eddmpython/dartlab-data huggingface dataset:
저스템 반기보고서 (2023.06)
반 기 보 고 서

(제 8 기)

사업연도 2023년 01월 01일 부터
2023년 06월 30일 까지

금융위원회
한국거래소 귀중 2023년 08월 14일

제출대상법인 유형 : 주권상장법인
면제사유발생 : 해당사항 없음

회 사 명 : 주식회사 저스템
대 표 이 사 : 임 영 진
본 점 소 재 지 : 경기도 용인시 기흥구 탑실로35번길 57
(전 화) 031-831-2800
(홈페이지) http://www.justem.co.kr
작 성 책 임 자 : (직 책) 부 사 장 (성 명) 이 미 애
(전 화) 031-831-2800
1. 회사의 개요

가. 연결대상 종속회사 개황 가-1. 연결대상 종속회사 현황(요약)

(단위 : 사)

구분	연결대상회사수	주요종속회사수

기초	증가	감소	기말

상장	-	-	-	-	-

비상장	-	1	-	1	-

합계	-	1	-	1	-

※상세 현황은 '상세표-1. 연결대상 종속회사 현황(상세)' 참조

가-2. 연결대상회사의 변동내용

구 분	자회사	사 유

신규연결	플람 주식회사	신규 취득

-	-

연결제외	-	-

-	-

나. 회사의 법적·상업적 명칭당사의 명칭은 '주식회사 저스템'이라 하고, 영문으로 'Justem Co., Ltd.'라고 표기합니다. 다. 설립일자 당사는 2016년 4월 25일에 설립되었으며, 2022년 10월 28일 코스닥 상장을 승인받았습니다. 라. 본사의 주소, 전화번호, 홈페이지 주소 (1) 주 소 : 경기도 용인시 기흥구 탑실로35번길 57 (2) 전화번호 : 031-831-2800 (3) 홈페이지 : http://www.justem.co.kr/

마. 중소기업 등 해당 여부

중소기업 해당 여부	해당

벤처기업 해당 여부	해당

중견기업 해당 여부	미해당

바. 주요 사업의 내용 및 향후 추진하려는 신규 사업

회사는 반도체 제조 장비의 환경제어 System인 N2 Purge System을 통해 수율을 향상시키는 장비를 생산하는 제품을 주요사업으로 영위하고 있으며, 전체 매출액에서 관련 품목 중 LPM은 65%, CFB는 8%,BIP는 3%의 매출을 차지하고 있습니다. 또한 당사가 보유한 진공, 제어, 자동화 기술을 통해 반도체,디스플레이, 2차전지, Solar Cell, 바이오 등 고객의 Needs에 맞는 장비를 설계, 제작, 판매를 하고 있습니다.향후에는 습도 저감 모듈인 2세대 JFS로 반도체 수율을 극대화할 뿐만 아니라 디스플레이 분야에서도 OLED의 불량을 유발하는 정전기 제어를 위한 OLED 고진공 이오나이저를 중심으로 신규 사업을 추진할 예정입니다.또한 종속기업은 플라즈마를 사용하여 반도체, 디스플레이 및 태양광 산업에서 표면개질을 통한 수율 개선 및 생산성을 증대시켜주는 제품을 제작, 판매하고 있습니다.

당사의 사업과 관련한 사항은 '제 2부 발행인에 관한 사항 - Ⅱ. 사업의 내용'을 참고하시기 바랍니다.

사. 신용평가에 관한 사항

평가기준일	재무결산일	평가기관명	신용등급

2023년 05월 03일	2022년 12월 31일	나이스디앤비	A-

2023년 05월 09일	2022년 12월 31일	이크레더블	BBB+

주) 위 등급은 일반 상거래를 위해 회사가 위 평가회사로부터 받은 평가등급입니다.※ 신용평가 회사의 신용등급 체계는 다음과 같습니다.

등급기호	등급의 정의

AAA	채무이행 능력이 최고 우량한 수준임.

AA	채무이행 능력이 매우 우량하나, AAA보다는 다소 열위한 요소가 있음.

