2017年5月31日、中国の出資により首都ナイロビ-モンバサ間のモンバサ・ナイロビ標準軌鉄道が開業し、内陸部から海岸部にかけて貨物列車の安定的な運行が見込まれるようになった。約32億ドルの建設費のうち9割を中国が融資し、工事も中国企業が請け負った。鉄道建設時の債務償還が2019年から始まるに先立ち、現地のネットメディアは「債務返済ができなくなった場合にモンバサ港の使用権が中国に譲渡される」と報じたが、ケニヤッタ大統領および中国外務省はこれを否定している。
ケニア第二の人口をもつ同国最大の港湾都市。モンバサ港には世界から多くの船舶が出入りし、その一角であるキリンディニ港にはクルーズ客船が多数来航する。本土との間は2つの入り江で分けられ、北部は橋で、西はコーズウェーで、南はフェリーで通じている。市街地は本土まで拡大している。近隣の都市としては、約100キロ北東にマリンディ、130キロ南西にタンザニアのタンガが位置している。モンバサはケニアのみならず、港を持たないウガンダ・ルワンダ・ブルンジや、コンゴ民主共和国・タンザニア・スーダンの一部の外港として機能している。石油を完全輸入するケニアの輸入港で、モンバサにある国営製油所で精製した石油はパイプラインでナイロビとその先へ輸送される。ケニア鉄道が首都ナイロビを経由してウガンダのカンパラまで通じており、また高速道路がナイロビやタンザニアのダルエスサラームへと通じている。モイ国際空港がある。空港やホテルにあるタクシーより、市民の足としてはマタトゥ（ミニバス）、トゥクトゥク（3輪車）、ボダボダ（自転車）がある。
ムスリム商人の活動が盛んになるにつれ、インド洋交易の拠点の一つとして栄えた。1331年には、イブン・バットゥータもこの街を訪れている。1498年のヴァスコ・ダ・ガマ以来、ポルトガルが進出し、現地勢力とポルトガルの抗争が続いた。18世紀半ばには、アラビア半島南部で勢力を伸ばしていたオマーンが、ポルトガル勢力をモンバサから駆逐した。18世紀後半、オマーン本土で内乱が起きると、土着化したオマーン人豪族マズルイ家がモンバサを支配下に収め独立したが、1828年、オマーンのスルタンサイイド・サイードの攻撃に屈し、再びオマーン領となった。19世紀後半になると、イギリスの支配下におかれ、イギリス領東アフリカの重要な外港となった。1896年よりウガンダに向かって鉄道敷設が始まり、1901年にはビクトリア湖付近のキスムまで、1931年にはカンパラにまで開通した。2002年11月にアル・カーイダの犯行と見られる、イスラエル人を狙ったホテル爆発事件が発生し、ケニア人が巻き込まれ13名が死亡した。同日にモイ国際空港ではイスラエル航空機へミサイルが発射されたが無事であった。
湾岸戦争以降、赤外線技術がより広く普及するようになった反面、対抗手段も普及することとなってしまった。よってそれらに優位に立つため、近年では紫外線を利用した半導体センサー技術や画像認識技術の研究が進められている。紫外線は赤外線に比べて波長が短いため、大気による減衰で長距離は伝播せず、赤外線に比べて光学センサーの分解能が上げやすく鮮明な画像が得られる、同様の波長を放つ自然現象が太陽の他にほとんど無い、などの特徴がある。
1980年代以降、赤外線画像技術が発展し、フォークランド紛争や湾岸戦争など近年の戦争では大きな影響を与え始めた。ミサイルの分野で言えば、赤外線シーカーの性能が向上し、太陽やフレアでは簡単にだまされなくなってきた。そのため、敵ミサイルのシーカー部に直接高出力のアークライトまたはレーザーを照射することによりミサイルを逸らせようと試みるようになっていった。米空軍ではF-15戦闘機に装備されるなどしている。（ミサイル警報装置の「AAQ-24 ネメシス」を参照）
NetBurstマイクロアーキテクチャは、パイプライン段数を増やすことにより分岐予測ミスのペナルティが増加してクロック周波数あたりの性能が低下しても、それを上回るだけクロック周波数が向上すればトータルの性能は向上する、という理論に基づき設計された。これは、半導体プロセスが微細化すれば動作周波数は向上し、消費電力は下がるというスケーリング則が成立し続けることを前提としたものであった。一般的に、発熱や消費電力は動作クロックに比例して大きくなる。スケーリング則が成り立っていた2000年代初頭までは、製造プロセスを微細化することで動作電圧を低減し発熱や消費電力を抑えることができたが、微細化がより高度になることによりリーク（漏れ）電流と呼ばれる電流が問題視されるようになった。漏れ電流はどのような半導体でも発生する。コンピュータ以外も含むいかなる回路の中で、漏れ電流はその回路の動作に悪影響を与える存在として排除の対象となる。特にnm(ナノメートル)単位で設計されるようになった集積度の極めて高いマイクロプロセッサ類では、それまで大きな問題にならなかった漏れ電流が、実際の動作による消費電力と大差ないところまで増えてしまい、半導体業界全体の問題となった。その中でも業界最大手のIntelは、業界の最先端を走っていたことからその問題に大きくつまずくことになる。130nmプロセス世代では、その前世代の180nmプロセスからの移行で、漏れ電流の増加より電圧低減による省消費電力化の効果が勝っていたが、90nmプロセスになると漏れ電流が極端に増加してしまった。動作クロックを高めることで性能向上を図るPentium 4では、この問題が小型なコンピューター本体・CPU冷却装置の低コスト化や冷却騒音低減、低消費電力が求められるモバイル向けで顕著にあらわれた。同様の問題はAMDのAthlon 64でも発生したが、Athlon 64はクロックあたりの処理能力を高めるという従来の手法を踏襲したことと、製造技術にSOI(Silicon on Insulator)を採用し、その影響を大きく抑えることに成功した。ただし、AMDの次世代マイクロアーキテクチャの開発には少なからずの影響を及ぼした。Pentium 4においても漏れ電流抑制技術が採用されたが、Intelは高コストで製造に手間が掛かるSOIを敬遠し、歪みシリコンと呼ばれる技術に留まった。その結果、消費電力の大きさがPentium 4の欠点としてクローズアップされた。