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片岡左衛門 来歴・人物
1901年（明治34年）1月13日、大阪府大阪市南区難波新地（現在の同市中央区難波1-4丁目及び難波千日前辺り）に生まれる。実父は歌舞伎役者二代目片岡島十郎（嶋十郎とも、本名大島善太郎、旧暦 慶応3年4月8日 / グレゴリオ暦 1867年5月11日 - 1913年7月30日）で、十一代目片岡仁左衛門（1858年 - 1934年）門下の三枚目、敵役として活動していたが、若くして病死している。
片岡左衛門 来歴・人物
1904年（明治37年）、3歳で父・二世島十郎と同じ十一世仁左衛門の門下となり、片岡仁引を名乗って翌1905年（明治38年）2月、現在の大阪府大阪市中央区にあった道頓堀角座（1652年 - 2007年、現存せず）で初舞台を踏む。1915年（大正4年）、山崎尋常高等小学校高等科を卒業し、1919年（大正8年）には現在の東京都中央区銀座にある歌舞伎座で名題に昇進、二代目片岡左衛門を襲名する。将来が嘱望されていたが、1923年（大正12年）9月1日に関東大震災が発生。左衛門自身も次第に歌舞伎の古い門閥に限界を感じ、同年12月に帝国キネマ演芸小阪撮影所へ入社。芸名も前名の片岡仁引に戻し、翌1924年（大正13年）2月27日に公開された中川紫郎監督映画『時勢は移る』で映画デビューを果たす。同年3月6日に公開された中川紫郎監督映画『遠山桜 前篇』では、早くも嵐璃徳（1875年 - 1945年）と共に主演に抜擢され、以後も多数の作品に出演した。また、『役者芸風記』の著者である三島霜川（1876年 - 1934年）は、当時の仁引の芸風について「歌舞伎座の舞台では父島十郎よりも、賢息仁引のほうがよほど目につきもすれば、また、役者ぶりもいい」と評価している。
片岡左衛門 来歴・人物
1925年（大正14年）、折からの独立プロ・ブームで自ら旭キネマ製作所の設立を計画するが、資金難と内紛により失敗に終わる。同年6月、マキノ・プロダクション御室撮影所へ移籍。同年9月11月に公開された沼田紅緑監督映画『討幕の叫び』等で主演を務めるがマキノプロには馴染めず、1926年（大正15年）2月、松竹下加茂撮影所へ移籍。同年3月28日公開の野村芳亭監督映画『大楠公』で井上正夫（1881年 - 1950年）と共演。これもまた馴染めず、同年8月、今度は東亜キネマ等持院撮影所へ移籍する。同時に芸名も片岡左衛門と再改名。雲井龍之介、光岡龍三郎、阪東太郎、団徳麿らの主演陣が固定された後から次第に脇役に回る事が多くなったが、1930年（昭和5年）1月20日に公開された広瀬五郎監督映画『天人お駒』の悪党鳥羽玉新之助など、この頃から敵役として活躍するようになる。また1928年（昭和8年）4月1日に公開された仁科熊彦監督映画『阪東俠客陣』では、平手造酒に扮して喀血をしながらの剣戟に迫力を見せ、「一道の妖気を漂はして近来稀な好演技」と賞賛される。以後、重要なバイプレイヤーとして多数の作品で活躍し、東亜キネマの代行会社であった東活映画社、宝塚キネマへ製作が移された後も、いずれも短命に終わるが活動を続けた。
片岡左衛門 来歴・人物
1924年（大正13年）に発行された『日本映画俳優名鑑』（ポケット講談社）及び1928年（昭和3年版）に発行された『日本映画俳優名鑑 昭和四年版』（映画世界社）など一部の資料によれば、大阪府中河内郡小阪村中小阪（後の布施市、現在の東大阪市中小阪）、後に京都府京都市上京区北野白梅町1番地（現在の同市北区北野上白梅町、北野下白梅町、大将軍西町辺り）に住み、身長は5尺3寸9分（約163.3センチメートル）、後に5尺5寸（約166.7センチメートル）となり、体重は14貫900匁（約55.9キログラム）、後に13貫700匁（約51.4キログラム）、13貫800匁（約51.8キログラム）となり、趣味は長唄、三味線、舞踊、読書であり、大好物は洋食、刺身、酒、タバコで、一般人と反対のもの、人の嫌いそうなものが嗜好であるという旨が記されている。
その後も三流キネマや弱小プロダクションの遍歴は止まらず、1934年（昭和9年）2月、興国キネマ設立に参加するが、同社は僅か1本で解散。同年6月、エトナ映画社に移籍。同時にエトナ映画社専属の大日本映画人白鳩会のメンバーとなり、綾小路絃三郎主演映画の殆どに助演したが、同社も1年足らずで解散する。1935年（昭和10年）2月、今度は創立したばかりの極東映画社へ移籍。片岡は敵役を一手に引き受け、初期は羅門光三郎、羅門退社後は「極東三大スター」こと雲井龍之介、綾小路絃三郎、市川寿三郎主演映画の敵役、いわゆる「憎まれ役」として大活躍し、少年ファンからは「憎らしい左衛門」として大変な人気を得た。
1940年（昭和15年）9月、極東は東宝映画傘下の大宝映画へと改称。しかし翌1941年（昭和16年）2月、僅か半年足らずで東宝映画に吸収合併され、片岡はこれを機に映画界を離れて雲井龍之介一座の大幹部として実演生活に入る。後に独立して片岡左衛門劇団を組織し、1945年（昭和20年）8月の終戦まで主に九州地方を中心に巡業した。この間、1943年（昭和18年）に女優の住乃江田鶴子（本名柿畑田鶴子、1908年 - 没年不詳）と結婚、1男1女をもうけたが、間もなく死別したという。
第二次世界大戦終結後、片岡の地元である大阪府で易者を経営していた。また、1979年（昭和54年）10月23日に発行された『日本映画俳優全集・男優編』（キネマ旬報社）では、存命人物として大阪府羽曳野市蔵之内の連絡先が示されている。1998年（平成10年）11月1日に発行された『芸能人物事典 明治大正昭和』（日外アソシエーツ）など、一部の資料では以後の消息は不明・没年不詳とするが、1995年（平成7年）7月、死去したとされている。満94歳没。
片岡左衛門 出演作品
特筆以外、全て製作は「帝国キネマ小阪撮影所」、配給は「帝国キネマ演芸」、全てサイレント映画、全て「片岡仁引」名義である。
全て製作は「マキノ・プロダクション御室撮影所」、配給は「マキノ・プロダクション」、全てサイレント映画、全て「片岡仁引」名義である。
全て製作・配給は「旭キネマ製作所」、全てサイレント映画である。
製作は「松竹下加茂撮影所」、配給は「松竹」、サイレント映画、「片岡仁引」名義である。
全て製作は「東亜キネマ等持院撮影所」、配給は「東亜キネマ」、全てサイレント映画、以降全て「片岡左衛門」名義である。
特筆以外、全て製作は「東亜キネマ京都撮影所」、配給は「東亜キネマ」、全てサイレント映画である。
全て製作・配給は「東活映画社」、全てサイレント映画である。
全て製作・配給は「宝塚キネマ興行」、全てサイレント映画である。
製作・配給は「エトナ映画社」、サイレント映画である。
特筆以外、全て製作・配給は「極東映画社」、特筆以外は全てサイレント映画である。
全て製作・配給は「極東キネマ」、特筆以外は全てサイレント映画である。
玉置明善
玉置 明善（たまき あきよし、1908年〈明治41年〉8月8日 - 1981年〈昭和56年〉6月2日）は、昭和時代の実業家。
玉置明善 経歴
清の大連にて玉置準三の長男として生まれる。本籍は佐賀県。旧制佐賀高等学校、1930年に九州帝国大学工学部応用化学科を卒業。同年、三菱合資会社に入社。翌年1931年、三菱石油（現 JXTGエネルギー）に移る。1946年に工事部長、1948年に同社工事部が分離独立して千代田化工建設が発足すると常務取締役となる。1957年11月、初代社長の大久保繁雄に代わり社長に就任。1970年会長兼務。
