జింకు ఆక్సైడ్
జింకు ఆక్సైడ్ అనునది ZnO ఫార్ములా కలిగిన అకర్బన సమ్మేళనం. ఇది తెల్లని చూర్ణం. ఇది నీటిలో కరుగుతుంది. దీనిని రబ్బర్లు, ప్లాస్టిక్లు, సిరామిక్స్, గాజు, సిమెంటు, కందెనలు, రంగులు, ఆయింట్‌మెంట్లు, జిగుర్లు, పిగ్మెంట్లు, ఆహారపదార్థాలు, బ్యాటరీలు, ఫెర్రైట్లు, అగ్ని నిరోధకాలు, ప్రథమ చికిత్స టేపులు మరియు ఇతర రసాయన ఉత్పత్తులలో వాడుతారు. ఇది ప్రకృతిలో "జింకైట్" అనే ఖనిజం ద్వారా లభ్యమవుతుంది. దీని నుండి జింకు ఆక్సైడును కృత్రిమంగా ఉత్పత్తి చేస్తారు. ZnO అనునది II-IV అర్థవాహక వర్గంలో శక్తి అంతరం ఎక్కువగా ఉన్న అర్థవాహకం. దీనిలో ఆక్సిజన్ ఖాళీలు ఉండడం వలన లేదా జింకు మధ్యంతరాలు ఉండడం వలన n-రకం అర్థవాహకాలను తయారుచేయుటకు "మాదీకరణం" ("doping") చేస్తారు. ఈ అర్థవాహకాలు అనేక అనుకూల ధర్మాలను కలిగి ఉండి మంచి కాంతి పారదర్శక పదార్థంగా, ఎలక్ట్రాన్ ప్రవాహిగా, ఎక్కువ శక్తి అంతరం కలిగిన పదార్థంగా మరియు గది ఉష్ణోగ్రత వద్ద గట్టి పదార్థంగా ఉంటుంది. ఈ ధర్మాలు అభివృద్ధి చెందుతున్న కొన్ని అనువర్తనాలకు ఉపయోగపడతాయి. అవి ద్రవ స్పటికాలలో పారదర్శక ఎలక్ట్రోడులుగా, విద్యుత్ పొదుపులోనూ, ఉష్ణ నిరోధక కిటికీలలోనూ మరియు ఎలక్ట్రానిక్స్ లో పలుచని ఫిలిం ట్రాన్సిస్టరులుగానూ, కాంతి ఉద్గారక డయోడు (LED) లలో ఉపయోగపడతాయి.
స్వచ్ఛమైన ZnO తెల్లని చూర్ణం. కానీ ఇది ప్రకృతిలో అరుదైన ఖనిజమైన "జింకైట్" నుండి లభిస్తుంది. జింకైట్ ధాతువు సాధారణంగా మాంగనీస్ మరియు ఇతర మలినాలను కలిగి ఉండి పసుపు నుండి ఎరుపు రంగులలో ఏదో ఒక రంగుగా కనిపిస్తుంది.
స్పటికీకృత జింక్ ఆక్సైడ్ ధర్మోక్రోమిక్ ధర్మాన్ని (ఉష్ణోగ్రత పెంచితే రంగు మారే గుణం) కలిగి ఉండి సాధారణంగా తెలుగు రంగులో ఉన్న జింకు ఆక్సైడ్ వేడిచేసినపుడు పసుపు రంగులోకి మారుతుంది. చల్లారిస్తే తిరిగి తెలుపు రంగులోనికి మారుతుంది. ఈ రంగు మారుటకు కారణం ఎక్కువ ఉష్ణోగ్రత వద్దల వద్ద వాతావరణంలో ఆక్సిజన్ కొద్దిగా తగ్గడం. నాన్ స్టైకోమెట్రిక్ ZnO రూపంలో 800 °C, x = 0.00007. వద్ద పసుపు రంగులోనికి మారుతుంది.
