Dental adezivlerin total etch, self etch ve selektif etch uygulama prosedürlerinin sınıf ıı kompozit restorasyonlarda görülen mikrosızıntı üzerine etkisinin incelenmesi
Investigation of the effect of dental adhesives total etch, self etch and selective etch application procedures on microleakage in class ii composite restorations
Yazar: MUSTAFA YOLLAR
Danışman: PROF. DR. SERPİL KARAOĞLANOĞLU
Sağlık Bilimleri Üniversitesi / Gülhane Diş Hekimliği Fakültesi / Restoratif Diş Tedavisi Ana Bilim Dalı
Derece: Diş Hekimliği Uzmanlık, 2022
Konu: Diş Hekimliği = Dentistry
Dizin: Dental bonding = Dental bonding ; Dental restorasyon = Dental restoration ; Dental restorasyon-sürekli = Dental restoration-permanent ; Dental sızma = Dental leakage ; Dental çimentolar = Dental cements

Özet:
Yapılan bu çalışmada, çekilmiş daimi dişlerinde hazırlanan sınıf II kavitelerde dört farklı adeziv sistemin farklı metotlarla (self etch, selektif etch, etch and rinse) uygulanması sonucunda dişlerde görülen mikrosızıntı miktarının ölçülmesi ve mikrosızıntı değerleri açısından oluşabilecek farklılıkların değerlendirilmesi amaçlanmıştır.
Çeşitli nedenlerle çekilmiş 60 adet daimi diş rastgele olarak 12 gruba ayrılmış ve çalışmada kullanılan adeziv materyaller (G2-Bond Universal (GC Corp., Tokyo, Japan), Clearfil Tri-S Bond Universal (Kuraray Noritake, Niigata, Japan), Prime&Bond Universal (Dentsply Sirona Pennsylvania, USA), Tokuyama Bond Force II (Tokuyama Dental, Tokyo, Japan)) uygulanmıştır. Tüm gruplar G-aenial A'CHORD (Nanohibrit) (GC, Tokyo, Japan) A2 kompozit ile restore edilmiştir.
Restorasyon sonrası dişlere 5-55±20C'de 1000 kez termal siklus uygulanmıştır. Sonrasında örnekler %0,5'lik bazik fuksin içerisinde 24 saat bekletilmiştir. Daha sonra örnekler bol su altında yıkandıktan sonra polimerize olan akrilik rezin bloklar içerisine gömülmüştür. Bazik fuksin ile boya penetrasyonu sonrasında oluşan mikrosızıntı değerleri, her örnekten mesiodistal yönde alınan kesitler üzerinde skorlama yöntemiyle kantitatif olarak tespit edilmiştir. Verilerin istatistiksel analizinde tek yönlü Varyans Analizi (ANOVA), farkın hangi grup veya gruplardan kaynaklandığını belirlemek amacıyla Tukey testi kullanılmıştır (p<0.05).
Sonuçlar incelendiğinde, adeziv sistemlerden G2-Bond Universal ve Tokuyama Bond Force II'nin, selektif etch , self etch ve etch and rinse uygulamaları arasında istatistiksel olarak anlamlı bir fark bulunamamıştır (p>0,05). Çalışmamızdaki adeziv sistemlerden Clearfil Tri-S Bond Universal'in, selektif etch, self etch ve etch and rinse uygulanmaları arasında istatistiksel olarak anlamlı bir fark bulunmuş olup, etch and rinse uygulama self etch uygulamadan daha az mikrosızıntı göstermiştir (p<0,05). Kullanılan adeziv sistemlerden Prime&Bond Universal'in, selektif etch ve etch and rinse uygulamaları arasında istatistiksel olarak anlamlı bir fark bulunmazken (p>0,05), self etch uygulama ise istatistiksel olarak en fazla mikrosızıntıyı göstermiştir (p<0,05).
Adeziv sistemlerin (G2-Bond Universal, Clearfil Tri-S Bond Universal Prime&Bond Universal ve Tokuyama Bond Force II) etch and rinse ve selektif etch uygulamaları arasında istatiksel anlamlı farklılık bulunmazken (p>0.05), self etch uygulamada istatiksel olarak anlamlı farklılık görülmüştür (p<0.05). Prime&Bond Universal'in self etch uygulaması sonucunda diğer üç adeziv sisteme göre istatistiksel olarak daha fazla mikrosızıntı göstermiştir (p<0,05).
Çalışmamızın sınırları içerisinde test edilen adeziv materyallerin ek olarak fosforik asit ile pürüzlendirilmesinin (selektif etch ve etch and rinse) mikrosızıntı miktarını azalttığı görülmüştür. Bundan dolayı, düşük mikrosızıntı düzeyleri göstermeleri sebebiyle mine ve/veya dentinde ek olarak fosforik asit ile pürüzlendirilmenin uygulanabileceği söylenebilir.

Abstract:
In this study, it was aimed to measure the amount of microleakage seen in the teeth as a result of the application of four different adhesive systems with different methods (self etch, selective etch, etch and rinse) in class II cavities prepared in extracted permanent teeth and to evaluate the differences that may occur in terms of microleakage values.
60 permanent teeth extracted for various reasons were randomly divided into 12 groups and the adhesive materials used in the study (G2-Bond Universal (GC Corp., Tokyo, Japan), Clearfil Tri-S Bond Universal (Kuraray Noritake, Niigata, Japan), Prime&Bond Universal (Dentsply Sirona Pennsylvania, USA), Tokuyama Bond Force II (Tokuyama Dental, Tokyo, Japan)) was applied. All groups were restored with G-aenial A'CHORD (Nanohybrid) (GC, Tokyo, Japan) A2 composite.
After restoration, a thermal cycle was applied to the teeth 1000 times at 5-55±20C. Afterwards, the samples were kept in 0.5% basic fuchsin for 24 hours. Then, after the samples were washed under plenty of water, they were embedded in polymerized acrylic resin blocks. Microleakage values formed after dye penetration with basic fuchsin were determined quantitatively by scoring method on sections taken from each sample in the mesiodistal direction. One-way Analysis of Variance (ANOVA) was used in the statistical analysis of the data, and Tukey's test was used to determine from which group or groups the difference originated (p<0.05).
When the results were examined, no statistically significant difference was found between the selective etch, self etch and etch and rinse applications of adhesive systems G2-Bond Universal and Tokuyama Bond Force II (p>0.05). A statistically significant difference was found between the selective etch, self etch and etch and rinse applications of Clearfil Tri-S Bond Universal, one of the adhesive systems in our study, and the etch and rinse application showed less microleakage than the self-etch application (p<0.05). While there was no statistically significant difference between the selective etch and etch and rinse applications of Prime&Bond Universal among the adhesive systems used (p>0.05), self-etch application showed the highest microleakage statistically (p<0.05). While there was no statistically significant difference between the etch and rinse and selective etch applications of adhesive systems (G2-Bond Universal, Clearfil Tri-S Bond Universal Prime&Bond Universal and Tokuyama Bond Force II) (p>0.05), there was a statistically significant difference in self-etch application (p). <0.05). As a result of Prime&Bond Universal's self-etch application, it showed statistically more microleakage than the other three adhesive systems (p<0.05).
It has been observed that the additional roughening of the adhesive materials tested within the limits of our study with phosphoric acid (selective etch and etch and rinse) reduces the amount of microleakage. Therefore, it can be said that enamel and/or dentin can be additionally etched with phosphoric acid, since they show low microleakage levels.