석경에이티 분기보고서 (2023.03)
6. 주요계약 및 연구개발활동

가. 경영상의 주요계약

[경영상의 주요계약 총괄표]
(단위: 백만원)

계약 상대방	계약체결일	계약종료일	주요 내용	계약금액

산업통상자원부대불자유무역지역관리원	2018-11-01	2028-10-31	제2공장 임대계약
- 전남 대불자유무역지역 내 소재
- 월 임대료 3,655,480원	-

한국산업단지공단	2022-07-10	2023-07-09	제2공장 직원 기숙사
- 전남 대불자유무역지역 내 휴스테이
- 월 임대료 1,000,000원
(5개 호실*200,000원)	-

삼성전기주식회사	2020-02-25	2024-02-24	임가공 기본거래 계약	-

삼성전기주식회사	2020-03-25	-	임가공 단가결정 합의	-

SprintRay Inc. (USA)	2022-10-14	2024-12-03	SUPPLY CONTRACT(12년간 계속)	-

나. 연구개발 담당조직(1) 연구개발 조직 개요

당사는 연구소장 총괄 하에 기초연구팀, 응용연구팀, 신규사업팀의 연구개발 조직을 보유하고 있으며 기초소재의 중요성을 인지하고 연구소 설립 이후 현재까지 선제적으로 원천기술을 개발하고 다수의 특허 등록을 진행 하였으며 향후에도 기초소재의 연구를 지속적으로 개발해 나갈 예정입니다.

당사의 연구개발 분야는 기존 사업인 바이오헬스케어, 전기·전자, 코팅 등의 사업 분야를 발판으로 나노기술의 기반이 되는 원천기술과 시장 및 고객의 요구에 따른 신제품 개발, 미래 산업의 먹거리인 신규 사업에 대해 지속적인 연구개발을 진행하고 있습니다. 또한 각 팀별 연구원들은 분기, 반기, 연간 각각의 프로젝트에 대해 개발 진행사항을 공유하고 문제점을 개선하여 해결해 나가고 있습니다.

연구기획 및 관리, 연구개발은 기술연구소에서 전담하고 있으며 개발된 제품은 연구소에서 Pilot batch로 3회 이상 제조하여 품질 및 재현성에 문제가 없어야 하며, 제품 품평회를 거쳐 사업의 시장성을 판단하여 최종적으로 제조팀에 이관하여 양산하고 있습니다. 또한 당사 자체 기술개발과 별도로 산학연을 중심으로 기초산업 및 미래 산업에 필요한 기술은 정부지원 국책 연구개발도 참여하고 있습니다.

(2) 연구개발인력 현황 당사는 보고서 작성기준일 현재 총 16명의 연구개발인력을 보유하고 있으며, 그 현황은 아래와 같습니다.

구 분	박사	석사	학사	기타	합 계

인원수	2	4	10	-	16

(3) 주요 연구개발인력 현황

직위	성명	담당업무	주요경력	주요연구실적

연구소장	유영철	연구소 총괄	한양대학교 대학원 화학공학과('03.09~'08.02)
석경화학('97.09~'00.12)
㈜석경에이티('01.01~현재)	50nm, 100nm 구형 SiO2 개발
Dental filler Barium Glass 개발
Dental filler YbF3 개발
550~600nm 광흡수제가 코팅된 고색재현성 형광체 개발
자성체 산화방지용 코팅기술 개발
도전성 금속 나노분말 및 Sol-Paste 개발
화력발전소용 클링커 방지제 개발

연구위원	김일혁	기초연구	연세대학교 대학원 화학공학과(‘00.09~’04.08)
삼성정밀화학(‘04.08~’13.12)
삼성전자(‘14.01~’16.12)
HP Printing Korea(‘17.11~’22.01)
㈜석경에이티(’22.07~현재)	정전하상 현상용 토너 개발
정전하상 현상 토너용 응집제 PSFC 제조방법 개발
TONER AND METHOD FOR MANUFACTURING SAME 개발
METHOD FOR MANUFACTURING TONER, AND TONER 개발

연구위원	윤세영	응용연구	미국조지아공대 화학생물공학과(‘02.03~’07.03)
삼성전자(‘07.07~’18.07)
HP Printing Korea(‘18.07~’22.12)
㈜석경에이티(‘23.03~현재)	Toner composition with surface additives개발
A Method of effectively controlling toner charging stability and high durability개발
Toner for developing electrostatic latent image개발
Electrophotographic toner surface treated with metal oxide particles개발
Organic-Inorganic Hybrid Composite개발

