hotchpotch/wikipedia-multilingual-ir-pairs huggingface dataset:
부틸 고무 용도
폴리아이소뷰텐은 무수 말레인산과 반응하여 폴리아이소뷰테닐숙신산 무수물 (PIBSA)을 만들 수 있으며, 이는 다양한 에틸렌아민과 반응하여 폴리아이소뷰테닐숙신이미드 (PIBSI)로 전환될 수 있다. 윤활유 및 모터 연료의 첨가제로 사용될 때, 이들은 오일 또는 연료의 특성에 상당한 영향을 미 미칠 수 있다. 기계가공에 사용되는 윤활유에 소량의 폴리아이소뷰텐을 첨가하면 유증기 발생이 크게 줄어들어 작업자의 유증기 흡입이 감소한다. 또한 상업용 제품인 엘라스톨의 일부로 수중 기름 유출을 청소하는 데 사용된다. 원유에 첨가하면 원유의 점탄성을 증가시켜 물 표면에서 진공 흡입될 때 원유가 부서지는 것을 방지한다.
연료 첨가제로서 폴리아이소뷰텐은 세제 특성을 가지고 있다. 경유에 첨가되면 연료 인젝터의 오염을 방지하여 탄화수소 및 미립자 배출을 줄인다. 다른 세제 및 첨가제와 혼합되어 퇴적물 축적과 노킹을 방지하는 "세제 패키지"를 만들어 휘발유 및 경유에 첨가된다.
부틸 고무 용도
폴리아이소뷰텐은 일부 제형에서 증점제로 사용된다.
폴리아이소뷰텐은 C-4 (폭약)과 같은 플라스틱 폭발물에서 결합제로 폭발물 산업에서 자주 사용된다. 폴리아이소뷰텐 결합제는 폭발물을 조기 폭발에 덜 민감하게 만들고 다루고 성형하기 쉽게 만들기 때문에 사용된다.
부틸 고무는 일반적으로 스피커, 특히 서라운드에 사용된다. 폼 서라운드가 열화되는 것을 대체하기 위해 사용되었다. 대부분의 현대 스피커는 부틸 고무를 사용하며, 대부분의 빈티지 스피커는 폼을 사용한다.
부틸 고무는 스포츠 공 (예: 럭비공, 축구공, 농구공, 네트볼)의 블래더와 자전거 튜브를 만들어 견고하고 밀폐된 내부 공간을 제공하는 데 사용된다.
부틸 고무 실런트는 방습, 고무 지붕 수리 및 지붕 막 (특히 가장자리 주변) 유지 보수에 사용된다. 많은 고정물 (예: 에어컨 통풍구, 배관 및 기타 파이프)이 지붕 막을 상당히 느슨하게 만들 수 있으므로 지붕 막을 고정하는 것이 중요하다.
부틸 고무 용도
고무 지붕은 일반적으로 EPDM 고무로 만들어진 특정 유형의 지붕 재료를 의미한다. 이러한 지붕의 무결성을 위해서는 거친 연마재 및 석유 기반 용제를 유지 보수에 사용하지 않는 것이 중요하다.
부틸 고무 바인더에 접합된 폴리에스테르 직물은 금속, PVC 및 시멘트 이음새에 사용할 수 있는 단면 방수 테이프를 제공한다. 금속 지붕을 수리하고 방수 처리하는 데 사용된다.
부틸 고무는 화학전 작용제 및 오염 제거 물질에 노출될 때 가장 견고한 탄성체 중 하나이다. 천연 고무나 실리콘과 같은 다른 탄성체보다 단단하고 다공성이 적은 재료이지만, 여전히 밀폐된 밀봉을 형성할 만큼 충분한 탄성을 가지고 있다. 부틸 고무는 NH3 (암모니아) 또는 특정 용제와 같은 작용제에 노출되면 분해되지만, 유사한 탄성체보다 더 느리게 분해된다. 따라서 방독면 및 기타 보호복의 밀봉을 만드는 데 사용된다.
부틸 고무와 브로모부틸 고무는 의약품 바이알 및 병을 밀봉하는 데 사용되는 고무 마개를 제조하는 데 일반적으로 사용된다.
부틸 고무 용도
대부분의 현대 껌은 식품 등급 부틸 고무를 중앙 껌 베이스로 사용하며, 이는 껌의 탄력성뿐만 아니라 끈질기고 끈적한 특성을 제공하여 일부 지방 자치 단체에서는 제거 비용을 충당하기 위해 세금 부과를 제안하기도 했다.
재활용 껌은 회수된 폴리아이소뷰텐의 원료로도 사용되었다. 다른 제품 중에서도 이 기본 고무는 커피 컵과 '껌 드롭' 껌 수거함으로 제조되었다. 수거함이 채워지면 내용물과 함께 파쇄되어 다시 재활용된다.
가스 확산에 대한 우수한 저항성 때문에 부틸 고무와 할로젠화 고무는 공압 튜브리스 타이어의 내부 라이너와 오래된 타이어의 튜브에 사용된다.
폴리아이소뷰텐은 상업 및 주거용 건축물의 단열 유리 유닛에서 1차 밀봉재로 사용되어 유닛의 공기 및 습기 밀봉을 제공한다.
아날로그 전송
아날로그 전송(analog transmission)은 정보에 비례하여 진폭, 위상 또는 기타 다른 속성이 변화하는 연속 신호를 사용하여 정보를 전달하는 전송 방식이다. 이는 주파수 변조 (FM) 또는 진폭 변조 (AM)와 같은 아날로그 변조 방식을 사용하거나 전혀 변조하지 않는 아날로그 신호의 전송일 수 있다.
일부 교과서에서는 ASK, PSK, QAM과 같은 디지털 변조 방식을 사용하는 통과대역 데이터 전송, 즉 디지털 비트 스트림으로 변조된 사인파를 아날로그 전송 및 아날로그 신호로 간주한다. 다른 교과서에서는 이를 디지털 전송 및 디지털 신호로 정의한다. 전송로 부호를 사용하여 펄스 트레인을 생성하는 기저 대역 데이터 전송은 소스 신호가 디지털화된 아날로그 신호일지라도 항상 디지털 전송으로 간주된다.
아날로그 전송 방법
아날로그 전송은 다양한 방식으로 전달될 수 있다.
아날로그 전송에는 두 가지 기본 유형이 있으며, 둘 다 입력 신호를 반송파 신호와 결합하기 위해 데이터를 변조하는 방식에 기반을 둔다. 일반적으로 이 반송파 신호는 특정 진동수를 가지며, 데이터는 그 변화를 통해 전송된다. 두 가지 기술은 반송파 신호의 진폭을 변화시키는 진폭 변조 (AM)와 반송파의 주파수를 변조하는 주파수 변조 (FM)이다.
아날로그 전송 유형
대부분의 아날로그 전송은 여러 범주 중 하나에 속한다. 텔레포니 및 음성 통신은 대부분의 텔레비전 및 라디오 전송과 마찬가지로 원래 본질적으로 아날로그였다. 초기 통신 장치는 아날로그 신호를 디지털 신호로 변환하고 다시 되돌리는 변조/복조 장치, 즉 모뎀이라는 아날로그-디지털 변환 장치를 사용했다.
아날로그 전송 장점과 단점
아날로그 전송 방식은 복잡한 다중화 및 타이밍 장비가 필요 없으며, 다중화된 디지털 전송이 필요 없는 소규모 "단거리" 시스템에서 특히 짧은 거리에서 상당히 저렴한 비용 때문에 여전히 매우 인기가 있다.
그러나 신호 대 잡음비가 높고 소스 선형성을 달성할 수 없는 상황이나 장거리, 고출력 시스템에서는 감쇠 문제로 인해 아날로그는 매력적이지 않다. 또한 디지털 기술이 계속 발전함에 따라 아날로그 시스템은 점차적으로 레거시 장비가 되고 있다.
