわらず生殖幹細胞数が異常に減少し、また一時的に卵母細胞が出現していた。このことは正常な精巣形成とはまったく異なる過程を経て精巣が形成されることを意味する。またより高濃度のMTを投与した場合、孵化後30日の時点で遺伝的な性に関わらず萎縮した生殖巣を持つ個体や、精巣様構造の中に卵母細胞のみを持つ個体が観察された。本研究では、メダカ胚に性ステロイドを投与したときにおこる性転換反応の系統差を明らかにすることを目的としている。25年度には、前年度に両方向への性転換が可能なことを見いだしたHO5系統および投与する雄性ステロイドホルモンの濃度により反応が異なることを見いだしたHB11A系統について解析した。HO5系統での雄性ステロイドホルモン(MT)投与による雌から雄への性転換時には雄分化マーカーであるdmrt1が孵化日ですでに発現しており、その後の生殖巣の発達も正常な精巣とよく似ていることが示された。ただし孵化直後には少数ながら卵母細胞も見られた。雌性ステロイドホルモン(E2)投与による雄から雌への性転換では、孵化直後にはdmy/dmrt1の発現が見られたが、孵化後35日にはこの発現が見られなくなり、これらの生殖巣では雌分化マーカーであるfoxl2の発現が見られた。HB11A系統では遺伝的雌個体へMTを0.001ug/mlの低濃度で投与した場合、孵化後30日には通常の精巣よりも発達が悪い生殖巣が観察された。しかし0.05ug/ml、0.1ug/mlの高濃度を投与した場合には卵母細胞をもつ生殖巣が見られ、正常な卵巣より発達した卵巣も見られた。低濃度投与個体ではfoxl2の発現が消失していたがdmrt1発現の上昇は見られず、高濃度では両遺伝子とも発現が見られなかった。遺伝的雄個体にMTを投与した場合、高濃度投与群では、精巣の特徴を示す構造の中に卵母細胞を含む生殖巣が観察された。さらにほぼ正常な精巣に見える部分と卵母細胞を多量に含む部分が区画化されたようにな卵精巣の様相を呈する個体も見られた。これらの生殖巣では精巣領域でもdmy/dmrt1の発現が消失しており、卵母細胞を多く含む領域でのみfoxl2の発現が観察された。

本研究では、メダカにおける逆説的性転換と、胚への性ステロイド投与による転換反応の系統差を明らかにすることを目的としている。23年度には、Hd-rR系統にメチルテストステロン(MT)を投与した際に見られる逆説的性転換の過程を改めて詳細に解析した。その結果この系統では0.001ug/mlのMTを投与された個体は孵化直後に生殖細胞の分裂活性が著しく低下するという一様な反応を示すものの、その後の性分化は遺伝的性によらない様相を呈する、すなわちXX個体XY個体いずれでも、精巣を形成する個体と卵巣を形成することが現れることが明らかとなった。ただしXY個体にMTを投与した場合には、卵巣形成、すなわち逆説的性転換が生じる割合が高くなった。また同様のMT投与をHNI系統に行った場合、全てのXX個体に精巣が形成され、その際、孵化日以降の生殖巣でDmrt1の異所的な発現が見られた。Hd-rR系統で得られた結果が当初の想定と異なっていたため、系統間交配個体に関する実験は延期し、他系統での解析を優先しHO4C系統での解析を開始した。その結果この系統ではMT投与個体では雌から雄への性転換が誘導され、この際、HNI系統と同様にDmrt1の異所的な発現が見られた。このことは雌から雄への性転換にはMTにより何らかの経路でDmr1の発現が誘導されることにより起こることを示唆する。一方、エストロゲン(E2)投与では、孵化直後には全個体に卵母細胞が形成されたものの、遺伝的雄個体では、その後そのまま卵巣を発達させた個体と卵母細胞が失われ精巣を発達させた個体が見いだされた。このことは、性転換は性分化方向の変更とともに、性分化後の生殖巣発達過程での性の維持機構も関わることが示唆される。新たな2系統について、性転換反応の概要を明らかにでき、特に当初目標としていた両方向への性転換を解析できる系統が見いだすことができた。一方、これらの系統でも生殖幹細胞の動態からは、性転換での生殖巣形成は正常初期性分化とは異なる経過をたどること、MT濃度を変化させることで予想されなかった形態を示すことも明かとなった。この想定外の反応に対する解析を継続したため、当初予定していた分子レベルでの解析は、着手できたものの予備的な結果を得る段階までしか到達できず、この点で若干遅れが生じている。