磁山文化（紀元前6000年？～紀元前5000年？）の代表遺跡は河北省武安県磁山。円形・楕円形の竪穴式住居に暮らし、粟作などの畑作農業が行われていた。紅褐色の夾砂陶を特色とする。
北辛文化（紀元前6000年？～紀元前5000年？）の代表遺跡は山東省滕県官橋鎮北辛村。黄褐色の陶器を特色とする。
老官台文化（紀元前6000年？～紀元前5000年？）の代表遺跡は陝西省華県の老官台遺跡。円形の竪穴式住居に暮らし、粟作などの畑作農業が行われていた。暗紅色の夾砂陶を特色とする。
裴李崗文化（紀元前7000年？～紀元前5000年？）の代表遺跡は河南省新鄭県裴李崗。円形・方形の竪穴式住居に暮らし、粟などの畑作農業が行われていた。艶出しした紅褐色の陶器や磨製石器などを特色とする。
旧石川県庁として1924年（大正13年）6月8日に竣工。石川県内の建築物としては初めて鉄筋コンクリート構造を採用したもので、国会議事堂などの設計を手掛けた矢橋賢吉による近代的な建築物である。石川県庁が金沢市鞍月に移転するまでは、永らく広坂地区のランドマークとして位置づけられていた。外観には武豊産のスクラッチタイルを使用したり、建設当時としては最新設備であった水洗式便所を採用するなど近代的な技術も取り入れている。2003年（平成15年）1月に、石川県庁舎の金沢市鞍月への移転に伴い跡地利用が浮上し、旧庁舎を活用。金沢城公園側はガラス張り構造とし、金沢市役所側は庁舎をそのまま保存する形で開業した。また、現在の施設には免震構造を採用している。
『ファッショは始まっている』で著者のオウム真理教青山吉伸弁護士と対談。オウム真理教国土利用計画法違反事件について教団を擁護し国家権力を非難する。また『週刊金曜日』1995年2月24日号と3月3日号に「拉致された坂本弁護士の周辺にただよう権力介在も疑惑」を寄稿。失踪する以前の坂本堤弁護士が国鉄分割民営化問題を手がけていたことから、坂本堤弁護士一家殺害事件は「国家権力による拉致事件であり、オウム真理教は関係ないと断言できる」と発言した。
1929年千葉県生まれ。東京大学大学院宗教学宗教史学博士課程単位取得。和歌山大学、中京大学を経て、宗教社会学研究に従事。大本教や、「宗教と国家権力の関わり」を研究対象とする。
この町の各地区には、合わせて9園の幼稚園または託児所がある。ヴェルメーデ、ラムスベック、ヌットラーには基礎課程学校がある。オストヴィヒ地区のベストヴィヒ学校センターは町立の本課程学校と実科学校からなる。オストヴィヒには学習に重点を置いた養護学校もある。聖マリア・マグダレーナ・ポステル姉妹団はベルククロスター職業補習高等専門学校や療養職従事者のための教育アカデミーを運営している。ホーホザウアーラント市民大学はベストヴィヒにも教育課程を設けている。
ベストヴィヒでは地方面を有する日刊紙として、WAZ-メディアグループに属すヴェストファーレンポストとヴェストフェリシェ・ルントシャウが刊行されている。この他に、水曜日と日曜日にフリーペーパー「ザウアーラントクリーア」が刊行されている。ローカル・ラジオでは、ラジオ・ザウアーラントがメシェデ送信所経由で放送を行っている。
ベストヴィヒは連邦道 B7号線および州道 L776号線沿いに位置している。連邦アウトバーン A46号線のアルンスベルク - ベストヴィヒ区間は現在ヴェルメーデ地区が終点となっている。A46号線の東側、ブリーロン/ゲッティンゲン方面の延伸工事は2009年末に始まった。ヴェルメーデとヌットラーとの間の 6 km の区間は2015年までに完成する予定である。新しいアウトバーンの区間のうち 2.5 km 以上が橋梁上を通っている。タールブリュッケ・ヌットラーは、全長 660 m でノルトライン＝ヴェストファーレン州で最長であるばかりか、谷からの高さ 115 m も同州で最高である。地方バスが周辺都市との間を定期的に運行している。
ハードウエア技術に関しては、基本的には、EDSAC、UNIVAC、IBM、IILIACやCDCやクレイで設計された方法となんら変わりのないものである。時間をかけて成熟化することによって、データフローアルゴリズムに適したハードウエアが開発できるようになったことも大きな進歩であった。基本的には、CMOS-FETが開発されたことによって、低消費電力が達成されることとなった。さらに、絶縁層の設計を見直すことで電子移動が高速になり、それまで中心であったECLトランジスタといったデバイスを置き換えることが可能になった。電子の高速移動に関しては、江崎ダイオードから始まるトンネル効果ダイオード、HEMT等の高周波デバイスが開発されたことによって将来への進歩が続いている。これらは、高周波デバイスとして宇宙通信を初め、マイクロ波通信、さらには電波天文学の世界ではかなり以前から用いられてきた。特に、ハードウエア技術の進歩をもたらしたのは、CMOS半導体の絶縁体単膜化であったり、Cuインシュレータ技術、であった。これらによって、低電力かつ高周波数のクロックにも耐えうる半導体プロセス技術が確立された。Cuインシュレータの高純度化によって、半導体内のインダクタンスを一気に低減し、非常に予測のしやすい半導体が構築できるようになったことである。また、微細加工技術によって、半導体のダイ自体をコンパクトにすることが可能になったことも、同期設計技術にとっては朗報であった。2015年4月現在、最先端の試作では10nm以下の世界に達しつつある。今後は、短波長の光源を用いて、さらなる超微細化加工技術が確立されると思われる。