최근 네덜란드와 같은 일부 국가에서는 정부의 예산 절감을 목적으로 텔레비전과 같은 특정 매체에서 아날로그 전송(아날로그 방송 중단)을 완전히 중단했다.
스텝 응답
주어진 초기 상태에 있는 시스템의 스텝 응답(step response)은 제어 입력이 단위 계단 함수일 때 출력의 시간 진화로 구성된다. 전자공학 및 제어이론에서 스텝 응답은 입력이 매우 짧은 시간 내에 0에서 1로 변할 때 일반적인 시스템 출력의 시간 동작이다. 이 개념은 진화 매개변수를 사용하여 동역학계의 추상적인 수학적 개념으로 확장될 수 있다.
실용적인 관점에서, 시스템이 갑작스러운 입력에 어떻게 반응하는지 아는 것은 중요하며, 이는 장기적인 정상 상태로부터 크고 잠재적으로 빠른 편차가 구성 요소 자체와 이 구성 요소에 의존하는 전체 시스템의 다른 부분에 극단적인 영향을 미칠 수 있기 때문이다. 또한, 구성 요소의 출력이 최종 상태 근처로 안정화될 때까지 전체 시스템은 작동할 수 없어 전체 시스템 응답을 지연시킨다. 공식적으로, 동역학계의 스텝 응답을 아는 것은 그러한 시스템의 안정성과 하나의 정상 상태에서 시작하여 다른 정상 상태에 도달하는 능력에 대한 정보를 제공한다.
스텝 응답 형식적인 수학적 설명
이 섹션은 동역학계 의 추상적인 수학적 개념을 사용하여 스텝 응답에 대한 형식적인 수학적 정의를 제공한다. 다음 설명에 필요한 모든 표기법과 가정은 여기에 나열되어 있다.
일반적인 동역학계의 경우, 스텝 응답은 다음과 같이 정의된다.
이는 제어 입력(또는 소스 항, 또는 강제 입력)이 헤비사이드 함수일 때의 진화 함수이다. 이 표기법은 H(t)를 아래첨자로 표시하여 이 개념을 강조한다.
선형 시불변 (LTI) 블랙박스의 경우, 표기 편의를 위해 라고 하면, 스텝 응답은 단위 계단 함수 제어와 시스템 자체의 임펄스 응답 h(t)의 합성곱을 통해 얻을 수 있다.
이는 LTI 시스템의 경우 후자를 단순히 적분하는 것과 동일하다. 반대로, LTI 시스템의 경우 스텝 응답의 미분은 임펄스 응답을 생성한다.
그러나 이러한 간단한 관계는 비선형 또는 시변 시스템에는 해당되지 않는다.
스텝 응답 시간 영역 대 주파수 영역
주파수 응답 대신, 시스템 성능은 응답의 시간 의존성을 설명하는 매개변수로 지정될 수 있다. 스텝 응답은 시간 동작과 관련된 다음 양으로 설명될 수 있다.
선형 동적 시스템의 경우, 이러한 특성으로부터 시스템에 대해 많은 것을 추론할 수 있다. 아래에서 간단한 2극 증폭기의 스텝 응답이 제시되고, 이러한 용어 중 일부가 설명된다.
LTI 시스템에서 오버슈트나 링잉을 생성하지 않는 가장 가파른 슬루율을 갖는 함수는 가우스 함수이다. 이는 푸리에 변환이 동일한 형태를 갖는 유일한 함수이기 때문이다.
스텝 응답 피드백 증폭기
이 섹션에서는 그림 1에 표시된 간단한 음성 피드백 증폭기의 스텝 응답을 설명한다. 피드백 증폭기는 이득 AOL을 갖는 주 개루프 증폭기와 피드백 계수 β에 의해 제어되는 피드백 루프로 구성된다. 이 피드백 증폭기는 주 증폭기의 응답을 제어하는 시간 상수와 사용된 피드백 양에 따라 스텝 응답이 어떻게 달라지는지 결정하기 위해 분석된다.
음성 피드백 증폭기는 다음 이득을 갖는다 (음성 피드백 증폭기 참조).
여기서 AOL = 개루프 이득, AFB = 폐루프 이득 (음성 피드백이 있을 때의 이득) 및 β = 피드백 계수이다.
많은 경우, 순방향 증폭기는 하나의 지배적인 극점(시정수 τ)으로 충분히 잘 모델링될 수 있으며, 즉 다음과 같은 개루프 이득을 갖는다.
여기서 영주파수 이득 A0 및 각주파수 ω = 2πf이다. 이 순방향 증폭기는 단위 스텝 응답
,
을 가지며, 0에서 새로운 평형 값 A0로의 지수적 접근이다.
단일 극점 증폭기의 전달 함수는 폐루프 이득으로 이어진다.
스텝 응답 피드백 증폭기
이 폐루프 이득은 개루프 이득과 동일한 형태인 단일 극점 필터이다. 그 스텝 응답은 동일한 형태인 새로운 평형 값으로의 지수적 감쇠이다. 그러나 폐루프 스텝 함수의 시간 상수는 τ / (1 + β A0)이므로, 순방향 증폭기의 응답보다 1 + β A0배 빠르다.
피드백 계수 β가 증가함에 따라 스텝 응답은 빨라지지만, 원래의 단일 지배 극점 가정이 더 이상 정확하지 않을 때까지이다. 두 번째 극점이 있으면 폐루프 시정수가 두 번째 극점의 시정수에 접근할 때 두 극점 분석이 필요하다.
개루프 이득이 두 극점(두 시간 상수, τ1, τ2)을 갖는 경우, 스텝 응답은 좀 더 복잡하다. 개루프 이득은 다음으로 주어진다.
여기서 영주파수 이득 A0 및 각주파수 ω = 2πf이다.
두 극점 증폭기의 전달 함수는 폐루프 이득으로 이어진다.
증폭기의 시간 의존성은 변수를 s = jω로 전환하면 쉽게 알 수 있으며, 이 때 이득은 다음과 같다.
이 표현식의 극점(즉, 분모의 영점)은 다음과 같다.
이는 βA0의 값이 충분히 클 때 제곱근이 음수의 제곱근이 되어 허수가 되고, 극점 위치가 복소 켤레 수인 s+ 또는 s−가 됨을 보여준다. 그림 2 참조:
스텝 응답 피드백 증폭기
여기서
그리고
극좌표를 사용하여 근까지의 반경 크기를 |s|로 나타내면 (그림 2):
그리고 각 좌표 φ는 다음과 같다.
라플라스 변환 표는 이러한 시스템의 시간 응답이 다음 두 함수의 조합으로 구성됨을 보여준다.
즉, 해는 시간적으로 감쇠하는 진동이다. 특히, 시스템의 단위 스텝 응답은 다음과 같다.
이는 다음과 같이 단순화된다.
A0이 무한대로 향하고 피드백 계수 β가 1일 때.
응답의 감쇠는 ρ에 의해 결정되며, 이는 개루프 증폭기의 시간 상수에 의해 결정된다. 대조적으로, 진동 주파수는 μ에 의해 결정되며, 이는 βA0을 통한 피드백 매개변수에 의해 결정된다. ρ는 시간 상수의 역수의 합이므로, ρ가 두 개 중 짧은 시간에 의해 지배된다는 점은 흥미롭다.
그림 3은 매개변수 μ의 세 가지 값에 대한 단위 스텝 입력에 대한 시간 응답을 보여준다. 진동 주파수는 μ에 따라 증가하지만, 진동은 지수 함수 [ 1 − exp(−ρt) ]와 [ 1 + exp(−ρt) ]에 의해 설정된 두 점근선 사이에 포함된다. 이 점근선은 ρ에 의해 결정되며, 따라서 개루프 증폭기의 시간 상수에 의해 결정되며 피드백과는 무관하다.