A	채무이행 능력이 우량하나, 상위 등급에 비해 경기침체 및 환경변화의 영향을 받기 쉬움.

BBB	채무이행 능력이 양호하나, 장래 경기침체 및 환경악화에 따라 채무이행 능력이 저하될 가능성이 내포되어 있음.

BB	채무이행 능력에 문제가 없으나, 경제여건 및 시장환경 변화에 따라 그 안정성면에서는 투기적인 요소가 내포되어 있음.

B	채무이행 능력이 있으나, 장래의 경제 환경 악화시 채무불이행 가능성이 있어 그 안정성면에서 투기적임.

CCC	현재시점에서 채무불이행이 발생할 가능성을 내포하고 있어 매우 투기적임.

CC	채무불이행이 발생할 가능성이 높음.

C	채무불이행이 발생할 가능성이 매우 높음.

D	현재 채무불이행 상태에 있음.

NR	허위 및 위/변조자료 제출 등 부정당한 행위가 확인되어 기존의 등급을 취소ㆍ정지ㆍ변경

주) 'AA'부터 'CCC'까지는 등급내 우열에 따라 '+' 또는 '-'를 부가함..

아. 회사의 주권상장(또는 등록ㆍ지정)여부 및 특례상장에 관한 사항

주권상장(또는 등록ㆍ지정)여부	주권상장(또는 등록ㆍ지정)일자	특례상장 등여부	특례상장 등적용법규

등록	2022년 10월 28일	-	-
2. 회사의 연혁

가. 주요 연혁당사는 설립일부터 보고서 기준일 현재까지 주된 변동내역은 다음과 같습니다.

일 자	주 요 연 혁

2016.04	주식회사 저스템 설립

2016.06	N₂ Purge Load Port 시장 진입

2017.01	임영진 대표이사 취임

2017.04	기업부설 연구소 설립

2017.07	벤처기업 등록

2017.09	N₂ FOUP Purge System 개발

2018.03	New Type Load Port Module(LPM) 개발

2018.04	B사 LPM 진입

2018.05	주식회사 젠스엠의 태양전지 사업부분 흡수합병

2018.11	대만 C사 LPM 수출 개시

2019.04	일본 C사 LPM 수출 개시

2019.06	Inno-Biz인증 획득(기술혁신형 중소기업) AA등급

2019.08	Display inkjet 用 10.5G 건조장비 개발

2019.11	소재, 부품전문기업 인증 획득

2020.01	JFS개발(세계최초 기류제어를 통한 습도제어 System)

2020.02	본점 이전(경기도 화성시 → 경기도 수원시)

2020.05	글로벌 IP 스타기업 선정

2020.07	B사 업체 등록

2020.09	싱가폴 C사 수출 개시

2020.11	반도체 수율 향상을 위한 웨이퍼 습도제어 및 모니터링 장치 개발 연구개발 참여

2020.12	1천만불 수툴의 탑 수상

2020.12	지식재산경영기업 지식재산 경영인증 / 우수기업연구소 지정 / 경기도 유망중소기업 인증

2021.01	청년친화강소기업 선정

2021.05	Microwave Plasma Source를 이용한 세라믹 표면 열처리 연구개발 참여

2021.12	소재, 부품, 장비 강소기업 100+ 선정

2021.12	무상증자 1,000% 진행

2022.02	체외진단키트 device 조립장치 개발 및 수주

2022.06	사옥 신축 및 본점이전

2022.10	코스닥 상장

2023.04	플람 주식회사 지분 인수

2023.05	화성 공장 매입(경기도 화성시 방교동 785-9)

종속기업의 설립일부터 보고서 기준일 현재까지 주된 변동내역은 다음과 같습니다.

