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落ち着いたテンポで、オーケストラの壮大さに水瀬のエモーショナルな歌声が交わった楽曲。この楽曲で用いられた楽器は7種類で12人の演奏者が参加しており、楽器数と演奏者数はこれまでの水瀬の楽曲で最も多い（楽器数は「MELODY FLAG」と同数）。作詞・作曲・編曲はnozomiとKOUGAが担当していて、この2人はテレビ朝日系列の音楽番組『musicる TV』の「ミリオン連発音楽作家塾」からプロになった作詞家・作曲家である。KOUGAはピアノも担当している。これまでにKOUGAはつばきファクトリーや℃-uteなどのアーティストの楽曲を制作しており、TV番組のBGMやインディーズの楽曲を制作していたnozomiにとっては「Starry Wish」がメジャーデビュー作品である。プロデュースはこれまでの水瀬の楽曲に引き続きKING RECORDSの森井佑介とSony Music Artistsの八十島耕治が務めている。TVアニメ『ViVid Strike!』のエンディングテーマとして制作されたので、作品に寄り添う曲にするために水瀬はシナリオを全話読んだうえで録音に臨んだ。ただし、水瀬は自らが演じる『ViVid Strike!』のキャラクター「フーカ・レヴェントン」としてではなく「エンディングを歌う水瀬いのりの立ち位置」で歌っていると話している。タイトルについても当初はアニメのテーマやフーカ・レヴェントンの性格から「強さ」や「まっすぐさ」といった意味が込められた案が考えられていたが、最終的には直接的な熱量ではなく「じわじわと熱さを感じる曲」として「Starry Wish」というタイトルに決まった。これに対して小倉の歌うオープニングテーマ「Future Strike」はアニメに寄り添ったロックチューンで、小倉はレコーディングのときは作品のことだけを思い浮かべて歌っていると話しており、歌詞もアニメの2人のヒロインの関係性を表したものとなっている。この2曲について水瀬は「唯ちゃんのOPが燃えるような赤い炎だとしたら、私のEDは青い炎というイメージがありました」と話している。
2016年11月9日にKING AMUSEMENT CREATIVEより発売された。初回封入特典として「特製トレカ」が封入されたほかに、特定の販売店で購入した場合は先着で各チェーン店ごとに全12種類のブロマイドやクリアファイルが特典として配布された。また、水瀬の楽曲で初めての台湾盤が2016年11月16日にWarner Music Taiwan（中国語: 華納音樂 (台灣)）より発売された。2016年11月・12月には日本各地と台湾で発売記念イベントが予定されていたが中止となっている。シングル『Starry Wish』には「夏の約束」と「MELODY FLAG」の2曲のカップリング曲が収録されている。カップリング曲もメディアで使用されており、2曲目の「夏の約束」はシチュエーションCD『√HAPPY+SUGAR=VACATION』の主題歌に起用され、3曲目の「MELODY FLAG」は文化放送のラジオ番組『水瀬いのり MELODY FLAG』のテーマソングに起用されている。この楽曲のプロモーションは主にTVアニメ『ViVid Strike!』に関連づけた形で行われた。初めて楽曲の一部が公開されたのは『ViVid Strike!』のWeb限定SPOT映像である。2016年11月にはTOKYO MXなどで放送されたアニメソング系の音楽情報番組『リスアニ！TV 5th Season』第33回に水瀬が出演して楽曲と『ViVid Strike!』について話をしている。そのほかにも水瀬が『ViVid Strike!』で共演する小倉唯と共に表紙を飾った声優情報雑誌『声優グランプリ』2016年11月号などにインタビュー・広告が掲載され、『フリーペーパーアニカン』Vol.172では『ViVid Strike』の特集として水瀬、小倉、西村純二監督のインタビューとともに『Starry Wish』の広告が掲載されている。
『Starry Wish』は初週に推定16,055枚を売り上げ、オリコン週間CDランキングで8位を獲得した。これは、これまでの水瀬の楽曲で最高の売り上げであり、オリコン週間CDランキングの一桁順位と初週売上の1万枚越えも『Starry Wish』が初めてとなる。2016年11月21日のBillboard Japan Hot Animationでは6位にランクインしており、この週の声優アーティストの楽曲では最も高い順位となっている。楽曲について『ViVid Strike!』で監督を務めた西村純二は「OPもEDも曲が始まったときから素直に「来た！」と思わせるような曲になっていて、作品の内容にもすごくマッチしています」と話している。この楽曲での水瀬の歌唱は複数の高い評価を受けている。塚越淳一は音楽雑誌『アニカンR』Vol.18で「ゆったりとした曲調だが、ひとつひとつの言葉を大切に歌い上げる、彼女の表現力に驚かされた」と評価し、音楽情報サイト『CDジャーナル』では「ピアノと壮大なストリングスとで進行していく王道なバラード「Starry Wish」で、思わずその歌唱力に息を飲んでしまう」と評価されている。
ジャケット写真は、無数の星が散らばる世界で純白の衣装に身を包み微笑みかける水瀬が星の欠片を両手に浮かべるというデザインになっている。『夢のつぼみ』と『harmony ribbon』に引き続き、デザインは内田あみか、撮影は加藤アラタによって行われている。ミュージック・ビデオには白い衣装と青い衣装の二人の水瀬が出演し、白い衣装の水瀬がキャンドルに包まれる世界で歌に願いを込め、鳥籠に閉じこもっている青い衣装の水瀬の自由を祈り、それに応えるように青い衣装の水瀬は大空に羽ばたいていくという演出になっている。これは『ViVid Strike!』のヒロインであるリンネとフーカの関係性とシンクロしたストーリーになっている。水瀬がろうそくに囲まれるシーンは、廃墟風のスタジオでおよそ300個のろうそくを使用して撮影された。ミュージック・ビデオは公式YouTubeチャンネルで公開されたほかに1stアルバム『Innocent flower』初回限定盤のBlu-rayに収録されている。
2016年9月26日に開催されたNHK総合の音楽番組『シブヤノオト』・『NAOMIの部屋』の公開収録で初めて披露され、2016年10月21日に『NAOMIの部屋』でライブ・パフォーマンスが放送された。また、2017年1月1日に水瀬のYouTube公式チャンネルで公開された『2017 水瀬いのり 新春特番』では作曲を担当したKOUGAのピアノ伴奏による「Starry Wish」特別バージョンが披露されている。2017年5月7日に舞浜アンフィシアターで開催された『ViVid Strike!』のスペシャルイベント「ViVid☆PARTY」では水瀬が演じるフーカ・レヴェントンのキャラクターソング「明日への風」とともに「Starry Wish」が披露された。このほかにも『ViVid Strike!』で共演した小倉唯と上坂すみれと共に2017年3月5日に出演した『KING SUPER LIVE 2017 TRINITY』や、2017年12月2日に開催された水瀬の1stライブ『水瀬いのり 1st LIVE Ready Steady Go!』など複数のライブイベントで披露されている。