스텝 응답 피드백 증폭기
최종 값 주위의 진동 현상을 링잉이라고 한다. 오버슈트는 최종 값 위로 최대 스윙이며, μ에 따라 분명히 증가한다. 마찬가지로 언더슈트는 최종 값 아래로 최소 스윙이며, 역시 μ에 따라 증가한다. 정착 시간은 최종 값으로부터의 편차가 지정된 수준, 예를 들어 최종 값의 10% 미만으로 가라앉는 데 걸리는 시간이다.
정착 시간의 μ 의존성은 명확하지 않으며, 2극 시스템의 근사는 정착 시간의 피드백 의존성에 대한 실제 결론을 내릴 만큼 정확하지 않을 수 있다. 그러나 점근선 [ 1 − exp(−ρt) ]와 [ 1 + exp (−ρt) ]는 정착 시간에 분명히 영향을 미치며, 이들은 개루프 증폭기의 시간 상수에 의해, 특히 두 시간 상수 중 짧은 시간에 의해 제어된다. 이는 정착 시간 사양이 개루프 증폭기의 적절한 설계로 충족되어야 함을 시사한다.
이 분석에서 얻은 두 가지 주요 결론은 다음과 같다.
여담으로, 이 선형 2극 모델에서 실제 편차가 발생하는 두 가지 주요 합병증이 있다는 점에 주목할 수 있다. 첫째, 실제 증폭기는 2개 이상의 극점과 영점을 가지며, 둘째, 실제 증폭기는 비선형이므로 스텝 응답이 신호 진폭에 따라 변한다.
스텝 응답 피드백 증폭기
적절한 매개변수 선택으로 오버슈트를 제어하는 방법에 대해 다음으로 논의한다.
위의 방정식을 사용하여 스텝 응답을 미분하고 그 최대값을 찾음으로써 오버슈트 양을 찾을 수 있다. 최대 스텝 응답 Smax의 결과는 다음과 같다.
스텝 응답의 최종 값은 1이므로, 지수 항이 실제 오버슈트 그 자체이다. μ = 0일 때 오버슈트가 0인 것은 분명하며, 이 조건은 다음과 같다.
이 2차 방정식은 x = (τ1 / τ2)1/2로 설정하여 시간 상수 비에 대해 풀면 다음과 같은 결과가 나온다.
β A0 ≫ 1이므로 제곱근 안의 1은 생략할 수 있으며 결과는 다음과 같다.
즉, 첫 번째 시간 상수는 두 번째 시간 상수보다 훨씬 커야 한다. 오버슈트를 허용하지 않는 설계보다 더 모험적인 설계를 위해 위 관계에 인자 α를 도입할 수 있다.
그리고 α를 허용 가능한 오버슈트 양으로 설정한다.
스텝 응답 피드백 증폭기
그림 4는 이 절차를 보여준다. 상단 패널(α = 4)과 하단 패널(α = 0.5)을 비교하면 α 값이 낮을수록 응답 속도가 증가하지만 오버슈트도 증가함을 알 수 있다. α = 2(중앙 패널)는 최대 평탄 설계로, 보드 이득 대 주파수 플롯에서 피킹이 나타나지 않는다. 이 설계에는 다중 극점(또는 영점), 비선형성(신호 진폭 의존성), 제조 변동과 같은 비이상적인 현실에 대처하기 위한 경험칙 안전 여유가 내장되어 있으며, 이러한 요인 중 어느 것도 과도한 오버슈트를 유발할 수 있다. 극점 분리 조정(즉, α 설정)은 주파수 보상의 주제이며, 그러한 한 가지 방법은 극점 분할이다.
그림 3의 스텝 응답에서 링잉의 진폭은 감쇠 인자 exp(−ρt)에 의해 제어된다. 즉, 최종 값으로부터 허용 가능한 스텝 응답 편차 Δ를 지정하면 다음과 같다.
이 조건은 β AOL 값에 관계없이 시간이 정착 시간 tS보다 길면 만족된다.
스텝 응답 피드백 증폭기
여기서 τ1 ≫ τ2는 오버슈트 제어 조건 때문에 적용 가능하며, 이는 τ1 = αβAOL τ2를 만든다. 종종 정착 시간 조건은 정착 기간이 단위 이득 대역폭에 반비례한다고 언급되는데, 이는 1/(2π τ2)가 일반적인 지배 극점 보상 증폭기의 경우 이 대역폭에 가깝기 때문이다. 그러나 이 결과는 이 경험칙보다 더 정확하다. 이 공식의 예로, Δ = 1/e4 = 1.8 %인 경우 정착 시간 조건은 tS = 8 τ2이다.
일반적으로, 오버슈트 제어는 시간 상수 비를 설정하고, 정착 시간 tS는 τ2를 설정한다.
이 방법은 스텝 응답의 중요한 지점을 사용한다. 측정된 신호에 접선을 추측할 필요가 없다. 방정식은 수치 시뮬레이션을 사용하여 파생되었으며, 일부 중요한 비율과 비선형 방정식의 피팅 매개변수를 결정한다. 참조.
단계는 다음과 같다.
스텝 응답 피드백 증폭기
다음으로, 극점 비율 τ1/τ2의 선택은 피드백 증폭기의 위상 여유와 관련이 있다. 보드 선도 문서에 설명된 절차를 따른다. 그림 5는 두 극점 증폭기의 두 번째 극점 위치까지의 주파수 범위에 대한 보드 이득 플롯이다. 그림 5의 가정은 주파수 f0 dB가 가장 낮은 극점 f1 = 1/(2πτ1)과 두 번째 극점 f2 = 1/(2πτ2) 사이에 있다는 것이다. 그림 5에 표시된 바와 같이 이 조건은 α ≥ 1 값에 대해 만족된다.
그림 5를 사용하여 루프 이득 βA0이 다음으로 정의된 단위 이득 또는 0 dB 조건을 만족하는 주파수(f0 dB로 표시)를 찾는다.
이득 플롯의 하향 경사 부분의 기울기는 (20 dB/decade)이다. 즉, 주파수가 10배 증가할 때마다 이득은 동일한 비율로 감소한다.
위상 여유는 f0 dB에서의 위상이 −180°에서 벗어나는 정도이다. 따라서 여유는 다음과 같다.
f0 dB / f1 = βA0 ≫ 1이므로, f1 항은 90°이다. 이는 위상 여유를 다음과 같이 만든다.
특히 α = 1인 경우 φm = 45°이고, α = 2인 경우 φm = 63.4°이다. Sansen은 α = 3, φm = 71.6°를 "시작하기에 좋은 안전 위치"로 권장한다.
τ2를 단축하여 α가 증가하면 정착 시간 tS도 단축된다. τ1을 늘려서 α가 증가하면 정착 시간 tS는 거의 변하지 않는다. 더 일반적으로, 극점 분할 기법이 사용되는 경우와 같이 τ1과 τ2 모두 변경된다.
여담으로, 두 개 이상의 극점을 가진 증폭기의 경우에도 f2를 "등가 2극" 위치라고 하는 피팅 매개변수로 만들어 그림 5의 다이어그램이 보드 플롯에 여전히 맞도록 할 수 있다.
몰 전도도
전해질 용액의 몰 전도도(molar conductivity)는 그 전도도를 몰 농도로 나눈 값으로 정의된다.
여기서
κ는 측정된 전도도(이전에는 비전도도로 알려짐)이며,
c는 전해질의 몰 농도이다.
