ニューヨーク州のイサカで育つ。ニューヨーク州立大学フレドニア校で学んだ後に演劇学校に通い、East Coast's prestigious Long Wharf Theatre Companyに参加、以後20年以上舞台に立っている。1980年には舞台Still Lifeでオビー賞を受賞。20年以上舞台やテレビで活躍し、1990年にケビン・コスナー監督の映画『ダンス・ウィズ・ウルブズ』に出演、アカデミー助演女優賞などにノミネートされ高い評価を得た。2年後の『パッション・フィッシュ』ではアカデミー主演女優賞にノミネート。2009年よりテレビシリーズ『クローザー』に準レギュラーで出演。『クローザー』終了後は同じ役を脇役から主人公に据えたスピンオフ作品『Major Crimes 〜重大犯罪課』に出演している。
マドリード近郊の複数のジュニアチームでプレーした後、ログロニェス、サンタンデール、セルタ等でプレー。その後1948年にレアル・マドリードと契約。その後10年間にわたってプレーし、リーガ・エスパニョーラ優勝4回、UEFAチャンピオンズカップ優勝3回を経験した。スペイン代表選出も7キャップを数える。引退後はレアル・マドリードのBチームであるADプルス・ウルトラで監督を務めた後、1960年にレアル・マドリードのトップチームの監督に就任。1973年まで監督を務め、その間、リーガ・エスパニョーラ優勝9回、コパ・デル・レイ優勝2回、ヨーロピアン・カップ優勝2回、インターコンチネンタルカップ優勝1回など華々しい実績を挙げている。その後グラナダ、エルクレス、ラスパルマス、セビージャ等で監督を歴任した後、1982年から1988年までスペイン代表監督。1984年ヨーロッパ選手権準優勝、1986年メキシコワールドカップベスト8の成績を残している。
1981年10月27日、ウィットリー・ベイで中流家庭に生まれる。幼少期より演劇を好み、17歳でインデペンデント・スクールを中退して王立演劇学校に進んだ。
ニューヨークのイタリア系アメリカ人の家柄であるモネッティ家は、当主ジーノが銀行家として一代で財を成したが、ジーノは家では暴君であった。そのため、彼には4人の息子がいたが、長男ジョー、三男トニー、四男ピエトロはジーノを恐れ、憎んでいた。しかし、次男のマックスだけは、頭も良く敏腕な弁護士だったので、ジーノに可愛がられており、マックスもまたジーノを尊敬していた。そんなある日、ジーノが銀行法違反の罪で告発された。ジーノは息子たちに助けを求めたが、ジョー、トニー、ピエトロはそれを拒絶、マックスだけがただ1人父の味方となり、父を救うために陪審員を買収しようとしたが、ジョーの密告で逮捕され、7年の懲役刑に処せられる。彼の服役中、ジーノは息子たちに銀行を奪われ、失意のうちに死んだ。7年後、出所したマックスは復讐を考えるが、家庭の不和が父の性格に起因した事、これ以上醜い金の争いに汲々とすることは良くないと思い考えを改め、かねてから交際していたアイリーンとの生活が自分の行くべき道だとの思いに至り、彼女と共に旅立っていった。
大正7年、日本女子大学の新入生、柏木志津は学園生活を謳歌していた。大正11年、卒業の時に校長や吉崎先生に請われ、桂華寮の寮長となる。その年、恩田ら5人の学生が入寮する。大正15年、恩田らは卒業し、自立を目指していくが、時代は徐々に変化していく。
『スクールガール・セレナーデ 桂華學女小夜曲』は、日本テレビが開局35周年記念番組ドラマスペシャルとして、日テレ系で1988年11月11日（金曜）21：00～22：52に放送されたテレビドラマである。原作は林えり子の『日本女子大桂華寮』。大正から昭和にかけて女子大の寮の寮長を中心に、女性の自立と時代の動きに巻込まれていく卒業生を描いたドラマ。
半導体の微細化に伴い、フォトマスク作成の技術も高い精度が求められコストも増大している。1つの半導体チップを作るには、各層ごとのレチクルが合計で数十枚ほど求められ、2004年では、0.18umプロセスのマスクセットを製造するのに約3,200万円、0.13umで約8,000万円、90nmで1億8,000万円にもなると云われていた[1]。2008年現在の1セットのレチクル価格は65nm世代で約1億円とされ、世代交代されつある45nm世代で約2億円、32nm世代で約4億円に増大するとされる。1990年代の0.5umのマスクセットで数百万円オーダーだったのに比べ、指数関数的に増大している。試作時のフォトマスクのコスト増を回避するために、1セットのマスクセットに、複数の試作チップを載せてコストを分担する。1ショットに複数の異なるチップが転写されるため、周期的な模様からピザマスクと呼ばれる。複数のプロジェクトで乗り合いの形になるため、期日が限定されているシャトルウエハという形態をとるが、プロセス調整の自由は失われる。1990年代後半から一般化した、干渉を利用したフォトマスク上の工夫によって露光波長より微細な回路配線を作り込む技術では、フォトマスクの検査に今では1台35-40億円もの検査装置が必要となり、この検査だけでフォトマスクのコストの40%近くも占めるようになっている。今後の22nm世代では、波長を13.5nmの極端紫外線（extreme UV, EUV）で露光する技術や、フォトマスクを使用せず、1万本以上の多数の電子ビームを並列的にウエハ上に照射して回路パターンを描画する技術などの使用が研究されており、半導体の製造装置メーカーであるクレステックと、東北大学の江刺正喜教授の開発チームが、2014年までの製品化を目指している。