オーストラリア州代表選手権（Australian Provincial Championship）は、2006年に開催されていたオーストラリアのラグビーユニオン国内トップリーグである。オーストラリアラグビー協会がスーパー14（現スーパーラグビー）に次ぐレベルの大会を模索し、スーパー14に参戦している国内4協会によるリーグ戦として開始された。
アルピン朝（Alpin dynasty）は、843年から1034年まで続いたスコットランドの王朝。ダルリアダ王といわれるアルピンを始祖とする。アルピン朝時代の約200年間については詳しいことは伝わっていないが、この間、ヴァイキングやイングランド小王国からの侵略を受けた。また、王位継承においては、「長子相続」ではなく「タニストリー」という制度をとり、王家の一族の中からふさわしい者が王として選ばれた。そのため、前王を殺害して王位に即くというケースが続いた。マルカム2世はこのタニストリーを廃止したものの、自身には娘2人しかおらず、結局2人の娘の子孫の間で殺戮による王位継承が繰り返されたが、最終的には長女ベソックの子孫がアサル朝としてスコットランド王位を継承した。
『アフタヌーンシーズン増刊』（アフタヌーンシーズンぞうかん）は、かつて講談社が発行していた漫画雑誌。『月刊アフタヌーン』の増刊号として創刊され、1987年9月から1988年末までの全8号と、1999年から2002年まで全14号の、二つの時期において発行された。なお、後続の増刊誌として2008年創刊の『good!アフタヌーン』がある。本誌アフタヌーンで連載を持つ作家の読み切り作品の他、「アフタヌーン四季賞」出身の新人による連載や、四季賞入賞作品などが掲載された。2002年の休刊に際しては、『蟲師』、『もっけ』、『ラブやん』、『ななはん』、『SHADOW SKILL』など、一部の連載作品が本誌『アフタヌーン』へと移籍した。
モハ135・クハ1210は事実上固定編成として、モハ136・137は多賀線などにおける区間運用もしくは増結用車として、大きな改造を受けることなく運用された。しかし、車体の老朽化が進行したことから、モハ135・クハ1210が500系モハ504・クハ1504に名義を譲って1978年（昭和53年）6月30日付けで事実上廃車となったのを皮切りに、1981年（昭和56年）5月にはモハ136が500系モハ505に名義を譲り、最後まで残存したモハ137も1983年（昭和58年）5月に500系モハ506に名義を譲って廃車され、本形式は形式消滅した。
奥村政信の門人といわれる。奥村氏。奥村源六と号し、落款に「大和絵師」と冠することが多かった。政信の子、あるいは養子、兄弟等とする諸説がある。享保（1716年‐1736年）前、中期に作画をしており、横判、細判の墨摺筆彩色の絵が10点ほどと紅絵が確認されている。代表作として、横中判の墨摺筆彩画「うき世きぬたうち」が挙げられる。画風は政信に酷似しているが、僅かに源六の個性が認められる。その殆どが和泉屋権四郎版であった。初代の源八というのは奥村政信のことを指しており、享保期に通塩町に地本問屋、奥村屋(鶴寿堂)を開業した政信からその店の経営を受け継いで奥村屋の2代目となり、天明期まで営業していた。版元としては政信の紅絵、漆絵、奥村利信の漆絵、鳥居清満、北尾政演の錦絵を出版している。
1997年10月29日、アントン・ラヴェイはカリフォルニア州サンフランシスコにあるセントメアリー医療センターで肺水腫のため亡くなった。彼がサタン教会の代表者であるにもかかわらず、カトリック系であるセントメアリー医療センターに搬送されたのは、たまたまそこが便利だっただけである。憶測もあったせいで、彼の死亡証明書の日付は実際よりも2日遅い10月31日(ハロウィン)の朝ということになっていた。招待された人だけが参列できる、サタン教会の密葬により火葬され、カリフォルニア州コルマに埋葬された。ラヴェイ没後、バートンが協会の代表を務めたが、後にピーター・H・ギルモアに代表の座を譲った。
ロスト・ウィークエンド・カクテル・ラウンジでのウーリッツァー・オルガンの演奏オルガン奏者としてだけでなく、の超常現象に関する研究もあって地元の名士に仲間入りしたラヴェイは多くの名士を呼んでパーティーをよく開き、 Carin de Plessin,マイケル・ハーナー, Chester A. Arthur III, フォレスト・J・アッカーマン, フリッツ・ライバー, Dr. Cecil E. Nixon 、ケネス・アンガーといった人物もパーティーに来場した。
半導体工場の生産ラインは、それ自体が巨大なクリーンルームとなっている。生物学的クリーンルームよりも、半導体製造現場のほうが遥かに清浄度が高い。ウェハー上の1つの細菌細胞はトランジスタ100個近くを覆い隠す。2008年現在の先端プロセス・ルールである45nmはウイルス以下の大きさである。製造中の半導体は人間がいる環境ではどこにでもあるナトリウムに大変弱く、それが絶縁膜に浸透する為、特にCMOSトランジスタには致命的とも言える。半導体工場のクリーンルーム内に導入される空気は、部屋や場所ごとに設定されたクリーン度に応じて、何度もHEPAフィルターやULPAフィルターで空中微粒子を濾しとられたものが使われる。また水はイオン交換樹脂とフィルターによって空気同様に水中微粒子を徹底的に除去された超純水を使用している。大量のナトリウムを含み、皮膚から大量の角質細胞の破片を落下させ、振動をもたらす人体は半導体プロセスにとって害をなす以外の何物でもなく、クリーンスーツ、いわゆる“宇宙服”を着て製造ラインを汚染しないようにしている。もっとも工場は高度に自動化されており、人間が製造ラインに出向くのは機械の故障といったトラブルがあった時だけである。