UV lakların ofset baskı uygulamalarında baskı altı malzemelerine etkisinin incelenmesi
Investigation of effects of UV varnishes on substrate materials for offset printing implementations
Yazar: MUHARREM ŞENGÜL
Danışman: YRD. DOÇ. DR. HÜSEYİN BEYTUT
Marmara Üniversitesi / Fen Bilimleri Enstitüsü / Matbaa Eğitimi Ana Bilim Dalı
Derece: Yüksek Lisans, 2010
Konu: Matbaacılık = Typography

Özet:
Kaplama uygulamalarında flor içeren monomer ve oligomerlerin kullanımı son yıllarda yaygınlaşmıştır. Florun yapıya sağladığı hidrofobluk, atmosfer direnci, düşük sürtünme katsayısı, yüzeyde kir ve su tutmama, çok iyi derecede kimyasal ve termal kararlılık, düşük reaktif indeksi gibi karakteristik özelliklerinden dolayı kaplamalarda cazip hale gelmiştir. Bu çalışmada da epoksi akrilat bazlı UV lak içerisine, flor içeren silanlı inorganik yapı ilave edilerek modifiye edilmiştir. Organik yapı içerisine %2,5-%5-%7,5 ve %10 oranında inorganik yapı ilave edilmiştir.Bölüm II'de ofset baskı, ofset baskıda kullanılan kağıtlar, elektromanyetik ışıma, UV lak, ışık etkisiyle meydana gelen polimerizasyon, sol-jel yöntemi ve hibrid kaplamalar hakkında bilgi verilmiştir. Özellikle UV kaplamaların bileşenleri olan oligomer, monomer ve fotobaşlatıcılar hakkında bilgi verilmiş olup UV kaplamaların üstünlükleri üzerinde durulmuştur.Bölüm III'te yapılan çalışmanın deneysel kısmı, kullanılan kimyasallar, materyaller ve cihazlar hakkında detaylı bilgiler verilmiştir. Hibrid UV lakın uygulandığı kağıt üzerinde parlaklık, viskozite, ısı direnci, solvent dayanıklılığı, saydamlık, adezyon, sürtünme direnci ve kuruma hızı testi yapılmıştır. Ayrıca elde edilen serbest filmin termal karakterizasyonu DSC ve TGA ile karakterize edilip filmin kırık yüzeyleri SEM ile incelenerek ve yapı hakkında bilgi sağlanmıştır.Bölüm IV'te yapılan testlerin sonuçları bölüm II'de verilen bilgiler ışığında ayrıntılı olarak yorumlanmıştır. Yapılan testler sonucunda %5 oranında inorganik modifikasyonun en uygun miktar olduğu bu oranda hemen hemen tüm test sonuçlarında artma olduğu, ayrıca sentezlenen inorganik yapının %5 oranında UV lakların modifikasyonunda kullanılabileceği sonucuna varılmıştır.

Abstract:
Use of monomers and oligomers including fluorine for coating applications became widespread in recent years. Hydrophobic, atmosphere resistance, low friction coefficient provided by fluorine for the structure became attractive for coatings with thanks to its charactreristics such as not accumulating dust and water over the surface, good level of chemical and thermal stability and low reactive index. In this study it was modified by adding inorganic structure with silane including flourine inside epoxy acrylate based UV lack. Inorganic structure of 2,5% - 5 % - 7,5% and 10% was added inside the organic structure.Information was given in Part II about offset printing, paper used for offset printing, electromagnetic radiation, UV lack, polymerization with the effect of light, sol-gel management and hybride coatings. Espcially information was provided for oligomeres, mononer and photo-initiators which are the components of UV coatings and also the superiority of UV components was also emphasized.Detailed information was given about the experimental portion of studies conducted in Part III, chemicals used and materials and devices. Brightness, viscosity, heat resistance, solvent resistance, transparency, adhesion, friction resistance and drying speed tests were performed over the paper on which hybride UV lack is implemented. Moreover the thermal characterization of the obtained free film was characterized with DSC and TGA and also fractured surfaces of film was characterized with TGA thus information was obtained about the structure.The results of tests being conducted in Part IV have been assessed in details in light of information provided under Part II. It was concluded as a result of test conducted that 5% inorganic modification can be the most proper quantity and with this rate approximately in all tests results there has been an increase moreover synthesized inorganic structure?s 5 % can be utilized for the modification UV lacks.