జింకు ఆక్సైడు అస్వభాయుత ఆక్సైడ్. ఇది నీటిలో కరుగదు కానీ ఉదజహరికామ్లము (హైడ్రోక్లోరికామ్లము) వంటి అనేక ఆమ్లాలలో కరుగుతుంది. 
ఘన రూపంలో గల జింకు ఆక్సైడు క్షారయుత ద్రావణాలలో కరిగి కరిగే జింకైట్లను ఏర్పరుస్తుంది:
జింకు ఆక్సైడ్ నూనెలలో గల క్రొవ్వు ఆమ్లాల (ఫాటీ అమ్లాలు) తో నెమ్మదిగా చర్య జరిపి ఓలెయేట్ లేదా స్టియరేట్ వంటి సంబంధిత కార్బోహైడ్రేట్లను ఏర్పరుస్తుంది. ZnO జింకు క్లోరైడ్ యొక్క బలమైన క్షారయుత ద్రావణాలతో కలసినపుడు సిమెంటు వంటి ఉత్పత్తులను ఏర్పరుస్తుంది. ఇవి జింకు హైడ్రాక్సీ క్లోరైడ్లుగా ఉత్తమంగా వివరించబడ్డాయి. ఈ సిమెంటును దంతవైద్యము (డెంటిస్ట్రీ) లో ఉపయోగిస్తారు. 
ZnO ఫాస్పారికామ్లముతో చర్య జరిపి సిమెంటు వంటి పదార్థాన్నిస్తుంది. ఈ పదార్థం కూడా దంతవైద్యములో ఉపయోగిస్తారు. జింకు ఫాస్పేటు సిమెంటులో ముఖ్యమైన అనుఘటకం హోపైట్, Zn(PO)·4HO తో చర్యవల్ల ఉత్పత్తి అవుతుంది.
ZnO సాధారణ ఆక్సిజన్ పీడనం మరియు 1975 °C ఉష్ణోగ్రత వద్ద రసాయన వియోగం చెంది జింకు అవిర్లను మరియు ఆక్సిజన్ ను ఏర్పరుస్తుంది.
కార్బోథెర్మిక్ చర్యలలో ఇది కార్బన్ తో మండించినపుడు ఆక్సైడ్ నుండి జింకు ఆవిరిగా మారుతుంది. ఇది తక్కువ ఉష్ణోగ్రత (సుమారు 950 °C) జరుగుతుంది. 
జింకు ఆక్సైడు అల్యూమినియం మరియు మాగ్నీషియం చూర్ణాలతో, క్లోరినేటెడ్ రబ్బరు మరియు లిన్‌సీడ్ ఆయిల్ వంటి వాటితో దారుణంగా చర్యజరుపుతుంది. దీని ఫలితంగా అగ్ని ప్రమాదాలు జరుగుతాయి.
ఇది హైడ్రోజన్ సల్ఫైడ్ తో చర్యపొంది జింకు సల్ఫైడ్ ఏర్పరుస్తుంది. ఈ చర్య వాణిజ్యపరంగా ఉపయోగపడుతుంది.
జింకు ఆక్సైడు స్ఫటిక రూపంలో రెండు రూపాలలో లభిస్తుంది. అవి షట్కోణీయ "వుల్ట్‌జైట్" మరియు ఘనాకార "జింకు బ్లెండు". వుల్ట్‌జైట్ నిర్మాణం అతి స్థిరమైనది. ఘనాకార లాటిస్ నిర్మాణంలో అడుగు పొరలపై ZnO ఎక్కువగా చేరడం వలన జింకుబ్లెండు స్థిరత్వాన్ని పొందుతుంది. ఈ రెండు నిర్మాణాలలో కూడా అది టెట్రాహైడ్రల్ ఆకృతిని కలిగి ఉంటుంది. ఇది ముఖ్యమైన Zn(II) ఒక్క జ్యామితీయ నిర్మాణం. ZnO 10 GPa పీడనం వద్ద రాక్ సాల్ట్ గా మారుతుంది.
