Nano silisyum uygulamasının biberin (Capsicum annuum L.) tuza toleransı üzerindeki etkisi
Effects of the nano silicon application on salt tolerance in pepper (Capsicum annuum L.)
Yazar: FERHAT MUTLU
Danışman: PROF. DR. ŞEBNEM KUŞVURAN
Çankırı Karatekin Üniversitesi / Fen Bilimleri Enstitüsü / Tarım ve Yaşam Bilimleri Ana Bilim Dalı / Bahçe Bitkileri Bilim Dalı
Derece: Yüksek Lisans, 2023
Konu: Ziraat = Agriculture

Özet:
Biberde tuza toleransın artırılmasına yönelik olarak nano silisyum (Nano-Si) uygulamalarının etkinliğinin araştırıldığı çalışmada, materyal olarak Mızrak ve Şölen ticari çeşitleri kullanılmıştır. Stres bitkileri için, 3 gerçek yapraklı aşamada 0 (kontrol), 50, 100 ve 150 mM olmak üzere 4 farklı tuz dozuna, Nano-Si uygulamalarında ise tuz stresi ile birlikte 0, 0,5, 1, 2 ve 3 mM dozlarına yer verilmiş, haftada bir kez olmak üzere yapraktan spreyleme şeklinde uygulanmıştır. Stres sonunda hasat edilen bitkiler, yeşil aksam yaş ve kuru ağırlıkları, gövde boyu ve çapı, yaprak sayısı ve alanı, yaprak su oransal içeriği (YOSİ), yeşil aksam Na, Cl, K ve Ca içeriği, malondialdehit (MDA), klorofil-a, b, toplam klorofil ve karotenoid içeriği bakımından incelenmiştir. Tuz stresi biber çeşitlerinde bitki büyüme parametreleri ile YOSİ, K ve Ca iyon konsantrasyonu, klorofil-a, b, toplam klorofil ve karotenoid içeriğinde azalmaya neden olmuş; Na ve Cl iyon konsantrasyonu ile MDA içeriğinde ise artış meydana gelmiştir. Bu artış, tuz düzeyindeki artışa paralel olarak belirginleşmiş ve zararlanma en fazla 150 mM dozunda görülmüştür. Buna karşın, tuz stresi ile birlikte nano-Si uygulamalarında tuz stresine oranla ortalama olarak yaş ve kuru ağırlıkta %9-82; gövde boyunda ve çapında %16-91; yaprak sayısı ve alanında %23-92, YOSİ değerlerinde %15-37; K içeriğinde %1-41; Ca içeriğinde %13-75; fotosentetik pigmentlerde %9-87 iyileşme sağlanmıştır. Ayrıca Na iyon alımı %16-33, Cl iyon alımı %11-23 düzeyinde sınırlandırılırken; MDA içeriğindeki artış %20-258 düzeyinde engellenebilmiştir. Çalışma sonucunda, nano-Si uygulamalarının tuz stresi ile ortaya çıkan zararlanmayı değişen oranlarda iyileştirdiği ve toleransı artırmada etkili olduğu, uygulamalar arasında bu olumlu etki açısından 0,50 mM ve 1,00 mM nano-Si uygulamalarının ön plan çıktığı belirlenmiştir.

Abstract:
In the study, in which the effectiveness of nano-silicon (Nano-Si) applications for increasing salt tolerance in pepper was investigated, commercial varieties of Mızrak and Şölen were used as materials. For stress plants, 4 different salt doses, 0 (control), 50, 100 and 150 mM, were used in 3 true leaf stages, and 0, 0.5, 1, 2 and 3 mM doses were used together with salt stress in Nano-Si applications. It was applied once as a foliar spray. Plants harvested after stress, green part fresh and dry weight, stem length and diameter, leaf number and area, leaf water proportional content (YOSI), green part Na, Cl, K and Ca content, malondialdehyde (MDA), chlorophyll-a , b, were examined for total chlorophyll and carotenoid content. Salt stress caused a decrease in plant growth parameters, YOSİ, K and Ca ion concentration, chlorophyll-a, b, total chlorophyll and carotenoid content in pepper varieties; Na and Cl ion concentration and MDA content increased. This increase became evident in parallel with the increase in salt level, and damage was observed at the maximum dose of 150 mM. On the other hand, in nano-Si applications with salt stress, on average 9-82% in wet and dry weight compared to salt stress; 16-91% in stem length and diameter; 23-92% in number and area of leaves, 15-37% in YOSI values; 1-41% in K content; 13-75% in Ca content; 9-87% improvement was achieved in photosynthetic pigments. In addition, while Na ion uptake is limited to 16-33%, Cl ion uptake is limited to 11-23%; The increase in MDA content was prevented at the level of 20-258%. As a result of the study, it was determined that nano-Si applications improved the damage caused by salt stress at varying rates and were effective in increasing tolerance, and 0.50 mM and 1.00 mM nano-Si applications came to the fore in terms of this positive effect among the applications.