前作「WINTERDELICS.EP〜あなたといきてゆく〜」以来、およそ一年振りとなるシングル。「愁いのPrisoner」は、前作に引き続き、TAKUROが作詞・作曲を担当。テーマは「過去の恋愛と時の流れ」であり、今も愛している（囚われている）気持ちをPrisonerと言い換えた、文学的な歌詞となっている。また、「セブンイレブン」タイアップ曲となり、10月15日より各配信サイト・サブスクリプションサービスにて先行配信された。「YOUR SONG」は、TERUが作詞・作曲を担当。スペシャルオリンピックス日本公式応援ソング。テーマは「国境や全てを超えて楽しめる曲。そして夢を追いかける事をストレートに応援する歌」であり、フォーンなどが軽快に響くアップテンポな曲に仕上がっている。カップリングには2018年6月に行われた「LUNATIC FEST.」より3曲、そして8月25日と26日に行われたライブ「GLAY×HOKKAIDO 150 GLORIOUS MILLION DOLLAR NIGHT Vol.3」より2曲を収録。「CD+DVD盤」に付属するDVDには、全編LAで撮影された表題曲2曲のミュージック・ビデオに加え、その撮影に迫ったドキュメンタリー映像、そして「LUNATIC FEST.」より、カップリングに収録された3曲とは異なる3曲を収録。
オリコン週間シングルチャート(2018年11月26日付)では、初週で28,130枚を売り上げ、4位を獲得。また、シングルでのTOP10入りは、1996年に「グロリアス」が最高4位を記録してから23年連続。安室奈美恵と並び、歴代2位タイ記録となった。
投資助言業として有限会社コージュが運営している。熊本校を本校とし、福岡県、大分県、鹿児島県、東京都と全国五都市で教室を開講している。学長は井手広司。講座受講期間は1年で、講義内容は事前に告知されている。ミス・ユニバース・ジャパン熊本、ミス・ユニバース・ジャパン大分、ミス・ユニバース・ジャパン福岡のサプライヤーである。 コージュ株式スクールが主催のランチ会に代表者がゲストとして参加するという交流がある。過去、武田邦彦や京本和也などが特別記念講演会で講演している。また、Ｊリーグ所属のロアッソ熊本やギラヴァンツ北九州のスポンサーである。ロアッソ熊本については、Ｊリーグ昇格前のＪＦＬ時代から一貫してスポンサーをしている。同スクールの生徒には、芸能人の上田啓介や、２０１８ミス・コスモポリタンン日本代表森田真衣、政治家、官僚、著名弁護士などがいる。通算入学者数は２７００人（２０１８年６月時点）を超える。
本名：渡辺かおる。音楽評論家の渡辺茂の子として、東京都に生まれる。恵泉女学園中学校・高等学校を経て、早稲田大学を卒業。父がSF同人誌『宇宙塵』の同人であったため、幼い頃からSFやファンタジーに親しんだ。学生時代はワセダミステリクラブに在籍しており、また、小谷真理らが参加していたファンタジー系サークル「ローラリアス」にも参加。後に「ローラリアス」の副幹事も経験している。伯父である推理作家の氷川瓏（と渡辺剣次）の影響を受け、自らも小説を書いた。筆名はこの伯父に因む（「ひかわ（氷川）」「玲子（玲瓏：玉などが透き通るように美しいさま。）」）。レコード会社のプロモーター、ライターを経て、M・Z・ブラッドリーの『ヘラーズの冬』『ホークミストレス』を共訳（氷川玲子名義）。1988年、「バセット英雄伝 エルヴァーズ」を『ドラゴンマガジン』に連載し、小説家デビューした。「女戦士エフェラ＆ジリオラ」や「三剣物語」などのシリーズがあり、剣や魔法が登場するファンタジー（ヒロイック・ファンタジー）を得意とする。なお、1988年に最初の著書（『グラフトンの三つの流星』）を刊行した彼女が、それを持って既に病床にいた伯父、氷川瓏を訪ねたところ、瓏はわがことのように喜んだという。
ビデオは「Nemo」を監督したアンティ・ヨキネンが再びメガフォンを取って撮影が行われ、ヒューゴ・シンベリの絵画『傷ついた天使』をテーマにし、物語性のある映像になった。このビデオはニュークリア・ブラストよりYouTube上で2007年8月8日に公開された。
スパインファーム・レコードからは2007年8月22日にリリースされた。シングル「Amaranth」2バージョンを全て収録した2枚組。
ニュークリア・ブラストからは2007年8月24日と31日にリリースされた。CDが2バージョン、以上2枚組のデジパック版、DVDが1バージョン、合計4バージョンでリリースされた。
乗員乗客163名のうち、被害が少なかった機体後方の乗客など29名（乗員3名、乗客26名）が生存した。予約した前方の座席が禁煙席だったことから、喫煙ができる後方に変更したことで難を逃れた乗客もいた。この事故で、IBM PCの開発を指揮したドン・エストリッジも妻と共に犠牲になっている。
着陸のため降下中、機長は進路前方に嵐を確認し管制官に進路の変更を要請した。一度は嵐を回避したものの再び発生していた嵐に突入してしまう。着陸進入中、突然機体が急降下し始めた。パイロットはエンジンを全開にし、しばらくして急降下はおさまったものの、さらにしばらくして右に傾きながら再び急降下し始めた。墜落直前、機長は着陸復航を指示したが急激に降下している中では不可能であった。
墜落直前、副操縦士は機体を水平に戻すものの地上からわずか数メートルしかなく、空地に接地した後に高速道路に突っ込んだ。その際、右エンジンが走行していた乗用車を直撃した。その後機体はわずかに上昇したものの、再び空地に接地した。コントロールを失った機体は空港敷地内にあった貯水タンクに激突し、垂直尾翼を含む機体後部を残して大破、炎上した。
雷雲から雲が地上に向かって落ちてくる、マイクロバースト現象により発生した追い風と下降気流で機体が急降下し、一度は体勢を立て直したが、再び追い風に遭遇したことで機体が失速し、墜落した。原因となった雷雲は事故前より発生していたが（この時期のダラス空港は雷雨が頻繁に生じていた）、191便の直前に着陸進入中であったリアジェットが通常通り着陸していたことや、当時空港にマイクロバーストを検知するドップラー気象レーダーが設置されていなかったことから、事故直前まで管制官・パイロット共に予測できなかった。この事故を契機にダウンバーストを観測できるドップラー気象レーダーの空港への設置が急がれ、また機体の気象レーダーも強化が図られた。
1993年に発売したアイム・アライブがゴールドディスク認定される成功を収めたことにより、ブラウンの曲作りはより政治的、社会的な志向のテーマへと回帰した。本作では彼が作曲者として単独でクレジットされた楽曲は2曲のみであり、その他は彼のバックバンドのメンバーとの共作となっている。ボニー・レイット、デヴィッド・クロスビー、ヴォンダ・シェパード、ライ・クーダー、ワディ・ワクテルおよびデヴィッド・リンドレーがゲスト参加している。