수석	권오성	합성연구	한서대학교 재료공학과('97.03~'03.02)
㈜석경에이티('03.01~현재)	Microwave 구형 TiO2 개발
태양광 흡수 발열 가공제 개발
Template-less Hollow Silica 개발
자외선 차단 IZO Sol 개발
Dental filler YbF3 개발
하드 코팅제 Al2O3 Sol 개발

수석	김대용	응용연구	배재대학교 대학원 재료공학과(‘98.03~’00.02)
㈜Gamma Tech(‘00.12~’02.12)
㈜시벨코 코리아(‘02.12~’21.12)
㈜석경에이티(‘22.07~현재)	Controlled Top Size Product 개발
EMC 구상 실리카 제품 개발
High Spiral Flow SS제품 개발
EMC Fine 구상 실리카 제품 개발
유무기 하이브리드 제품 개발
Normal Soda 구상알루미나 제품 개발

수석	조병옥	제조공정	한국산업기술대학교 대학원 화학공학과('05.03~'07.02)
제일산업('05.01~'06.10)
㈜석경에이티('07.03~현재)	SiO2 연속식 합성 공정 연구
Dental filler용 시멘트 개발
항균 필터용 ZnO 개발
자성체 산화방지용 코팅기술 개발
Microwave 구형 TiO2 개발

선임	김상곤	표면처리
연구	명지대학교 화학공학과('94.03~'02.02)
㈜석경에이티('12.03~현재)	건식코팅 공정 연구
TiO2 대체용 SnO2 토너 외첨제 개발
대구경 SiO2 개발
투명 산화물(ZrO2, Yb2O3, ZnO) Sol 개발
UV 차단용 ZnO 제조 및 표면처리기술 개발
IR 차단용 ATO Sol 개발

전임	이남규	제조공정	영남대학교 디스플레이화학공학('04.03~'12.08)
경인양행('12.06~'17.10)
㈜석경에이티('18.02~현재)	SiO2 연속식 합성 공정 연구
Template-less Hollow Silica 개발

전임	최현석	합성연구	배재대학교 대학원 재료공학과('13.03~'15.08) ㈜석경에이티('17.04~현재)	UV 차단용 ZnO 제조 및 표면처리기술 개발
항균 필터용 ZnO 개발

주임	김진아	분석연구	세종대학교 나노신소재공학과('13.03~'18.02) ㈜석경에이티('20.03~현재)	공정 및 개발품의 분석 결과 제시 LED 형광체 휘도 향상을 위한 표면 처리 연구

연구원	오은지	합성연구	순천향대학교 나노화학공학과('16.03~'21.02) (주)석경에이티('21.10~현재)	금속 불화물 개발

연구원	손민경	합성연구	부경대학교 재료공학과('14.03~'20.02) (주)석경에이티('21.11~현재)	투명 적외선 차단 소재 개발 및 평가

연구원	이승섭	표면처리 연구	서울과학기술대학교 화공생명공학과('13.03~'18.02) (주)석경에이티('21.11~현재)	LED 형광체 휘도 향상을 위한 표면 처리 연구
나노 형광체 개발

연구원	김다빈	응용연구	호서대학교 화학공학과(‘19.03~’23.02)
㈜석경에이티(‘23.02.~현재)	Catechol, Phenol에 따른 천연-전도성 고분자 복합재료 전극 합성 및 분석 연구

연구원	박근우	응용연구	경북대학교 농업생명과학대학 응용생명과학부 (‘18.3~22.8)
㈜석경에이티(’23.02.~현재)	Terpene의 Building Block 및 합성 경로에 따른 생물질 합성 및 분석연구

연구원	최재원	기초연구	배재대학교 생명보건대학 정밀응용과학부(‘19.3~23.2)
㈜석경에이티(’23.02.~현재)	Eucalyptus에서 Eucalyptol 추출 및 분석

다.연구개발비용(단위: 천원)

구 분	2023년 1분기(제24기)	2022년(제23기)	2021년 (제22기)