హెక్సాగోనల్ (షట్కోణీయ) మరియు జింక్ బ్లెండ్ పాలీమార్ఫ్ నిర్మాణాలు విలోమ సౌష్టవన్ని కలిగి ఉండవు. ఇతర సౌష్టవ లాటిస్ ధర్మాలు హెక్సాగోనల్ మరియు జింకుబ్లెండు Zno యొక్క పీజో ఎలక్ట్రిసిటీ మరియు హెక్సాగోనల్ Zno యొక్క పైరోఎలక్ట్రిసిటీ ఫలితాలలో ఉంటాయి.
షట్కోణీయ నిర్మాణంలో 6 mm (హెర్మల్-మాగుయిన్ నొటేషన్) బిందు వర్గం లేదా C ( షోయెన్‌ఫైస్ నొటేషన్) కలిగి ఉంటుంది మరియు అంతరాళ వర్గము P63mc or C6v. లాటిస్ స్థిరాంకాలు "a" = 3.25 Å మరియు "c" = 5.2 Å; వాటి నిష్పత్తి "c/a" ~ 1.60 హెక్సాగోనల్ సెల్ యొక్క "c/a" = 1.633 ఆదర్శ విలువకు సమీపంలో ఉంటుంది. గ్రూపు II -VI పదార్థాలలో ZnO లో బంధం ఎక్కువగా అయానిక బంధం (Zn–O). ఇందులో సంబంధిత వ్యాసార్థం Znకు 0.074 nm మరియు Oకు 0.140 nm ఉంటుంది. ఈ ధర్మం జింకుబ్లెండ్ కన్నా వుర్ట్‌జైట్ ఏర్పడటానికి ఉపయుక్తమైనది. ఇది ZnO యొక్క బలమైన పైజో ఎలక్ట్రిసిటీ బంధం.
Zn-O మధ్య ధ్రువ బంధాల కారణంగా జింకు మరియు ఆక్సిజన్ తలాలు విద్యుత్ పరంగా ఆవేశపూరితమైనవి. విద్యుత్ స్థిరత్వం నెకకొల్పడానికి ఈ తలాలు పరమాణు స్థాయిలలో పునర్మితమవుతాయి. కానీ ZnO – దాని తతాలు స్వయంచాలకంగా సమతలంగా ఉన్నందువల్ల, స్థిరంగా ఉన్నందువల్ల పునర్మితం కావు. ZnO యొక్క ఈ అసాధారణత పూర్తిగా వివరించబడలేదు.
ZnO సాపేక్షంగా మృదువైనది. అది మోహ్స్ స్కేలుపై 4.5 కఠినత్వాన్ని సుమారుగా కలిగి ఉంటుంది. దీని స్థితిస్థాపకత స్థిరాంకాలు III-V అర్థవాహకాల కన్నా తక్కువగా ఉంటాయి. ZnO యొక్క అత్యధిక ఉష్ణ సామర్థ్యం మరియు ఉష్ణ వాహకత్వం, అల్ప ఉష్ణ వ్యాకోచం చరియు అధిక ద్రవీభవన ఉష్ణోగ్రత సిరామిక్స్ కు ఉపయోగకరంగా ఉంటాయి.
టెట్రాహైడ్రల్ బంధాలు కల అర్థవాహకాలలో, ZnO అత్యధిక పైజోఎలక్ట్రిక్ టెన్సర్ కలిగి ఉంటుందని పేర్కొన్నారు.
ZnO సాపేక్షంగా గది ఉష్ణోగ్రత వద్ద అధిక ప్రత్యక్ష శక్తి అంతరం ~3.3 eV కలిగి ఉంటుంది. ఈ అధిక శక్తి అంతరం మూలంగా అధిక వోల్టేజ్ విచ్ఛిన్నం చేయడానికి, పెద్ద విద్యుత్తు క్షేత్రాలను నిలబెట్టుకునే సామర్థ్యం మరియు అధిక ఉష్ణోగ్రత మరియు అధిక శక్తి ఆపరేషన్ లకు ఉపయోగపడుతుంది. తరువాత ZnO లో మెగ్నీషియం ఆక్సైడు లేదా కాడ్మియం ఆక్సైడ్ లతో మిశ్రమలోహాలుగా మార్చినపుడు శక్తి అంతరం ~3–4 eV మెరుగుపరచబడుతుంది.