無電極ランプ（むでんきょくランプ）（Electrodeless lamp）は、人工光源の一種であり、内部構造に電極を持たない高演色性、長寿命、省電力なランプである。
無電極ランプは、発行体の面積が水銀灯などに比べて大きいために瞳孔ルーメンの係数が大きく、同じルクスの水銀灯と比較すると2倍近く明るく感じる。水銀灯やLEDは点光源のため、瞳孔が閉じてしまう。しかし、例えば夜間道路工事の大きな提灯のような照明がそんなに明るくないのに眩しくなくて結構遠くまで良く見える現象に似ている。人間の瞳孔は直径2ミリ〜8ミリの間で変化するので面積では16倍の変化が起きるからである。また、無電極ランプは3波長で発光するために自然な光で物が見える。ちなみにルクスと色温度だけで語られていた照明だが最近はRaと言う数字を使う。いかに自然な光かという事で数値が大きいほど太陽に近い。水銀灯は40、LEDは75、無電極ランプは80である。
無電極ランプは長寿命ゆえ、ランプの取り換えが難しい箇所及び保守管理費用が高い場所に適用される。例：工場現場、教室、図書館、生物照明、ホール、会議室、デパートの天井、工場、運動場、トンネル、交通の複雑地域（街灯、パイロットランプ、橋用ランプ）、地下鉄、駅舎、水中灯、投光照明、景観照明等
初体験は中学校2年の時、同級生と行った。当初は月島うさぎ名義で活動していた。2010年1月22日、事務所スタッフブログ「AV事務所（AVプロダクション）で働く、新人モデル発掘日記」に登場している。同年4月に『乳首の弱いカノジョと僕が、互いに乳首を責めあいました。3』でAVデビュー。2011年3月12日、プライムエージェンシーを辞めてAV女優を引退することを発表。その後T-POWERSに移籍して荒木ありさ名義に改名して復帰。
IMO番号（アイエムオーばんごう）とは、国際海事機関(IMO)が個々の船舶、船舶所有者、船舶管理者に与えられる番号。海上における人命の安全のための国際条約(SOLAS)によって海事上の安全、汚染防止及び海事上の詐欺行為の防止を促進させるため規定された。船舶に与えられたIMO番号は廃船になるまで変更されることがなく、所有者や船籍が変更されたとしても変更されない。
IMO船舶識別番号は"IMO"の3文字に7桁の数字によって構成されており、海上における人命の安全のための国際条約(SOLAS)によって規定されている。(IMO Ship identification number)
ソワソンはラテン語名スエッシオ（Suessio）が訛ったものであると思われる。これは古代にはガリア人のスエッシオネス族（Suessiones）が領有していたことに由来している。ローマ帝国の城塞都市であり、末期にはキリスト教司教座が設置された。西ローマ帝国の衰亡の中でガリア北部は帝国の飛び地となり、ローマに任命された将軍であるアエギディウスが治める事実上独立した地域になった（ソワソン管区）。一般に西ローマ帝国が滅亡したとされる476年以後も、アエギディウスの子であるシアグリウスの下でローマ人による統治が続いたが、486年にクロヴィス1世がシアグリウスをソワソンの戦いで破り、メロヴィング朝の支配領域を拡大した。クロヴィスはソワソンで洗礼を受け、カトリックに改宗している。カロリング朝期には、サン・メダール修道院（L’ancienne abbaye Saint-Médard）がソワソンの宮廷として用いられた。
良如（りょうにょ、慶長17年12月7日（1613年1月27日）- 寛文2年9月7日（1662年10月18日））は、江戸時代前期の浄土真宗の僧。浄土真宗本願寺派第13世宗主。西本願寺住職。諱は光円。院号は教興院。法印大僧正。父は第12世准如。九条幸家の猶子。母は祇園宝光院（宝寿院 (祇園社の社家)参照）の息女、寿光院准勝。内室は九条幸家の娘。継室は八条宮智仁親王の娘殊光院、近江国三井の人（揚徳院寂照）。第14世寂如は子。播磨国本徳寺住職寂円は10男。
「主婦の友」（しゅふのとも）は、「主婦と生活」（主婦と生活社）、「婦人倶楽部」（講談社）などと共に婦人雑誌の代表的存在だった。主婦向けの健康、育児、料理、経済や小説、読者投書欄が掲載された。「主婦と生活」と「婦人倶楽部」が休廃刊した後、老舗の婦人雑誌では最後の一誌となった。しかし、近年は購読層や読者の生活事情の変化などもあり発行部数が低迷し、2008年5月2日発売の同年6月号（通巻1176号）をもって休刊することになり、創刊から91年の歴史に幕を下ろした。最終号には、創刊号（1917年発行）の復刻版が付録として付けられた。2014年11月20日に「主婦の友Deluxe」として復活。2018年12月に雑誌コードを取得し、宝箱（家計簿入りのギフトセット）として独立創刊。
キーロフに生まれ、5歳のころにスケートを始めた。のちにアレクサンドル・ボルツォフとカップルを結成したが、ロシア選手権で結果が残せず世界ジュニア選手権やISUジュニアグランプリなどへ出場することなくカップルは解散した。2006年夏にイリヤ・トカチェンコと新たにカップルを結成し、2006-2007年シーズンのロシア選手権のジュニアクラスで2位となり2007年世界ジュニア選手権の代表に選出された。結果は5位入賞に留まったものの、翌2007-2008年シーズンのJGPファイナルでは優勝を飾った。
四戸氏は南部支族であり、南部氏の祖・源光行（南部光行）の五男の宗清が、二戸郡四戸の郷を賜ったことに始まる。南部支族四戸氏の分流には武田氏、金田一氏、櫛引氏、中野氏、糠塚氏などの各氏がある。ただし、地名「一戸」から「九戸」のうち、「四戸」の場所が現在（西暦2015年記述）のところ特定されていない。宗清ははじめ浅水（現青森県五戸町大字浅水、三戸と五戸の中間であり、四戸の候補地のひとつ）に配置されており、ここから四戸氏と呼ばれるようになったとも考えられる。
金田一氏（きんだいちし）は、金田一城に在城している。金田一氏の系図によると南部信直に仕えた武田彦三郎の子が金田一氏を名乗ったとしており、宗朝系列の四戸氏との関連は不明である。
圓蔵・まみのお昼だヨイショ!（えんぞう・まみのおひるだヨイショ）は、ニッポン放送の月曜日から金曜日の午後12時から1時までの時間帯で放送されていたラジオ番組である。1987年4月6日から1989年3月まで2年間放送。この直前まで同じく月曜日から金曜日までの午後4時台で『橘家圓蔵のハッピーカムカム』が放送されていたが、この枠を当時新番組としてスタートした『鶴光の噂のゴールデンアワー』に譲り、午後12時台に移動。当初は橘家圓蔵のみの出演でアシスタントがいなかった為、最初の1年間のタイトルは『圓蔵のお昼だヨイショ!』だった。翌年の1988年4月からは山瀬まみがアシスタントとして加わり、タイトルもそれに合わせて『圓蔵・まみのお昼だヨイショ!』に改題されて1年間放送された。圓蔵は1960年代より本番組終了の1989年までの20年以上の長期間に渡りニッポン放送でレギュラーパーソナリティーとして活躍を続けてきたが、本番組の終了に伴いニッポン放送のレギュラーからは退くこととなった。この番組の終了後は高田文夫のラジオビバリー昼ズが開始され、放送から30年目を迎えた長寿番組として現在も続いている。