비용의성격별 분류	원재료비	54,633	309,055	250,460

인건비	323,724	827,435	669,264

기타	32,595	167,367	148,186

연구개발비용 합계	410,952	1,303,857	1,067,910

회계처리내역	판매비와 관리비	410,952	817,534	766,631

제조경비	-	-	-

개발비(무형자산)	-	-	-

회계처리금액 합계	410,952	817,534	766,631

정부보조금	-	486,323	301,279

연구개발비용 합계	410,952	1,303,857	1,067,910

연구개발비 / 매출액 비율[연구개발비용합계÷당기매출액×100]	17.33%	10.56%	11.79%

라. 연구개발실적 (1)바이오헬스케어 분야

제품명	덴탈 필러용 YbF 3(Ytterbium Fluoride) 개발

기술 내용	- 입자 사이즈 조절 기술(Ultra Fine ~ 20㎛)
- 불순물 제거를 위한 정제 기술
- 조영성(X-Ray 불투과성) 소재 개발
- 수지와 혼합 후 경화시 투명성 확보

개발 기간	2004~2007년

기술 제휴 여부	자체 개발

제품명	덴탈 필러용 SiO 2-ZrO 2 Composite 개발

기술 내용	- 입자 사이즈 200nm 구형입자 제조 기술(고객 Needs)
- SiO 2-ZrO 2 mole ratio에 따른 굴절률 제어 기술
- Acrylic resin의 굴절률에 따른 SiO 2-ZrO 2 합성 기술 설계

개발 기간	2014~2019년

기술 제휴 여부	자체 개발

제품명	UV 차단용 ZnO 개발

기술 내용	- 입자 사이즈 20㎚, 40㎚, 100㎚ 제조 기술
- 친유성, 친수성 표면처리 기술 개발
- Formulation 기술 및 분산성, 투명성 확보

개발 기간	2017~2020년

기술 제휴 여부	자체 개발

(2) 전기ㆍ전자 분야

제품명	자성체 산화방지용 코팅기술 개발

기술 내용	- 자성체의 산화된 표면을 제거하는 기술
- 금속입자 산화방지 코팅 기술
- 대량 생산 공정 확립 기술

개발 기간	2018~2019년

기술 제휴 여부	자체 개발

제품명	TiO 2 대체용 토너 외첨제 SnO 2개발

기술 내용	- 인체에 안전한 산화물 선정
- 입자 사이즈 조절 기술
- TiO 2와 동등한 수준의 외첨제
- 다양한 종류의 표면처리 기술

개발 기간	2019~2020년

기술 제휴 여부	자체 개발

제품명	저유전 손실기능을 갖는 필러 개발

기술 내용	- 저유전 손실 기능을 갖는 Mg 2SiO 4(Forsterite) 개발
- 1㎛ 5㎛ 입자 사이즈
- 실리카 대비 낮은 유전 손실

개발 기간	2020~2021년

기술 제휴 여부	자체 개발

(3) 코팅 분야

제품명	하드 코팅제 Al 2O 3 Sol 개발

기술 내용	- Al 2O 3 표면처리 기술
- 다양한 용제에 가능한 분산 기술
- 해외 판매를 위한 저장 안정성 확보 기술

개발 기간	2017년~2018년

기술 제휴 여부	자체 개발

제품명	UV Block IR Cut Materials 개발

기술 내용	- IZO(Indium Zinc Oxide), ATO(Antimony Tin Oxide) 합성 기술
- 수계 및 다양한 용제에 가능한 분산 기술
- 분산체(코팅액)의 평가 방법 및 Formulation 기술

개발 기간	2007~2008, 2010년~2011년

기술 제휴 여부	자체 개발

제품명	토너 외첨제용 단분산 구형 SiO 2 개발

기술 내용	- 온도, 시간, pH, 촉매, 용제 등 반응 조건 확립 기술
- Sol-gel 프로세스의 대량생산 기술
- 표면처리에 의한 +, - charge 조절 기술
- 입자 사이즈 및 단분산도(Cv) 조절 기술

개발 기간	2010~2018년

기술 제휴 여부	자체 개발

마. 정부과제 수행실적

[정부 연구개발 과제 수행 실적]
(단위: 백만원)

구 분	과 제 명	주관부서	연구기간	정부출연금	관련제품	비 고

1	고적층 세라믹 콘덴서 전극공제용 초미립 유전체 원료분말 제조기술개발	산업자원부	2001.07~2003.06	215	유전체 원료 BT 개발	종료