安全工学協会（現: 特定非営利活動法人安全工学会）の第2代会長（1967年-1978年）や、化学工学協会（現: 公益社団法人化学工学会）の第16代会長（1967年-1969年）、日本プラントメンテナンス協会の初代会長（1981年）を務めた。化学工学会には研究奨励賞として同氏を記念した玉置明善記念賞がある。
原子層堆積
原子層堆積、または原子層堆積法（ALD：Atomic layer deposition)は気相の連続的な化学反応を利用した薄膜形成技術である。化学気相成長（CVD: chemical vapor deposition）の1分類とされる。多くの場合、ALDは2種類のプリカーサ（前駆体）と呼ばれる化学物質を用いて行われる。プリカーサは1種ずつ、連続的かつ自己制御的に対象物表面に反応する。それぞれのプリカーサへの暴露を順番に繰り返し行うことで、薄膜は徐々に形成される。ALDは半導体デバイス製造において重要なプロセスであり、装置の一部はナノマテリアル合成にも利用可能である。1974年にフィンランドのトゥオモ・スントラ博士によって実用化された。
原子層堆積 概要
ALDは複数の気相原料(プリカーサ)を交互に基板表面に暴露させることで膜を生成する薄膜形成方法である。CVDと異なり、違う種類のプリカーサが同時に反応チャンバに入ることはなく、それぞれ独立のステップとして導入(パルス)され排出(パージ)される。各パルスにおいてプリカーサ分子は基板表面で自己制御的に振る舞い、吸着可能なサイトが表面になくなった時点で反応は終了する。従って、一度のサイクルにおける最大成膜量は、プリカーサ分子と基板表面分子が化学的にどのように結合するのか、その性質により規定される。そのためサイクル数をコントロールすることで任意の構造・サイズの基板に対して高精度かつ均一に成膜することができる。
ALDは 原子層レベルで膜厚と材質のコントロールができ、極めて薄く緻密な成膜が可能と考えられている。近年物理的な限界が意識されているムーアの法則に基づく電子デバイス微細化への要求が大きな原動力となり、昨今ALDに対する研究開発は非常に活発化している。 数百もの異なるプロセスが発表されているものの、その中には標準的と考えられているALDのプロセスとはかけ離れたものも見られる。
原子層堆積 歴史
ALDはフィンランドにおいてALE(Atomic Layer Epitaxy:原子層エピタキシ)として、旧ソ連においてML(Molecular Layering:分子積層)としてそれぞれ別々に開発された。
1960年代、Stanislav Ivanovich KoltsovはValentin Borisovich Aleskovskiiらと共にレニングラード工科大学(LTI:Leningrad Technological Institute、現在のサンクトペテルブルク工科大学)において、ALDの原理を開発した。その目的は、1952年に発表された Valentinの博士論文中で「仮説の枠組み」として造られた理論的考察を実験により確立することであった。実験は金属塩化物の反応及び水と多孔質シリカで始められ、すぐに他の基板材料への平面薄膜形成へと発展した。 1965年にAleskovskiiとKoltsovはこの新技術に対しMolecular Layering:分子積層と名付けることを提案した。MLの原理は1971年にKoltsovの博士論文において要約された。MLの研究活動は基礎化学研究から多孔質触媒や吸着材、マイクロエレクトロニクス用途のフィラーの応用研究まで多岐にわたっていた。
原子層堆積 歴史
1974年、フィンランドのInstrumentarium社において薄膜ELディスプレイ(Thin Film Electroluminescent:TFEL)の開発が始まった時にトゥオモ・スントラが薄膜の先端技術としてALDを考案し、スントラはギリシャ語の「表面に配列する」という意味のepitaxyからAtomic Layer Epitaxy:原子層エピタキシと名付けた(スントラに従えば略称はALEであるが、類似の技術である原子層エッチング:Atomic Layer Etchingの略称と紛らしくなるため、以下ALDで統一する)。最初の実験では亜鉛元素と硫黄元素を用いて硫化亜鉛を成長させた。薄膜形成方法としてのALDは20カ国以上で特許取得された。大きな進歩はスントラと同僚たちが高真空反応装置から不活性ガス反応装置に変更した時に起こった。キャリアとして不活性ガスを用いることで、金属塩化物、硫化水素、水蒸気のような化合物をALDプロセスに使用できるようになった。
原子層堆積 歴史
この技術は1980年にSID国際会議において初めて発表された。展示されたTFELディスプレイの試作品は、2つの酸化アルミニウムの誘電体層の間に成膜された硫化亜鉛層で構成されており、その全てが塩化亜鉛+硫化水素とTMA+水をプリカーサとして使用したALDプロセスで成膜されていた。初めての大規模なALD-ELディスプレイの概念実証はヘルシンキ・ヴァンター国際空港に1983年に設置されたフライト情報ボードであった。TFELFPDの生産は1980年代中頃にLohja社のOlarinluoma工場で開始された。
ALDの学術的研究は1970年代にタンペレ工科大学(スントラもここで電子物理学を教えたことがある)で、1980年代にヘルシンキ工科大学で始まった。
産業アプリケーションとしては、TFELディスプレイの製造が1990年代まで唯一のものであった。新しいALDのアプリケーション研究開発を目的としてフィンランドの国営石油会社であるネステ社が設立したMicrochemistry社にて、1987年にスントラは光起電力素子や不均一触媒などの研究を始めた。
原子層堆積 歴史
1990年代、Microchemistry社は半導体向けアプリケーションとシリコンウェハー処理に適したALD装置の開発に舵を切った。1999年、Microchemistry社とALD技術は半導体製造装置大手であるオランダのASMインターナショナルに買収された。Microchemistry社はASMのフィンランド子会社であるASM Microchemistry社となり、同社は1990年代には商用としては唯一のALD装置製造メーカーであった。2000年代初頭にはフィンランドに蓄積されたALDのノウハウから、Beneq社とPicosun社という二つの新しいメーカーが誕生した。尚、後者Picosun社は1975年からスントラの親しい同僚であったスヴェン・リンドフォズが立ち上げた会社である。ALD装置メーカーの数はたちまちのうちに増えていき、半導体向け成膜はALD技術の産業アプリケーションのブレイクスルーとなった。これはALDがムーアの法則を継続するために必要な技術と考えられたからである。
2004年にトゥオモ・スントラは半導体アプリケーションへのALD技術開発に対しEuropean SEMI awardを受賞した。また2018年にはフィンランドのミレニアム技術賞を受賞している。
原子層堆積 歴史
ML:分子積層とALE:原子層エピタキシの開発者たちは、1990年フィンランドのエスポーで開催された第一回原子層エピタキシ国際会議「ALE-1」の場で顔を合わせている。にもかかわらず、英語話者が圧倒的多数を占めて成長し続けるALDコミュニティ内では分子積層の知識は周辺的なものとして扱われてきた。2005年にあるALDについての科学総説論文で分子積層研究の幅広さを明らかにしたことでようやく脚光を浴びるようになったのである。