몰 전도도의 국제단위계 단위는 지멘스 제곱미터/몰(S m2 mol−1)이다. 그러나 값은 종종 S cm2 mol−1로 인용된다. 이 마지막 단위에서 Λm 값은 평행한 판형 전극 사이에 1센티미터 떨어져 있고 용액이 정확히 1몰의 전해질을 포함하도록 충분한 면적을 가진 용액 부피의 전도도로 이해될 수 있다.
몰 전도도 희석에 따른 몰 전도도의 변화
전해질에는 강한 전해질과 약한 전해질의 두 가지 유형이 있다. 강한 전해질은 일반적으로 완전한 이온화를 겪으므로 부분적으로만 이온화되는 약한 전해질보다 전도도가 높다. 염, 강산, 강염기와 같은 강한 전해질의 경우 몰 전도도는 농도에 약하게만 의존한다. 희석 시 용질-용질 상호작용 감소로 인해 강한 전해질의 몰 전도도는 규칙적으로 증가한다. 실험 데이터를 바탕으로 프리드리히 콜라우슈 (1900년경)는 강한 전해질에 대한 비선형 법칙을 제안했다.
여기서
Λ∘m는 무한 희석에서의 몰 전도도(또는 한계 몰 전도도)이며, 이는 √c의 함수로서 Λm을 외삽하여 결정할 수 있다.
K는 콜라우슈 계수이며, 이는 주로 용액 내 특정 염의 화학량론에 따라 달라진다.
α는 강한 농축 전해질에 대해서도 해리도이다.
fλ는 농축 용액에 대한 람다 계수이다.
이 법칙은 낮은 전해질 농도에서만 유효하며, 디바이-휘켈-온사거 방정식에 적합하다.
그러나 약한 전해질(즉, 불완전하게 해리된 전해질)의 경우 몰 전도도는 농도에 강하게 의존한다. 용액이 희석될수록 이온 해리가 증가하여 몰 전도도가 커진다. 예를 들어, 아세트산은 농축 아세트산보다 희석된 수성 아세트산에서 더 높은 몰 전도도를 갖는다.
몰 전도도 콜라우슈의 이온 독립 이동 법칙
프리드리히 콜라우슈는 1875-1879년에 묽은 용액에서 몰 전도도가 개별 이온의 기여로 높은 정확도로 분해될 수 있음을 확립했다. 이것은 콜라우슈의 이온 독립 이동 법칙으로 알려져 있다.
모든 전해질 AxBy에 대해 한계 몰 전도도는 Ay+의 한계 몰 전도도의 x배와 Bx−의 한계 몰 전도도의 y배로 표현된다.
여기서:
λi는 이온 i의 한계 몰 이온 전도도이다.
νi는 전해질의 화학식 단위에 있는 이온 i의 수이다(예: Na2SO4에서 Na+과 SO2−4의 경우 각각 2와 1).
콜라우슈가 이 법칙을 증명한 증거는 두 개의 다른 양이온과 공통 음이온을 가진 두 전해질의 한계 몰 전도도가 음이온의 종류와 무관하게 차이가 난다는 것이다. 예를 들어, X = Cl−, I− 및 ⁠1/2⁠ SO2−4에 대해 Λ0(KX) − Λ0(NaX) = 23.4 S cm2 mol−1이다. 이 차이는 K+와 나트륨 이온(Na+) 사이의 이온 전도도 차이에 기인한다. 공통 음이온과 두 양이온을 가진 두 전해질에서도 비슷한 규칙성이 발견된다.
몰 전도도 몰 이온 전도도
각 이온 종의 몰 이온 전도도는 전기 이동도(μ), 즉 단위 전기장당 드리프트 속도에 비례하며, 다음 방정식에 따른다.
여기서 z는 이온 전하이고, F는 패러데이 상수이다.
약한 전해질의 한계 몰 전도도는 외삽법으로 안정적으로 결정할 수 없다. 대신, 동일한 이온을 포함하는 강한 전해질의 한계 몰 전도도에서 평가할 수 있는 이온 기여의 합으로 표현될 수 있다. 아세트산 수용액을 예로 들면,
각 이온의 값은 측정된 이온 수송수를 사용하여 결정할 수 있다. 양이온의 경우:
음이온의 경우:
물에서 대부분의 일가 이온은 40–80 S cm2 mol−1 범위의 한계 몰 이온 전도도를 갖는다. 예를 들어:
몰 전도도 몰 이온 전도도
알칼리 금속 값의 순서는 놀랍다. 이는 가장 작은 양이온 Li+가 주어진 전기장에서 Na+보다 느리게 움직이며, Na+는 K+보다 느리게 움직인다는 것을 보여주기 때문이다. 이는 물 분자의 용해 효과로 인해 발생한다. 더 작은 Li+는 약 4개의 물 분자와 가장 강하게 결합하여 움직이는 양이온 종이 실질적으로 Li(H2O)+4가 된다. 용해는 Na+에 대해 더 약하고 K+에 대해서는 더 약하다. F−에서 Cl−로, Cl−에서 Br−로의 할로겐 이온 이동성 증가는 또한 용해 감소에 기인한다.
예외적으로 높은 값은 H+(349.8 S cm2 mol−1)와 OH−(198.6 S cm2 mol−1)에서 발견되며, 이는 이 이온들의 이동에 대한 그로투스 양성자 도약 메커니즘으로 설명된다. H+는 또한 알코올에 있는 다른 이온들보다 더 큰 전도도를 가지지만, 액체 암모니아와 나이트로벤젠을 포함한 다른 용매에서는 더 정상적으로 행동한다.
몰 전도도 몰 이온 전도도
다가 이온의 경우, 전도도를 노르말 농도로 나눈 값을 리터당 당량으로 고려하는 것이 일반적이다. 여기서 1 당량은 1몰의 일가 이온과 같은 양의 전하를 가진 이온의 양이다: ⁠1/2⁠ mol Ca2+, ⁠1/2⁠ mol SO2−4, ⁠1/3⁠ mol Al3+, ⁠1/4⁠ mol Fe(CN)4−6 등이다. 이 몫을 당량 전도도라고 부를 수 있지만, IUPAC은 이 용어의 사용을 중단하고 당량 농도로 나눈 전도도 값에 대해 몰 전도도라는 용어를 사용할 것을 권장했다. 이 규칙이 사용되면 값은 일가 이온과 같은 범위에 있다. 예를 들어, ⁠1/2⁠ Ca2+에 대해 59.5 S cm2 mol−1이고 ⁠1/2⁠ SO2−4에 대해 80.0 S cm2 mol−1이다.
양이온과 음이온의 몰 이온 전도도로부터 스토크스 반지름 개념을 사용하여 유효 이온 반지름을 계산할 수 있다. 이러한 방식으로 계산된 용액에서의 이온 반지름 값은 용액 내 수화 효과로 인해 결정 내 동일한 이온의 이온 반지름과 상당히 다를 수 있다.
몰 전도도 응용
약한 전해질의 해리 상수를 농도의 함수로 제공하는 오스트발트 희석률은 몰 전도도로 표현할 수 있다. 따라서 산의 pKa 값은 몰 전도도를 측정하고 0 농도로 외삽하여 계산할 수 있다. 즉, 0 농도 극한에서 pKa = p(⁠K/1 mol/L⁠)이며, 여기서 K는 오스트발트 법칙의 해리 상수이다.
네비우스 그룹
네비우스 그룹(Nebius Group)은 암스테르담에 본사를 둔 기술 기업으로 인공지능 인프라를 제공한다. 이 회사는 또한 애브라이드와 트리플텐을 소유하고 있으며, 톨로카와 클릭하우스의 지분도 보유하고 있다. 본사는 암스테르담에 있으며 이스라엘과 미국에 지사를 두고 있다.
네비우스 그룹 역사
대러시아 제재 영향으로 러시아의 인터넷 기업인 Yandex로부터 비러시아 자산 중심 구조로 분사되었으며, 대규모 그래픽처리장치(GPU) 클러스터와 클라우드 인프라를 기반으로 AI 워크로드 특화 데이터센터 사업을 빠르게 확장 중에 있다.
