2.3.2022
MT
Il-Ġurnal Uffiċjali tal-Unjoni Ewrope
2.
Tagħmir iddisinjat apposta biex tinkiseb il-ħruxija tal-wiċċ attiv ta’ pjastrina pproċessata b’valur ta’ żewġ sigma ta’ 2 mikrometru jew inqas, skont il-qari tal-indikatur totali (total indicator reading, TIR);
Nota: X.B.I.001.b.1.k ma jikkontrollax tagħmir ta’ rrumblar u illustrar fuq naħa waħda għall-irfinar tal-wiċċ tal-pjastrini.
l.
Tagħmir ta’ interkonnessjoni li jinkludi kmamar b’vakwu singoli jew multipli komuni ddisinjat apposta li jippermetti l-integrazzjoni ta’ kwalunkwe tagħmir ikkontrollat minn X.B.I.001 f’sistema sħiħa;
Tagħmir “ikkontrollat minn programm maħżun” li juża “lasers” għat-tiswija jew it-tirqim ta’ “ċirkwiti integrati monolitiċi” b’waħda mill-karatteristiċi li ġejjin: 1.
Preċiżjoni tal-pożizzjonament ta’ inqas minn ± 1 mikrometru; jew
2.
Daqs tat-tikka (wisa’ tal-qalba) inqas minn 3 mikrometru.
Nota Teknika: Għall-fini ta’ X.B.I.001.b.1, “sputtering” huwa proċess ta’ kisi fejn joni ċċarġjati pożittivament jiġu aċċellerati b’kamp elettriku lejn il-wiċċ ta’ bersall (materjal tal-kisi).
L-enerġija kinetika tal-joni tal-impatt hija biżżejjed biex tikkawża li l-atomi tal-wiċċ fil-mira jiġu rilaxxati u ddepożitati fuq is-sottostrat.
(Nota: Il-pulverizzazzjoni bit-trijodu, il-manjetron jew bi frekwenza tar-radju sabiex tiżdied l-adeżjoni tal-kisja u r-rata ta’ depożizzjoni huma modifiki ordinarji tal-proċess.).
L 67/27