ヒミルコは紀元前405年から398年まで「王」に選出されており、この間の一時期にはカルタゴに滞在していた。新たにカルタゴに支配されることとなったギリシア都市は、その支配が厳しいと感じていたが、彼自身がシケリアのカルタゴ領を統治したかは知られていない。紀元前404年になるとディオニュシオスは条約を破って、シケル人都市であるヘルベッススを攻撃したが、カルタゴはペストで弱体化していたと思われ、これに対する行動は起こしていない。紀元前403年にはディオニュシオスはシュラクサイで反乱軍に包囲されたが、カルタゴは救援のために傭兵を送ってその権力を復活させている。紀元前400年から紀元前398年にかけて、ディオニュシオスはシュラクサイの防備を大幅に強化し、大型弩弓や五段櫂船といった新兵器を開発して軍を強化した。紀元前398年、ディオニュシオスはカルタゴ領モティアを攻撃し（モティア包囲戦）、彼自身がカルタゴに仕掛けた4回の戦争の最初のものを開始した。ギリシア都市と先住民はカルタゴから離反しディオニュシオスに加担した。カルタゴ側に留まったのは、パノルムス、ソルス、セゲスタ、エンテラ、アンキラエの5都市のみであった。ギリシア軍はモティア、セゲスタ（セゲスタ包囲戦）およびエンテラを同時に包囲した。他方、ヒミルコも遠征軍の組織を開始した。
カルタゴ軍はシケリア西部からの補給を陸路に頼っていた。アクラガスの近くには、大規模な補給艦隊を停泊させることが可能な良港はなく、補給船を砂浜に引き上げると奇襲を受けて鹵獲される可能性があり、外洋に停泊させると嵐で遭難する可能性があった。ダフネウスはアクラガスから軽装歩兵や騎兵を出撃させてカルタゴ軍の補給を妨害したため、カルタゴ軍にはすぐに食料が不足し始めた。兵の士気も低下し、傭兵は反乱寸前となった。
ヒミルコの最初の仕事は、ペストに対処することであった。何もしないまま放置するとカルタゴ軍の兵力は低下し、もしヒミルコが撤退することとなったらギリシア軍はシケリアのカルタゴ領を攻撃する可能性があった。ヒミルコは有利な条件で講和をできるような状態にはなく、またカルタゴでは敗軍の将はしばしば死刑とされていた。ヒミルコは多数の牛を海へと投じ、またギリシアのクロノス神に対して子供を生贄として捧げた。カルタゴがペストを沈静化する有効な策をとったかは不明であるが、その後ペストは収まった。ヒミルコは傾斜路の建設を再開すると共に、近くの川を堰き止めて城壁への接近を容易にした。カルタゴ軍の攻城準備が整う前に、シュラクサイのダフネウスが35,000のギリシア兵をイタリア本土からの兵を率いて到着した。ヒミルコは一部の兵を主野営地に残してアクラガスを見張らさせ、傭兵部隊をギリシア軍に向けた。ダフネウスはカルタゴ軍傭兵部隊に勝利し、敗残兵は主野営地に逃げたために、東の野営地を占領した。ヒミルコは勝ち誇るギリシア軍にあえて戦いを挑むことはしなかったが、撤退もしなかった。
淡水では上記のように日本ではC. hirundinella とC. cornutum の2種が古くから知られる。ただし岡田他(1965)では、この両種共に普通種であると記しているのに対して、水野(1964)ではC. cornutum について、教科書などに取り上げられてはいるものの、実際には珍種である旨を記している。滋賀県の理科教材研究会編(2005)でも普通には前者しか見られないと記しており、この点では一致している。前者は角の長さや形など、形態的に変異が多いことも知られている。海洋には遙かに多くの種があり、中でもツノオビムシ C. tripos は日本近海ではもっとも普通に見出される。
ユーケラチウム亜属 Euceratium は2本の後ろ角が大きく曲がって前に伸び、そのために全体が碇の形になったもの。ツノオビムシ C. tripos など。
アンフィケラチウム亜属 Amphyceratium は、3本の角を持つが、前角と左後角が特に長く発達し、全体として細長い棒状になっている。ユミツノオビムシ C. fuscus など。
ケラチウム亜属 Ceratium は、前角と２本の後角があり、それぞれの出た方向に真っ直ぐに伸びる。淡水産のマミズツノオビムシ C, hirundinella など。
アーキーケラチウム亜属 Archaeceratium は上殻が平らに広がり、前角がない。海産で、フウセンツノオビムシ C. gravidium　など。
最初のエッチングプロセスでは、液相のエッチャントを用いる。ウェハーはエッチャントの槽に浸すことができ、エッチャントは良いプロセス制御を実現するために攪拌する必要がある。例えば、緩衝フッ化水素酸(BHF)は、シリコン基板上で二酸化シリコンをエッチングするために一般的に使われる。様々な特殊なエッチャントを使用して、エッチングされた表面を特徴づけることができる。ウェットエッチングは普通等方性であるため、厚い膜をエッチングするときに大きなバイアスが生じる。また、大量の有毒廃棄物の処分も必要である。これらの理由により、最先端のプロセスで使われることはほとんどない。しかし、フォトレジストに使われる現像液はウェットエッチングと類似のものである。液体へ浸す代わりに、単一ウェハーマシンはベルヌーイの定理を用いて気体（通常は純粋な窒素）を使いエッチャントを片方に適用しながら、反対側を緩衝および保護する。これは前面もしくは背面のいずれかに行うことができる。エッチングの化学物質は、マシン内にあるときに上面に塗られ、底面は効果を受けない。このエッチング方法は「バックエンド」プロセス(BEOL)の直前に特に効果的である。BEOLでは普通、ウェーハはバックグラインド後に非常に薄くなり、熱や機械的ストレスに非常に敏感となる。数マイクロメートルの薄い層をエッチングすると、バックグラインド中に生じた微小な亀裂が取り除かれ、破損することなくウェーハの強度と柔軟性が劇的に向上する。