네비우스 그룹 운영
네비우스는 서버와 데이터 센터를 운영하며 AI 개발자를 위한 클라우드 인프라를 제공한다. 2024년 12월, 네비우스는 엔비디아 (네비우스 지분 0.5% 인수) 및 액셀 파트너스를 포함한 사모 투자자들로부터 7억 달러를 유치했다.
네비우스는 또한 핀란드 맨챌래에 데이터 센터를 소유하고 있으며, 파리의 에퀴닉스 데이터 센터에 GPU 클러스터를 보유하고 있으며, 건설 중인 캔자스시티 (미주리주)의 데이터 센터에 GPU 클러스터를 보유하고 있으며, 건설 중인 뉴저지주 바인랜드에 300MW 데이터 센터를 소유하고 있다.
네비우스는 또한 애브라이드와 트리플텐을 소유하고 있으며, 톨로카와 클릭하우스의 지분을 보유하고 있다.
배경 잡음
배경 잡음, 백그라운드 잡음, 백그라운드 노이즈(background noise), 암 소음 또는 주변 잡음은 모니터링되는 소리(기본 소리) 외의 모든 소리이다. 배경 잡음은 소음 공해 또는 간섭의 한 형태이다. 배경 잡음은 소음 수준을 설정하는 데 중요한 개념이다.
배경 잡음에는 물결, 교통 소음, 경보, 외부 말하기, 동물로부터의 생물음향 잡음과 같은 환경 소음과 냉장고, 공기조화, 전원 공급 장치, 전동기와 같은 장치에서 발생하는 전기 잡음이 포함된다.
배경 잡음의 방지 또는 감소는 능동 소음 제어 분야에서 중요하다. 이는 초음파(예: 의료 진단 또는 이미징용), 소나, 음향 재생을 사용할 때 중요한 고려 사항이다.
배경 잡음 다른 용도
천문학에서 배경 잡음 또는 우주 배경 복사는 식별 가능한 근원이 없는 하늘의 전자기파이다.
정보 아키텍처에서 관련 없거나 중복되거나 부정확한 정보는 배경 잡음이라고 불릴 수 있다.
물리학 및 통신에서 배경 신호 잡음은 해로울 수도 있고 어떤 경우에는 유익할 수도 있다. 신호 잡음을 피하거나 줄이거나 사용하는 연구는 정보 이론이다.
텔레포니에서 인공 통신 소음은 음성 검출을 사용하는 불연속 전송 시스템에 의해 생성되는 인공적인 침묵을 채우기 위해 자연적인 배경 잡음을 대체하는 데 사용된다.
배경 잡음은 집중력에도 영향을 미칠 수 있다.
빌헬름 프랭어
빌헬름 프랭어(Wilhelm Fraenger, 1890년 6월 5일 ~ 1964년 2월 19일)는 독일인 미술사가이다.
프랭어는 에를랑겐에서 태어났다. 그는 독일 농민전쟁 시기와 후기 중세 신비주의 분야의 전문가였다. 그는 예르크 라트게프, 마티아스 그뤼네발트, 히에로니무스 보스에 대한 중요한 연구를 저술했다. 그의 보스에 관ㄹ한 저술은 당대에 매우 영향력이 있었는데, 보스를 오컬티즘의 측면에서 고려하였으며, 보스를 밀교적인 신비주의에 의해 이끌린 예술가로 간주했다. 그는 수십 년에 걸쳐 수많은 예술가 및 지식인들과 우정을 유지했다. 그는 73세의 나이로 포츠담에서 사망했다.
안정화 전원
안정화 전원(regulated power supply)은 내장형 회로이다. 이것은 비정류 교류(AC)를 일정한 직류로 변환한다. 정류기의 도움으로 AC 전원을 DC로 변환한다. 이 기능은 특정 전원 공급 제한 내에서 작동해야 하는 회로 또는 장치에 안정적인 전압(또는 드물게 전류)을 공급하는 것이다. 안정화 전원으로부터의 출력은 교류이거나 단방향일 수 있지만, 거의 항상 직류이다. 사용되는 안정화 유형은 다양한 부하 조건에서 출력이 특정 한계 내에 유지되도록 하는 것으로 제한될 수 있으며, 자체 공급원의 변동에 대한 보상을 포함할 수도 있다. 후자가 오늘날 훨씬 더 일반적이다.
안정화 전원 응용
벤치 전원 공급 장치는 일반적으로 BE(벤치 테스트) 전자 회로에 유용한 다양한 출력 전압을 공급할 수 있는 전원 공급 장치를 의미하며, 출력 전압의 연속적인 변화가 가능하거나 일부 사전 설정된 전압만 공급할 수 있다. 일부는 전류/전압 제한의 여러 선택 가능한 범위를 가지며, 이는 반비례하는 경향이 있다.
실험실("랩") 전원 공급 장치는 일반적으로 정확한 벤치 전원 공급 장치를 의미하며, 균형 또는 트래킹 전원 공급 장치는 회로에 양수 및 음수 전원 레일이 모두 필요할 때 사용되는 트윈 공급 장치를 의미한다.
가변 벤치 전원 공급 장치는 선형 (변압기 먼저) 및 스위치 모드 파워 서플라이 (풀 브리지 정류기 먼저) 둘 다 존재하며, 각각 다른 장점과 단점을 가지고 있다:
안정화 전원 응용
선형 유형은 노이즈(또는 "리플 전압")가 매우 적고 외부 전자기 및 무선 주파수 간섭(EMI, RFI)에 덜 취약하여 오디오 장비 및 라디오 관련 응용 분야와 섬세한 회로에 전원을 공급하는 데 선호된다. 선형 전원 공급 장치는 또한 고장날 수 있는 부품이 적어 수명이 길어지며, 더 빠른 지나가는 반응을 가진다. 선형 가변 벤치 전원 공급 장치는 1980년대까지 거슬러 올라가 더 오래 존재했다. 선형 전원 공급 장치는 전압을 조절할 때 일반적으로 변압기 탭 간의 조절로 인해 딸깍거리는 소리를 낸다. 이는 변압기 2차측의 선택된 섹션을 사용자가 선택한 출력 전압에 최대한 가깝게 위로 넓히거나 좁혀 열로 낭비되는 에너지를 줄이기 위함이다.
안정화 전원 응용
스위치 모드 전원 공급 장치는 유사한 정격 전력에서 더 가볍고, 효율적이며, 더 작아서 고전력 응용 분야에 적합하다. 더 높은 효율은 동일한 출력 전력에서 더 적은 열 발생을 의미하며, 따라서 에너지 낭비와 필요한 냉각이 줄어든다. 또한, 일반적으로 약 110에서 240볼트의 더 넓은 주전원 입력 전압 범위에서 작동할 수 있으며, 이는 범위의 한쪽 끝에서 약 20볼트 섹션이 아닌 국제적으로 작동할 수 있음을 의미한다. 유사한 스위칭 기술은 휴대 전화, 랩톱 컴퓨터, 전기자전거를 포함한 배터리 구동 장치를 충전하는 AC 어댑터에 사용된다.
일부 고전류 전원 공급 장치는 고전류 작동을 위한 후면 출력 단자를 가지고 있다. 이 단자들은 그러한 전류를 지원하기 위해 더 크고, 일반적으로 초기에는 플라스틱 캡으로 덮여 있다. 이 단자들은 적절한 크기의 악어 클램프에 연결할 수 있다.
전면 패널에는 일반적으로 "C.V." (정전압) 및 "C.C." (정전류)용 LED 표시기가 있다. 부하가 요구하는 전류가 사용자가 설정한 한도를 초과하면, 전원 공급 장치는 전류 한도를 초과하는 것을 방지하기 위해 전압을 낮춤으로써 자동으로 후자 모드로 전환된다.