相対式ホーム2面2線を有する地上駅。保線用の線路の分岐器はあるが、絶対信号機を持たないため、停留所に分類される。御坊・和歌山方面行きホーム側に駅舎があり、反対側の紀伊田辺方面行きホームとは跨線橋によって結ばれている。古くからの木造駅舎が残っている。紀伊田辺駅管理の無人駅で、自動券売機等は設置されていない。2019年9月現在、ICOCAなどの交通系ICカードは利用できない。
視聴方法は会員登録後、視聴の権利を「回数券」と称するサービス単位により購入し（購入単位は1500円で20枚、3000円で43枚。ホームページ上に購入後の残り枚数が表示される）、番組ごとにその回数券（高画質映像(1MB)は4枚、通常映像(300kB)は2枚、音声のみは1枚）を使用し視聴する。また視聴した番組の配信期間内（視聴した番組の初回配信日から4週間後の午前10時まで）であれば、同じ番組を何度でも視聴できる。
フジテレビとGONZO(GDH)が共同で製作した長編劇場用アニメ。2006年7月8日より、丸の内ルーブル他、全国東急系にて公開された。監督は千明孝一、製作総指揮は亀山千広。当初、配給はウォルト・ディズニー・スタジオが手掛ける予定だったが、事情によりワーナー・ブラザース映画が新たに配給権を獲得した。当作品は、ジブリ作品を中心にアニメ制作で実績のある日本テレビに対し、フジテレビが新たにアニメ映画に乗り出したもの。声優だけでなく、ジブリ作品のように俳優・コメディアンもキャラクターの声に起用されている。公開当時、フジテレビではこの作品のCMが頻繁に放映された。関係者のインタビュー記事によると制作費は約10億円で、フジテレビ製作の映画としては過去最大であるという。最終興業収入成績は約20億円。
ニンテンドーDS用ソフトバンダイナムコゲームスより、2006年7月6日発売。
PlayStation 2用ソフトSCEIより、2006年7月6日発売。3本の中ではもっとも映画の内容に近い。
北東にタランテーズ谷、南西にモーリエンヌ渓谷がある、アルプス山脈を代表する峠でもある。南側のシャンブル起点の場合、水平距離換算19.3km、平均8％の勾配、北側のエグブランシュ起点の場合、水平距離換算28.3km、平均5％の勾配となっている。当年11月から翌年6月までは通行止め期間となっている。
徳島県営のダムで、勝浦川に位置する。1960年（昭和35年）に着工、1978年（昭和53年）に運用が開始される。元々はダム湖に名前はなかったが、1987年（昭和62年）の建設省と林野庁の「森と湖に親しむ旬間」によって美愁湖と名付けられた。周辺は正木ダム公園として整備されており、桜の名所として知られる。
このあたりには600年ごろにアラマンニ人が流入し、地名もこのころ付けられたとされる。1895年にホテル建設のため地盤を掘削したところ、18体の人骨と副葬品が収められた15基の墓が見つかった。村が文献に初出するのは1224年のことで、ローテンフルー＝ヴィルダースヴィル男爵からヴァエディスヴィル男爵、ヴァイゼンバーク男爵、シャルナハタール男爵へと領主が転々とした。1500年ごろにベルン市の影響下に置かれた。
ユングフラウ観光の中心地として、町内には900床のベッドを備えた16軒のホテルないしモーテルがある。ほかにも別荘が300軒と、夏季限定のキャンプ場が1箇所ある。A8高速道路やインターラーケンから鉄道でのアクセスが便利。ヴィルダースヴィル駅はシーニゲ・プラッテ鉄道とベルナーオーバーラント鉄道が乗り入れるターミナル駅である。
総面積13.5平方キロのうち21.7%が農業用地、55.9%が森林、7.9%が開拓地（建造物および道路）、14.5%が非生産地（河川、氷河および山岳）で占められる。
2010年末現在の総人口は2501人である。2007年には人口の8.3%が外国籍の人々で占められていた。ここ10年間の人口増加率は18.5%である。住民の94.5%がドイツ語を、1.0%がクロアチア語を、0.9%がイタリア語をそれぞれ母語とする。直近の2007年の選挙で最も票を集めたのは国民党で、投票総数の35.4%が流れた。以下、自由民主党（18.4%）、社会民主党（16.7%）、緑の党（12.3%）の順に続いた。2000年の人口構成は19歳以下が25%、20歳から64歳が59.6%、65歳以上が15.5%であった。25歳から64歳までの住民の78.7%が高等教育を修了している。失業率は2.69%である。2005年の時点で、43人が第一次産業の21事業所に、375人が第二次産業の24事業所に、484人が第三次産業の75事業所に勤めている。
開設記念グランプリレース（かいせつきねんグランプリレース）は、川口オートレース場で開催されるオートレースのGI競走の1つである。サンケイスポーツが協賛されている。
校正者の校正技術の確立のため、1966年より、校正技能検定を実施。2011年（平成23年）より、級の名称を、三級・四級（準四級）・五級から、上級・中級・初級に改称した。
1988年（昭和63年）に、出版界に資する人材育成について多角的に研究するために設立。
2008年のMLBドラフトら13巡目（全体409位）でロサンゼルス・エンゼルスか指名され、6月11日に契約。この年は傘下のパイオニアリーグのルーキー級オレム・オウルズで16試合に登板し、2勝0敗・防御率1.93だった。2009年は、A級シーダーラピッズ・カーネルズで28試合に登板し、4勝1敗6セーブ・防御率2.19だった。7月にA+級ランチョクカモンガ・クエークスへ昇格。22試合に登板し、2勝0敗2セーブ・防御率0.94だった。2010年は、AA級アーカンソー・トラベラーズで開幕を迎え、5月にAAA級ソルトレイク・ビーズへ昇格。AAA級ソルトレイクでは26試合に登板し、3勝2敗8セーブ・防御率1.95だった。7月26日にメジャー昇格を果たし、同日のボストン・レッドソックス戦でメジャーデビューを果たした。1点差を追う9回表から登板したが、打者4人に対し、2安打2失点1四球で1死しか取れず、途中降板となった。9月17日のタンパベイ・レイズ戦では同点の8回裏から登板し、1回を1安打3四球と荒れたものの、無失点に抑え、直後の9回表にエンゼルスが勝ち越したため、メジャー初勝利を挙げた。この年は24試合に登板し、2勝0敗1セーブ・防御率2.11だった。2011年は、開幕ロースター入りを果たしたが、4月10日にAAA級ソルトレイクへ降格。6月20日に再昇格したが、7月20日に再びAAA級ソルトレイクへ降格した。この年は14試合に登板し、0勝1敗1セーブ・防御率7.30だった。2012年4月4日に右肘の故障で15日間の故障者リスト入りし、トミー・ジョン手術を行った。5月21日に60日間の故障者リストへ異動し、シーズンを全休した。2013年3月2日に、エンゼルスと1年契約に合意。3月15日にAAA級ソルトレイクへ異動した。4月19日にメジャーへ昇格した。この年は自己最多の63試合に登板し、1勝4敗・防御率3.74だった。2014年9月2日にDFAとなった。9月8日にマイナー降格を拒否し、FAとなった。