ALE:原子層エピタキシに代わってCVDのアナロジーであるALD:原子層堆積(Atomic Layer Deposition)という呼称を提案したのはヘルシンキ大学教授のMarkku Leskeläである。フィンランド・エスポーでのALE-1会議で提案されたものの、その名前がアメリカ真空学会によるALDについての一連の国際会議から始まって、一般に受け入れられるまでにはおよそ10年かかった。
原子層堆積 表面反応のメカニズム
典型的なALDプロセスでは、基板はガス反応体（プリカーサ）AとBに順番に、反応体同士が互いに混合しないように暴露される。薄膜成長が安定した状態で進行する化学気相成長(CVD)のような他の成膜技術と異なり、ALDでは各々の反応体が基板表面と自己制御的に反応する。反応体分子は表面の決まった数の反応性部位としか反応しないためである。
表面の反応性部位が全て反応体Aで埋められると、膜成長は止まる。残ったA分子は排出され、今度は反応体Bが導入される。AとBに順番に暴露されることで薄膜が堆積していく。従ってALDプロセスと言った時には、それぞれのプリカーサの供給回数(基板表面に1種類のプリカーサが暴露される回数)とパージ回数(供給と供給の間に余剰プリカーサを排出する回数)の両方を指し、二成分の供給-パージ-供給-パージの連続がALDプロセスを構成する。また、ALDの場合には成長率、いわゆるデポレートの考え方よりもむしろサイクルあたりの成長という観点から説明される。
ALDでは、各反応ステップにおいて十分な時間が確保されれば、全ての表面反応性部位に対しプリカーサ分子が完全に吸着すると考えられ、それが達成されればプロセスは飽和状態となる。このプロセス時間はプリカーサの圧力と固着確率の二つの要因に依存する。
原子層堆積 表面反応のメカニズム
そのため、単位表面積あたりの吸着率は以下のように示される。
– 吸着率
– 固着確率
– 入射分子の流束
しかしALDの重要な特性として、Sは経時により変化する。プリカーサ分子が表面に吸着すればするほど、固着確率は低下し、やがて飽和に達するとゼロになる。
具体的な反応メカニズムは個別のALDプロセスに強く依存する。酸化物、金属、窒化物、硫化物、カルコゲン化物、フッ化物を成膜する数百のプロセスが可能となっており、ALDプロセスの機構的側面の解明は研究が盛んな領域である。代表的な例を以下に示す。
様々なプロセスが発表されている中で、トリメチルアルミニウム(TMA)と水によるアルミナ( Al2O3 )の成膜は比較的よく知られている。 Al2O3 の自己制御的成長は、室温から300℃以上まで、幅広い温度領域で実施可能である。
プリカーサの供給中、TMAは基板表面に解離吸着し、余剰のTMAは排出される。TMAの解離吸着により表面はAlCH3で覆われる。次に基板表面は水蒸気に暴露され、 H2O は表面の –CH3 と反応して副生成物のメタン(CH4 )を作り、表面にヒドロキシル化した Al2O3 が残る。
原子層堆積 表面反応のメカニズム
脱離反応による金属ALDは一般的に金属フッ化物などのハロゲン元素で官能基を持った金属がシリコンプリカーサと反応して起こる。フルオロシランを使った金属成膜としては、タングステンやモリブデンが一般的である。これらの金属を使った脱離反応は発熱性が高いためである。タングステンALDでは、最終パージ前には基板表面はSi-HとW-Fで構成されており、プリカーサABの各反応サイクルごとに直線的なデポレートが観察される。タングステンALDの典型的なサイクルあたり成長率は4〜7オングストロームであり、典型的な反応温度は177℃〜325℃である。タングステンALDにおいて、2つの表面反応、及びALDの全プロセスを以下に示す。その他のALD金属成膜も基本的にフルオロシラン脱離反応であれば同様の反応順序である。
表面での主な反応:
WSiF2H* + WF6 → WWF5* + SiF3H (7)
WF5* + Si2H6 → WSiF2H* + SiF3H + 2H2 (8)
全体のALD反応:
WF6 + Si2H6 → W + SiF3H + 2H2 ∆H = -181kcal (9)
原子層堆積 アプリケーション
ALDのアプリケーションは非常に多岐にわたる。主要な分野はマイクロエレクトロニクスとバイオメディカルであり、その詳細を以下に述べる。
様々な材料を使って高品質な成膜ができることに加え、正確な膜厚と均一な表面制御ができるため、ALDはマイクロエレクトロニクス製造において有用なプロセスである。マイクロエレクトロニクス分野では、ALDはhigh-k（高誘電率）ゲート酸化膜、high-kメモリキャパシタ絶縁膜、強誘電体、また電極・配線用途の金属及び窒化物の成膜に有望として検討されている。超薄膜の制御が重要となるhigh-kゲート酸化膜では、ALDはデザインルール45nmの世代から広く使われ始めるとみられる。メタライゼーションではコンフォーマルな成膜が必要とされ、現段階では65nmノードからALDが主流となることが期待される。DRAMではコンフォーマル性への要求は更に高く、100nm以下のサイズになるとALDが唯一の方法である。磁気記録ヘッドやMOSFETゲートスタック、DRAMキャパシタや不揮発強誘電体メモリその他の様々な製品がALD技術を使用している。
原子層堆積 アプリケーション
high-k酸化物のAl2O3、ZrO2、HfO2の成膜は、ALDで最も広く試されている領域である。high-k酸化物の要求は、MOSFETに広く使われている SiO2 ゲート絶縁膜が1.0nm以下まで微細化した際に発生するトンネル電流が問題になるためである。high-k酸化物であれば、より厚いゲート絶縁膜であっても静電容量の要求を満足できるため、構造上トンネル電流を低減できる。インテルは45nmCMOS技術においてhigh-kゲート絶縁膜成膜にALDを使っていると報告している。
窒化チタンや窒化タンタルといった遷移金属窒化物はバリアメタルやメタルゲートとして有望である。バリアメタル層は現代の銅ベースの半導体チップに、Cuが絶縁体やシリコン基板などの周囲の素材に拡散すること、また逆にあらゆる銅配線周囲の絶縁体からのCuへの元素拡散汚染を防ぐために使われている。バリアメタルには、高純度、緻密さ、導電性、コンフォーマル性、薄い、金属や絶縁体と密着性が良いなどの厳しい特性が求められるが、プロセス技術の観点からはALDで対応可能である。窒化物ALDにおいて最も研究されているのは、塩化チタンとアンモニアで成膜した窒化チタンである。
金属ALDの用途は以下の通りである。
原子層堆積 アプリケーション
磁気記録ヘッドでは、微粒子を着磁させハードディスク上に磁化パターンを形成するために電界を利用している。Al2O3 ALDは絶縁体の均一薄膜形成に使われている。ALDを使うことで、高精度で絶縁膜厚をコントロールすることができる。これにより更に高精度なパターン形成ができ、より高品質なレコーディングが可能となる。