안정화 전원 응용
제어는 전원 공급 장치 모델마다 다르다. 많은 모델에는 전압 및 전류 설정을 위한 회전식 노브가 있으며, 각각 일반적으로 "거친" 노브와 "미세" 노브가 있다. 전자는 전체 범위에 걸쳐 매개변수를 조정하는 반면, 후자는 작은 주변 범위 내에서 조정을 용이하게 한다. 일부 모델에는 전류에 대한 "미세" 노브가 없는데, 이는 주어진 전압에서 소비되는 전류가 부하에 의해 결정되므로 정밀하게 조절할 필요성이 덜하기 때문이다.
일부, 특히 고급 모델에는 전체 장치를 켜거나 끌 필요 없이 출력 전원을 전환하는 버튼, 전압/전류 조합을 위한 바로가기 메모리, 사용자가 지정한 전류 한도에 도달했을 때 자동으로 전원을 차단하는 옵션("과전류 보호"), 외부 전압이 출력을 초과할 경우 전원을 차단하는 과전압 보호, 더 많은 자릿수(세 자리 대신 네 자리 또는 다섯 자리)를 가진 표시 디스플레이, 아날로그 전압 제어 대신 디지털 전압 제어, 우발적인 조정을 방지하기 위한 전원 설정 잠금 기능과 같은 추가 기능이 장착되어 있다. 출력 전압/전류 측정기 외에, 일부는 실시간으로 두 값의 곱을 나타내는 전력량 측정기와 USB 충전 포트가 장착되어 있다.
안정화 전원 응용
많은 모델에는 운반을 위한 상단 손잡이가 있다. 냉각을 위해 히트 싱크, 선풍기, 또는 둘 다 사용될 수 있다. 히트 싱크는 외부에 또는 내부에 장착될 수 있다. 히트 싱크는 소음이 없지만, 선풍기는 냉각에 더 효과적이다. 선풍기 속도는 온도 또는 출력 전류에 따라 조절될 수 있는데, 전자는 유휴 상태 또는 간헐적인 전력 출력 시 더 빨리 냉각되고, 후자는 출력되는 전류량을 음향적으로 피드백해 준다.
일부 전원 공급 장치에는 두 개의 출력 채널이 있다. 이들은 학교에서 사용될 수 있는데, 다채널 장치가 하드웨어를 공유하기 때문에 두 개의 별도 장치보다 비용이 적게 드는 경향이 있기 때문이다. 고급형 장치는 두 채널을 직렬 회로에 내부적으로 연결하여 전압 한도를 두 배로 만들 수 있다. 일부 전원 공급 장치에는 세 번째 보조 출력 채널이 있는데, 이는 일반적으로 전력이 덜하다. 이는 일반적으로 오른쪽 가장자리 또는 중앙에 위치한다.
외부 전압을 측정하기 위한 통합 전압계 패널이 장착된 벤치 전원 공급 장치 유닛은 1990년대 또는 그 이전부터 존재했지만, 휴대용 멀티미터의 등장으로 그 기능은 쓸모없게 되었다.
안정화 전원 토폴로지 및 기술
안정화 전원이 발명된 이래로 많은 토폴로지가 사용되었다. 초기 기술에는 철-수소 저항, 공진 변압기, 비선형 저항, 부하 저항, 네온 안정기 튜브, 진동 접점 레귤레이터 등이 포함되었다.
현대의 안정화 전원은 대부분 변압기, 실리콘 다이오드 브리지 정류기, 축전기 및 전압 조정기 IC를 사용한다. 여기에는 여러 전압 라인, 가변 레귤레이터, 전원 제어 라인, 개별 회로 등과 같은 변형이 있다. 스위치 모드 레귤레이터 전원에는 인덕터도 포함된다.
때로는 안정화 전원이 훨씬 더 복잡할 수 있다. 1980년대 TV의 예시 전원은 주 전원과 라인 출력 스테이지 간의 양방향 상호 작용을 사용하여 작동했으며, 다양한 안정화 수준으로 다양한 출력 전압을 생성했다. 어떤 스테이지도 다른 스테이지 없이 시작할 수 없었기 때문에, 전원에는 시스템을 작동시키기 위한 킥스타트 시스템도 포함되어 있었다. 전원은 또한 TV 전원 회로의 전압을 모니터링하여 이러한 전압이 사양을 벗어나면 종료되었다. 특수 응용 분야의 경우, 전원은 훨씬 더 복잡해질 수 있다.
옵토그래피
옵토그래피(optography)는 눈의 망막에 형성된 이미지인 옵토그램(optogram, 안저사진)을 보거나 검색하는 과정이다. 죽기 전에 본 마지막 이미지가 눈에 "기록"되었다는 믿음은 19세기 말과 20세기 초에 널리 퍼졌으며, 당시 소설에서 자주 사용되는 플롯 장치였다. 이러한 믿음 때문에 경찰은 이 이론이 사실일 경우를 대비하여 여러 실제 살인 사건 수사에서 희생자들의 눈을 촬영하기도 했다. 이 개념은 법과학적 방법으로는 반복적으로 반박되었다.
옵토그래피 과학적 근거
옵토그래피에 대한 과학 연구는 주로 독일 생리학자 빌헬름 퀴네가 수행했다. 프란츠 크리스티안 볼이 망막의 간상체에 존재하는 감광성 색소인 로돕신(또는 "시각 보라")을 발견한 것에 영감을 받아, 퀴네는 이상적인 상황에서 로돕신이 사진 네거티브처럼 "고정"될 수 있다는 것을 발견했다.
퀴네는 망막에 이미지를 고정하는 데 사용되는 화학 물질을 정제하고 결정하기 위해 수많은 동물에게 실험했다. 그의 가장 성공적인 옵토그램은 줄무늬 창문을 향하도록 머리가 고정된 알비노 토끼에서 얻어졌다. 토끼의 머리는 로돕신이 망막에 축적되도록 몇 분 동안 가려졌다. 그런 다음 3분 동안 가림막을 제거하여 빛에 노출시켰고, 이후 토끼를 참수하고 안구를 위에서 아래로 잘랐다. 눈의 뒷부분은 표백된 로돕신을 고정하기 위해 백반 (화학) 용액에 넣었는데, 그 결과 줄무늬 창문의 선명한 이미지가 나타났다.
옵토그래피 과학적 근거
퀴네는 인간에게 이 기술을 시연하고 싶어 했고, 1880년에 기회를 얻었다. 11월 16일, 에르하르트 구스타프 라이프는 인근 브루흐잘 마을에서 자신의 아이들을 살해한 혐의로 단두대로 처형되었다. 라이프의 눈은 적출되어 하이델베르크 대학교에 있는 퀴네의 실험실로 옮겨졌고, 그곳에서 퀴네는 필터링된 창문이 있는 어두운 방에서 눈을 해부하기 시작했다. 10분 후, 퀴네는 동료들에게 왼쪽 망막에 있는 이미지를 보여주었지만, 그가 스케치한 이미지는 그가 사망할 당시 피험자에게 보였던 어떤 물체와도 일치하지 않았다. 비록 이미지의 윤곽이 단두대 칼날과 유사했지만, 라이프는 참수 당시 눈을 가리고 있었다.
퀴네가 인간의 눈에서 이미지를 생성하려 할 때 직면한 문제는 망막에 이미지가 실제로 초점을 맺는 중심와의 크기가 매우 작다는 것(약 1.5밀리미터)이었다. 퀴네는 토끼나 개구리와 같은 동물에서 옵토그램을 만드는 데 훨씬 더 많은 성공을 거두었으며, 라이프의 이미지는 유일하게 알려진 "인간 옵토그램"이 되었다. 라이프의 눈에서 나온 원본 이미지는 퀴네의 1881년 논문 "망막의 해부학 및 생리학 관찰"에 실린 간단한 선 그림 외에는 더 이상 존재하지 않는다.
