胡正明
チェンミン・カルヴァン・フー(Chenming Calvin Hu)こと胡 正明（こ せいめい、1947年7月12日 - ）は、中国生まれのアメリカ合衆国の電子工学者である。マイクロエレクトロニクスを専門とする。カリフォルニア大学バークレー校電子工学・計算機科学部でTSMC特別名誉教授を務めている。
IEEEは胡について、「マイクロエレクトロニクスの先見者であり、金属酸化膜半導体(MOS)の信頼性とに関する彼の業績は、電子デバイスの継続的なスケーリングに大きな影響を与えた」と評している。