일 자	주 요 연 혁

2016.11	플람 주식회사 설립

2017.03	창업성공패키지 사업 수행

2017.07	방위산업청 주관 창업경진대회 수상

2017.09	연구개발전담부서 인정

2018.04	벤처기업인증

2019.04	산업용 저온 플라즈마 양산화

2019.05	USC 양산 라인 적용(S사)

2019.09	의료용 저온 플라즈마 개발 완료

2022.12	저온 플라즈마 OLED 공정 도입 시작

2023.05	퍼스트쏠라 플라즈마 세정기 납품

나. 회사의 본점 소재지 및 그 변경

일자	구분	소재지

2016년 04월 25일	회사설립	경기도 용인시 기흥구 동백중앙로16번길 16-25,509호(중동)

2017년 01월 20일	본점이전	경기도 화성시 동탄하나1길 54-42, 3층(능동)

2020년 02월 12일	본점이전	경기도 수원시 권선구 오목천로132번길 13(고색동)

2022년 06월 21일	본점이전	경기도 용인시 기흥구 탑실로35번길 57(공세동)

다. 경영진 및 감사의 중요한 변동

변동일자	주총종류	선임	임기만료또는 해임

신규	재선임

2021년 10월 29일	임시주총	감사 권태호	-	-

2022년 03월 31일	정기주총	-	사내이사 김용진	-

2022년 09월 15일	임시주총	사외이사 조광희	-	-

2023년 03월 31일	정기주총	-	대표이사 임영진사내이사 윤희용사외이사 고대홍	-

라. 회사가 합병 등을 한 경우 그 내용

당사는 2023년 4월 17일 이사회 결의를 통하여 경기도 화성시 소재의 공장을 취득하였으며, 상세 내용은 아래와 같습니다.

구분	내용

1. 이사회 결의일	2023년 04월 17일

2. 자산양수일	2023년 05월 08일

3. 거래상대방	(주) 셀코스

4. 양수대상	토지 및 건물(경기도 화성시 방교동 785-9)

5. 계약의 목적 또는 기대효과	생산시설 확충을 통한 매출 성장 및 수익성 증대

6. 재무제표에 미치는 영향	유동자산 감소, 비유동자산 증가

7. 관련 공시서류 제출일	2023년 04월 17일 주요사항보고서(유형자산양수결정) 2023년 05월 08일 합병등 종료보고서

마. 그 밖에 경영활동과 관련된 중요한 사항의 발생내용

일자	주요사항	관련 공시

2022.10	코스닥 상장	[발행조건확정]증권신고서(지분증권)

2023.04	타법인 주식 취득 결정(플람 주식회사 3,063주)	타법인 주식 및 출자증권 취득결정(자율공시)

2023.05	유형자산 양수(2공장)	주요사항보고서(유형자산양수결정)

2023.05	1회차 전환사채 발행(150억)	주요사항보고서(전환사채권발행결정)
3. 자본금 변동사항

가. 자본금 변동추이(단위 : 원, 주)

종류	구분	당반기말	7기(2022년말)	6기(2021년말)	5기(2020년말)	4기(2019년말)

보통주	발행주식총수	7,121,950	7,072,225	4,895,000	420,000	420,000

액면금액	500	500	500	500	500

자본금	3,560,975,000	3,536,112,500	2,447,500,000	210,000,000	210,000,000

우선주	발행주식총수	-	-	-	50,000	50,000

액면금액	-	-	-	500	500

자본금	-	-	-	25,000,000	25,000,000

기타	발행주식총수	-	-	-	-	-

액면금액	-	-	-	-	-

자본금	-	-	-	-	-

합계	자본금	3,560,975,000	3,536,112,500	2,447,500,000	235,000,000	235,000,000

주1) 당사는 2021년 12월 27일 1:10비율로 무상증자를 실시하였습니다.주2) 2021년 회계기준이 변동(K-GAAP→K-IFRS)됨에 따라 우선주 550,000주(무상증자전 50,000주)는 상환전환우선주로 인식하였으며, 2021년 12월 31일 상환전환우선주 275,000주가 보통주로 전환되었습니다.주3) 2022년 3월 7일 상환전환우선주 275,000주가 보통주 275,000주로 전환되었습니다.주4) 주식 수 변동에 관한 내용은 Ⅲ. 재무에 관한 사항의 7-1. 증권의 발행을 통한 자금조달 실적을 참고하시길 바랍니다.
4. 주식의 총수 등

가. 주식의 총수 현황

(기준일 : 2023년 06월 30일 ) (단위 : 주)

