Diklofenak’ın Fotokimyasal İleri Oksidasyon Prosesleri ile Arıtılabilirliğinin Araştırılması
Diklofenak’ın Fotokimyasal İleri Oksidasyon Prosesleri ile Arıtılabilirliğinin Araştırılması
Yazar: Altın, Sevda Hatun; Ustun Odabasi, Sevde; Büyükgüngör, Hanife
Dergi: El-Cezeri, Vol. 7 No. 3, 2020
Anahtar kelimeler: Engineering ; Mühendislik ; Atıksu,Diklofenak,İleri Oksidasyon Prosesleri,LCMS/MS,TOK

Bu çalışmada seçilen ilaç,  antienflamatuar yapıya sahip ilaçlar içerisinde en yüksek akut toksisitesi bulunan Diklofenak ilacıdır. Arıtım yöntemlerinden UV ve kombinasyonları (UV/H2O2, UV/TiO2, UV/ZnO) çalışılmıştır. Diklofenak içeren sentetik suyun UV, UV/H2O2, UV/TiO2 ve UV/ZnO yöntemleri ile 0-10-20-30-40-50-60.dakikalarda numune alınarak giderimi incelenmiştir. UV/H2O2 prosesi için 50, 100, 200, 400, 800 mg/L konsantrasyonlarında, UV/TiO2 ve UV/ZnO prosesleri için ise 40, 80, 160, 240, 320 mg/L konsantrasyonlarında farklı Diklofenak çözeltileri hazırlanmıştır. Çalışmada diklofenak konsantrasyonları LC-MS/MS ve TOK cihazları ile ölçülmüştür. Tüm proseslerde çalışma koşulları aynı kalmıştır. LCMS-MS analizinde UV prosesisi için Diklofenak giderim verimi %55,23, UV/H2O2 ile Diklofenak giderimi ise 200 mg/L H2O2 konsantrasyonunda %>99,99 bulunmuştur. TOK giderimi UV proseste %30,71, UV/H2O2 prosesinde ise en yüksek verim 800 mg/L’de %97 olarak bulunmuştur. UV/TiO2 ve UV/ZnO prosesi sonucunda TOK giderimi 320 mg/L’de sırasıyla %93,23 ve %96,10 bulunmuştur. LC-MS/MS analiz sonuçlarında ise 240 mg/L TiO2 ve ZnO konsantrasyonlarında Diklofenak giderimi %>99,99 olarak bulunmuştur. Sonuçlara göre UV prosesinin tek başına etkinliği %10-30 iken UV/ZnO, UV/TiO2, UV/H2O2 gibi kombinasyonlarında daha etkili giderim verimi elde edilmiştir. Maliyet açısından ise optimum proses UV/H2O2 (200 mg/L) prosesi bulunmuştur.

Bu çalışmada seçilen ilaç,  antienflamatuar yapıya sahip ilaçlar içerisinde en yüksek akut toksisitesi bulunan Diklofenak ilacıdır. Arıtım yöntemlerinden UV ve kombinasyonları (UV/H2O2, UV/TiO2, UV/ZnO) çalışılmıştır. Diklofenak içeren sentetik suyun UV, UV/H2O2, UV/TiO2 ve UV/ZnO yöntemleri ile 0-10-20-30-40-50-60.dakikalarda numune alınarak giderimi incelenmiştir. UV/H2O2 prosesi için 50, 100, 200, 400, 800 mg/L konsantrasyonlarında, UV/TiO2 ve UV/ZnO prosesleri için ise 40, 80, 160, 240, 320 mg/L konsantrasyonlarında farklı Diklofenak çözeltileri hazırlanmıştır. Çalışmada diklofenak konsantrasyonları LC-MS/MS ve TOK cihazları ile ölçülmüştür. Tüm proseslerde çalışma koşulları aynı kalmıştır. LCMS-MS analizinde UV prosesisi için Diklofenak giderim verimi %55,23, UV/H2O2 ile Diklofenak giderimi ise 200 mg/L H2O2 konsantrasyonunda %>99,99 bulunmuştur. TOK giderimi UV proseste %30,71, UV/H2O2 prosesinde ise en yüksek verim 800 mg/L’de %97 olarak bulunmuştur. UV/TiO2 ve UV/ZnO prosesi sonucunda TOK giderimi 320 mg/L’de sırasıyla %93,23 ve %96,10 bulunmuştur. LC-MS/MS analiz sonuçlarında ise 240 mg/L TiO2 ve ZnO konsantrasyonlarında Diklofenak giderimi %>99,99 olarak bulunmuştur. Sonuçlara göre UV prosesinin tek başına etkinliği %10-30 iken UV/ZnO, UV/TiO2, UV/H2O2 gibi kombinasyonlarında daha etkili giderim verimi elde edilmiştir. Maliyet açısından ise optimum proses UV/H2O2 (200 mg/L) prosesi bulunmuştur.