Hd-rR系統での結果が、MT投与ではXY個体全個体で逆説的性転換が起こるという当初の想定と異なり様々な反応が見られたため、HNI系統と系統間で交配した胚を用いた性転換実験でも、結果にばらつきが見られることが予想された。この場合、最終的な性が不確定なまま性ステロイド投与後の過程を解析することになってしまうため、例えばある遺伝子の発現パターンに着目しても個体ごとに異なる結果が得られる可能性が高く結果の解釈が困難となる。よって当面、この解析の開始しを延期した。ただし、どの程度結果がばらつくかということについての予備的な解析は開始している。一方、系統間交配を実施しなかった分を、リソースを他系統であるHO4C系統における性転換反応の解析に投入し前倒しで解析を行うことができた。ただし、このHO4C系統の結果が、これまで見られなかった興味深いパターンを示したため、今後さらなる解析が必用と考えられる。総合すると、一部計画変更はあるものの、研究目的に対しては概ね順調に進展していると言える。24年度に解析した2系統が、いずれも両方向への性転換が可能であること、および高濃度のMT投与では異常な生殖巣形成過程を示すことが明らかとなったので、25年度はこれらの系統について分子レベルでの解析を優先的に行う。
腫瘍免疫に必須のメモリーヘルパーT細胞の誘導を制御するマスター遺伝子の同定と解析

癌免疫療法の成功には、ヘルパーT細胞の誘導と『質』のいい免疫反応を起こすメモリーT細胞の形成が不可欠である。我々はsingle cell由来のTh細胞クローンに形成される機能的不均一性に着目し、そこに含まれるメモリーT細胞とエフェクターT細胞の遺伝子発現の差を網羅的に解析した結果、メモリーT細胞で特異的に高発現する遺伝子とエフェクターT細胞に高発現する遺伝子を同定した。さらに、同定したこれらの遺伝子のT細胞における働きについてこれまで報告がないため、T細胞で特異的にこれらの遺伝子を欠損するコンディショナルノックアウトマウスおよび、これらの遺伝子プロモーターでLacZが発現するノックインマウスを作製した。これまでに、メモリーヘルパーT細胞の誘導を制御するマスター遺伝子を同定するために、マイクロアレイ解析によりメモリーT細胞で特異的に高発現する8種類の遺伝子をマスター遺伝子の候補として同定していた。平成22年度では、この8種類の候補遺伝子のなかにメモリーT細胞の形質や機能に関与するものがあるか検討した。8種類の候補遺伝子の発現抑制によるスクリーニングから、我々はメモリーT細胞において重要な機能を果たす細胞表面分子であるCD127およびCD62Lの発現に大きく関与する遺伝子#1(仮名)を同定した。すなわち、ヒトの末梢血から得られたCD4+CD45RO+細胞(メモリーヘルパーT細胞)において、この遺伝子#1の発現を抑制させるとCD127+CD62L+細胞(メモリーT細胞)が減少し、CD127-CD62L-細胞(エフェクターT細胞)が増加した。さらに、遺伝子#1の発現が抑制されたCD4+T細胞は、アポトーシスを起こしやすいことが分かり、これはアポトーシスを抑制する遺伝子であるBcl-2の発現低下に起因することが示唆された。このように遺伝子#1は、メモリーT細胞の形質・機能を共に制御しうることが分かってきた。現在、この遺伝子#1のノックアウトマウスの作製を進めている。これらの結果は、メモリーT細胞の深い理解はもちろん、メモリーT細胞の誘導や制御法の開発につながると期待される。興味深いことに、我々が同定した遺伝子#1は、分泌タンパクであることから、この#1タンパクを用いてメモリーT細胞の容易な誘導法が将来開発できる可能性がある。我々はsingle cell由来のTh細胞クローンに形成される機能的不均一性に着目し、そこに含まれるメモリーT細胞とエフェクターT細胞の遺伝子発現の差を網羅的に解析した結果、メモリーT細胞で特異的に高発現する遺伝子(以下、遺伝子#1と記載)とエフェクターT細胞に高発現する遺伝子(以下、遺伝子#10と記載)を同定した。詳細な解析の結果、遺伝子#1は、メモリーT細胞の機能的細胞表面マーカーであるCD62LやCD127の発現、および抗アポトーシスに働く重要なタンパク質であるBcl-2の発現に関与することが明らかとなった。また、エフェクターT細胞で発現が高い遺伝子#10は、T細胞のエフェクターへの分化を正に制御していると思われた。実際に、この遺伝子#10によって制御されるシグナルカスケードを合成化合物の添加により調節することで、T細胞の分化をエフェクター、もしくはメモリーT細胞に制御することが可能であった。さらに、遺伝子#1および#10のT細胞における働きについてこれまで報告がないため、T細胞で特異的にこれらの遺伝子を欠損するコンディショナルノックアウトマウスおよび、これらの遺伝子プロモーターでLacZが発現するノックインマウスを作製した。本研究で得られた知見や新しい遺伝子改変マウスは、T細胞の『質』を制御しうる新しい癌免疫療法開発への基盤となると期待される。