2014年10月16日にレイズとマイナー契約を結んだが、11月20日にDFAとなった。12月4日にアトランタ・ブレーブスとマイナー契約を結んだ。2015年3月30日に傘下のAAA級グウィネット・ブレーブスへ配属され、開幕を迎えた。その後、4月24日に昇格した。9月14日に40人枠外となり、10月5日にFAとなった。
2017年7月20日にミネソタ・ツインズとマイナー契約を結び、傘下のAAA級ロチェスター・レッドウイングスに配属された。2018年2月6日、スプリングトレーニングに招待選手として参加することが決まった。
袴田は30歳で逮捕されて以来、2014年3月27日まで45年以上にわたり東京拘置所に収監拘束された（これは「世界最長収監」としてギネス世界記録に一時認定されていた）。死刑確定後は、精神に異常をきたしはじめ、親族・弁護団との面会にも応じない期間が長く続いた。その後は面会には応じるものの、拘禁反応の影響による不可解な発言が多く、特に事件や再審準備などの裁判の話題についてはまったくコミュニケーションが取れなくなっていた。このため、2009年3月2日より、袴田の姉が保佐人となっている。袴田は近年、獄中にて拘禁反応に加えて糖尿病も患っていることが判明している。なお、2014年3月27日の釈放後、袴田は都内の病院に入院していた際、拘禁反応については回復の傾向があり、糖尿病も深刻な状況ではないと診断された。同年5月27日、48年ぶりに故郷の静岡県浜松市に帰り、市内の病院に転院した。
袴田への取り調べは過酷をきわめ、炎天下で1日平均12時間、最長17時間にも及んだ。さらに取り調べ室に便器を持ち込み、取調官の前で垂れ流しにさせるなどした。睡眠時も酒浸りの泥酔者の隣の部屋にわざと収容させ、その泥酔者にわざと大声を上げさせるなどして一切の安眠もさせなかった。そして勾留期限がせまってくると取り調べはさらに過酷をきわめ、朝、昼、深夜問わず、2、3人がかりで棍棒で殴る蹴るの行為になっていき、袴田は勾留期限3日前に自供した。取調担当の刑事たちも当初は3、4人だったのが、のちに10人近くになっている。これらの違法行為については、次々と冤罪を作り上げたことで知られる紅林麻雄警部の薫陶を受けた者たちが関わったとされている。
袴田はすでに死刑判決を受けているが、同時に弁護人によって再審請求もしている。この再審とは、日本の三審制の裁判制度の中で「重大な証拠」が新たに発見された場合などに、もう一度裁判をやり直すといった制度である。しかし、上述した通り日本は三審制を導入しており、証拠が新たに出てきたからといってその都度再審をしていては三審制の本来の意図を侵害してしまうため、事件の真相を根本的に覆すような「重大な証拠」が新たに発見されたとしても、再審はなかなか認められるものではない。特に日本は再審制度のある国の中でも、裁判所が再審を認める確率が突出して低く、日本全体を見ても年平均わずか2件程度で、日本の再審制度は俗に「開かずの扉」とも呼ばれているほどである。
袴田は2008年4月に、2回目の再審請求をしている。その後、足利事件や布川事件などにおいて、かねてから冤罪が疑われていた判決確定後の裁判に対し、再審が認められて立て続けに冤罪が確定した。これを機に、国民の冤罪に対する関心は高まり、検察は2013年3月、4月、7月と続いて当時の一部の証拠を開示した。また、同年11月には、事件当時、袴田の同僚が袴田のアリバイを供述していたにもかかわらず、検察は袴田が犯人であるかのような供述に捏造していた事実が発覚した。加えて12月には被害者が当時着用していた5点の衣類に付着している血液が袴田のものではない可能性があとのDNA鑑定結果を弁護側が提出した。これらは裁判が開始して以来最大の変動でもあり、「重大な証拠」として再審が認められる可能性を大きく持った。2013年12月に、メディアでは「2014年の春ごろには再審の可否判断がされるだろう」との予想が新聞各紙にわたって掲載、同時に各ニュース番組でも報道された。2014年3月27日、静岡地裁（刑事第1部、村山浩昭裁判長・大村陽一裁判官・満田智彦裁判官）で再審が認められ、さらに死刑と拘置の執行の停止を決定、袴田は釈放された。これに対し静岡地検は東京高裁に即時抗告した。2018年6月11日、東京高裁は静岡地裁の決定に対し「地裁が認めたDNA鑑定の結果には科学的疑問が存在し、証拠として信用できない」として再審請求を棄却。弁護側は最高裁に特別抗告する見込みで、再審開始の判断は最高裁に委ねられることとなった。なお、死刑と拘置の執行停止については「袴田の年齢や生活状況などを鑑み、釈放の取り消しが相当とは言いがたい」として維持している。
第2次請求審では、犯人が着ていたとされたシャツについた血液のDNA型が袴田元被告と一致しないとの鑑定結果が出た。村山裁判長は決定理由で、DNA鑑定結果を「無罪を言い渡すべき明らかな証拠に該当する」と評価。事件の約1年後に発見され、有罪の最有力証拠とされたシャツなどの衣類について「捜査機関によって捏造された疑いのある証拠によって有罪とされ、死刑の恐怖の下で拘束されてきた」と指摘した。毎日新聞（荒木涼子）は、このことに加え、以下のような検察側の証拠捏造の疑惑を示唆した。1970年代にあった控訴審での着用実験で、（使用していたとされる）ズボンが袴田には細すぎて履くことができなかった。だが、検察側は「タグの『B』の文字は84センチの『B4』サイズの意」などと言い張り、確定判決でもその通り認定された。しかし、これは捏造とも言える主張だった。「B」についてズボン製造業者が「色を示す」と説明した調書の存在が、今回の証拠開示で明らかになった。
最高検察庁の検事として袴田事件の審理を担当した竹村照雄は、地検に眠っている証拠を「もう一回分析することはしなかった。その前の段階で有罪だと思っているから、改めて無罪のこと（証拠）をほじくることはない」と述べた。証拠の全体像を知るのは検察側だけで、何を裁判に出すかは検察の裁量に任されており、今の裁判員が始まる前の制度では、検事、検察官は、被告人を有罪するのに最も適切な証拠だけ出せばよく、それ以外の証拠は一切見せなくていい、という問題点が指摘されている。NHK解説委員の橋本淳は「（死刑判決を書いた裁判官の）熊本さんは7年前、守秘義務を破って異例の告白をしました。この中では、警察の厳しい取り調べで、袴田さんがうその自白を強いられたと見ていたこと、無罪にしようとしたが、ほかの裁判官を説得できず、心ならずも死刑判決を書いたことを明らかにしました」と指摘した。週刊現代は、袴田事件裁判にかかわった裁判官・刑事・検事を実名であげ、その裁判の不当さを批判した。「裁判所が警察・検察とグルになって、袴田さんを殺人犯に仕立て上げた構図が浮かび上がる」と表現している。2018年の東京高裁の再審請求を棄却したことについて、葛野尋之一橋大学法学部教授は「東京高裁は、有罪判決に合理的な疑いが残るかどうかを判断すべきなのに、再審請求で出された「新証拠」の個々の信用性を検討しており、問題がある」とした。