옵토그래피 법의학적 옵토그래피
사망 순간에 눈이 이미지를 유지한다는 이론이 빅토리아 시대의 상상력에 만연하자, 1800년대 후반의 경찰 수사관들은 살인 사건 수사 기술로 옵토그래피를 고려하기 시작했다. 법의학적 옵토그래피에 대한 가장 초기의 시도 중 하나는 1877년에 베를린 경찰이 살인 사건 해결에 도움이 될 이미지를 얻을 수 있을지도 모른다는 생각으로 살인 피해자 프라우 폰 사바츠키의 눈을 촬영했을 때 발생했다.
1888년, 런던 경찰관 월터 듀(이후 살인범 크리펜 박사를 잡은 것으로 유명해짐)는 용의자인 잭 더 리퍼를 잡기 위한 "희망 없는 시도"로 메리 제인 켈리에게 옵토그래피가 시도되었다고 회상했다. 리퍼학자 제임스 스튜어트-고든은 애니 채프먼에게도 이 기술이 시도되었다고 믿었다.
옵토그래피 법의학적 옵토그래피
퀴네의 실험실에서 그를 돕고 그의 논문을 영어로 번역했던 미국인 의사 W.C. 에이레스는 인간의 눈에 대한 옵토그래피가 법의학적 목적에 사용할 수 있는 이미지를 산출할 수 있다는 이론을 일축했다. 1881년 뉴욕 의학 저널에 실린 기사에서 에이레스는 이 분야에서의 자신의 반복적인 실험이 일부 옵토그램 이미지를 생성했지만, 유용할 만큼 선명하지 않았으며, "가장 유리한 상황에서도 갑작스러운 죽음을 맞은 사람의 망막에서 사람의 얼굴이나 주변 환경의 그림을 찾는 것은 완전히 무의미하다"고 선언했다.
옵토그래피 법의학적 옵토그래피
법의학적 옵토그래피가 증거로 인정된 드문 사례는 1924년 말, 독일 상인 프리츠 앙거슈타인이 그의 가족과 하인 여덟 명을 살해한 혐의로 기소된 후 발생했다. 쾰른 대학교의 되네 교수는 두 희생자의 망막을 촬영하여 앙거슈타인의 얼굴과 정원사를 살해하는 데 사용된 도끼의 이미지를 얻었다고 주장했다. 앙거슈타인은 재판을 받고 유죄 판결을 받아 처형되었으며, 되네의 옵토그래피 이미지는 사건의 다른 증거들과 함께 포함되었다. 선데이 익스프레스 신문에 따르면, 앙거슈타인은 "유죄를 입증하는" 옵토그램에 대해 들었을 때 살인을 자백했다고 한다. 아메리칸 머큐리 잡지는 되네의 증언을 옵토그래피 이론의 "과학적 확인"이라고 불렀지만, 2011년에 독일의 리걸 트리뷴 온라인은 앙거슈타인 사건에서 옵토그래피 증거의 사용을 "터무니없는 범죄학" ("absurde Kriminalistik")이라고 불렀다.
범죄학에서 옵토그래피 사용에 대한 가장 최근의 심각한 연구는 1975년에 이루어졌다. 당시 하이델베르크 경찰은 하이델베르크 대학교의 에반겔로스 알렉산드리디스에게 현대 과학 기술, 지식 및 장비를 사용하여 퀴네의 실험과 발견을 재평가해 달라고 요청했다. 퀴네와 마찬가지로 알렉산드리디스는 토끼의 눈에서 선명한 고대비 이미지를 여러 개 성공적으로 생성했지만, 이 기술이 법의학 도구로서의 가치가 없다고 결론적으로 부정적으로 평가했다.
옵토그래피 픽션 속의 옵토그래피
픽션에서 옵토그래피에 대한 첫 번째 명확한 묘사는 오귀스트 드 빌리에 드 릴라당의 1867년 단편 소설 "클레르 르누아르"였으며, 이는 나중에 1887년에 소설 트뤼뷸라 보노메로 확장되었다. 러디어드 키플링의 1891년 단편 소설 "통로의 끝에서"에 나오는 언급처럼, 빌리에 드 릴라당의 이야기는 옵토그램을 과학적이라기보다는 형이상학적인 의미로 묘사한다.
쥘 베른의 1902년 소설 깁 형제는 옵토그래피를 주요 플롯 포인트로 언급한다. 소설의 제목에 나오는 깁 형제는 선장 살인 혐의로 체포되어 수감된다. 희생자의 아들이 돌아가신 아버지의 머리를 확대 사진으로 검사했을 때, 그는 눈에서 진범인 선장의 두 선원 얼굴을 식별했고, 형제는 무죄가 입증된다. 베른은 책의 마지막 장에서 결론의 과학적 근거를 설명했다.
옵토그래피 픽션 속의 옵토그래피
한동안 알려진 바와 같이—일부 독창적인 과학자들이 수행한 흥미로운 안과 실험의 결과로, 권위 있는 관찰자들로서—눈의 망막에 새겨진 외부 사물의 이미지는 그곳에 무한히 보존된다. 시각 기관은 망막의 보라색이라는 특정 물질을 포함하고 있으며, 그 위에 이러한 이미지가 정확한 형태로 새겨진다. 심지어 눈이 죽은 후 적출되어 백반 용액에 담갔을 때도 완벽하게 재구성되었다.
H.P. 러브크래프트의 단편 소설 "시간의 저편에서"에서는 위대한 옛 존재 가타노토아의 이미지가 사제 티요그의 죽음 이후 그의 망막에 남아있었다.
1936년 유니버설 영화 보이지 않는 광선에는 벨라 루고시 역의 펠릭스 베넷 박사가 보리스 칼로프 역의 야노스 루크 박사에게 살해된 프랜시스 스티븐스 경 (월터 킹스포드)의 죽은 눈을 자외선 카메라로 촬영하는 장면이 나온다. 베넷이 현상한 이미지에는 루크가 살인자임이 나타나지만, 베넷은 실수로 사진 건판을 떨어뜨려 증거를 파괴한다.
옵토그래피 픽션 속의 옵토그래피
랜들 개릿의 1964년 판타지 소설 눈이 그걸 잡았다에서는 살인 사건 수사에서 시체의 망막에서 마법적으로 이미지가 현상된다. 이 이미지는 극심한 충격으로 인해 피해자의 시각 시스템이 "역반응"하여 그의 마음속 그림이 망막으로 되돌아온 결과라고 한다.
짐 모리슨은 1968년 10월 1일 "Eye" 잡지에 실린 "짐 모리슨 랩스"라는 글에서 퀴네의 토끼 실험을 언급한다.
이탈리아 영화감독 다리오 아르젠토의 1971년 영화 회색 벨벳 위의 네 마리 파리에서는 등장인물들이 살인범을 잡기 위해 옵토그래피를 사용하며, 그 결과로 나타난 이미지에 대한 설명이 영화 제목의 영감이 된다.
1972년 영화 호러 익스프레스에서는 시베리아 횡단 열차에서 벌어진 여러 기이한 살인 사건이 두 번의 부검을 통해 조사된다. 이 과정에서 시체의 안구 안에 있는 액체에서 이미지가 보존되어 선사시대 지구와 우주에서 본 행성의 모습이 드러나며, 그 위협이 어떤 식으로든 생명체의 몸에 거주했던 무형의 외계 존재이며 현재 경찰 조사관 안에 살고 있다고 추론된다. 이 지능은 눈을 통해 희생자들 사이를 "점프"할 수 있으며, 안구를 삶은 생선의 눈처럼 희고 불투명하게 만든다.
