제이아이테크 반기보고서 (2023.06)
2. 주요 제품 및 서비스

가. 주요 제품 등의 현황(단위: 백만원)

매출유형	품목	2023년	2022년	2021년

제10기 당반기	제9기	제8기

금액	비율	금액	비율	금액	비율

제품	Precursor	15,837	67.52%	32,271	47.26%	17,959	87.62%

PMC	1,885	8.04%	2,408	3.53%	1,479	7.22%

전자재료	331	1.41%	186	0.27%	138	0.67%

기타	36	0.16%	212	0.31%	837	4.08%

상품	5,367	22.88%	33,206	48.63%	84	0.41%

계	23,456	100.00%	68,282	100.00%	20,497	100.00%

* 연결기준으로 작성하였습니다.나. 주요 품목별 상표 및 제품의 설명

(단위: 백만원)

품목	생산(판매)개시일	주요상표	2023년 당반기 매출액(비율)	제품설명

Precursor	2015.07.31	BDEAS,BTMAS,TDMAS	15,837(67.52%)	(주1)

PMC	2018.04.20	FHP	1,885(8.04%)	(주2)

특수가스	2022.05.09	Xenon, Neon	5,295(22.57%)	(주3)

전자재료	2021.08.25	SH01,SH08,JIR001	331(1.41%)	(주4)

(주1) SI-Precursor- 용도

반도체 소자 간의 절연막

반도체 소자 내의 전자 이동막(터널옥사이드, tunnel oxide)

디스플레이 패널의 봉지제(수분 및 산소 침투 방지 역할)

- 특성

당사의 Si 프리커서는 기체-액체 반응을 통해 합성

주로 Si-N 결합을 가지는 구조로 물 혹은 산소와의 반응성이 매우 좋음

상온에서 무색액체로 존재하여 각종 반도체공정 적용에 유리함

High-K Precursor- 용도

D-RAM 소자 내의 트랜지스터 구조에서 전자를 저장할 수 있는 막을 형성함

전자 저장 능력이 좋을수록 D-RAM의 성능이 좋아짐.

현재 삼성, 하이닉스는 지르코늄, 하프늄 계열의 프리커서를 사용 중

- 특성

당사가 제조하는 high-k 물질은 고객사의 요구에 따라 완제품, 중간체 모두 대응 가능함. 일반적으로 high-k 완제품은 노란색 액체로 존재하여 공정 적용이 용이함

(주2) PMC- 용도

포토마스크케이스의 주요 제조 공정은 크게 세공정으로 구분 됩니다. 쿼츠(Quartz)->블랭크마스크(Blank Mask)->포토마스크(Photo Mask)로 구분되며, 쿼츠는 석영유리기판으로 설명할수 있고, 블랭크마스크는 반도체및 LCD,OLED 노광공정의 핵심재료인 포토마스크의 원재료로서 패턴이 노광되기전의 마스크를 의미하며,쿼츠 위에 금속박막(Cr)필름이 증착되고 그위에 감광액이 도포된 형태를 말합니다. 블랭크 마스크를 이용하여 노광,현상 및 검사와 같은 일련의 공정을 통해 포토마스크를 제조한후 칩 디자인 패턴을 웨이퍼 위에 묘화하게 됩니다. 즉, 반도체및 LCD,OLED 제조공정의 핵심 재료라 할수 있습니다,당사의 쿼츠/블랭크/포토 마스크용 케이스는 쿼츠(석영유리기판)->블랭크마스크->포토마스크->End user(반도체 및 디스 플레이 패널 제조사)로 이어지는 공정 이송 시스템에 적용 사용됩니다.

- 특성

포토마스크는 유리기판 위에 반도체및 평판 디스플레이의 미세회로를 형상화한 제품으로 포토마스크의 정밀도에 따라 반도체와 디스플레이의 품질이 좌우 될수 있을 만큼 중요한 비중을 차지합니다. 마스크는 이송시스템에서 물리적 영향이 가해지게 되고, 과도한 접촉이나 충격에 의해 파티클등 마스크에 결함을 일으키게 됩니다. 이런 공정이동간 결함(Defect)을 최소화하고 제어할수 있는 케이스의 필요성은 중요하다 할수 있습니다.