구 분	주식의 종류	비고

보통주	우선주	합계

Ⅰ. 발행할 주식의 총수	100,000,000	-	100,000,000	-

Ⅱ. 현재까지 발행한 주식의 총수	7,121,950	550,000	7,671,950	-

Ⅲ. 현재까지 감소한 주식의 총수	-	550,000	550,000	-

1. 감자	-	-	-	-

2. 이익소각	-	-	-	-

3. 상환주식의 상환	-	-	-	-

4. 기타	-	550,000	550,000	보통주 전환

Ⅳ. 발행주식의 총수 (Ⅱ-Ⅲ)	7,121,950	-	7,121,950	-

Ⅴ. 자기주식수	75,619	-	75,619	-

Ⅵ. 유통주식수 (Ⅳ-Ⅴ)	7,046,331	-	7,046,331	-
2. 주요 제품 및 서비스

가. 주요 제품 개요당사의 환경제어 System 기술은 공정 진행 전/후의 웨이퍼를 FOUP(Front Opening Unified Pod)이란 공간에 이동과 보관할 때, FOUP 내부를 불활성 가스(N₂)로 치환하여 습도 제어 및 웨이퍼 오염도를 최소화하는 것에 목표를 두고 있으며, 반도체 공정의 미세화, 고집적화로 FOUP 내부의 수분과 잔류 Gas들이 공정 전.후 Wafer에 불량을 발생시켜 수율을 저하시키는 요인으로 작용하고, N₂주입을 통해 습도를 최소화하는 장치입니다. 주요제품은 반도체 환경제어 System입니다. 제품의 구조에 따라 ① 매엽식 장비에 장착되는 LPM, ② Batch방식으로 진행되는 장비에 장착되는 BIP, ③ Etch공정 전후 흄(Fume)을 제거하는 장치인 CFB로 구성됩니다. - LPM (Load Port Module)LPM(Load Port Module)은 반도체 제조용 웨이퍼를 담아두는 FOUP(Front Opening Universal Pod) 도어(Door)를 열거나 닫으면서 웨이퍼가 반송될 수 있도록 해주는 장치입니다.

lpm.jpg LPM

ㆍEFEM LPM 안착 후 FOUP N₂ Purge 수행
ㆍN₂ Purge System 기본 기술	ㆍ핵심 특허 보유
N₂ Leak 대응 Nozzle Rubber
Up / Down Nozzle Block

(출처 : 당사 내부자료) - CFB (Contamination Free Buffer)CFB는 반도체 생산장비 EFEM의 좌, 우측에 설치되는 장치로 ETCH 공정 전 후 잔여 Gas 등으로 인한 불량이 지속적으로 발생함에 따라 Hot N₂Purge를 통한 Cross Contamination을 방지하기 위하여 개발된 설비입니다.

cfb.jpg CFB

ㆍEFEM Storage 공간 N₂purge
Fume 발생 Etch 장비 등 사용	ㆍBuffer Cassette N₂purge
급속 습도 제어 Heating System
ㆍ급속 오염 물질 배출 다중 배기

(출처 : 당사 내부자료) - BIP (Built in Purge)BIP는 반도체 배치타입 증착기(Furnace)에 N₂를 Purge 할 수 있는 Module을 장착 및 개조하여 웨이퍼(Wafer) 보관함인 FOUP의 환경 제어 목적인 장비입니다. FOUP 內의 습도와 청정도를 제어하도록 기능을 부여하는 장치이며, 반도체 생산 원료인 웨이퍼(Wafer)의 품질과 신뢰성을 높임으로써 반도체 생산 공정 전체의 수율을 향상시키는 것이 주 목적입니다.

bip.jpg BIP

ㆍBatch type 반도체 장비 적용
다수 웨이퍼(Wafer) (50~150ea) N₂ Purge
Diffusion 등 다수 웨이퍼(Wafer) 공정 장비	ㆍ웨이퍼(Wafer) 표면 수분 제거
자연 산화막 생성 억제

(출처 : 당사 내부자료) - 고진공 이오나이저고진공 이오나이저는 OLED 증착공정에서 진공장치내에 글라스 이동간 발생하는 정전기를 제거하고, 기존의 제전장치의 단점을 개선하여 제전 성능을 높여 수율향상에 기여하는 제품입니다.

