『藤氏家伝』下巻に、神亀年間（724年 - 729年）の暦算における第一人者として名前をあげられている。元正天皇は養老5年（721年）1月、「文人・武士は国家の重んじるものであり、医術と卜筮、方術は、古今貴ばれるものである。百僚の中から学業を深く修め、師範に堪える者をあげて、賞賜を加えて後進を勧め励ますことにする」として、算術に優れたものとして、山口田主・私部石村とともに絁10疋・絹糸10絇・麻布20端・鍬20口を与えられた、とある。これには、皇太子首皇子（のちの聖武天皇）の教育のため、文芸学術に優れたものを近侍させたものとも見られ、直前の記事には、退朝（役所から下がること）の後、東宮に侍らせた人物のリストが見える。また、この直前には地震が2回あり、詔の始めに「風雨・雷震の異有らば、各、極言・忠正の志を在（たも）つべし」とあり、天皇は災害が天下が治まっていないために起こっていると恐れていた節がある。養老5年が辛酉の年であったことも影響している。天平2年（730年）諸の博士が高齢で老衰してきたことから学業を後進に教授することになった際、三田次は田主・石村とともに2人の弟子を取って七曜・頒暦を学ばせるように命ぜられている。以後の動静は不明である。
志斐氏は百済からの渡来人である四比氏とは異なり、中臣氏系列の氏族で、和泉国に本拠地があった。氏の名前は中臣氏の一族の一部が「強ひ語り」に従事していたことから来ているようである。『新撰姓氏録』「和泉国神別」に「大中臣朝臣同祖」・「天児屋命之後也」となっている。
このケーペウスは、リュクールゴス（アレオスの子）の子で、アンカイオスと兄弟。カリュドーンの猪狩りに参加したが、アンカイオスそのほかの数名とともに、アタランテーと狩に出ることを拒否した。このケーペウスは、もしかしたら上記2番目のケーペウスと同一人物かもしれない。
このケーペウスは、アルカディア、テゲアーの王アレオスの子で、アウゲー、リュクールゴスと兄弟。20人の息子と1女ステロペーがいた。アルゴナウタイの1人とも言われる。ヘーラクレースはスパルタのヒッポコオーンを攻めるとき、テゲアーに来て、軍勢に加わることを求めた。しかしケーペウスは隣国アルゴスの侵略を恐れて断った。そこでヘーラクレースは女神アテーナーからゴルゴーンの蛇の頭髪をもらい、敵を撃退するすべとしてステロペーに与えた。こうしてケーペウスは20人の息子たちとともに戦争に加わったが、息子たちともども戦死してしまった。
このケーペウスは、エジプト王ベーロスの子で、アイギュプトス、ダナオス、ピーネウスと兄弟。エティオピアの王で、カッシオペイアの夫、アンドロメダーの父である。カッシオペイアが自分の美しさを自慢したため、ネーレーイスたちの怒りをかい、アンドロメダーを神託に従って海の怪物の生贄に供さなければならなかった。しかしエティオピアを通りかかったペルセウスによってアンドロメダーは救い出された。神話では目立たない存在だが、ヒュギーヌスによればケーペウスは、ペルセウスがアンドロメダーを連れ去ろうとしたとき、アンドロメダーの求婚者アゲーノール（ふつう、求婚者はピーネウス）と共謀してペルセウスを殺そうとしたため、ゴルゴーンの首によって石に変えられたと述べている。またケーペウスはフェニキアの王で、イオペーを妻としたという話もある。後にアテーナーによって空に上げられ、ケフェウス座となった。
1992年の5月に戸田競艇場でデビュー。2000年、宮島競艇場で行われた第5回オーシャンカップで、SG初出場。その3年後の2003年、戸田競艇場で行われた第38回総理大臣杯に、一般戦優勝回数上位者として出場。SG初優出を果たし、優勝戦の1号艇を手に入れる。その優勝戦でインコースから逃げ切り、ガッツポーズをしたままゴールインし、SG初制覇。同年、児島競艇場での51周年競走でGI初優勝。現在SG1勝、GI1勝。
噴霧乾燥はスプレードライまたはスプレードライングとも呼ばれる。これは食品や医薬品といった熱で傷みやすい材料を乾燥させる好ましい方法である。安定した粒度分布（particle size distribution）となるので、触媒のような製品の乾燥に用いられる。一般に空気を加熱して乾燥媒体として用いるが、エタノールのような可燃性液体を溶媒とする場合や酸素感受性の製品である場合には、窒素ガスなどを乾燥媒体として用いる。また、製品によっては比較的低温の気体を用いる場合や減圧環境で行うこともある。制御された液滴の霧として液体や泥漿を分散させるために、噴霧乾燥器は数種類の噴霧器（アトマイザー）またはスプレーノズルを使っている。これらで一般のものは、回転円盤ノズルと single-fluid pressure swirl nozzle（仮訳：単流体圧力渦ノズル）である。あるいはいくつかのアプリケーションにおいては、二流体ノズルまたは超音波ノズルが使われる場合もある。工程上の必要に応じて10-500μmの適切な液滴サイズが選ばれる。一般のアプリケーションの多くは、直径100-200μmの範囲にある。加熱乾燥気体は、アトマイザーの噴霧方向と同方向あるいは逆方向に流される。順方向の流れはシステムの内での粒子の滞留時間を短くすることができ、粉体分離器（一般的にサイクロン装置）がより効率的に動く。逆方向流の方式はチャンバー内の粒子滞留時間を長くし、通常は流動床式システムと一対で使用される。技術の基本特許についてはインスタントコーヒーの発明された1900年代初頭には開発されていたとみられ、現在では特許にかかる論点はすべて応用特許の部類となり基本技術の使用については制限はない。