옵토그래피 픽션 속의 옵토그래피
1975년 닥터 후 시리즈 "우주선 방주"에서 4대 닥터는 외계 위른의 안구 조직을 이용해 수천 년 전 위른 여왕의 마지막 순간을 정지 이미지뿐만 아니라 움직이는 영상으로 투사한다. 닥터는 이를 죽음 이후 "눈이 마지막 이미지를 간직한다"는 옛 집시들의 믿음에 비유하며, 이는 "사실과 그리 멀지 않다"고 말한다. 38년 후인 2013년 닥터 후 에피소드 "주홍색 공포"는 빅토리아 시대 영국을 배경으로 하며, 마담 바스트라라는 인물이 옵토그래피의 유효성을 일축하지만, 죽은 남자의 눈에서 11대 닥터의 이미지를 본 후에는 생각을 바꾼다. 이 이미지는 피해자가 화학 물질에 잠긴 후 그의 눈이 잠재 이미지를 간직하게 된 결과로 설명된다.
1986년 세인트 세이야 만화에서는 이키가 블랙 백조의 눈에서 경고를 받는 에피소드가 있다.
1994년 로보캅: 더 시리즈의 첫 번째 에피소드 "법 집행의 미래"에서 로보캅은 시체의 망막에서 흐릿한 이미지를 가져와 컴퓨터를 사용하여 강화한다.
옵토그래피 픽션 속의 옵토그래피
케일럽 카의 1994년 저서 외계인 (소설)에서 연쇄 살인범을 식별하기 위해 옵토그래피를 시도했지만 실패했다.
1999년 영화 와일드 와일드 웨스트에는 아르테미스 고든이 죽은 과학자의 옵토그램을 벽에 투사하여 단서를 얻는 장면이 나오는데, 이는 그의 동료 제임스 웨스트의 혐오감을 산다.
2007년, 시각 예술가 데릭 오그본은 몇 년 전 눈을 심하게 맞은 트라우마 이후 '옵토그래피 박물관'을 만들었다.
그의 박물관은 사망 순간 망막에 새겨진 '마지막 이미지'라는 아이디어를 중심으로 한 일련의 미술 전시회로 구성되었다. 그의 박물관은 300점의 작품, 4권의 카탈로그, 그리고 역사적 사실과 허구를 미묘하게 혼합한 그의 옵토그래피 백과사전으로 이루어졌다.
2008년 시리즈 프린지 (드라마) ("똑같은 옛날이야기", 시즌 1 에피소드 2)에서 월터는 마비 독소의 영향을 받아 살해된 여성의 시신에서 얻은 시신경 옵토그래피 이미지를 사용하여 살인범을 추적하고 체포한다.
샤를 드 톨네이
샤를 드 톨네이(Charles de Tolnay, 1899년 5월 27일 – 1981년 1월 17일)는 본명이 카로이 폰 톨나이(Károly von Tolnai)로, 헝가리의 미술사가이자 북유럽 르네상스 미술 전문가였으며, 후기에는 미켈란젤로 부오나로티 연구의 권위자였다. 에르빈 파노프스키에 따르면 그는 당대 "가장 뛰어난 미술사가 중 한 명"이었다. 1939년부터 미국에 거주하며 1945년 미국 시민이 되었다. 프린스턴 (뉴저지주)와 컬럼비아 대학교에서 몇 년간 재직한 후 1965년부터 피렌체의 카사 부오나로티 관장을 맡았다.
샤를 드 톨네이 삶과 작업
드 톨네이는 부다페스트에서 헝가리 행정 공무원 아르놀드 폰 톨나이의 아들로 태어났다. 1918년 그는 카를 톨나이라는 이름으로 독일에서 미술사와 고고학을 공부하기 시작했으며, 처음에는 베를린 대학교에서 (아돌프 골트슈미트 교수 아래에서), 그 다음에는 프랑크푸르트 대학교에서 (루돌프 카우츠쉬 교수 아래에서) 공부했다.
초기 학창 시절 그는 열정적인 여행가이기도 했다. 1921년과 1922년 사이에 그는 첫 벨기에 여행을 떠나 브뤼셀, 안트베르펜, 루벤, 겐트, 브뤼헤, 리에주를 방문했다. 1923년에는 파리, 오시타니아, 스페인, 리스본, 토리노, 밀라노, 베네치아를 방문했다. 1924년에는 이탈리아로 백일 여행을 떠나 피렌체와 로마를 방문했는데, 그곳에서 미켈란젤로의 예술에 깊은 감명을 받았다.
그는 빈 대학교에서 (율리우스 폰 슐로서와 막스 드보르자크 교수 아래에서) 미술사를 계속 공부했으며, 그곳에서 히에로니무스 보스에 대한 박사 학위 논문(1925)을 썼다.
샤를 드 톨네이 삶과 작업
1928년 그는 함부르크 대학교의 강사가 되었고 젊은 에르빈 파노프스키의 친구가 되었다. 그곳에서 톨네이는 미켈란젤로의 후기 건축에 대한 교수 자격 논문(1929)을 썼다. 그 후 그는 로마로 이주하여 헤르치아나 도서관에서 많은 연구를 수행했다. 1934년에서 1939년 사이에 그는 소르본 대학교에서 미술사를 가르쳤는데, 그곳에서 그의 이름을 샤를 드 톨네이로 바꾸었다. 1939년 그는 미국으로 이민을 가서 1945년에 시민이 되었고, 몇 년 동안 프린스턴 고등연구소에서 일했다. 어니스트 H. 윌킨스에 따르면, "고등연구소에 거주하는 많은 전문가들 중에서 헝가리 태생의 르네상스 미술 권위자인 샤를 드 톨네이보다 더 지칠 줄 모르는 연구자는 아마 없을 것이다." 1953년 톨네이는 컬럼비아 대학교 미술사 교수로 임명되었고, 1965년에 은퇴했다. 같은 해 그는 피렌체의 카사 부오나로티 관장이 되어 재편성을 도왔다.
샤를 드 톨네이 삶과 작업
그는 히에로니무스 보스, 얀 판 에이크, 플레말의 거장, 휘호 판 데르 후스, 페테르 파울 루벤스를 비롯한 플랑드르 회화에 대한 기반 연구를 저술했으며, 렘브란트와 얀 페르메르의 회화에 대한 연구도 수행했다. 1943년부터 미켈란젤로 부오나로티에 관심을 집중하여, 그의 작품에 대한 5권짜리 연구서를 출간했는데, 이 연구서는 "우리 세대에서 미켈란젤로에 대한 가장 방대하고 박식한 연구"로 평가받는다. 또한 헝가리 및 크로아티아의 왕 마차시 1세의 궁정, 비치 디 로렌초, 마사초, 프라 필리포 리피, 도메니코 기를란다요, 라파엘로 산치오, 레오나르도 다 빈치, 틴토레토, 자코포 다 폰토르모, 디에고 벨라스케스, 니콜라 푸생, 앙투안 바토, 외젠 들라크루아, 폴 세잔 등의 작품에 대한 그의 저술도 중요하게 평가된다.
톨네이는 1981년 1월 17일 피렌체에서 사망했다.
에르빈 파노프스키에 따르면 톨네이는 "건설적인 과학적 상상력과 철저한 감식안의 희귀한 조합으로 탁월하다... 그의 비범한 에너지 덕분에 톨네이 박사는 보스, 브뢰헬, 특히 미켈란젤로에 대한 우리의 지식을 크게 증진시켰다."
어니스트 만하임에 따르면 "모든 사람들이 톨네이를 좋아했는데, 그가 매우 흥미로운 의견들을 가지고 있었기 때문이다. 그는 미술사와 미술 분석, 사회학 사이의 연관성을 탐구했다."