Dynamic random-access memory(DRAM)キャパシタもALDのアプリケーションの一つである。個々の DRAMセルは1ビットのデータを保存でき、それぞれ一つのMOSトランジスタとキャパシタから構成されている。メモリ密度を更に増大させるために効果的なキャパシタのサイズ低減に努力が払われている。静電容量に影響することなくキャパシタのサイズを変えるには、スタック型やトレンチ型キャパシタなどの異なるセル形態が使われている。トレンチ型キャパシタなどの出現と共に、これらのタイプのキャパシタ製造、特に半導体サイズ微細化に関わる問題が明らかになってきた。ALDはトレンチ形状を100nmより先に推し進めた。材料単層を成膜できる特性により、材料の多様なコントロールが可能となった。不完全な膜成長の若干の問題（主に不足もしくは基板が低温であったため）を例外として、ALDは絶縁膜やバリア膜などの薄膜形成に有効な手段である。
原子層堆積 アプリケーション
バイオメディカル分野において、特に人体に埋め込まれるデバイスについては、デバイスの表面特性を理解しかつ明示することは極めて重要である。素材はその表面において環境と反応するため、表面特性が素材と環境との適合性を大きく左右し、表面化学及び表面構造がタンパク質吸着、細胞相互作用、免疫反応に影響を及ぼす。
バイオメディカルでは現在、フレキシブルセンサ、ナノポーラス膜、高分子ALD、生体適合薄膜コーティング向けに使用がある。ALDは診査器具の光学導波管センサにTiO2を成膜するのに用いられている。また、衣類に組み込みアスリートの動きや心拍数を検知するなどフレキシブルセンサデバイスとしても有用である。ALDは低温成膜が可能なため、フレキシブル有機電界効果トランジスタの製造工程にも適用可能と考えられている。
ドラッグデリバリー、インプラント、組織工学といった分野に近年ナノポーラス材料が採用され始めている。ナノポーラス材料表面を他の方法ではなくALDで改質するメリットとしては、表面への吸着飽和と自己制御的な性質により、深く入り組んだ表面や境界面にも均一にコーティングできることである。ALDプロセスのコンフォーマル性の高いコーティングはナノポア内部を完全に被覆できるため、さらに孔径を小さくすることができ、特定の用途では有用となる可能性がある。
原子層堆積 アプリケーション
ALDの工程品質は、スムーズに、均一層を表面に形成しているかを種々のイメージング技術を用いてモニタリングできる。例えばSEM断面図やTEMによりミクロからナノスケールでの観察を行うことができる。観察像の倍率はALD層の評価品質に直結する。XRR（X-ray reflectivity：X線反射率法）は膜厚、密度、表面粗度などの薄膜特性を測定する技術である。SE（spectroscopic ellipsometry ：分光エリプソメトリ）は光学特性評価のツールであり、SEを用いて各ALD膜層間を測定することで、膜の成長率や材料特性を評価できる。
ALDプロセス中にこの器具を使用する（分光エリプソメトリその場観察と呼ばれる）ことで、プロセス中の膜成長率をより的確にコントロールできる。SEはXRRやTEMのようにプロセス終了後に膜評価をするよりプロセス中に行われることが多い。その他にも、RBS（Rutherford backscattering spectroscopy：ラザフォード工法散乱分光法）、XPS（X-Ray photoelectron spectroscopy：X線電子分光法）、AES（Auger electron spectroscopy：オージェ電子分光法）、４探針法などがALD成膜の品質管理に使用される。
原子層堆積 長所と限界
ALDは原子層レベルで膜厚の厳密なコントロールができる。また、異なる材料の複層構造も比較的容易に成膜できる。反応性の高さと精密さから、マイクロエレクトロニクスやナノテクノロジーのような、微細かつ効率的な半導体分野に極めて有用である。ALDは通常、比較的低温プロセスで運用されるため、生体サンプルのような脆弱な基板を用いるときに有用であり、熱分解しやすいプリカーサを使用する際にもメリットとなる。付き回り性に優れるため、粉末や複雑構造の形状物へも適用しやすい。
ALD工程は非常に時間がかかることが主な制約条件として知られている。たとえば酸化アルミの成膜はサイクルあたり0.11nm、時間当たりの標準的な成膜量は100～300nmである。ALDは通常マイクロエレクトロニクスやナノテクノロジー向けの基板製造に使われるため、厚膜形成は必要とされない。一般的にμmオーダーの膜厚が必要とされる場合には、ALD工程は成膜時間の面から難しいとされる。また材料的な制約として、プリカーサは揮発性でなくてはならない。かつ成膜対象物がプリカーサ分子の化学吸着に必要な熱ストレスに耐えられる必要がある。
原子層堆積 ALDの派生技術
プラズマALD（Plasma Enhanced ALD)。成膜にプラズマを援用することで、成膜をより低温で行える等のメリットがある。
分子層堆積法（Molecular Layer Deposition）。有機物ポリマーを膜材料とした成膜をALDプロセスで行う。超格子の製造などに使われる。
気相浸透法（Vapor Phase Infiltration)。有機ポリマーや繊維の奥までプリカーサを浸透させることで有機無機ハイブリッド材料を作る。
狂ったハート
「狂ったハート」（英語: Little Bit O' Soul, Little Bit Of Soul）は、1964年制作のイギリスの楽曲。
狂ったハート 概要
1964年、イギリスのシンガーソングライター、ジョン・カーターとケン・ルイスによって作詞・作曲された楽曲である。本作は元々イギリス・コヴェントリーのバンド、ザ・リトル・ダーリンによって録音され、1965年にフォンタナ・レコードから発売されたが、アメリカのガレージバンド、ザ・ミュージック・エクスプロージョンのカバーによってアメリカ国内で人気を博し、1967年にはレコード・ワールドトップ100・ポップ・チャートで第1位を獲得し、ビルボード誌ホット・100では第2位を獲得した。このシングルは100万枚の売り上げを記録したことにより、全米レコード協会（RIAA）によってゴールド・レコードに認定された。ザ・ミュージック・エクスプロージョンのカバーは、バートン・ブッチ・スタールによるその特徴的なエレキ・ベースのリフによって有名である。本作はシングルとして発売され、その後同名のアルバムに収録された。
狂ったハート 備考
JASRACに於いては2018年現在、外国作品／出典：PJ (サブ出版者作品届)   ／作品コード：0L1-8435-8 LITTLE BIT O SOUL として登録。「アーティスト」としてラモーンズ、アイアン・クロスが登録されている。
著作者はCARTER LEWIS (GB 1)、CARTER LEWIS (GB 2) “作詞作曲”とされており、ジョン・カーター（JOHN CARTER）とケン・ルイス（KEN LEWIS）の名義が折衷状態となっている。訳詞としてはVINCENT FOWLEY KIMが登録されている。
本作の出版者は、CARTER LEWIS MUSIC PUBLISHING CO LTDとSOUTHERN MUSIC PUBL CO INC。日本におけるサブ出版はピアーミュージックである。
コール (玉置浩二の曲)
「コール」は、日本のシンガーソングライターである玉置浩二の楽曲。
1993年1月30日にKitty Recordsから6枚目のシングルとしてリリースされた。前作「行かないで」（1989年）より3年2か月ぶりとなるシングルであり、作詞は須藤晃、作曲およびプロデュースは玉置が担当している。