- Cold Jet Plasma(저온 플라즈마)Cold Jet Plasma(60~80℃)는 기존 고온 Plasma(180~200℃)의 단점을 보완한 제품으로써 높은 세정 능력과 수율을 올릴 수 있는 제품입니다. 기존 제품은 높은 온도에서 작동하기 때문에 열에 취약한 소재는 버닝현상 및 필름 등의 말림 현상이 있으나, 저온 플라즈마의 경우 낮은 온도에서 작동 되기 때문에 해당 문제에서 자유로울수 있는 제품입니다. - Multi Jet Plasma(멀티 젯 플라즈마)Multi Jet Plasma는 다수의 젯타입 플라즈마를 동시에 발생시켜 넓은 면적을 한번에 세정할 수 있고 다양한 형태의 제품을 플라즈마 처리해 생산력을 높여 줄 수 있는 제품입니다.
5. 위험관리 및 파생거래

가. 시장위험과 위험관리

당사는 기업공시서식 작성기준에 따른 소규모기업(최근 사업연도말 자산총액 1천억원 미만 및 매출액 500억원 미만)에 해당하므로 본 항목의 기재를 생략합니다.

나. 파생상품 및 풋백옵션 등 거래 현황당사는 당기 중 USD 통화에 대한 통화선도 거래를 해지하여 보고서 작성기준일 현재 통화선도, 이자율스왑, 통화스왑과 같은 위험회피수단의 파생상품계약을 체결하고 있지 않습니다.다만, 당사는 2023년 5월 4일 제1회 무기명식 이권부 무보증 사모 전환사채를 발행하였습니다. 자세한 내용은 Ⅲ. 재무에 관한 사항의 5. 재무제표 주석 11번 및 금융감독원 전자공시시스템 DART(http://dart.fss.or.kr)에 2023년 5월 2일 공시한 '주요사항보고서(전환사채권발행결정)'을 참고하여주시기 바랍니다.
6. 주요계약 및 연구개발활동

가. 경영상의 주요 계약당사는 보고서 제출일 현재 회사의 일상적인 영업활동 이외에 회사의 재무상태에 중요한 영향을 미치는 비경상적인 중요계약은 존재하지 않습니다. 나. 연구개발활동(1) 연구개발조직당사는 연구개발 및 기술 기반 회사로 수준 높은 연구개발 인력을 유치하기 위하여 다양한 투자를 진행하고 있습니다. 2022년 현재 전체인력의 30%로 연구개발 인력으로 구성되어 있으며, 고객사의 기술적 요구사항을 즉각적으로 대응하기 위해 연구개발 조직을 강화하여 2021년 과학기술정보통신부 우수기업연구소로 지정되었습니다.반도체, 디스플레이 장비 설계 고경력자로 구성된 연구소는 공정환경 제어기술, 진공기술, 열/플라즈마 기술, 자동화/물류 기술 등의 핵심기술을 기반으로 반도체, 디스플레이, 태양광, 2차전지, 바이오시장의 고객의 현장에서 수집된 문제점을 발굴하고, 심층적으로 검토하여 규명하고, 해결하여 고객맞춤형 솔루션을 제공하고 있습니다. 또한 시장 변화에 대응하기 위하여 기초연구와 생산을 위한 각 종 정보를 창출하고 생산부문에 전달하는 과정을 기본적인 업무로 규정합니다. 연구개발의 선순환 구조를 완성시키기 위하여 당사는 연구조직을 시스템개발, 신제품개발, 기술기획 부문으로 구분 하여 효율적으로 교육 및 업무 영향 상향을 위해 관리하고 있습니다.