ఎక్కువగా ZnO దానికి మాదీకరణం చేయనప్పటికీ "n"- రకం ధర్మాలను కలిగి ఉంటుంది.
ZnO కు పి-రకం మాదీకరణం చేయటం కష్టతరమైనది. ఈ సమస్య పి-రకం మాలిన్యాలు (డోపంట్స్) యొక్క తక్కువ ద్రావణీయత వలన ఏర్పడుతుంది. ఈ సమస్య GaN మరియు ZnSe లో పరిశిలించవచ్చును.
పారిశ్రామికంగా ఉపయోగించడానికి ZnO ను ప్రతి సంవత్సరం 10 టన్నులు తయారుచేస్తున్నారు. ఈ ఉత్పత్తి ముఖ్యంగా మూడు విధానాలలో జరుగుతుంది.
ఈ పరోక్ష ప్రక్రియ లేదా ప్రెంచ్ ప్రక్రియలో, జింకు లోహం గ్రాఫైట్ క్రూసిబుల్ లో కరిగి 907 °C (సుమారు 1000 °C) వద్ద ఆవిరిగా మారుతుంది. ఈ జింకు ఆవిర్లు ఒక నిష్పత్తిలో ఆక్సిజన్ తో సంయోగం చెందడం వలన జింకు ఆక్సైడ్ ఏర్పడుతుంది. జింకు ఆక్సైడ్ కణాలు శీతలీకరణ నాళం గుండా ప్రయాణించి బ్యాగ్ హౌస్ కు చేరుకుంటాయి. ఈ పరోక్ష పద్ధతి లీక్లారీ (ఫ్రాన్స్) ద్వారా 1944 నుండి ప్రాచుర్యంలోకి వచ్చింది. అందువల్ల ఈ విధానానికి ప్రెంచ్ విధానం అంటారు. ప్రపంచంలో జింకు ఆక్సైడ్ ఉత్పత్తిలో ఎక్కువగా ఈ పద్ధతినే వాడుతారు.
ఈ ప్రత్యక్ష ప్రక్రియ లేదా అమెరికన్ ప్రక్రియ విభిన్న కలుషిత జింక్ మిశ్రమాలతో ప్రారంభమవుతుంది. ఇందులో జింకు ధాతువులు లేదా ఉప ఉత్పత్తుల ద్వారా ప్రగలనం చేస్తారు. జింకు ధాతువులు కార్బన్ యొక్క వనరులతో వేడిచేయడం ద్వారా క్షయకరణం (కార్బోథెర్మల్ క్షయకరణం) ఆంథ్రసైట్ నుండి జింకు ఆవిర్లు ఏర్పడతాయి. ఇపుడు అవి పరోక్ష ప్రక్రియ ద్వారా ఆక్సీకరణం చెందుతాయి. మూల పదార్థం యొక్క తక్కువ శుద్ధత కారణంగా ఫలిత ఉత్పత్తి కూడా తక్కువ నాణ్యత కలిగి ఉంటుంది.
పారిశ్రామికంగా తక్కువ స్థాయిలో జింకు ఆక్సైడ్ ఉత్పత్తిని రసాయన ప్రక్రియ ద్వారా తయారుచేస్తారు. ఇందులో జింకు లవణాల జలద్రావణాల ద్వారా ప్రారంభించి, జింకు కార్బొనేట్ లేదా జింకు హైడ్రాక్సైడ్ అవక్షేపంగా ఏర్పడుతుంది. ఈ ఘన అవక్షేపం 800 °C వద్ద భస్మీకరణం చెందుతుంది.