シンプルな言葉とメロディで構成されたオーケストラによる楽曲であり、当時玉置の妻であった薬師丸ひろ子主演の東宝映画『ナースコール』（1993年）の主題歌として使用された。薬師丸は後にカバー・アルバム『Cinema Songs』（2016年）にて本作をカバーしている。
本作は玉置のソロ第2作となるアルバム『あこがれ』（1993年）からの先行シングルとしてリリースされ、オリコンシングルチャートでは最高位22位となった。同アルバムリリース後に玉置はSony Recordsに移籍したため、Kitty Recordsからのシングルリリースは本作が最後となった。
コール (玉置浩二の曲) 制作、音楽性
本作は玉置浩二のソロ第2作目となるアルバム『あこがれ』（1993年）からの先行シングルとしてリリースされた。同アルバムは安全地帯が同年に活動休止する前から長年録り溜めていた玉置のバラード集となっていた。玉置は当時自らによる作詞に意欲を示していたが安全地帯としてのデビュー以来作詞の経験は皆無であり、安全地帯の活動の合間を縫って同作の制作を続けてきたにも拘わらず、作詞が難航していたために完成が遅れる事態となっていた。結果として同作の作詞は「大切な時間（とき）」の1曲のみ玉置によるものとなり、それ以外の曲はすべて音楽プロデューサーである須藤晃が作詞を担当することとなった。
コール (玉置浩二の曲) 制作、音楽性
須藤は過去に浜田省吾、村下孝蔵、尾崎豊などのシンガーソングライターの作品を数多く手がけており、当時の玉置に関して須藤は「自分とは接点がない存在だと感じていた。彼らの移籍についても、まったく興味はなかった」と述べていた。しかし同作の制作が頓挫している事態を受け、プロデューサーである金子章平とスーパーバイザーである星勝の両名は玉置が求める歌詞の方向性を理解した上で、須藤を星の事務所に招き金子がデモテープを渡した事で同作の作詞を須藤が承諾することとなった。玉置は安全地帯時代とは異なり精神性を重視した言葉を追求していたことから、須藤による歌詞について「須藤さんの詞は抜群でしたね」と述べ絶賛した。安全地帯時代に作詞を手掛けていた作詞家の松井五郎は「浩二も須藤さんと出会って、すごく刺激になったと思うし、僕とは違う書き手のものを歌うことが、のちに自分で詞を書いていくことにもつながった」と述べている。
ベスト・アルバム『ALL TIME BEST』（2017年）の楽曲解説では、本作の編曲が前作に引き続き星勝と玉置による共作であることに触れた上で、本作の音楽性について「シンプルな言葉とメロディを感動的なオーケストレーションが盛り上げる」と表記している。
コール (玉置浩二の曲) リリース、メディアでの使用、チャート成績
本作は1993年1月30日にKitty Recordsより8センチCDとしてリリースされた。本作は当時玉置の妻であった薬師丸ひろ子が主演の東宝映画『ナースコール』の主題歌として使用された。カップリング曲の「大切な時間（とき）」はパナソニックのビデオカメラ「ブレンビー」のコマーシャルソングとして使用された。
本作の直後にリリースされた安全地帯のシングル「ひとりぼっちのエール」を最後に安全地帯は活動休止となり、玉置はその後音楽活動と俳優業の両方を行いながら同年8月にKitty RecordsからSony Recordsに移籍したため、Kitty Records在籍時において最後のシングルとなった。
本作はオリコンシングルチャートにて最高位22位の登場週数7回となり、売り上げ枚数は10.4万枚となった。本作の売り上げ枚数は玉置のシングル売上ランキングにおいて5位となった。2022年に実施されたねとらぼ調査隊による玉置のシングル曲人気ランキングでは7位となった。
コール (玉置浩二の曲) ライブ・パフォーマンス
1993年1月2日放送のテレビ朝日系音楽番組『タモリの音楽ステーション』（1992年 - 1993年）および同年1月29日放送の同局の音楽番組『ミュージックステーション』（1986年 - ）にて本作を歌唱した。『ミュージックステーション』においてはギター一本での弾き語りで披露した。
コール (玉置浩二の曲) カバー
薬師丸ひろ子 - アルバム『Cinema Songs』（2016年）に収録。薬師丸は災害や病気など苦しい環境や状況にいる人々へ曲に込められたメッセージを届けたいと思いカバーしたと述べている。薬師丸は2021年12月19日放送のNHK BSプレミアム音楽番組『The Covers』（2014年 - ）に出演した際も本作をカバーしており、「コロナ禍の今だからこそ、届けたいメッセージが詰まっている」とのコメントを残している。
北九州市立足原小学校
北九州市立足原小学校（きたきゅうしゅうしりつ あしはらしょうがっこう）は、福岡県北九州市小倉北区足原にある公立小学校。
ヴェルンドの歌
「ヴェルンドの歌」（Völundarkviða より正確には Vǫlundarkviða） は、古エッダの神話的な詩のひとつである。
ヴェルンドの歌 あらすじ
この詩は職人のヴェルンドの物語と関連しており、詩の中で彼は「妖精（アールヴ）の王子（vísi álfa）」あるいは「妖精のリーダー（álfa ljóði）」と呼ばれる。ヴェルンドはまた、フィンの王の3人の息子のひとりであると言及される。彼の妻ヘルヴォル・アルヴィトはヴァルキュリャで、9年後夫を捨て去り、その後ヴェルンドは、彼の黄金に目が眩んだニャーラル（スウェーデン）の小王ニーズスに捕らえられる。ヴェルンドは膝の腱を切られ、島にある王のための品を制作する工房へ入れられる。最終的にヴェルンドは逃げる方法を見つけ、ニーズスの息子を殺し、娘を妊娠させ、笑いながら飛び去る。
「ヴェルンドの歌」は、生き生きした描写を呼び起こすことに真価を認められる。
ヴェルンドの神話は、ゲルマン族のひとびとの間に広く知られていたようである。この物語は『シズレクのサガ（ヴェーレントの話）』とも関連しており、古英語詩「デオールの嘆き」の中でも言及されている。また、7世紀のアングロ・サクソン族のフランクスの小箱のパネルの1つと、ゴトランド島にある8世紀のアードレの絵画石碑VIIIに描かれている。
この詩は王の写本の神話詩の中に完全に保存されているほか、散文による序詞がAM 748 I 4to断片にも見られる。
ヴェルンドの歌 出典
翻訳元
ベンジャミン・ソープ(翻訳) (1866). Edda Sæmundar Hinns Froða: The Edda Of Sæmund The Learned. (2 vols.) London: Trübner & Co. 1866. Reprinted 1906 as Rasmus B. Anderson & J. W. Buel (Eds.) The Elder Eddas of Saemund Sigfusson. London, Stockholm, Copenhagen, Berlin, New York: Norrœna Societ. Available online at Google Books. Searchable graphic image version requiring DjVu plugin available at University of Georgia Libraries: Facsimile Books and Periodicals: The Elder Eddas and the Younger Eddas.
