Düşük sıcaklıkta kimyasal buhar biriktirme (CVD) yöntemiyle epitaksiyel sige film büyütme ve film karakterizasyonu
Growth and characterization of epitaxial sige film by chemical vapor deposition (CVD) at low temperature
Yazar: AYLİN KANGALLI
Danışman: PROF. DR. SELMA MUTLU
Hacettepe Üniversitesi / Fen Bilimleri Enstitüsü / Kimya Mühendisliği Ana Bilim Dalı
Derece: Yüksek Lisans, 2018
Konu: Kimya Mühendisliği = Chemical Engineering

Özet:
Tez çalışması kapsamında, indirgenmiş basınçta kimyasal buhar biriktirme (RPCVD) yöntemiyle, düşük sıcaklıkta, silisyuma karşı seçici, silisyum üzerine tek kristal formda silisyum-germanyum-karbon (SiGeC) ve silisyum (SiCap) filmleri büyütülmüştür. Film büyütmede silisyum kaynağı olarak silan (SiH4), germanyum kaynağı olarak german (GeH4), bor kaynağı olarak diboran (B2H6) ve karbon kaynağı olarak da metilsilan (CH3SiH3) gazı kullanılmıştır. Büyütülen filmler, 0,25 µm SiGeC BiCMOS (Silisyum-Germanyum-Karbon Çift Kutuplu Tamamlayıcı Metal Oksit Yarı İletken) teknolojisi üretiminin ilk basamağı olan SiGeC HBT (Silisyum-Germanyum-Karbon Heterojonksiyon Çift Kutuplu Transistör) üretiminde transistörün baz bölgesinde uygulanmış ve filmlerin transistördeki elektriksel performansı değerlendirilmiştir. 
Çalışmanın ilk basamağında, RPCVD reaktöründe silan gazı kullanarak çalışılabilecek en uygun film büyütme sıcaklığı belirlenmiştir. Büyütülen SiGeC filmin kalınlığı, germanyum oranı ve film kalitesi spektroskopik elipsometre ile karakterize edilmiştir. Film kalınlığı ve büyütme süresi birlikte değerlendirildiğinde, 0,25 µm SiGeC BiCMOS teknolojisi üretiminin ilk basamağı olan SiGeC HBT üretiminde baz bölgesine büyütülecek tek kristal SiGeC film için en uygun sıcaklık değerinin 625°C olduğu görülmüştür. İkinci olarak, SiGeC HBT teknolojisinde baz çukuru yan duvarlarında silisyum nitrür film bulunduğundan, büyütülen epitaksiyel SiGeC film için silisyuma karşı seçicilik çalışılmıştır. Seçicilik sağlayabilmek için film büyütme gazları içerisine hidroklorik asit (HCl) ilave edilmiştir. Spektroskopik elipsometre ile film kalınlığı, taramalı elektron mikroskobu (SEM) ile yan duvar filmlerin (0,1-1,0 µm ölçeğinde) morfolojik görüntüleri elde edilmiştir. Yapılan karakterizasyonlar sonucunda epitaksiyel SiGeC film büyütmede 625°C' de 25 ml/dk HCl akışında silisyuma karşı seçiciliğin sağlandığı görülmüştür.
Çalışmanın ikinci basamağında, transistörün emiter bölgesine katkılanan fosfor iyonlarının baz bölgesine difüzyonunu engellemek için SiGeC filmi üzerine silisyuma karşı seçici, katkısız, tek kristal, silisyum (SiCap) filmi büyütülmüştür. İlk olarak, RPCVD reaktöründe silan gaz kaynağı ile çalışılabilecek, transistörde uygulanabilecek minimum film büyütme sıcaklığı belirlenmiştir. İkinci olarak, SiGeC film büyütmede olduğu gibi SiCap filminde de silisyuma karşı seçicilik çalışılmıştır. Yapılan karakterizasyonlar sonucunda epitaksiyel SiCap film büyütmede 675°C'de 35 ml/dk HCl akışında silisyuma karşı seçiciliğin sağlandığı görülmüştür.