శాస్త్రీయ అధ్యయనాలు మరియు సముచిత అనువర్తనాలకు ZnO ను ఉత్పత్తి చేయడానికి అనేక ప్రత్యేక పద్ధతులు ఉన్నాయి. ఈ పద్ధతులు జింకు ఆక్సైడ్ ఏర్పడుట, ఉష్ణోగ్రత ("తక్కువ", గది ఉష్ణోగ్రతకు దగ్గరగా లేదా "ఎక్కువ", T ~ 1000 °C వద్ద), ప్రక్రియ రకం (ఆవిరి నిక్షేపం లేదా ద్రావణం నుండి పెరుగుదల) మరియు ఇతర పరామితుల ఆధారంగా వర్గీకరించబడ్డాయి.
పెద్ద ఏక స్ఫటికాలు (అనేక ఘనపు సెంటీమీటర్లు) వాయు రవాణా, హైడ్రో థర్మల్ సంశ్లేషణ, లేదా ద్రవీకరణ పెరుగుదల ద్వారా పెరుగవచ్చు,
అయినప్పటికీ, ZnO యొక్క అధిక బాష్ప పీడనం కారణంగా ద్రవీకరణం నుండి పెరుగుదల అనేది సమస్యాత్మకమైనది. వాయు రవానా ద్వారా పెరుగుదల నియంత్రణ చేయడానికి కష్టమైనది. ప్రాధాన్యతగా హైడ్రోథర్మల్ పద్ధతి ప్రధానమైనది. పలుచని ఫిల్ములు రసాయన బాష్ప నిక్షేపణ, మెటలార్గానిక్ వేపర్ ఫేస్ ఎపిటాక్సీ, ఎలక్ట్రోడిపోసిషన్, పల్స్‌డ్ లేజర్ డిపోసిషన్, స్పట్టరింగ్, సోల్-జెల్ సంశ్లేషణ, అటోమేటిక్ లేయర్ నిక్షేపణ, స్ప్రే పైరోలసిస్ మొదలైన పద్ధతుల ద్వారా ఉత్పత్తి చేస్తారు.
సాధారణ తెలుగు జింకు ఆక్సైడ్ పౌడర్ ప్రయోగశాలలో సోడియం బైకార్బొనేట్ ద్రావణంతో జింక్ ఆనేడు ఉపయోగించి ఎలక్రో లైజింగ్ పద్ధతి ద్వారా తయారుచేస్తారు. జింకు హైడ్రాక్సైడ్ మరియు హైడ్రోజన్ వాయువు ఉత్పత్తి అవుతాయి. ఈ జింకు హైడ్రాక్సైడ్ వేడిచేసినపుడు వియోగం చెంది జింకు ఆక్సైడు ఏర్పడుతుంది.
జింక్ ఆక్సైడ్ పౌడర్ యొక్క అనువర్తనాలు చాలా ఉన్నాయి, మరియు ప్రధానమైన వాటిని క్రింద వివరించడం జరిగింది. పదార్థ శాస్త్రం అనువర్తనాలలో జింకు ఆక్సైడ్ అధిక వక్రీభవన గుణకాన్ని, అధిక ఉష్ణ వాహకత్వాన్ని, బైండింగ్ (బంధాన్ని), ఆంటీ బాక్టీరియన్ మరియు UV-రక్షణ ధర్మాలను కలిగి ఉంటుంది. దీని ఫలితంగా ప్లాస్టిక్స్, సెరామిక్స్, గ్లాస్, సిమెంటు,రబ్బరు, లూబ్రికెంట్స్, ఆయింటుమెంటు, జిగుర్లు, సీలెంట్స్, కాంక్రీటు ఉత్పత్తులు, పిగ్మెంట్స్, ఆహార అప్దార్థాలు, బ్యాటరీలు, ఫెర్రైట్స్, అగ్ని నిరోధకాలు వంటి పదార్థాలు మరియు ఉత్పత్తులలో ఇది చేర్చబడుతుంది.
