前作「READY STEADY GO」に続く再始動後2作目のシングルで、同年3月31日に発売された9thアルバム『SMILE』の先行シングルとして発売された。また、オリコンシングルチャートでは、前作に続き3作連続通算12作目となる首位獲得となった。カップリングでは「ボーカルであるhyde以外のメンバーが「READY STEADY GO」を歌う」というユニークな試みがなされており、歌い方など、それぞれのバージョンでメンバーの個性がしっかりと反映されている。なお、この各メンバーのボーカルトラックレコーディングはじゃんけんによって決められ（『SMILE』初回限定盤付属DVD参照）、ボーカル一発録りというものだった。ちなみに3人とも、曲の初めはアルバムバージョンのみに存在する「Are you ready?」の掛け声から始まる。ちなみに、hydeは録音が始まるまでワンコーラスずつ一曲で複数人のボーカルを聞けるアレンジだと思い込んでいたとも語っていた。初回限定盤は、スーパーピクチャーレーベル仕様&IDナンバー入りフォトカード封入。発売当初は前作と同様にCCCDで販売されていたが、2005年10月26日にCD-DAで再発売された。
早稲田大学教育学部卒業。1979年アサヒビール入社。同社経営企画部中国室長、執行役員埼玉支社長、専務取締役営業統括本部長、副社長などを経て、2016年3月18日に同社社長に就任した。
1964年に雫石町と松尾村を結ぶ県道の奥産道の指定を受けて、道路の整備が始まった。山奥に産業開発と観光を目的とした道路を整備しようとする計画であった。ルートに三ツ石湿原が含まれていることが問題となっている最中に、工事による自然破壊の問題が発覚して、工事は中止され現在に至っている。通称は奥産道である。奥産道を利用した登山道も整備されている。
大松倉山と三ツ石山の鞍部にあり、ニッコウキスゲやサワギキョウ、ミズバショウなどが咲く。三ツ石湿原の中に三ツ石山荘があり、そこから山頂を望むことができる。
山頂部は岩場になっており、その先端には大きな岩がそびえ立っている。山頂部の岩場にはケルンが積まれていて、360度の展望を楽しめる。八幡平、秋田駒ヶ岳、岩手山などを見ることができる。また、三ツ石山の南西の麓にある、日本で最初に商業運転を開始した松川地熱発電所の冷却塔からの蒸気も遠望できる。休暇村網張温泉や松川温泉、滝ノ上温泉からの登山道がある。また、岩手山からの縦走路ともなっている。網張温泉スキー場のリフトを利用しての登山者も多い。工事が中止されている奥地等産業開発道路からの登山者もいる。
前作の「カラフルデイズ」から約6ヶ月ぶりのリリース。2014年5月18日に天神ベストホールで行われた第462回LinQ通常公演にて当シングルがリリースされることが発表され、2014年6月7日の第471回LinQ通常公演にて当シングルタイトル曲の「ナツコイ」が初披露された。以降6週にかけて、カップリングを含め当シングルの全楽曲（インスト除く）6曲を1曲ずつ披露していく予定になっている。 今回、LinQ初の試みとして、当シングルリリースイベント会場限定で、ミュージックカード（全30種）が販売されることが決定した。ミュージックカードを購入すると、裏面に記載されているPINコードを指定されたサイトにて入力することで、「ナツコイ」1曲をダウンロードすることができる。
ウクライナ人民共和国は、時期によっていくつかの政治中央機関によって運用されていた。大きく分ければ、ウクライナ国の時期を挟んで中央ラーダ時代とディレクトーリヤ時代とに分けられる。また、ボリシェヴィキとの戦争に敗れたのち、ポーランドで形成した亡命政府も存在した。以下、主要機関に関しての一覧とする。特徴としては、ドイツ軍との連合後はその取り決め上優先すべき事柄であった食糧調達のための大臣が置かれていること、土地解放のための大臣が置かれていることなどがあげられる。
現代のVLSIプロセスではウェットエッチングを避け、代わりにプラズマエッチングを使用する。プラズマエッチャーは、プラズマのパラメータを調整することによりいくつかのモードで動作することができる。通常のプラズマエッチングは0.1～5Torr（この圧力の単位は真空工学で一般的に使われ、1Torrは約133.3Paである）で動作する。プラズマは、エネルギーの高い中性に帯電したフリーラジカルを生成し、ウェハー表面で反応する。中性粒子はあらゆる角度からウェハーを攻撃するため、このプロセスは等方性である。プラズマエッチングは等方性（すなわち、パターン化された表面で下向きエッチング速度とほぼ同じ側面のアンダーカット速度を示す）にも、異方性（すなわち、下向きエッチング速度よりも小さい側面アンダーカット速度を示す）にもなりうる。このような異方性は、深掘りRIEで最大化される。プラズマエッチングに対して使われる異方性という用語は、方位依存性エッチングを指すときに使われる同じ用語と混同すべきではない。プラズマのソースガスには通常、塩素やフッ素が豊富な小分子が含まれている。例えば、四塩化炭素 (CCl₄) はシリコンとアルミニウムをエッチングし、トリフルオロメタンは二酸化ケイ素と窒化ケイ素をエッチングする。酸素を含むプラズマは、フォトレジストを酸化し（プラズマ灰化）その除去を促進する。イオンミリングまたはスパッタエッチングでは低圧力、多くは10⁻⁴ Torr(10 mPa)が使われる。希ガス（多くはAr⁺）のエネルギーの高いイオンをウェハーに衝突させることで、運動量を移動させ基板から原子をたたき出す。エッチングはほぼ一方向からウェハーに近づくイオンにより行われるため、このプロセスは高い異方性がある。その一方、選択性は低い傾向がある。反応性イオンエッチング(RIE)は、スパッタエッチングとプラズマエッチングの間の条件（10⁻³～10⁻¹ Torr）で動作する。深掘りRIE(DRIE)は、RIE技術を改良し深く狭い形を作る。