그린리소스 분기보고서 (2024.09)
6. 주요계약 및 연구개발활동

가. 경영상의 주요계약 당사는 사업보고서 제출일 현재 회사의 재무상태에 중요한 영향을 미치는 비경상적인 주요계약은 없습니다.

나. 연구개발 활동

당사는 한국산업기술진흥협회로부터 기업부설연구소 인증을 받았으며, 보고서 제출일 현재 총 9명의 연구인력이 소재, 코팅, 장비에 관련된 개발 및 응용기술 연구를 통해 세계 최고 기술을 개발하여 반도체 보호코팅 영역에서의 코팅기술과 소재기술의 국산화에 성공하였으며 더 나아가 이 분야의 세계적인 기술력을 확보해 나가고 있으며, 고객의 가치창조에 기여를 하고 있습니다.

(1) 연구개발조직

구분	인원 구성	주요업무

연구소	연구총괄	연구소장 : 1명	- 연구개발 총괄 관리

소재개발	선임연구원 : 1명
연구원 : 1명	- 합성법 제조기술 / 입자크기 제어기술
- OLED 증착소재 개발 / 분산 및 함량 제어기술
- 나노화 및 고순도 정제기술 개발

코팅개발	수석연구원 : 1명
주임연구원 : 1명
연구원 : 1명	- 반도체 차세대 코팅의 꾸준한 개발 (ALD 등)
- 항공, 군수, 풍력발전 등으로의 코팅기술 적용확대
- 코팅장비 소모품 자체제작 내재화

장비개발	수석연구원 : 1명
연구원 : 1명	- 초전도선재 증착장비 양산설계
- 증착장비 관련 응용범위 확대 (ALD, CVD등)
- 장비의 양산성 확대

물성평가	연구원 : 1명	- 개발 제품 품질평가
- 신규화학물질 등록
- 품질평가기법 개발
- 제품화를 위한 품질관리기법 제정
- 기술메뉴얼 제정
- 연구측정장비 관리

(2) 연구개발비용(단위 : 백만원, %)

구분	2024년(제14기 3분기)	2023년(제13기)	2022년(제12기)

매출액	12,779	16,501	25,085

연구개발비	1,119	3,218	2,620

(국고지원금)	(401)	(2,200)	(1,477)

회계처리	자산화	0	-	-

경상연구개발비	718	1,018	1,142

매출액 대비 비율	5.62%	6.17%	10.44%

(3) 연구개발실적-정부 R 과제 수행현황

개발과제 및 내용	개발기간	개발수준	개발비용
(백만원)	기술상용화
여부	취득권리/
인증	적용현황 및 기대효과

고순도 희토류메탈 제조국산화	1년	시제품제작	200	-	정부 R 성공판정	희토류 소재를 전자빔을 활용해 고순도 정제를 하는 기술로 개발완료했지만, 가격이 너무 고가라 상용화가 되지 못함. 하지만 희토류의 고순도화 기술은 잠재 응용분야가 많은 기술로 유망한 기술임.

대면적 고융점합금타겟제조	1년	시제품제작	60	상용화
검토중	정부 R 성공판정	OLED 증착소재로 사용되는 Mo합금 양산 사업성 검토중.

반도체공정 중 가스 배출에 의한 안전문제 대응을 위한 폐가스 내과불화 화합물(PFC)처리용 고내구성연소분해모듈 개발	1년	시제품제작	180	-	정부 R 성공판정	고객매칭 안되서 상용화 실패.

플라즈마내식성고밀도 후막을 제조할 수 있는 에어로졸데포지션용 미세 산화이트륨소재 제조기술개발	1년	양산	193	상용화	정부 R 성공판정	상용화 성공하여, 자체 AD코팅 소재로 조금씩 사용중.

고성능 영구자석용 고순도 Nd금속 환원 및 정련기술	3년	시제품제작	1,650	상용화
검토중	정부 R 성실완료	기술개발 완료했으나, 지속적인 재활용 대상 물질 확보가 되어야 상용화 가능.

제조원가 절감을 위한 희소금속 생산용 친환경 고체 산화물
멤브레인(SOM) 제련기술개발	5년	개발중	7,430	상용화
검토중	정부 R 성공판정	개발중

고출력 F,Cl계 플라즈마 공정 대응 대응부품용 내플라즈마 코팅 신소재 및 코팅공정기술 (반도체 정전척)	5년	개발중	9,419	개발중	정부R	개발중

300mm 대면적 반도체 장비 정상 식각율구현을 위한 기공율1%이하,
경도 500 Hv 이상 불화물계 내플라즈마 하이브리드 신코팅공법기술개발	2년	개발
완료	750	상용화
검토중	정부 R 성공판정	차세대 코팅 기술로 상용화 검토중

초소형 반도체 건식식각장비부품 적용 내플라즈마성물리적기상증착초고밀도 YAG 코팅기술 개발	1년	개발
완료	100	상용화	정부 R 성공판정	국내 S사 양산공급 시작
3nm~5nm 급까지 현존하는 세계 최고의 성능을 내는 보호코팅
국내 반도체 공정 경쟁력에 기여.