Büyütülen filmlerin yapısal ve morfolojik karakterizasyonu spektroskopik elipsometre, SEM, geçirmeli elektron mikroskobu (TEM), ikincil iyon kütle spektroskopisi (SIMS) ve yüksek çözünürlüklü X-ışınları difraksiyonu (HRXRD) analizleri ile yapılmıştır. SIMS analizinde transistör baz bölgesine silan ile düşük sıcaklıkta (625°C) büyütülen filmdeki bor iyonlarının transistörün baz bölgesinden kolektör bölgesine difüzlenmediği görülmüştür. HRXRD analizi ile SiGeC filminin tek kristal formda olduğu ve filmin gerinmiş yapıda olduğu ispatlanmıştır. TEM analizi ile SiGeC filminin tek kristal formda olup, dislokasyon yoğunluğunun 3×107 cm-2 mertebesinde olduğu görülmüştür. Büyütülen filmlerin elektriksel karakterizasyonu için, SiGeC ve SiCap filmleri SiGeC HBT transistörün baz bölgesine büyütülmüş ve transistörün elektriksel performansı için akım-gerilim (I-V) ölçümleri yapılmıştır. Diklorosilan ile yüksek sıcaklıkta büyütülen film ile silan ile düşük sıcaklıkta büyütülen film SiGeC HBT yapısına uygulanıp elektriksel olarak karşılaştırıldığında, silan gazı kullanılarak üretilen transistörün akım kazancının yaklaşık 10 kat fazla olduğu görülmüştür.

Abstract:
In the scope of thesis, selective epitaxial growth of monocrystal silicon-germanium-carbon (SiGeC) and monocrystal silicon (SiCap) were deposited on silicon substrate at low temperature by using reduced pressure chemical vapor deposition (RPCVD) technique. Silane as silicon source, german as germanium source, diborane as boron source and metilsilane as carbon source were used at film deposition. SiGeC and SiCap films were applied SiGeC HBT (Silicon-Germanium-Carbon Heterojunction Bipolar Transistor) technology which is the first step of 0,25 µm SiGeC BiCMOS (Silicon-Germanium-Carbon Bipolar Complementray Metal Oxide Semiconductor) process technology and electrical performance of the films in the transistor was evaluated.
At the first step of the study, the optimum temperature of the film growth in the RPCVD reactor using silane was determined. The SiGeC film thickness, germanium ratio and film quality was characterized by spectroscopic ellipsometer. Evaluating with growth temperature and process time, the optimum temperature for a single crystal SiGeC film which grown at SiGeC HBT which is the first step of 0,25 µm SiGeC BiCMOS was found to be 625°C. Secondly, selective epitaxial SiGeC film was studied due to presence of silicon nitride film on the base sidewall SiGeC BiCMOS transistor. Hydrochloric acid (HCl) was added to the process gases for creating selective property. Film thickness was characterized spectroscopic ellipsometry and images of surface morphology of sidewall was obtained by scanning electron microscopy (SEM). As a result of the characterization studies, selective epitaxial growth of SiGeC film was provided with 25 ml/min HCl gas flow at 625°C.
In the second step of the study, monocrystal SiCap film was grown on the SiGeC film.  SiCap film prevents diffusion of phosphorus ions from emitter to base region. Initially, the optimum temperature of film growth with silane gas at RPCVD reactor was determined. Secondly, as in SiGeC film, selective epitaxial growth of SiCap film was also studied. As a result of the characterization studies, selective epitaxial growth of SiCap film was provided with 35 ml/min HCl gas flow at 675°C.
Structural and morphological characterization of epitaxial films was done by spectroscopic ellipsometer, SEM, transmission electron microscopy (TEM), secondary ion mass spectroscopy (SIMS) and high resolution x-ray diffraction (HRXRD) analysis. SIMS analysis has shown that boron ions couldn't diffuse into the collector region from the epitaxial SiGeC film which grown in the transistor base region using silane gas at low temperature (625°C). HRXRD analysis proved the SiGeC film to be a single crystal and strained form. TEM analysis has shown that dislocation density of SiGeC film which has the single crystal form is at a level of 3×107cm-2. For electrical characterization of the growth film, SiGeC and SiCap films were grown to the base region of SiGeC HBT structure and current-voltage (I-V) measurements were evaluated for determining electrical performance of the transistor. The epitaxial films which grown at high temperature with SiCl2H2 (dichlorosilane) and low temperature with SiH4 (silane) were applied to the SiGe HBT structure. The films were electrically compared on the basis of current gain of transistor. The epitaxial films of silane gas at low temperature has approximately ten times more current gain than the films of dichlorosilane.