(2) 연구개발비용(단위 : 원)

구분	2023년(제8기 반기)	2022년(제7기)	2021년(제6기)

정부보조금 차감 전 연구개발비용	1,472,914,090	2,791,153,892	3,040,449,655

정부보조금	124,322,976	304,784,747	230,553,616

정부보조금 차감 후 연구개발비용	1,348,591,114	2,486,369,145	2,809,896,039

연구개발비 대비 매출액 비율	7.84%	5.39%	6.27%

(3) 연구개발실적- 개발 완료 과제

연구과제	연구기관	연구결과	관련제품	사업화

습도제어 PJT 1	당사	양산	LPM (Load Port Module)	상용화

습도제어 PJT 2	당사	양산	BIP (Built in Purge)	상용화

습도제어 PJT 3	당사	양산	CFB (Contamination Free Buffer)	상용화

습도제어 PJT 4	당사	양산	JFS- 기류제어 System	상용화

제전 PJT	당사	양산	진공 이오나이저 시스템	상용화

저온 플라즈마	종속기업	양산	저온 젯 플라즈마	상용화

- 개발 진행 중인 과제

연구과제	연구기관	연구결과 및 기대효과	관련제품	비고

습도제어 PJT5	당사	고집적화.미세화 되는 반도체 공정의 EFEM 내부 습도 5%이하 달성, FOUP 내부 1% 달성	N2 순환형 EFEM 대체 습도제어 시스템	강소기업100 연구과제 추진중

OLED PJT	당사	OLED용 무기물 건조장비 공정확보로 독점 외산장비기술력을 국산 장비 기술력으로 대체	무기물 진공경화 장비	-

2차전지 PJT	당사	열처리 분야 표준화 기술확보로 다양한 분야 적용	소재 열처리 장비	경기도 소부장지원 과제 시제품 제작(과제종료)

정제 PJT	당사	N2 Purifier 표준화 기술확보로 OLED N2 물류, 연구용 N2 설비의 솔루션 확보	N2 Purifier, 순환형 제습 시스템	-

OLED PJT	종속기업	고효율 플라즈마 생성이 가능한 멀티젯 플라즈마 장치 개발해 OLED 패널 수율 향상	멀티젯 플라즈마	고해상도 OLED 핵심부품제조기술 국책과제

섬유표면처리 PJT	종속기업	섬유표면처리용 HTTC 플라즈마 소스 개발을 통한 화학약품 사용 절감 및 친환경 공정 개발	섬유용 대기압 플라즈마 세정기

섬유표면처리 PJT	종속기업	섬유원단에 기능성 특성을 부여할 수 있는 시스템 개발을 통한 친환경 표면처리 장비 개발	섬유용 대기압 플라즈마 중합 표면처리 장비

OLED PJT	종속기업	저전력 고밀도 플라즈마 생성이 가능한 확장형 플라즈마 장비 개발을 통해 OLED 패널 수율 향상	멀티젯 플라즈마

ECO W PJT	종속기업	수처리용 플라즈마 개발을 통한 반도체, OLED 제조 공정에서 사용하는 칠러 냉각수의 실시간 미생물 형성 억제를 통해 냉각수 배관 유지보수 기간을 연장하여 제품 생산량 증가	수처리 플라즈마

ECO W PJT	종속기업	수처리용 플라즈마 개발을 통해 화학전 발생시 제독수를 생성하는 장비 개발	수처리 플라즈마

ECO A PJT	종속기업	대기중의 균, 냄새등을 실시간으로 제거하는 장비 개발	에어 플라즈마

FMM PJT	종속기업	OLED 증착 마스크에 형성된 플라즈마 장비 개발을 통해 세정시 화학약움을 사용하지 않는 친황경 장비 개발	진공플라즈마

B MASK PJT	종속기업	반도체, FPD에서 회로 패턴 형성시 사용하는 Blank Mask 제조시 감광액 도포 전처리 장비 개발	저온 대기압 플라즈마

HBM PJT	종속기업	HBM 공정에 사용하는 Hybrid Bonding 공정용 Plasma 세정기 개발	진공플라즈마
1. 요약재무정보

당사는 기업공시서식 작성기준에 따른 소규모기업(최근 사업연도말 자산총액 1천억원 미만 및 매출액 500억원 미만)에 해당하므로 본 항목의 기재를 생략합니다.