翻訳
「ヴェルンドの歌」の完訳を収録。
江上美芽
江上 美芽（えがみ みめ、1957年 - ）は、日本のコーディネーター。ウェルタイム・コーポレーション代表取締役、ユタ大学薬学・薬剤化学部併任教授。
東北大学先進医工学研究機構アドバイザー、東京女子医科大学先端生命医科学研究所客員教授、オービック取締役等を歴任。
科学技術振興機構イノベーションコーディネータ賞・奨励賞受賞。
江上美芽 人物・経歴
1981年一橋大学経済学部卒業、三菱銀行（現三菱UFJ銀行）入行。大学では山澤逸平ゼミに所属。シティバンクやプルデンシャル・ファイナンシャル、カナダ帝国商業銀行で、国際金融工学部門ディレクターや資本市場部長などを務めたのち、1996年に独立し、製薬関連アドバイザリーのウェルタイム・コーポレーション代表取締役となる。
1998年ABNアムロ銀行投資銀行本部医薬・化学担当部長。同行法人金融本部ヘルスケア部長を経て、2005年東北大学先進医工学研究機構ストラテジー・アドバイザー。2006年東京女子医科大学先端生命医科学研究所客員教授。2012年一橋大学大学院経済学研究科非常勤講師。2015年、国立研究開発法人新エネルギー・産業技術総合開発機構監事、ユタ大学薬学・薬剤化学部併任教授。2023年オービック取締役。
江上美芽 人物・経歴
東京女子医科大学先端生命医科学研究所チーフメディカルイノベーションオフィサー等を務め、産学連携により再生医療の本格化に向けた最先端技術融合拠点の形成を実現するなどし、科学技術政策研究所科学技術への顕著な貢献 2009 （ナイスステップな研究者）（プロジェクト・産学連携・国際研究交流部門）。2010年科学技術振興機構イノベーションコーディネータ賞・奨励賞受賞。
一般財団法人化学及血清療法研究所アドバイザー、一般社団法人細胞シート再生医療推進機構理事、文部科学省科学技術・学術審議会イノベーション対話促進作業部会委員、経済産業省産業構造審議会再生医療等製品の特許権の存続期間検討WG委員等を歴任。
郭槐
郭 槐（かく かい、237年 - 296年）は、中国三国時代の魏から西晋の女性。賈充の継室。字は媛韶。別名は玉璜。并州太原郡陽曲県の人。父は郭配。伯父は郭淮・叔父は郭彰。子は賈黎民・男子・賈南風（恵帝の皇后）・賈午。宜城君。
郭槐 生涯
城陽太守の郭配の娘として生まれた。甘露2年（257年）、21歳のときに20歳年上の賈充に後妻として嫁いだ。
嫉妬深い性格で、夫との間に二男二女をもうけるが、長男の賈黎民が乳母に抱かれ賈充にあやされたのを見て、乳母が夫と私通していると疑い、鞭打って殺した。3歳の賈黎民は乳母に懐いていたので、乳母を思うあまり泣き続け発病して死んでしまった。さらに次男を産んだが、これも乳母を嫉妬した挙げ句に殺したため、次男は乳母を思うあまり発病して死んでしまった。この後、賈充と郭槐の間に男児は生まれず、2人の娘（賈南風と賈午）だけが順調に成長した。
李豊の娘の李婉は賈充の先妻である。李豊が謀反の罪で司馬師に殺害されると、李婉も連座して流罪となった。西晋が成立すると、大赦が行われ、魏で司馬氏に粛清された一族にも復権が認められた。武帝は賈充の功績に配慮して李氏を呼び戻し、2人の正室を置くよう詔を下した。しかし、郭槐が賈充の胸ぐらを掴んで反対したため、恐妻家の賈充はそれを固辞した。賈充が外出する際は召使いに彼を探させ、常に賈充が李婉と会うのを恐れた。
皇后楊艶の侍従に賄賂を贈り、自らの娘を太子妃にするよう工作した。
郭槐 生涯
郭槐はたびたび先妻李婉のもとを訪ねようとするが、賈充が彼女の才能は李婉に及ばないと思うからと理由をつけて断っていた。泰始8年（272年）、長女の南風が太子妃に立てられた時、郭槐は居丈高に着飾って李婉の屋敷に出向いた。しかし、李婉が迎えに出た際、郭槐は李婉の気品に圧倒され、思わず膝をついて拝礼を行ってしまったという。(「郭槐自屈」世説新語賢媛篇）
太康3年（282年）、賈充が死去した。跡継ぎがないため、郭槐は強引に外孫の韓謐を死児賈黎民の養子とした。礼制では異姓の養子がタブーとされていたので周囲が反対したが、郭槐は夫の遺志であると武帝に上奏した。武帝は賈充の功績に免じて特例で後継者として認めた。
恵帝が即位すると、皇后賈南風の母として広城君に封じられる（のち宜城君に改封される）。賈氏一門は一時権勢を誇ったが、郭槐は娘に皇子が生まれなかったことを心配し、皇太子である司馬遹を尊重した。また賈南風へ司馬遹を実子のように育てるように勧めたが、皇后はそれを聴かなかった。その後、孫娘（賈午の娘）を司馬遹の妃に立てることを望んだ。しかし、賈皇后と賈午は許可しなかった。
元康6年（296年）に死去。臨終の際、賈皇后の手を握って涙を流し「皇太子司馬遹を大事にするように、趙粲と賈午は必ず遠ざけるように」と遺言を残す。悪妻として知られたが、朝廷から宣という良い諡号を与えられたため、当時の人々は陰で嗤った。
Reunion 〜Once Again〜
「Reunion 〜Once Again〜」（りゆにおん）は、今井麻美の18枚目のシングルとして2016年10月26日に5pb.Recordsから発売された。
Reunion 〜Once Again〜 概要
表題曲「Reunion 〜Once Again〜」は、2016年10月13日発売のPS Vitaゲーム『プラスティック・メモリーズ』のエンディングテーマに使用された。
カップリングの「Fanfare!」には、スマホゲーム『A lot of Stories』の主題歌に使用された。
素波里峡
素波里峡（すばりきょう）は、秋田県山本郡藤里町にある渓谷。藤里峡の一つ。2004年に指定された秋田白神県立自然公園に含まれている。白神山地の核心地域に源流部を持つ粕毛川上流にある渓谷。「藤里町」の名前の2字目にある「里」は、「素波里」の「里」から取っている。
素波里峡 概要
素波里峡は、かつては深く切り込んだV字型の変化に富んだ渓谷であったが、昭和45年に県営素波里ダムの建設により、その姿の大部分がダム湖に沈んでいる。かつて素波里は、秋田魁新報社が主催する1952年(昭和27年)6月20日の第一回秋田県観光三十景(有効投票約百九十五万票)で第17位(四万千八百四十三票)に選出されたが、その対象も多くがダム湖に沈んでいる。
