ナノインプリント・リソグラフィ
ナノインプリント・リソグラフィとは現在開発が進められている半導体の微細パターン転写技術である。
従来のパターン作成には縮小投影型露光装置 (ステッパー)が使用されていたが、微細化に伴い、極端紫外線露光装置の価格とパターンマスクの価格が高騰していて、導入に躊躇する半導体メーカーが続出しており、普及の妨げになっていた。ナノインプリント・リソグラフィが普及すれば生産性が向上し、半導体の製造コストの低減に大きく貢献する事が予想される。
一方、インプリント・リソグラフィには『パーシャルフィールド』という特有の問題もある。