風の松原（かぜのまつばら）とは、秋田県能代市の海岸に面した約700万本のクロマツによる砂防林のことである。760haの全域が保安林に指定されている。林内には、サイクリングコースやジョギングコースが設けられ、市民の憩いの場にもなっている。
1975年（昭和50年）開館。旭川市民文化会館条例に基づいて旭川市民文化会館運営審議会が発足し、運営などに関して教育委員会の諮問に応じている。1997年（平成9年）より自主制作事業として『こども芸術劇場』を開催している。開館後40年以上経過しているため施設の老朽化が進んでおり、2016年には同じく老朽化が進んでいて隣接している旭川市庁舎（旭川市役所）との一体的な敷地利用で建替えする計画が明らかにされたが、市議会等の反発を受け建替計画は事実上撤回され、当面は現施設を補修しながら利用を継続することになった。
青森県道129号関ケ平五代線・青森県道28号岩崎西目屋弘前線が当地を横断し、岩木川の支流相馬川の合流地点下流、岩木川南側の地区。川をはさんで北は如来瀬、北東から東南にかけて黒滝、南は水木在家、南西から西北は紙漉沢に接する。
殻でのヘリウムフラッシュは、核でのヘリウムフラッシュといくらか似ているが、それほど激しくはなく、縮退物質で起こる訳ではないので、暴走やヘリウム点火は生じない。漸近巨星分枝の恒星では、核の外側の殻で定期的に起こる。恒星は、核内で利用可能なヘリウムのほとんどを燃やし尽くし、炭素と酸素のみで構成されるようになる。ヘリウム核融合は、この核の周りの薄い殻の中で続くが、ヘリウムはそのうち使い尽くされる。そうするとヘリウム層の上の層で水素核融合が開始できるようになり、ヘリウムが十分溜まるとヘリウム核融合が再点火し、熱パルスを発生して、恒星は一時的に膨張して明るくなる（ヘリウム核融合のエネルギーが恒星表面に届くまでには長い時間がかかるため、明るさのパルスは遅れる）。このようなパルスは数百年間続き、1万年から10万年ごとに繰り返していると考えられている。フラッシュ後、ヘリウム核融合は、約40%の速度で、ヘリウム殻が消費され尽くすまで続く。熱パルスは、恒星の周りのガスや塵を除去する。
伴星から白色矮星に水素ガスが降着している状況では、水素は常に核融合してヘリウムに変化している。このヘリウムは、恒星表面近くの殻を形成し得る。ヘリウムの質量が十分に大きい時にはヘリウムフラッシュが起こり、暴走核融合が新星を引き起こす。
ヘリウムフラッシュ(Helium flash)とは、太陽質量の約0.5倍から2.25倍程度の比較的軽い恒星の核や降着が起こっている白色矮星の表面で見られるヘリウムの核融合の暴走である。この規模の恒星内において、ヘリウムが縮退している状態、即ち熱圧力よりも量子力学的圧力の大きさのほうが支配的で、核融合反応を起こしている部分の体積がもっぱら量子力学的圧力と重力との釣り合いによって定まっている状態になると、温度が少々上昇しても体積は変化しない。このため、何らかの理由で核融合反応が加速し温度が上昇しても、その部位の体積の膨張やそれに伴う冷却にはつながらず、温度上昇はさらなる核融合を促すことになる。その結果、ヘリウムの核融合反応が急激に進行し大量のエネルギーが放出される。これは、核融合反応をしている領域が十分高温になって、熱圧力が再び支配的になるまで続く。熱圧力が十分大きくなれば、それに応じて反応領域は膨張し温度が下がるため、核融合反応の加速が抑えられ暴走は止まる。部分的に似ているが暴走には至らない過程は、大きな恒星の外層の殻でも起こる。
SU-8は、一般に使用されるエポキシ樹脂であるEPON SU-8をベースにしたネガティブフォトレジストである。0.1 μm から 2 mm までの厚みでスピンコートあるいは塗布できる、粘性の高い高分子で、標準的なコンタクトリソグラフィーのプロセスにも対応している。高アスペクト比 の構造を形成できることが特徴で、アスペクト比20以上の構造を形成することもできる。SU-8は、波長の365nmの紫外線を最も吸収する。SU-8を紫外線で露光し、さらに95℃程度の高温で加熱(ポストエクスポージャーベーク:PEB)すると、SU-8の鎖状高分子が架橋し、硬質のエポキシ樹脂となる。SU-8の現像（未架橋部分の溶解）には、主に、PGMEA(2-Methoxy-1-methylethyl acetate; CAS Number: 142300-82-1)が用いられる。SU-8は、通常のフォトレジストに比べて、剥離が非常に難しい（溶解させて剥離するのは困難だが、N-メチルピロリドンで、膨潤させて基板から剥がすことは可能である）。SU-8は、もともとマイクロエレクトロニクス業界における、半導体デバイス製造のための高分解能のマスクを形成するためのフォトレジストとして開発された。現在では、主に、マイクロ流体デバイス（主にソフトリソグラフィ(Soft Lithography)が用いられるが、ナノインプリント・リソグラフィ(Nanoimprint Lithography)のような他のインプリント技術も使われる）や、MEMSの構成要素の製造に使用されている。また、生体適合性もあるため、Bio-MEMSの分野でも多く用いられている。SU-8は紫外光領域で高い透過性を示すため、高さ数百μmでほぼ垂直の側壁をもつ構造の形成を可能にする。露光・PEB、そして現像を経たSU-8は、高度に架橋されているため、薬品や放射線に対する高い耐性を示す。また、架橋したSU-8は、真空中において非常に低いアウトガス性を示すが、露光されていない状態では、ガスを放出する傾向がある。