素波里湖上流部の渓谷や湖岸の急峻な断崖と湖水が深く入り込んだ複数の谷の光景は素波里峡の姿を映している。また、素波里ダム下流にある素波里神社からはV字型の深い谷と素波里不動の滝が眺められ、かつての素波里峡の面影をみることができる。
素波里峡 概要
ダム湖の湖畔は、素波里国民休養地に指定されている。右岸中央部付近は、ふるさと自然公園素波里園地となっており、ふるさと自然公園センターや駐車場、キャンプ場、グラウンドゴルフ場、大型遊具がある冒険広場などが設けられている。
林野庁東北森林管理署では、湖岸一帯の山々を素波里ダム風景林として、また、ダム湖上流部にある独鈷森（標高583ｍ）を独鈷森風景林に指定している。素波里園地からのびる林道は、藤里駒ケ岳の樺岱登山口と小岳登山口にそれぞれつながっており、白神山地登山の秋田側のひとつの入口となっている。素波里ダム湖までは秋田県道322号きみまち阪公園素波里湖線が通っている。湖畔には、米代フォレストライン（森林基幹道米代線）が通っていて、東北方向には湯ノ沢温泉郷、南西方向には能代市から八峰町へつながっている。
素波里峡にも、江戸時代の旅行家、菅江真澄が訪れており、素波里神社の境内には、その時に不動の滝を詠んだ和歌の歌碑が設置されている。菅江真澄は素波里神社付近で『山ふかき　たきのかげみち　行人の　ぬれて涼しく　麻のさごろも』と歌っている。
素波里とはこの地方の方言で「すぼまって狭い」という意味であるり、藤里峡の奥にも素波里という地名がある。素波里園地の住所は粕毛字南鹿瀬内である。米代フォレストラインの素波里園地からの手前のトンネルは鹿瀬内トンネルという。大正時代の素波里渓谷の国有林には鹿瀬内国有林と名前がついている。また藤里駒ヶ岳は「カセ内嶽」や「カセナイ」と名付けられた絵図がある。
船橋梨子
船橋 梨子（ふなばし りこ、1986年1月28日 - ）は、日本のタレント、グラビアアイドル、レースクイーン。東京都出身。
船橋梨子 人物・エピソード
趣味は近代世界史（特に第一次世界大戦）について調べること。
駅伝観戦が好きで特に10000m走の大会や記録会を観戦に行くほどで推しは駒澤大学と城西大学。実業団ではコニカミノルタ。
ゆるキャラマニア。特にねば〜る君が好きで追っかけをしている。
特技は中距離走。何時間でも走れる。デッサン。水彩画では学生時代に幾つかの賞を受賞。
船橋梨子 出演
レースクイーン
鈴鹿8耐MIIRジーテックギャル（2011年）
スーパー耐久 ピースモータースポーツ（2013年・2016年）
ラウンドガール
グラジエーター（2010年）
DEEP（2012年）
服部波山
服部 波山（はっとり はざん、文政10年（1827年）‐明治27年（1894年）9月10日）とは江戸時代から明治時代にかけての文人画家。
服部波山 略歴
文政10年、新石下村（現在の常総市新石下）の服部家に生まれる。後に江戸へ出て転々とした生活を歩み、上野広小路の鰻屋の養子となったこともあった。名は兼蔵のちに謙蔵。寒松堂、波山山人、波山樵者と号す。江戸の根岸に住む。幼時より読書が好きであったため、自宅裏の相田某という学者に入門、22，23歳のころには師も舌を巻くほど、詩文に長じ、書もよくした。あるとき、渡辺崋山の絵をみて山水画を描きたくなり、画家をめざす。明治に入って下谷にいた饗庭篁村に人物画を師事した後、渡辺崋山、山本梅逸の画風または唐画を習い、山水画を得意として、滝和亭、奥原晴湖らとともに南画のひとりとして知られた。信濃国や紀伊国などを旅行しながら自然を描いた。また、明治中期になってもチョン髷をきらずにいて、大沼枕山、中根半嶺、山本龍洞らと交遊したほか、高橋応真らに漢籍を教えた。享年68。駒込光源寺に葬られた。法名は徳水院仁誉波山居士。
矢口正喜
矢口 正喜（やぐち まさよし、宝暦9年（1759年） - 文政2年6月18日（1819年8月8日））は江戸時代中後期の上野国八幡八幡宮神職。俳諧・和算・医学・心学に通じた。
矢口正喜 経歴
子孫矢口米三が参道沿いの屋敷内に建てた矢口丹波記念文庫には正喜の筆写資料が数多く所蔵され、その名乗りや関心の変遷を追うことができる。
宝暦9年（1759年）上野国八幡八幡宮神職矢口家7代目並保の子として生まれた。10代には林之助（祐）重斯と名乗り、『天草軍談』『慶安太平記』『箕輪軍記』等の実録物を好んで筆写した。安永7年（1778年）から主殿と称し、また花鳥（花蝶）の号も用いた。
天明元年（1781年）9月頃重斯から重友に改名した。平花庵生方雨什等高崎の俳人と盛んに交流し、天明3年（1783年）4月20日羽鳥一紅の来訪を受けている。天明7年（1787年）板鼻村小野栄重から算額の奉納を受け入れ、この頃から和算に傾倒した。天明8年（1788年）頃重栄に改名した。
寛政4年（1792年）頃には荻生徂徠著書を多く筆写している。寛政7年（1795年）から正喜の名が見える。寛政12年（1800年）医書の筆写を始め、地元の医療に貢献した。享和3年（1803年）頃から心学に傾倒した。この頃、名を正喜から重友に戻したか。文化5年（1808年）父並保の死去により丹波の称を継ぎ、名も正喜に復した。
文政2年（1819年）6月18日61歳で死去した。
矢口正喜 矢口家
本姓は藤原氏。西毛出身。初代三浦茂尊（天正8年（1580年）没）は小屋城主越前守春継に仕えたが、永禄11年（1568年）武田信玄に攻略された後、下板鼻八幡宮に落ち延び、ニノ祢宜矢口家の養子となったという。
玉川蓮
玉川 蓮（たまがわ れん、1998年4月4日 - ）は、日本の俳優。
東京都出身。フライングボックス所属。
小林久平
小林 久平（こばやし きゅうへい、1875年4月23日 - 1954年2月7日）は、明治-昭和期の日本の化学者。
小林久平 経歴・人物
新潟県に生まれる。東京帝国大学卒。同大学の講師、宝田石油技師を経て、1918年に早稲田大学教授となる。石油精製に使われる酸性白土の発見および研究で知られる。「酸性白土」の命名も小林が行っている。1935年工業化学会有功賞、1953年日本化学会功績賞受賞。
化学機械協会（現: 公益社団法人化学工学会）の初代会長（1936年-1938年）を務めた。
柴田俊一
柴田 俊一（しばた としかず、1924年3月6日 - 2009年4月26日）は、日本の原子炉工学者。京都大学名誉教授。元京都大学原子炉実験所（現：京都大学複合原子力科学研究所）長。元近畿大学原子力研究所長。文部省科学官、日本学術会議原子力特別委員長、同研究連絡委員長、原子力委員会参与等を歴任した。兵庫県出身。
