1993年（平成5年）3月に開館したガラス工芸の美術館で、ガラス工芸家で同館の館長を努める神谷一彦（カズヒコ）が設立した。美術館にはカズヒコ自身の作品を多数展示しているほか、2002年（平成14年）にギネス記録に認定された巨大万華鏡「スフィア」が展示されている。また、「映画とてっぽう展示館」を併設しておりモデルガンの展示も行っている。このほか、ガラス体験教室があり万華鏡やステンドグラス、サンドブラスト（ガラスエッチング）などのガラス工芸を体験することができる。
2019年10月6日（日）18:30 - 20:57に放送。恵は火曜ドラマ、石塚は金曜ドラマ、小林は日曜劇場の応援団長を務めながら、実況・デモンストレーションも担当。
2019年7月1日20:00 - 22:57に放送 。北海道地方では最高視聴率21.1%を記録した。今回も前回同様、応援団長がいる。石塚は火曜ドラマ、恵は金曜ドラマ、小林は日曜劇場の応援団長を務めながら、実況・デモンストレーションも担当した。ビッグチャレンジのスペシャル賞品は、今回も豪華客船10日間の旅だった。
2019年1月1日18:00 - 21:00に『関口宏の東京フレンドパーク2019 元日から大激突!! 新春ドラマVSバラエティ番組の顔大集合SP!!』として放送。特番時代で初の月曜日以外での放送、かつ元日の放送はレギュラー時代の2009年の「トップアスリート軍団4チーム対抗戦」以来10年ぶり。今回は形式が変更され、全ドラマから2人ずつの計6人で「ドラマチーム」として1つのチームを結成、人気バラエティ番組の出演者6人による「バラエティチーム」と対戦する2チーム対抗戦となり、前者に恵、後者に石塚が『応援団長』として参加。視聴率は13.4%（ビデオリサーチ調べ、関東地区・世帯・リアルタイム）。基本ルールは、これまでと同様に両チームがアトラクションに挑戦し、クリアすると金貨を獲得。全アトラクション終了時点で、獲得した金貨の枚数が多いチームが勝利。「ビッグチャレンジ」に挑戦できる。今回のビッグチャレンジのスペシャル賞品は2018夏と同じくチーム全員分の地中海クルーズ10日間の旅。データ放送でも「ビッグチャレンジ」で獲得した賞品が当たる企画も実施した。
2018年7月2日19:00 - 22:00に『関口宏の東京フレンドパーク2018 7月ドラマ大集合SP!!』として放送。前回同様『フラッシュニュース』は内包での放送だが、1年振りの3時間放送となる。今回のビッグチャレンジのスペシャル賞品はチーム4人分の「地中海」クルーズ10日間の旅。松本が7投中5投目で獲得し、残りの2投はスペシャル賞品がメンバーのリクエスト賞品全てを獲得できる「全部」（レギュラー時代の視聴者向けスペシャル賞品と同じ）に変更された。
2018年1月8日19:00 - 21:00に『関口宏の東京フレンドパーク2018 新春ドラマ大集合SP!!』として放送。関口宏の東京フレンドパークシリーズ放送開始から25周年、放送時間は2時間枠に戻るも、『JNNフラッシュニュース』は内包されての放送となる。今回のビッグチャレンジのスペシャル賞品は、2017年冬と同じ100人分の「箱根」での打ち上げ旅行。今回からビッグチャレンジのリクエスト賞品がドラマ制作チームへの差し入れから、レギュラー放送時代と同じく個人への希望賞品へと変更された。なお、敗者チームの当たりゾーンに的中した場合、当たったゾーンのチームが個人への希望賞品を1つ選択できる。
2017年7月3日19:00 - 21:50(JST)に『関口宏の東京フレンドパーク2017 7月ドラマ大集合SP!!』が、TBS系列にて放送される2017年7月期の新ドラマの対抗戦として放送された。放送時間は、前回（2017新春）の2時間枠から約1時間拡大され、3時間枠へと変更された。今回のビッグチャレンジのスペシャル賞品は100人分の「日光」打ち上げ旅行だった。。視聴率は12.0%（ビデオリサーチ調べ、関東地区・世帯・リアルタイム）。
関東地区ほか一部地域では2017年2月5日（日曜日）の14:30 - 15:54（『スパニチ!!』枠）に再放送されたが、ドラマ関連のナレーションや放送時間のテロップを差し替え、一部アトラクションがダイジェスト版になるなどの再編集をして放送された。
半導体(IC、LSI)の露光工程において、微小パターン形成には、波長の短い光を用いた露光が必要となる。このフォトリソグラフィには、紫外線が使用される。フォトリソグラフィでは、半導体表面に塗布された、フォトレジストと呼ばれる感光性の樹脂に、フォトマスクと呼ばれるガラス板上に描かれた図形を通して紫外線を照射し、マスク上に書かれた構造をフォトレジスト上に転写する。その後、この様に形成されたレジストをさらにマスクとして、エッチング、メタル形成、酸化膜形成等を行い、目的の構造を作成する。初期のフォトリソグラフィでは、光源にg線 (436 nm) が使用されていたが、その後、加工構造の微細化に伴い、i線 (365 nm)、KrFエキシマレーザー (248 nm)、ArFエキシマレーザー (193 nm)、F₂エキシマレーザー (157 nm) と短波長化が進み、更に短波長化を進めるため、これらの液浸エキシマレーザーも開発されている。研究段階ではEUV（EUVリソグラフィ）、X線を用いた露光装置もある。この様なフォトリソグラフィは半導体やICのみならず、プリント基板の製造においても使用されており、紫外線はエレクトロニクス産業では広く使用されている。