超高密度地震観測に基づく宅地造成斜面におけるダイナミック地すべり挙動の広域的評価

平成29年度は,過去の大規模地震(1923年大正関東地震,1993年能登半島沖地震,1995年新潟県北部の地震,2016年熊本地震など)によって発生したダイナミック地すべりを対象に,臨時地震観測や常時微動計測などを実施し,得られた記録などに基づいて地震時の地すべり挙動を事後推定することに成功した.当該研究成果については,論文集や国内外の会議において発表を行った.1923年大正関東地震については,根府川,震生湖,地震峠の三つの地すべり地を対象に,臨時地震観測や常時微動計測などを実施し,得られた観測・計測記録などに基づき地盤震動特性を評価した.そして,地盤震動特性と特性化震源モデルの組合せにより,本震時に当該地すべり地に作用した地震動を推定した.その結果,三つの地すべり地に作用した地震動の特徴が大きく異なることなどを明らかにした.1993年能登半島沖地震および1995年新潟県北部の地震については,特に深刻な被害が発生した市街地(造成宅地など)を対象に常時微動計測などを実施し,既存の強震観測点で得られた地震動記録の援用の可能性などに関しても検討を行った.2016年熊本地震については,特に甚大な被害が造成宅地において発生した益城町,阿蘇市,宇土市,南阿蘇村を中心に,臨時地震観測や常時微動計測などを実施し,得られた観測・計測記録などに基づき地盤震動特性を評価した.特に,益城町では,常時微動計測を広域かつ高密度に実施するだけでなく,断続的・継続的にも実施することによって,地盤震動特性をより詳細に評価することを試みた.29年度が最終年度であるため、記入しない。29年度が最終年度であるため、記入しない。●造成宅地のダイナミック地すべり挙動の「予測」について近未来に発生が予想されている大規模地震によって谷埋め盛土を含む造成宅地に作用する地震動を高精度に予測することは、造成宅地の耐震性評価などを行う上で大変有意義である。そこで,我が国最大の造成宅地(横浜市)を対象に、地震アレー観測を超高密度に実施し、得られた記録に基づいてサイト増幅・位相特性を評価した。そして、評価したサイト特性に基づいて首都直下地震(東京湾北部地震)による強震波形計算を広域かつ高密度に実施し、谷埋め盛土の地震被災の評価に適した地震動指標について考察を行った。●造成宅地のダイナミック地すべり挙動の「事後評価」について2014年11月22日に発生した長野県北部を震源とする地震では、白馬村神城地区内における段丘斜面を含む造成宅地に位置する集落において住家の倒壊を伴う深刻な被害が発生した。一方で、同じ神城地区内の造成宅地においても住家等が無被災であった集落も確認されている。そこで、以下の取り組みを実施し、非常に有用な研究成果と知見を得た。(イ)神城地区において臨時の余震観測を高密度に実施し,得られた記録に基づいてサイト増幅・位相特性特性を評価した。(ロ)本震時に神城地区に作用した強震波形を広域にわたり評価した。(ハ)神城地区を対象に,高密度常時微動計測を実施した。(ニ)微動計測地点(232地点)でのサイト増幅特性をそれぞれ評価し、サイト増幅特性の値に対する住家被害の関係について基礎的検討を行った。(ホ)推定地震動の指標値と住家の被災実績との関係に基づくフラジリティカーブを構築し、ダイナミック地すべり挙動の評価に適した地震動指標に関する考察を行った。懸案であった対象とする造成宅地における地震計の臨時設置が当初の予定よりも広域かつ高密度に実施できただけでなく、比較的良好な中小地震による地震動を、対象造成宅地内においてアレー観測(同時にキャッチ)することに成功したためである。さらに、当初予定されていなかった内容として、2014年長野県北部の地震(2014年長野県神城断層地震)の強震動の作用によって被災した(ならびに無被災であった)神城地区の造成宅地(段丘斜面を含む)において臨時余震観測を実施し、得られた観測記録を分析することで、ダイナミック地すべり挙動の事後評価を行うことができ、非常に有益な研究成果を得ることができたためである。