後藤忠政の製作で『BOX 袴田事件 命とは』（高橋伴明監督・2010年）が公開された。2016年2月、ドキュメンタリー映画『袴田巌 ―夢の間の世の中―』公開決定。
「スプリット・デシジョン　―袴田巌　無実の元プロボクサー―」が2019年2月からネット配信。題名は、熊本典道が無罪の心証を持ったにも拘らず有罪判決が全員一致の形で出てしまった静岡地裁判決にちなむ（判定#プロ格闘技）。作者はやはり元プロボクサーで漫画家の森重水。
8歳でサッカーを始める。1989年より地元上海の体育学院女子サッカー部門の入団試験に合格、2000年に退団するまでそこでプレーを続けた。1990年、17歳で代表に選出された。翌1991年、FIFA女子ワールドカップに初出場し、1995年･1999年･2003年と4大会に連続出場した。1999年度大会では、7ゴールを挙げてチームの大会準優勝に貢献した上、ゴールデンボール(大会最優秀選手)とゴールデンブーツ(得点王、ブラジルのシシーと同時)の2冠に輝いた。上海のチームを退団後、2001年に渡米してWUSAのアトランタ・ビートに入団。合計33試合に出場して7得点を挙げた。2003年、WUSAの財政難による休止にともない、アトランタを退団。帰国して、上海申花の女子チーム上海上視に入団した。同年引退してジャーナリストに転身。同時に復旦大学に入学し、国際関係論を学び始めた。しかし2005年12月に現役復帰し、再び上海上視および代表チームでプレーする事となった。2006年、アジアカップ終了後、怪我の悪化により再び引退。現在は上海市の行政に職員として携わっている。2014年11月、AFC初代殿堂入りを果たした。
極端紫外線は、近い将来2020年にインテル、サムスンが 7 nmノード、TSMCが 5 nm、SMICが 14 nmノードのリソグラフィーに使用することを想定して、現在開発が進められている。極端紫外線の露光装置を作っているASMLは、極端紫外線で 5 nmノードを製造するには、現在液浸20 nmノードに使われているよりも、高い開口率のレンズや、高度なマルチパターニングが必要になると推測している。2000年代初頭から次世代リソグラフィの本命と目されていたものの、2017年4月現在、試験段階であり、未だに実用化されていない。"深紫外線"という名称は過去にX線リソグラフィの補助金をアメリカの業界団体が連邦政府から得ていたため、深紫外線の波長は軟X線の一部であるが、新たに研究補助を申請する際に「X線」という名称が使えなかったので改めて「EUV」の名称で研究開発資金の援助を申請したので、呼称が「EUV」に変更されたとされる。
中性の原子や凝縮物質はEUV放射を発生することができない。物質がそれを放射するためにはイオン化をまず第一に起こさなければならない。EUV光は多価正イオンによって結合される電子でのみ発生することができる。例えば、+3の炭素イオン（3個の電子がすでに除かれている）から1つの電子を引き抜くには約65 eVを必要とする。そのような電子は典型的な価電子より強固に拘束される。多価の正イオンが存在できるのは、高温高密度プラズマの中においてのみ可能であり、それ自身EUVを強く吸収する。EUVリソグラフィ用のキセノンやスズのプラズマ源は、放電生成かレーザー生成による。十分な処理能力を得るためには100 Wを超過する出力が必要である。最先端技術の193 nmのArFエキシマレーザーは200 W/cm²の強度を提供しているが、EUVを生成するプラズマを生産するためのレーザーははるかに強力な、約10¹¹W/cm²の強度である必要がある。（レーザー出力が100 Wに達する）193 nmの光から 、（10 kWを超過するレーザーまたは等価なエネルギー源の出力を必要とする）EUV光を発生させるために、巨大なエネルギー負荷を課せられていることをこれは示している。EUV光源は20 kWのCO2レーザーによって駆動され、それは電力変換効率は~ 10 %で、消費電力は~200 kWである。参考だが、すでに実用化されている100 WのArF液浸レーザー（UV光源）は~1 %の電力変換効率であり、消費電力は~ 10 kWである。開発中のプラズマベースのEUV光源の追加特性は、それらが部分的にさえコヒーレントでないということである。これは現在の光リソグラフィーに使用されるKrFとArFのエキシマレーザーと異なっている。（多くの独立した波長のあらゆる方向に放射する）非コヒーレント光源を（波長の狭い帯域内の方向に制限のある範囲の中で放射する）部分的なコヒーレント光に変換するために、（望まない波長および方向に対する）フィルタをかけることが、電力損失（エネルギーロス）を一層低減させるために期待されている。2008年現在では開発ツールは120 Wの光源で1時間当たりウェハー4枚の処理能力を持っている。100ウェハー毎時の要求に対しては、それゆえ3 kWの光源が必要となるのだが、見通せる範囲では利用は出来ていない。しかしながら、EUVの光子計数は、フォトダイオードによって集められる1つの光子当たり生成された電子の数によって決定される。これは本質的に初期光電子のかなりばらつきのある二次電子放出比であるので、線量測定は大きいばらつきに左右されうる。実際、Gulliksonほかのデータは光電流感度の自然変動が~10 %であることを示している。より最近のシリコンフォトダイオードのデータは依然この評価と一致している。EUV線量計の校正は重要な未解決の問題である。2次電子のばらつきはアヴァランシェ・フォトダイオードのノイズでよく知られた根本原因である。高度に相対論的な真空管の自由電子レーザーとシンクロトロン放射源は、物質源よりもよい光源品質が得られるものの、高い強度を得るためには開発作業が必要となるだろう。いくつかの専用の工業用シンクロトロン光設備が建造され、それらの利用は半導体デバイスの製造も包括している。 自由電子レーザーは、単色でコヒーレントな、また広がり角の狭い光を提供する。双方ともまた、X線波長域へのシームレスな進展を与え、利用可能な波長の連続領域を提供する。
