2008年現在、ハードディスクを中心とする磁気記憶装置はコンピュータの大容量記憶装置として使われ、アナログの音声/ビデオの記録には磁気テープが使われている。ただし、音楽/ビデオ制作の大部分はデジタルシステムに移行しており、ハードディスクがその分野でも急激に広まりつつある。デジタルテープとテープライブラリは、大容量記憶装置として記録保管用やバックアップ用によく使われている。フロッピーディスクは古いコンピュータやソフトウェアが必要としているため、最小限の利用が見られる。他にも、銀行の小切手（MICR）、クレジットカードやデビットカード（磁気ストライプ付きカード）などに磁気記録が用いられている。
磁気記録媒体に使用される磁性体にはヒステリシスがあり直線性が悪い。しかし記録時に記録可能な上限周波数を超える高周波信号（オーディオ用では 50 - 200 kHz 程度）を重畳すると直線性が大幅に改善される。これは交流バイアスと呼ばれ、オーディオ用アナログテープレコーダーではほぼ不可欠な技術となっている。交流バイアス発明以前は直流バイアスが用いられていたが、交流バイアスの発明と特許期間の終了によってごく低価格のレコーダーを除き駆逐された。重畳する交流バイアスの量によって特性が変化する。バイアス量を増やすと歪は低下するが、高域の感度が低下したり高域の最大記録レベルが低下したりするのでバランスをとる必要がある。バイアス量を増やしていくと信号に対する感度は高くなるが、さらに増やすと逆に低下する。最大感度を与えるバイアス量をピークバイアスといい（ただし信号の周波数によりピークバイアスは異なる）、低い周波数でのピークバイアス付近が最適バイアスとして使われることが多い。ただし低い周波数ではバイアス量を変えても感度の変化がゆるやかな割に、高い周波数での特性はバイアス量をわずかに変えただけで大きく変わってしまい、判定が難しくばらつきも大きくなるので、実際には高い周波数の信号でピークバイアスを超えて感度が何デシベルか低下する値が使われたり、低い周波数と高い周波数の最大記録レベルの差などの方法でバイアス量が決められる。媒体ごとにバイアス特性が異なるのでそれぞれに最適なバイアスがあるわけだが、互換性上取り決めがある場合が多い。
磁気記録媒体は、逐次アクセスメモリとランダムアクセスメモリに分類できるが、その区別は必ずしも明確ではない。磁気ワイヤの場合、磁気ヘッドはその表面のごく一部にしかアクセスできない。ワイヤの他の部分にアクセスするには、ワイヤを巻き取って進めたり戻したりして必要な部分がヘッドの位置に来るようにしなければならない。そのため、ある特定の箇所にアクセスするのにかかる時間は、現在位置からの距離に依存する（したがって逐次アクセスメモリである）。磁気コアメモリの場合は全く異なり、いつでも任意の箇所のコアにアクセスできる（したがってランダムアクセスメモリである）。ハードディスクや最近のリニアサーペンタイン方式の磁気テープ装置は、厳密にはどちらにも分類できない。どちらも多数のトラックがあり、複数の磁気ヘッドはトラック間を移動するのに若干時間がかかるし、トラック内の必要な箇所がヘッド位置に来るまでも若干時間がかかる。したがって、磁気媒体の位置によってアクセス時間は異なる。ハードディスクではこの時間はだいたい10ms以内だが、磁気テープでは100秒ほどかかることもある。
垂直磁気記録方式（すいちょくじききろくほうしき）は、磁化膜(磁性体)に対して垂直に磁化する記録方式。1975年当時東北大学教授の岩崎俊一により、従来の水平磁気記録方式に対する優位性が提唱された。六角板状バリウムフェライトなどの磁性体を使った垂直磁気記録テープは1970年代後半に実用化された。また1980年代にはMOで採用、近年では磁気ディスク、特にハードディスクドライブにも採用されはじめている。
水平磁気記録方式（すいへいじききろくほうしき）は、磁化膜に対し磁気異方性を水平になるよう磁性体を配置し、磁化する記録方式。磁気ディスクにおいて長らく使用され続けている方式である。面内記録方式ともいう。他に垂直磁気記録方式、回転磁気記録方式などがある。磁界方向が向き合っているため隣接した磁区同士で反発や吸引を引き起こし、高密度化すると磁力の減衰が起こってしまう問題がある。
この美術館の構想はそもそも、社団法人日展ほか大きな美術団体の公募展が東京都が所有権を持つ東京都美術館の使用を占めており、非東京都民が公募展を開催する余地がなかったこと、および日本全国規模の公募展が開催可能な国立施設の必要性が求められたことが発端となっている。その後、美術家や公募団体が文化庁や政党、各地方の国会議員に働きかけた結果、1995年以降、各公募団体の代表作家たちや美術評論家を中心に、国立の新美術展示場建設構想の調査がはじまる。場所は六本木の東京大学生産技術研究所（駒場に移転）の跡地があてられ、建設費は380億円を予定していた。当初は「ナショナル・ギャラリー（仮称）」と呼ばれ、日本の芸術文化の育成・国際的な芸術情報発信拠点としての役割が期待されていた。活動内容は複数の公募展の同時並行開催と、新聞社などの主催の大規模企画展のための会場貸しとされ、美術品コレクションや学芸員は置かない方針だった。しかしこれに対して、公募団体側も国側も新美術館を通して何を実現したいのか、という展望や戦略がないまま、箱の建設のみを進めていたという、ハード面のみ重視する姿勢に批判もあった。また、ナショナル・ギャラリーという名称になれば、日本国外から来る観光客が、ワシントンD.C.のナショナルギャラリーやロンドンのナショナルギャラリーと同様の美術館施設と勘違いして来館する恐れがあるという批判を受けて「ナショナル・ギャラリー（仮称）」は正式名称には採用されず、公募により「国立新美術館」という名称に決定した。また、外国から美術品を借りる際に、受け入れる学芸員が必要なことや、独自の展覧会も開催すべきだとの指摘を受け、数名の学芸員を置くことになった。