2	Display Color Filter용 기능성 세라믹분말 및 Sol 제조기술개발	산업자원부	2001.09~2002.08	620	무기안료	종료

3	Toner 외첨제용 기능성 나노세라믹분말 제조기술개발	대한민국산업기술평가원	2001.12~2002.11	285	구형 실리카	종료

4	도전성 금속 나노분말 및 Sol-Paste 개발	나노산업기술연구조합	2004.08~2007.07	635	Ag pasteAg ink	종료

5	분산성이 우수한 Embedded PCB용 유전성 나노분말의 코팅기술 개발 및 이를 이용한 Composisite 조성 개발	중소기업청	2006.04~2008.03	220	유전체 BT 표면처리	종료

6	잉크젯 Printing 공정 적용을 위한 고분산 나노 형광체 개발	에너지관리공단	2006.08~2009.07	355	나노 형광체	종료

7	도전성 금속 나노 분말 및 Sol-Paste 산업화	나노산업기술연구조합	2007.08~2009.07	420	Ag pasteAg ink	종료

8	인쇄 토너용 외첨제 소재응용을 위한 단분산 구형 티타니아 나노분말 개발	산업자원부	2007.12~2012.09	2,620	토너 외첨제(구형 TiO 2)	종료

9	모바일 IT용 Rollable 소형 이차전지 기술	지식경제부	2010.03~2012.02	450	이차전지용 음극제 LTO	종료

10	의료용 바륨계 구형화 복합유리 미세분말 제조	중소기업청	2010.06~2012.05	400	구형 BAG Glass	종료

11	초고순도 SiC 분말 기술 개발 (WPM)	지식경제부	2010.09~2016.03	1,772	고순도 실리카	종료

12	광전변환 및 인쇄토너 외첨제 응용을 위한 티타니아 나노분말 제조기술 개발, 산업융합기술산업원천기술개발사업-나노융합	한국과학기술연구원	2010.10~2012.09	-	토너 외첨제(구형 TiO 2)	종료

13	유무기 복합 나노구조체 제작기술	한국생산기술연구원	2013.06~2014.05	60	유무기 하이브리드 실리카 코팅액	종료

14	티타늄 프라즈마 코팅과 초미립자 수산화인회석을 융복합한 인공관절 표면처리기술개발	중소기업청	2013.06~2015.05	295	"Hydroxy Apatite(인공뼈,치근)"	종료

15	Hollow Silica를 이용한 투명성 단열재 개발(나노융합2020사업)	지식경제부 산업통상자원부	2013.07~2016.06	1,500	중공 실리카	종료

16	"태양광 흡수 및 발열 기능성 프리미엄 데님제품 제조용 가공제 개발"	중소기업청	2014.08~2015.07	230	광발열가공제	종료

17	에너지 저장 레독스 플로우 전지(RFB)용 선택적 이온전달 소재 개발	한국산업기술평가관리원	2014.11~2017.08	360	유무기 하이브리드 고기능성 분리막(실리카 외)	종료

18	TiCl 4의 산화에 의한 루타일 TiO 2분말 제조기술 개발	한국산업기술평가관리원	2015.06~2020.10	835	루타일 TiO 2	종료

19	덴탈용 글라스 아이노모 시멘트용 구형화 글라스 개발	중소기업청	2016.06~2017.05	150	구형화 Ionomer glass	종료

20	경사기능성 세라믹 적층제조 기술을 이용한 초고압 GIS용 절연물 개발	한국산업기술평가관리원	2018.07~2022.12	490	알루미나(Al 2O 3)	진행중

21	초고속 통신 기판용 저유전율 저손실 CCL 제작을 위한 유리섬유 소재기술개발	한국산업기술평가관리원	2021.04~2024.12	1,975	저유전 필러	진행중

22	백운석 활용 고순도 산화마그네슘 및 마그네슘염 제조 기술개발	한국산업기술평가관리원	2021.04~2025.12	510	백운석 기반
Mg계 세라믹 원료	진행중

23	50㎛ 이하 Fine Pitch용 반도체 언더필 소재 및 패키징 기술 개발	한국산업기술평가관리원	2022.07~2025.12	730	언더필 필러	진행중