రబ్బరు పరిశ్రమలో 50% మరియు 60% మధ్య ZnO ఉపయోగపడుతుంది. రబ్బరు వల్కలీకరణంలో స్టియరిక్ ఆమ్లముతో జింకు ఆక్సైడ్ ఉపయోగపడుతుంది. ZnO సంకలితాలు ఫంగై మరియు అతినీలలోహిత కిరణాల నుండి రబ్బరును రక్షించుటలో ఉపయోగపడుతాయి.
సిరామిక్ పరిశ్రమ జింక్ ఆక్సైడ్ యొక్క గణనీయమైన పరిమాణాన్ని ఉపయోగిస్తుంది. ఈ పరిశ్రమలో ముఖ్యంగా సిరామిక్ గ్లేజ్ మరియు ఫ్రిట్ కూర్పుల కోసం జింకు ఆక్సైడ్ వాడుతారు.
జింకు ఆక్సైడ్ సుమారు 0.5% పరిమాణంలో ఐరన్ (III) ఆక్సైడ్ (FeO) తో కలిసినపుడు ఏర్పడే పదార్థాన్ని కాలమైన్ అంటారు. దీనిని కాలమైన్ లోషన్ కు ఉపయోగిస్తారు. జింకైట్ మరియు హెమి మార్ఫైట్ అనే రెండు ఖనిజాలను చారిత్రాత్మకంగా కాలమైన్ అని పిలుస్తారు.
ZnO యొక్క క్షార ధర్మాల వలన దీని కణాలు నిర్గంధీకరణ మరియు ఆంటీ బాక్టీరియల్ ధర్మాలను కలిగి ఉంటుంది. ఈ కారణంగా దీనిని కాటన్, ఫ్యాబ్రిక్, రబ్బర్, ఓరల్ కేర్ ఉత్పత్తులు, ఆహార ఫ్యాకింగులకు ఉపయోగిస్తారు. బాక్టీరియాను నిరోధించే అధిక పరిమాణంలో గల ఈ కణాలు ZnO కన్నా ప్రత్యేకమైనది కాదు. మరియు సిల్వర్ వంటి ఇతర లోహాలలో కూడా గమనించవచ్చు. ఉపరితల వైశాల్యం మరియు మంచి కణాలను పెంపొందిచుకొనుటకు ఈ ధర్మం వినియోగపడుతుంది.
జింక్ ఆక్సైడ్ విస్తృతంగా వివిధ రకాల చర్మ పరిస్థితులను, డెర్మటైటిస్, తామర, ఎగ్జిమా వలన గజ్జి, డైపర్ రాష్ మరియు మోటిమల కారణంగా దురద వంటి వ్యాధులకు ఉపయోగించబడుతుంది.
జింకు ఆక్సైడును బేబీ పౌడర్ మరియు డైపర్ రాషెస్ నయం చేయు బారియర్ క్రీములు, కాలమైన్ క్రీం, ఆంటీ డాండ్రఫ్ షాంపూలు మరియు ఆంటీ సెప్టిక్ ఆయింట్‌మెంట్ల ఉత్పత్తులలో ఎక్కువగా వాడుతారు. దీనిని క్రీడాకారులు వారి శరీర కండరాలలోని మృదువైన కణజాలాలను రక్షించుటకు ఉపయోగించు టేప్ (జింకు ఆక్సైడ్ టేప్ గా పిలువబడుతుంది) లో ఒక పదార్థంగా వాడబడుతుంది.
జింకు ఆక్సైడ్ సూర్యకిరణాలమూలంగా చర్మం మడిపోయేటపుడు ఉపశమనం కొరకు ఉపయోగించే ఆయింటుమెంట్లలో మరియు లోషన్స్ లలో వాడుతారు. అతినీలలోహిత కిరణాల మూలంగా నష్టపోయే శరీరాన్ని రక్షించు క్రీములలో వాడుతారు. దీనిని వర్ణపట UVA మరియు UVB లలో శోషించుకొనే పదార్థంగా యు.ఎస్. ఫుడ్ అండ్ డ్రగ్ అడ్మినిస్ట్రేషన్ వారు సన్‌స్క్రీన్ గా ఉపయోగించుకొనుటకు అనుమతినిచ్చారు.