(주3) 반도체용 특수가스- 용도

네온 : 반도체 공정에서 정밀 포토리소그래피용 레이저 빛을 발생시키고, 반도체 및 평판 디스플레이용 폴리실리콘 막의 어닐링에도 사용되는 엑시머 레이저 가스 혼합물의 최대 성분입니다. 현재, 7나노 이하 초정밀 미세 EUV(극자외선) 공정에서는 EUV 장비 내 진공 속 액체 주석(Sn)에 이산화탄소 펄스 레이저를 1초당 5만번씩 쏴 13.5nm의 빛(EUV)을 생성하고, 이 때 빛의 세기를 강하게 만들어주는 역할을 하는 것이 출력이 센 이산화탄소 입니다. 삼성전자나 SK하이닉스가 여전히 생산공정에서 90% 이상을 사용하는 10나노대 공정의 DUV(심자외선)에는 이산화탄소 레이저 대신 네온과 헬륨을 섞은 엑시머레이저를 사용하여 광원(ArF 빛)의 세기를 높입니다.제논, 크립톤 : 3D낸드에서 홀 에칭 공정에서 사용되며, 불화탄소계 특수가스의 선택비를 개선하기 위한 모멤텀 가스로서 필수적으로 사용된다. 특히 3D낸드의 생산과 기술발전이 가속화되며, 사용량이 폭발적으로 늘어나고 있습니다. 크립톤 가스는 반도체 메탈 공정에서 사용하는데 주로 텅스턴 CVD(화학기상증착) 공정에 사용되는 것으로 알려져 있으며, 제논(크세톤)은 반도체 패턴을 형성한 후 불필요한 부분을 깎아내는 에칭 가스로 쓰인다. 128단 V낸드 등 적층시 구멍을 뚫을 때도 사용됩니다.

- 특성

공기 중엔 질소 분자(N2: 이하 공기 중 함유비중 78.084%)와 산소 분자(O2: 20.946%)가 대부분(약 99%)이다. 아르곤(Ar: 0.9340%), 이산화탄소(CO2: 0.0407%), 네온(Ne: 0.001818%), 헬륨(He: 0.000524%), 메탄(CH4: 0.00018%), 크립톤(Kr: 0.000114%), 수소 분자(H2: 0.000055%), 제논(0.0000087%)은 극미량이 존재한다. 이 가운데 불활성 가스인 아르곤, 네온, 헬륨, 크립톤, 제논 등을 희귀가스라고 칭합니다.

이 희귀가스들은 철강업체들이 제련 공정에 필요한 순수 산소와 순수 질소를 공기 중에서 추출한 후 남는 불순질소(Crude Gas)에서 추출합니다. 1차 정제된 이 불순질소 기체 내에는 45~50% 비중의 네온과 12~14% 정도의 헬륨이 들어 있고, 희귀가스 생산업체들은 이 가스를 철강업체들로부터 받아서 식스나인(6N: 99.9999%) 순도의 네온 등을 추출하는 것입니다. 제논(비등점 -108.099°C)과 크립톤(-153.4°C)은 산소보다 끓는 점이 높아 고온공정과 초저온 공정을 묶은 좀 더 복잡한 추출 과정을 거칩니다.

(주4)전자재료- 용도

유기발광다이오드 또는 유기EL이라고도 합니다. 형광성 유기화합물에 전류가 흐르면 빛을 내는 전계발광현상을 이용하여 스스로 빛을 내는 자체 발광형 유기물질을 말합니다.당사에서 제조된 OLED 소재는 전자주입층, 전자 전달층, 발광층, 정공전달층, 정공주입층에 사용되는 유기 물질입니다.제품 용도 : OLED TV, OLED 조명, 스마트폰, 자동차 내부 디스플레이

- 특성백라이트 광원을 활용해 액정과 컬러필터를 거쳐 색을 표현하는 LCD와 달리 OLED는 유기발광층에 전류를 가했을때 이에 반응하는 빛의 3원색인 RGB 발광물질을 통해 색을 표현합니다. 픽셀 하나하나가 자체적으로 빛을 내기 때문에 화질, 두께, 소비전력 측면에서 매우 우수할 뿐 아니라, 유연하게 구부리고 접을 수 있어 다양한 어플리케이션에 활용할 수 있습니다.다. 주요 제품 등의 가격 변동 추이

(단위: 천원)

사업연도
품목	2023년
제10기 당반기	2022년
제9기	2021년
제8기

Precursor	458	391	426

PMC	1,517	1,510	1,157