柴田俊一 略歴
1941年旧制神戸村野工業学校卒業。旧制神戸高等工業学校（現：神戸大学工学部）精密機械科を卒業した後、川崎航空機で軍用輸送機の設計に従事する。1944年軍隊に入隊。陸軍技術少尉。終戦後、陸軍航空技術将校として公職追放処分となったため家業を継ぐつもりだったものの、大学の再開に伴い大阪大学工学部電気工学科に入学する。1949年（昭和24年）電気工学科卒業。1957年4月に大阪大学大学院工学研究科に原子核工学専攻が設置され、同年6月1日に電気工学第二講座の助手から原子炉工学講座の助教授に異動する。1959年3月から1年間在外研究員としてミシガン大学に留学し、ミシガン大学炉で運転員として実地訓練を積む。1961年9月1日京大炉 (KUR) 本体の建設に携わるため京都大学工学研究所（現：京都大学エネルギー理工学研究所）教授に転出する。1963年4月1日原子炉実験所の設置に伴い京都大学原子炉実験所教授となる。1972年4月1日～1980年3月31日京都大学原子炉実験所長。1987年京大定年退官、4月京都大学名誉教授。同年10月近畿大学原子力研究所長。
呉城久美
呉城 久美（くれしろ くみ、9月30日 - ）は、日本の女優。
大阪府東大阪市出身。清風南海中学校・高等学校、京都大学法学部卒業。
呉城久美 略歴
芝居を始めたのは遅く、大学在学中にたまたま見た参加者募集のチラシをきっかけに劇研アクターズラボの公演クラスで演技を学んで初舞台に立ちその刺激に魅了され、インターネット上で見つけた団員募集から2011年に24歳で劇団悪い芝居に入団して、京都を拠点に各地で舞台作品に中心に活動を開始。2013年には悪い芝居vol.15『春よ行くな』での演技により同年下半期「関西Best Act」の役者部門にて初ノミネートで1位となるなど、急成長を遂げる。
2016年11月末にて約6年間在籍した劇団悪い芝居を退団し、活動拠点を東京に移して2017年1月より芸能事務所ジャングルに所属。映像作品にも進出し、2016年度後期のNHK連続テレビ小説『べっぴんさん』に「キアリス」の社員役で出演し 朝ドラ初出演、2018年度後期の連続テレビ小説『まんぷく』ではヒロイン福子の友人役を演じる。京大卒ということからクイズ番組への出演も増えている。
呉城久美 人物
身長165cm。スリーサイズはB85cm、W65cm、H87cm。靴のサイズは23.5 cm。
特技はバレーボール（3年）、甘酒作り、和菓子作り。
気象キャスターの福岡良子は清風南海中学校・高等学校の同級生。
呉城久美 出演
ヨーロッパ企画
ヨーロッパ企画presents『ハイタウン2014』 コメディ実験室 Bプログラム 「車コメディ」（2014年5月、元・立誠小学校、脚本・演出：村上慎太郎）
イエティ『スーパードンキーヤングDX』（2020年1月 - 2月、小劇場B1、AI・HALL、作・演出：大歳倫弘）
イエティ『逆張ヶ浜に夕陽が落ちる』（2024年2月、THEATRE E9 KYOTO、新宿シアタートップス、作・演出：大歳倫弘）
ヨーロッパ企画『インターネ島エクスプローラー（仮）』（2025年12月 - 2026年3月〈予定〉、栗東芸術文化会館SAKIRA 中ホール 他、作・演出：上田誠）
鈴木一夫 (評論家)
鈴木 一夫（すずき かずお、1935年 - ）は、日本の文筆家。歴史家。
鈴木一夫 (評論家) 略歴
新潟県生まれ。新潟大学人文学部卒業。
1960年、出版社に入社し、社会科学分野の書籍編集に従事。
1986年、出版プロダクションを設立。1990年頃より個人として、雑誌寄稿・書籍原稿執筆を開始する。
名誉指導員
名誉指導員（めいよしどういん）とは、スポーツや登山振興団体等で指導者として一定の功労ある人物に贈られる資格であり称号。名誉称号・資格称号の一つ。類似するものとして功労指導員、名誉コーチなどがある（本項で解説）。
名誉指導員 名誉指導員
日本赤十字社などでは、同社が社員や国民に対し、行っている講習の指導員として功績のあった者に対し名誉指導員の称号を授与している。
スポーツ団体における名誉指導員の資格はソフトテニス等の分野で見られる。日本国内では日本ソフトテニス連盟の傘下団体で都道府県別で名誉指導員会が組織され、長年、テニス指導に功績のあった者が入会し親睦活動する例がある。
また、登山振興を図る日本山岳協会で名誉指導員を定めており、一例として元朝日新聞編集委員で大阪国際女子大学教授、探検家の藤木高嶺らがいる。
名誉指導員 名誉コーチ
ラグビーワールドカップでイングランドを世界一に導いたジョニー・ウィルキンソンは2004年7月8日、日本への訪問の中で早稲田大学の求めに応じて同大学ラグビー部員への指導を行い、同大学より名誉コーチの称号を贈られた。
フラックス洗浄
フラックス洗浄（フラックスせんじょう、Defluxing）とは、エレクトロニクス製造工程において行われるはんだ付けの際に副生成物として残るフラックス残渣の除去工程である。
フラックス洗浄 概要
はんだ付けにおいてフラックスの役割は、溶融した液相のはんだが対象面（銅など）に対して濡れ広がるように、対象面の酸化膜を除去することである。はんだ付け工程が終わると洗浄工程がない限りフラックスの残渣がはんだ付け部に残存する。この残渣が製造工程上もしくはデバイス性能上悪影響を及ぼす際には洗浄除去する必要がある。
フラックス洗浄 フラックス洗浄が必要なアプリケーション
密着性確保
フラックス残渣がワイヤ・ボンディングや樹脂封止（モールディング）、コンフォーマルコーティングの密着性を阻害するため除去が必要とされる。
マイグレーション対策
従来フラックスはその要求される性能から腐食物質であり、残存することで吸湿しデンドライトを形成しエレクトロケミカルマイグレーションの原因となる。
パーティクル対策
半導体のクリーンルームに入る装置に使われる基板では、フラックス残渣がパーティクルの原因になるため除去されているケースがある。
リーク対策
半導体の検査装置など、非常に敏感な精度を要求される場合、通常なら問題にならないごく微小なリークがフラックス残渣由来で発生することがある。
外観
フラックス残渣があると汚く見える・目視検査を阻害するなどの理由で洗浄することがある。