EUVリソグラフィは今日利用されている深紫外線リソグラフィと比べ、著しく異なっている。EUVは波長13.5 nmという軟X線に近い領域のため、すべての物質において、EUVを吸収する。したがって、EUVリソグラフィは真空中で発生させる必要がある。すべての光学要素は、フォトマスクを含め、中間層干渉による光を反射するよう作用する、無欠陥のMo/Si多層膜を利用しなければならない。これらの鏡は入射光線の約30%を吸収する。この制約はマスクがない干渉リソグラフィシステム（Interference lithography）で回避することができる。しかし、後者のツールは周期的なパターンのみを製造するのに限定される。現在まで構築された試作EUVLシステムは少なくとも2つの集光多層膜鏡、6つの投影多層膜鏡、また多層膜(マスク)で構成されている。光学系が利用可能なEUV光の96%を既に吸収するので、理想的なEUV光源は十分に明るい必要がある。EUV光源開発はレーザーまたは放電パルスによって生成されたプラズマに焦点が置かれている。集光鏡はプラズマに直接露出され、したがって高エネルギーのイオンから、および他の残骸(デブリ)からのダメージに脆弱である。EUVを発生する高エネルギープロセスに付随したこのダメージは、EUVリソグラフィ技術の実用的なEUV光源の実施成功を妨げている。EUV露光装置のウエハー処理能力は、生産能力の指標の一つである。EUVが高真空を要求する技術であるとすれば、処理能力は（光源出力はさておき）ツールチャンバー出し入れするウエハーの移動によって、時間当たりの少ないウエハー数で制限される。試作用EUV露光装置の別の特徴は、多層膜マスクへの（6度の角度の）斜入射照明である。回折像中にもたらされる非対称性は、パターン忠実度を下げる陰影効果を引き起こす。EUVの短い波長はレンズフレアも引き起こし、画質の完全性を損ない、線幅粗さを増大させることが知られている。  主要体積当たり（例えば20 nmの立方体）の加熱は、フォトレジストにおける高い吸収のため、DUV光子に比較して、EUVの光子あたりより高くなる。加えて、EUVリソグラフィは真空環境のため、液浸リソグラフィの水冷環境にくらべてより加熱される。加熱は多層膜鏡を使用する場合に特に深刻な問題となる。なぜなら、EUVは表面から薄い距離で吸収されるので、加熱密度が高くなるためである。結果、高い加熱負荷で水冷方式が使用されると予想される。しかしながら、結果として生じる振動は微細加工における懸案事項である。NISTとラトガース大学による最近の研究で、光電子生成および二次電子収率に影響を及ぼすEUV鏡の共鳴構造によって、多層膜光学系の汚染に多大な影響を受けることが判明した。EUVはすべての物質に大きく吸収されるので、リソグラフィ装置内部のEUV光学要素でさえ、主に明白なアブレーションとして現れる。それらのアブレーションはEUVリソグラフィに特有の新たな懸念である。従来の光学リソグラフィシステムは主に透過部品を使用しており、電子ビーム露光装置は電子の経路に部品を置かない。しかし、これらの電子は最後には露光したサンプル基板にエネルギーを注入する。
EUVが真空中で操作され、反射光学系を要求するので、ASMLに加えて、IMECによって最近研究された、EUVリソグラフィ装置には特別のオーバーレイの懸念がある。従来の真空チャックの代わりに静電チャックが使用されなければならない。したがって、静電チャックにおけるウェハークランプ変動は適切に対処する必要がある。200 nmの窒化ケイ素（それは背面冷却および放熱を可能にするために後で除去する必要がある）の背面コーティングは、有益であると判明した。この追加手順(それは既にパターンの施されたデバイス層を最初に保護することが必要な)の他に、ゾーン整列(標準部分的なものではなくウエハーを横断した線列マークをすべて使用した)もまた、一層の改良をもたらした。EUVが要求する真空環境は、多くを放熱しないウエハーを加熱することになる。牲の最初のウエハーはチャック温度を安定させるのに必要と判明した。さらに、露光加熱によるローカルのオーバーレイ修正は第二のウエハーが必要となる。したがって、1ロット当たりの余分なウエハーはEUVリソグラフィのオーバーレイ安定化に必要である。反射の使用はレチクルの平坦度およびレチクル固定にとって、ウエハー露光位置を非常に敏感にさせる。したがって、レチクル固定清浄度を維持することが必要である。
EUV光子が吸収される場合、ちょうどX線または電子線が物体に吸収される場合に生じることのように、光電子(photoelectron)と二次電子(secondary electron)がイオン化によって生成される。生成量は明確ではないが、平均で約4個の二次電子がEUV光子毎にで生成されると推測された。これらの二次電子は、数から十数eVのエネルギーを持っており、目的の化学反応を始める前にフォトレジスト(下記参照)内部の十数ナノメーターを移動する。これは、ハロゲン化銀写真フィルム中の潜像形成のための光電子泳動に非常に似ている。このやや大きな距離の要因は、ポリマーに排除体積相互作用(excluded volume interaction)があるという事実である。最近の実際のEUV印刷テストでは、たとえ光学解像度およびフォトレジスト構成が制限因子でなかったとしても、30 nmの空間を解像出来なかったと判明した。具体的に、より高い処理能力を得るため化学増幅を利用するフォトレジスト(化学増幅型レジスト)において：e⁻ + 酸発生剤(acid generator) -> アニオン -> 解離アニオン生成この反応は、「電子付着(electron attachment)」や「解離性電子付着(dissociative electron attachment)」としても知られ、その時点での捕捉が最も容易であるため、基本的に電子が停止するまで減速した後生じる可能性が最も高い。電子付着の断面積は高エネルギーの電子エネルギーに反比例するが、0のエネルギーにおいて最大の制限値に接近する。他方では、最低のエネルギー(数 eVかそこら、あるいは解離性付着が支配的な領域)の平均自由行程が、10 nmをはるかに上回ことは既に知られており、それゆえこのスケールにおいて分解能が確実に達成される能力を制限している。 さらに、20 eV未満のエネルギーを持った電子は、レジストからの水素とフッ素の陰イオンの脱着が可能であり、それはEUV光学系への潜在的な損害につながるEUVフォトレジストイメージはピッチとおよそ等しい厚さのレジストを必要とすることがよくある。これはEUV吸収によりレジストの底のほうまでに少ない光しか届かなくなることによるだけでなく、二次電子からの前方散乱にもよる（低エネルギー電子線リソグラフィに似る）。反対に、薄いレジストは下層のフィルムへの損傷をもたらす入射光の多くの部分を伝達するが、にもかかわらず同じレベルの吸収を満たすためにより多くの照射を必要とする。光子の吸収深度は電子の脱出深さを超過するので、電子の放出は結局遅くなり、それらのもつエネルギーは最終的に熱として消散される。1 mJ/cm²のEUV照射は10.9 μC/cm²当量の光電子線量を生じる。現状の実証では10 mJ/cm²の照射を越える。109 μC/cm²の光電子線量当量である。より小さな形状を作るためにより高線量および（または）レジストの薄膜化を採用することは、単にフォトレジストの底面層の照射増加をもたらすのみである。これは、実質的にイメージコントラストを低下せしめる光電子と二次電子の別の重要な供給源が加えられる。さらに、下層への電離放射線障害の可能性を増加させる。分解能を不鮮明にする二次電子および光電子の範囲は、線量、表面汚染、温度などのような要因に依存する。
