『姫-クラシックガール-』（ひめ クラシックガール）は、茶木ひろみによる日本の漫画作品。1986年、「週刊マーガレット」（集英社）にて2号から9号まで連載された。単行本は同社のマーガレットコミックスから刊行されたが、絶版となり、その後ソノラマコミック文庫（朝日ソノラマ）にて復刊されている。全1巻。2018年から「幻の少女」と改題してKindle独占で「幻の少女」１、２巻を電子配信中。
山口県防府市出身。東京教育大学附属駒場高等学校（現筑波大学附属駒場高等学校）を経て、1969年一橋大学社会学部を卒業し、ソニー入社。おもに広報畑を歩む。1995年ソニー総合企画部門事業戦略担当部長マーケティング戦略部長、1997年ソニーオーストラリア代表取締役社長、2001年ソニー・ピクチャーズ エンタテインメント株式会社代表取締役社長就任。同年映画作品の総合的配給のため、ソニー・ピクチャーズテレビジョン・ジャパンと合併。ネット配信事業の検討に入る。2002年インターネット上に有料会員制サイト「Movie Eater」を開設し、ネット投票を利用した人気映画の再上映事業等を開始。2003年DVDプレーヤー の普及に伴い、レンタルビデオ点向けDVDにつき、従来リース方式がとられていたところ、市場拡大のため売り切り方式に切り替えた。2004年ソニーエンジニアリング株式会社取締役副社長就任。2005年退任。2007年、緑資源機構談合事件を受けて、2008年に廃止されることとなった独立行政法人緑資源機構の理事長に就任。2008年には緑資源機構廃止に伴い同機構の農用地整備事業を引き継ぐ独立行政法人森林総合研究所の理事（業務承継円滑化・適正化担当） 兼森林農地整備センター所長に就任。緑資源機構廃止に伴う、関係機関への事業移管・継承や労使協議、談合再発防止策の実施等に取り組んだ。2012年退任。
町田 治之（まちだ はるゆき、1946年10月8日 - ）は日本の実業家。ソニー・ピクチャーズ エンタテインメント社長を経て、緑資源機構談合事件を受け混乱の最中にあった独立行政法人緑資源機構理事長や、森林農地整備センター初代所長を務め談合防止策の実施等にあたった
EUV光子が吸収される場合、ちょうどX線または電子線が物体に吸収される場合に生じることのように、光電子(photoelectron)と二次電子(secondary electron)がイオン化によって生成される。生成量は明確ではないが、平均で約4個の二次電子がEUV光子毎にで生成されると推測された。これらの二次電子は、数から十数eVのエネルギーを持っており、目的の化学反応を始める前にフォトレジスト(下記参照)内部の十数ナノメーターを移動する。これは、ハロゲン化銀写真フィルム中の潜像形成のための光電子泳動に非常に似ている。このやや大きな距離の要因は、ポリマーに排除体積相互作用(excluded volume interaction)があるという事実である。最近の実際のEUV印刷テストでは、たとえ光学解像度およびフォトレジスト構成が制限因子でなかったとしても、30 nmの空間を解像出来なかったと判明した。具体的に、より高い処理能力を得るため化学増幅を利用するフォトレジスト(化学増幅型レジスト)において：e⁻ + 酸発生剤(acid generator) -> アニオン -> 解離アニオン生成この反応は、「電子付着(electron attachment)」や「解離性電子付着(dissociative electron attachment)」としても知られ、その時点での捕捉が最も容易であるため、基本的に電子が停止するまで減速した後生じる可能性が最も高い。電子付着の断面積は高エネルギーの電子エネルギーに反比例するが、0のエネルギーにおいて最大の制限値に接近する。他方では、最低のエネルギー(数 eVかそこら、あるいは解離性付着が支配的な領域)の平均自由行程が、10 nmをはるかに上回ことは既に知られており、それゆえこのスケールにおいて分解能が確実に達成される能力を制限している。 さらに、20 eV未満のエネルギーを持った電子は、レジストからの水素とフッ素の陰イオンの脱着が可能であり、それはEUV光学系への潜在的な損害につながるEUVフォトレジストイメージはピッチとおよそ等しい厚さのレジストを必要とすることがよくある。これはEUV吸収によりレジストの底のほうまでに少ない光しか届かなくなることによるだけでなく、二次電子からの前方散乱にもよる（低エネルギー電子線リソグラフィに似る）。反対に、薄いレジストは下層のフィルムへの損傷をもたらす入射光の多くの部分を伝達するが、にもかかわらず同じレベルの吸収を満たすためにより多くの照射を必要とする。光子の吸収深度は電子の脱出深さを超過するので、電子の放出は結局遅くなり、それらのもつエネルギーは最終的に熱として消散される。1 mJ/cm²のEUV照射は10.9 μC/cm²当量の光電子線量を生じる。現状の実証では10 mJ/cm²の照射を越える。109 μC/cm²の光電子線量当量である。より小さな形状を作るためにより高線量および（または）レジストの薄膜化を採用することは、単にフォトレジストの底面層の照射増加をもたらすのみである。これは、実質的にイメージコントラストを低下せしめる光電子と二次電子の別の重要な供給源が加えられる。さらに、下層への電離放射線障害の可能性を増加させる。分解能を不鮮明にする二次電子および光電子の範囲は、線量、表面汚染、温度などのような要因に依存する。