జింకు ఆక్సైడ్ నానో కణాలు సిప్రోప్లోక్సిన్ యొక్క చర్యలలో ఆంటీ బాక్టీరియాను పెంపొందిస్తుంది.
జింకు ఆక్సైడ్ సిగరెట్ ఫిల్టర్లలో ఒక పదార్థంగా ఉపయోగిస్తారు. ఫిల్టర్ లో జింకు ఆక్సైడ్ తో కలిపిన ఛార్‌కోల్ ఉంటుంది. ఇది ముఖ్యమైన మొత్తంలో గల సిగరెట్ తాగునపుడు అందులో గల పొగాకు పొగ నుండి హైడ్రోజన్ సైనైడ్ (HCN) మరియు హైడ్రోజన్ సల్ఫైడ్ (HS) లను తొలగించుటకు ఐరన్ ఆక్సైడ్ మరియు జింకు ఆక్సైడ్ లను వాడుతారు.
ఆహార తృణ ధాన్యాలతో పాటు కొన్ని ఆహార ఉత్పత్తులలోజింకు యొక్క ప్రధాన వనరుగా జింకు ఆక్సైడును కలుపుతారు. ఇది అత్యావశ్యకమైన పోషకపదార్థం (ఇదే అవసరం కొరకు జింకు సల్ఫేట్ ను కూడా వాడుతారు). కొన్ని ముదు ప్యాక్ చేయబడిన ఆధార పదార్థాలలో కూడా కొంత ZnO ను కలుపుతారు.
2008 చిలీయన్ పోర్క్ వివాదంలో పోర్క్ ఎగుమతి చేసినపుడు జింకు ఆక్సైడ్ ను డైఆక్సిన్ కాలుష్యంతో పాటు కలిపారు. ఈ కాలుష్యం పందుల ఆహారంలో ఉపయోగించే డయాక్సిన్ కాలుష్యంలో జింకు ఆక్సైడ్ కలిపి ఉన్నట్లు కనుగొన్నారు.
మొక్కలలో వర్ణకాల కొరకు జింకు వైట్ ను ఉపయోగిస్తారు. ఇది లిథోపోన్ కన్నా ఎక్కువ అపారదర్శకంగానూ, టైటానియం డయాక్సైడు కన్నా తక్కువ అపారదర్శకంగానూ ఉంటాయి. దీనిని కాగితాలపై పూతలు వేయడానికి కూడా వాడుతారు. చైనీస్ వైట్ అనునది జింకు వైట్ లో ప్రత్యేకమైనది. దీనిని ఆర్టిస్టుల వర్ణకాల కొరకు ఉపయోగిస్తారు. ఈ జింకు వైట్ (జింకు ఆక్సైడు) తైల చిత్రలేఖనంలో వర్ణకాలుగా 18వ శతాబ్దం మధ్య కాలం నుండి వాడుతున్నారు. ఇది ఇదివరకు వాడబడుతున్న విషతుల్యమైన లెడ్ వైట్ అనే పదార్థం స్థానాన్ని ఆక్రమించింది. దీనిని బాక్లిన్, వాన్‌గోగ్ మొదలైన చిత్రకారులు వాడుతున్నారు. మినరల్ మేకప్ (CI 77947) లో ఈ పదార్థం ముఖ్య అనుఘటకము
అతి సూక్ష్మ మరియు నానో-స్కేల్ లో గల జింకు ఆక్సైడ్ మరియు టైటానియం డయాక్సైడు UVA and UVB అతినీలలోహిత వికిరణాల నుండి బలమైన రక్షణనిస్తుంది. ఇది సున్‌టాన్ లోషన్ కొరకు ఉపయోగపడుతుంది. జింకు ఆక్సైడు అంతరిక్షంలో UV-బ్లాకింగ్ సన్‌గ్లాసుల కోరకు ఉపయోగపడుతుంది. వెల్డింగ్ చేయునపుడు రక్షణకొరకు వాడే గ్లాసులలో వాడుతారు.