平成28年度は,2015年長野県北部の地震によって発生した長野県白馬村の神城地区のダイナミック地すべりを対象に,臨時地震観測および常時微動計測を高密度に実施し,得られた記録に基づいて地すべり挙動を事後推定することに成功した.当該研究成果については,土木学会論文集や地すべりに関する国際会議にて発表を行った.また,当初計画で挙げていた神奈川県横浜市内の造成宅地を対象に,臨時地震観測および常時微動計測を高密度に実施し,得られた記録に基づいた強震動シミュレーションを実施し,首都直下地震(東京湾北部地震)による地すべり挙動を事前予測した.当該研究成果については,シンポジウム等で積極的な論文発表を行った.一方で,平成28年には大規模地震の強震動の作用による造成地すべりが多発した.一つは,2016年4月熊本地震による益城町市街地であり,もう一つは,2016年10月鳥取県中部の地震による白壁土蔵群地域である.益城町市街地では,4月14日の前震の発生を受け,翌日4月15日より臨時余震アレー観測を開始し,結果的に4月16日の本震の記録をキャッチすることに成功した.当該研究成果は,米国地震学会誌に掲載されるとともに,国内外でその成果が評価され,米国地震学会誌の表紙を飾ることとなった.

白壁土蔵群地域では,倉吉市役所敷地内と白壁土蔵群の間の急傾斜に伴って地震時挙動が急変していた可能性が高いことを,臨時余震観測および常時微動計測に基づいて明らかにした.当該研究成果については,シンポジウム等で積極的な論文発表を行った.当初の研究計画では,首都直下地震(東京湾北部地震)による横浜市内の造成宅地のみを対象とする予定であったが,最近発生した大規模地震(2015年長野県北部の地震,2016年熊本地震,2016年鳥取県中部の地震)による市街地内に存在する造成地を対象とした検討を新たに実施し,知見を数多く積み上げることに成功しているため.平成29年度は,過去の大規模地震(1923年大正関東地震,1993年能登半島沖地震,1995年新潟県北部の地震,2016年熊本地震など)によって発生したダイナミック地すべりを対象に,臨時地震観測や常時微動計測などを実施し,得られた記録などに基づいて地震時の地すべり挙動を事後推定することに成功した.当該研究成果については,論文集や国内外の会議において発表を行った.1923年大正関東地震については,根府川,震生湖,地震峠の三つの地すべり地を対象に,臨時地震観測や常時微動計測などを実施し,得られた観測・計測記録などに基づき地盤震動特性を評価した.そして,地盤震動特性と特性化震源モデルの組合せにより,本震時に当該地すべり地に作用した地震動を推定した.その結果,三つの地すべり地に作用した地震動の特徴が大きく異なることなどを明らかにした.1993年能登半島沖地震および1995年新潟県北部の地震については,特に深刻な被害が発生した市街地(造成宅地など)を対象に常時微動計測などを実施し,既存の強震観測点で得られた地震動記録の援用の可能性などに関しても検討を行った.2016年熊本地震については,特に甚大な被害が造成宅地において発生した益城町,阿蘇市,宇土市,南阿蘇村を中心に,臨時地震観測や常時微動計測などを実施し,得られた観測・計測記録などに基づき地盤震動特性を評価した.特に,益城町では,常時微動計測を広域かつ高密度に実施するだけでなく,断続的・継続的にも実施することによって,地盤震動特性をより詳細に評価することを試みた.前年度(2015年度)に得られた対象造成宅地での地震アレー観測記録をより詳細に分析することによって、ダイナミック地すべり挙動の広域・高密度評価を実施していく予定である。また、臨時地震観測点の間を補間する目的で、対象造成宅地において常時微動計測を超高密度に実施することで、ダイナミック地すべり挙動のより詳細な分析を進めていく予定である。さらに、ダイナミック地すべり挙動の分析結果が、2014年長野県北部の地震による神城地区の段丘斜面を含む造成宅地の被災・無被災実績に対して、どの程度類似しているのかにも着目した検討を行っていく予定である。当初の研究申請では計画していなかったものの,偶然にも非常に貴重な記録が結果的に得られている,2016年4月熊本地震による益城町市街地,および2016年10月鳥取県中部の地震による白壁土蔵群地域を対象としたダイナミック地すべり挙動に関する検討を実施していく予定である.29年度が最終年度であるため、記入しない。29年度が最終年度であるため、記入しない。