EUVLは液浸リソグラフィが直面しているものと類似した特有の欠陥問題に直面している。液浸特有の欠陥は水とフォトレジスト間との最適化されていない接触によるが、EUVに関係のある欠陥は本質的にEUV放射のイオン化エネルギーに起因する。第一の問題は正帯電である。EUV放射によってレジストの表面から解放された、光電子の放出のためである。これは静電放電、あるいは、上でも言及した装置損害と同様に粒子汚染ももたらしうる。第二の問題は、周囲の、あるいはアウトガスによる炭化水素によるレジスト上の汚染物堆積である。それはEUVまたは電子で引き起こされる反応に起因する。第3の問題は、EUV放射またはEUVで生成された電子によって解離された酸素、アルゴン、または他の雰囲気ガスによる腐食である。リソグラフィチャンバー内の雰囲気ガスはガスパージや汚染削減のために使用される。これらのガスはEUV放射によりイオン化され、露出表面の近傍にプラズマ発生をもたらし、多層光学素子の障害や試料への不用意な暴露に至る。当然ながらマスク欠陥もまたEUVLの欠陥の既知な原因である。極端紫外線マスクにおける欠陥の低減は、現在EUVリソグラフィの商業化のために取り組まれる、最も重大な案件のうちの1つである。欠陥中核（すなわち空孔か粒子）は、基板上で、多層膜堆積物中に、あるいは多層膜積層の上に生じる場合がある。最終欠陥の印刷適性は、既定の位置で光の相変化および振幅変化に依存するだろう。正味の相変化および/または振幅変化は、中核欠陥の固有の効果と、欠陥の間の多層膜スタックの成長への影響をもたらす。埋没欠陥は特に油断がならず、10 nmの欠陥ですら危険であると考えられる。検知されない3 nmのマスク基板平坦度変化によって引き起こされた位相シフトは、印刷可能な欠陥を生むのに十分である。この背景にある原理は、平面からの1/4波長の偏差が、反射の後に1/2波長光路長差を生じるというものである。平面から反射される光は、1/4波長の偏差した光とで180度位相がずれる平面からの1nmの偏差さえ、画像強度の実質的減少（~20 %）に結びつくであろうことが示された。実際、100 nmの半値全幅をもつ原子スケール（0.3 - 0.5 nm）の高さの欠陥は、10 %のCDインパクトを示すことにより依然印刷可能になりえる。レンズのように、実質的に位相シフトを生じるどんな欠陥も、欠陥領域の外側へ光を散乱させる。散乱された光の量は計算可能である。更に、平坦からのその偏差が表面に関して84度の発生率のターゲット角からの偏差により、3度を超過すれば、位相欠陥の端はさらに反射率を10 %以上縮小するだろう。くわえて、位相欠陥の端部は、もしその逸脱が平面度から3度を超過する場合、表面に対して84度の目標入射角からの偏差のため、反射率を10 %以上低下させることになる。欠陥高さが浅くても、端部は依然として積層する多層膜を変形させ、多層膜が傾斜する伸長領域を生じる。変形が急峻であるほど、欠陥端部の伸長領域は狭くなり、反射率への損失が大きくなる。
ポリマーのようなレジストは80 nmのサイズで凝集することがよく知られている。高解像度レジストのHSQ（水素シルセスキオキサン）ですら15 - 20 nmにしか凝集体サイズを縮小しない。凝集体サイズより大きいラインの粗さは、凝集体サイズによって緩やかに影響される一方、凝集体サイズが線幅が明らかに下回ることは深刻な影響を受ける。
Ritucciほかは、DUV波長に比べてEUV波長にとって効率的な改良した熱剥離を報告している。EUVはすべての物質のバンドギャップを超過するので長い波長のものよりもより吸収され易く、そして同じ線量の入射エネルギーでは結果的により加熱される。~100mJ/cm²でさえ剥離をもたらすのに足りるほど熱いであろう。光増幅フォトレジストの解像度は熱で駆動される酸拡散で決定される。たとえ剥離線量が100 mJ/cm²であっても、1nm画素にわたるショット雑音が依然重大であり(3σ/avg = 36%)、画素が少なくとも5%すなわち20nm以下であるような限界寸法(critical dimension:CD)に深刻な効果となりうる。
古澤ほかは基本的な酸発生予測とシミュレーション適合を用いEUV化学増幅型レジストの点拡がり関数(point spread function)を求めた。吸収点から~20nm広がった酸発生の範囲は~40nmの解像限界を伴っている。フォトレジストが容易に酸分子を拡散するならば、EUVや他の電離放射線によって生成した小さく軽い電子が速やかに広く拡散し、期待された光学解像度を無効にする驚くべきことではない。2008年末の印刷結果に基づいたレジストの不鮮明さは10-16nmの範囲である。ハーフピッチの解像度は依然30nm以下で苦労しており、先端粗さは依然大きな問題となっている。22nmと24nmのハーフピッチに焦点を当てた2011年の研究は照射後加熱工程での温度非依存不鮮明が80度において~5nmから110度において~10nmまでの範囲であることを示唆した。二次電子不鮮明はこの範囲では観測されなかったと報告された。空間像は推定フレア（すべての長距離二次電子不鮮明を含む）を補正された。
2003年の初め、EUVLがすぐに商業化されるという楽観論が依然存在した。次に示した言葉がそれを示している：「あらゆる技術の最前面でよい進展が得られてきた。2009年での商業化は、すべてのEUVコミュニティーにおいて依然主要な目標である」 しかしながら2016年時点でEUVLはいまだ商用化されていない。EUVの難しさは、主にEUV光を発生させる難しさと、表面汚染と粗さに対するEUV光の敏感さである。マルチパターニングの台頭は、それが本来波長非依存の技術であるが、その導入をさらに危険にさらしている。インテルのJustin Rattnerは、必要な(より長波長の)マスクの生成は高性能計算の最も重要な用途であったと言及した。
2009年7月に、ASMLホールディングおよびサイマー社は、最初の完全統合型のレーザー励起プラズマ(LPP)極端紫外線(EUV)リソグラフィ光源をサイマーからASMLに出荷したことを発表した。それは次世代EUVリソグラフィスキャナの統合および試験をサポートするものである。2009年7月に、EUV基盤の論評は、著しいギャップが、特にマスク欠陥検査に残っていることを示した。このギャップは2013年まで、あるいはその後も埋められないかもしれず、それは2015年までに製造する高容量の用のEUVの普及に影響を及ぼすだろう。ごく最近では~100 nmハーフピッチの(マスク自体上に)性能を備えたEUVマスクは現時点ではEUVマスク生成の解像限界にあると示された。こうした性能は到来する300mm装置のために4倍縮小されるため、マスク自身は~25nmハーフピッチ以下でよいイメージを従来通りプリントすることができない。同じ研究では、解像度は光学系ではなく、（マスク解像度を強化しても20nm以下のハーフピッチを妨げる）レジスト応答で制限されていると繰り返し述べられている。このマスク自身上の解像限界は上で指摘したマスク製造に関わるショット雑音問題に関係している。