లోహాలు క్షయం చెందకుండా జింకు ఆక్సైడు పౌడర్ పూతలను ఉపయోగిస్తారు. ప్రత్యేకంగా ఇనుము పై గాల్వనైజింగ్ ప్రక్రియలో ఇనుప లోహం తుప్పు పట్టకుండా జింకు ఆక్సైడ్ పూతను పూస్తారు. జింకు ఆక్సైడ్ పూత పూసినపుడు అనేక సంవత్సరాల వరకు ఇనుప లోహంపై అతికి ఉంటుంది.
జింకు ఆక్సైడు n-రకం అర్థవాహకంగా అల్యూమినియం, గాలియం ద్వారా మాదీకరణం చెంది తయారవుతుంది. ఇది పారదర్శకంగా మరియు వాహకంగా ఉంటుంది.(పారదర్శకత ~90%, తక్కువ నిరోధకత్వం ~10 Ω·cm). ZnO: అన్ని పూతలు శక్తి-పొదువు లేదా ఉష్ణం నుండి రక్షించే కిటికీలకు వాడుతారు. కిటికీలలు వాడే ఈ పూతలు కాంతి వర్ణపటంలో దృగ్గోచర భాగాన్ని అనుమతింది పరారుణ కాంతిని గది ఉష్ణోగ్రత వద్ద పరావర్తనం చెందించడం గానీ లేదా గదిలోనికి పరారుణ కాంతిని రానీయకుండా రక్షిస్తుంది.
పాలీఇధిలీన్ నాఫ్టాలేట్ (PEN) వంటి ప్లాస్టిక్‌లకు జింకు ఆక్సైడ్ పూత రక్షణనిస్తుంది. PEN ప్లాస్టిక్ తో ఆక్సిజన్ యొక్క వ్యాపనాన్ని ఈ పూత తగ్గిస్తుంది. బయటి అనువర్తనాలలో పాలీ కార్బొనేట్ పై పూతలు వేయడానికి కూడా జింకు ఆక్సైడ్ వాడుతారు. ఈ పూత PC ను సూర్య వికిరణాలనుండి రక్షిసుంది. ఇది PC యొక్క ఫోటో-ఎల్లోయింగ్ మరియు ఆక్సీకరణ రేతును తగ్గిస్తుంది.
Zn (64 ద్రవ్యరాశి సంఖ్యగల జింకు ఐసోటోపు) లో జింకు ఆక్సైడు తగ్గిపోయి అది అణు రియాక్టర్లలో లోహ క్షయాన్ని తగ్గించుటకు ఉపయోగపడుతుంది. జింకు ఆక్సైడు తగ్గిపోవుట అనేది అనివార్యం, ఎందువలనంటే నూక్లియర్ రియాక్టర్లలో న్యూట్రాన్ల వల్ల Zn ఐసోటోపు రేడియోధార్మిక Zn గా పరివర్తనం చెందుతుంది.
జింకు ఆక్సైడును మీథేన్ రీఫార్మర్ కు ముందు సల్ఫర్ సమ్మేళనాల యొక్క హైడ్రోననీకరణంతో పాటు సహజ వాయువు నుండి హైడ్రోజన్ సల్ఫైడ్ ను తొలగించుటకు ప్రీట్రీట్‌మెంటు సోపానంగా వాడుతారు. మధ్య ఉష్ణోగ్రత వద్ద HS నీటిగా మారుతుంది. ఈ సమీకరణం దిగువనీయబడింది.
జింకు సల్ఫైడ్ (ZnS) తాజా జింకు ఆక్సైడ్ తో స్థానబ్రంశం చెందినపుడు జింకు ఆక్సైడ్ వినియోగపడుతుంది.