서스펜션 플라즈마 용사용 산화이트륨 및 코팅기술개발	3년	개발완료	3,220	상용화	정부R 성공판정	SPS 코팅소재 상용화 시작 일반 APS코팅 보다 밀도가 높기 때문에 제품 수명 이 연장됨.

최대용착률 공정 파라미터 적정화를 위한 신경망이 탑재된 진공 서스펜션 플라즈마 용사 시스템 개발 및 일본산 세라믹시트 정전척 대체 유전층 제조공정 개발	2년	개발완료	400	상용화검토중	정부 R 성공판정	현재는 시장이 활성화되지 않았으나 반도체와 에너지 산업분야에서 시장이 활성화되면 내식코팅시장에 접근 가능함

100미크론 이상 두께를 갖는 99%이상의 초고밀도 세라믹 코팅층을 형성시킬 수 있는 플라즈마 용사기술의 국산화	2년 2개월	개발완료	300	상용화검토중	정부 R 평가 전	고밀도 이트리아 용사막 기술개발을 통해 챔버 내부의 제품 품질의 향상과 오버홀 주기가 약 25% 감소하는 효과가 있을것으로 기대됨

8.x세대 디스플레이용 250℃가열 가능한 고온 식각용 하부척 기술 개발	4년 6개월	개발중	5,840	개발중	정부 R 수행중	디스플레이 제조공정의 핵심공정 장비인 플라즈마 식각장비의 코팅 기술 및 부품을 개발함으로써, 디스플레이 공정장비 부품의 국산화 가능성이 기대됨

8.6세대 디스플레이 건식식각용 비주사형 안테나와 원격방식의 하이브리드 고밀도 플라즈마원 기술 개발	4년 6개월	개발중	5,250	개발중	정부 R 수행중	차세대 디스플레이 개발을 위한 핵심장비 개발을 통해 고부가가치 시장 창출 및 궁극적인 디스플레이 분야 국가 경쟁력 강화가 기대됨

고청정 Ni-Cr-Mo계 소재 제조 및 반도체·에너지산업용 핵심부품기술 개발	4년 6개월	개발중	120	개발중	정부 R 수행중	Ni-Cr-Mo계 소재의 자립화,차세대 반도체(NAND, DRAM, Logic device) 산업용 극청정 부품 사용 및 에저니 산업용 초전도 선재 개발이 가능할 것으로 기대됨

고청정 Ni-Cr-Mo계 소재 기반 두께 40㎛급 금속기판 제조 및 초전도소재 부품화 기술 개발	4년 6개월	개발중	7,908	개발중	정부 R 수행중	초전도 선재 특성 향상 및 전력전환 및 저장시스템, 의료장비, 운송수단 등 다양한 분야에서의 응용이 가능할 것으로 기대됨

(주) 자회사 수행 연구과제가 포함된 내용입니다.

-자체개발 수행현황

개발과제 및 내용	개발기간	개발수준	개발비용
(백만원)	기술상용화
여부	취득권리/인증	적용현황 및 기대효과

반도체제조용 코팅막 및 그 제조방법	2년	양산	1,000	상용화	자체개발 /특허등록	동사의 PVD초고밀도 코팅 관련 특허로써, 일본 AD코팅을 국산화 목적으로 개발하였으나, 현재는 AD코팅의 성능을 뛰어넘고 현존하는 세계 최고의 코팅기술로 인정받고 있음. 현재 국내 및 중국 등에 양산 공급중임.

대면적 OLED패널제조용 챔버의코팅제	2년	시제품	300	상용화	자체개발 /특허등록	현재 OLED 대면적 코팅소재로 자체 제작해서 코팅하고 있음. 코팅 공정 원가절감 가능.

금속염화합물의 전구체용액을이용한 구형세라믹 분말 제조방법및구형 금속염분말의 제조장치	2년	양산	300	상용화	자체개발 / 특허등록
산자부장관상	일본 S사가 독점하던 플라즈마 용사코팅 분말을 최초로 국산화 성공.
현재 동사 협력사 위주로 양산공급중.

디스플레이(OLED)식각장비용 정전척제작 및 수리	2년	양산	2,000	상용화	자체개발	I사 양산테스트 합격, L사 등 양산 검토중