코미코 사업보고서 (2019.12)
II. 사업의 내용

가. 회사의 현황(1) 사업 개황

당사는 2013년 8월 13일 주식회사 코미코의 정밀세정, 특수코팅 사업부문에 대해 전문성과 독립성을 확보함으로써 핵심사업에 역량을 집중하고 이를 고도화하여 세계 최고의 세정, 코팅 기업을 목적으로 물적분할된 신설기업입니다. 반도체 고기능성 부품 제작을 주 사업영역으로 가지고 있는 존속법인이 코미코에서 미코로 사명을 변경하고 신설법인인 당사가 코미코의 회사명을 사용하고 있습니다.

코미코가 영위하는 정밀세정 및 특수코팅 분야는 반도체 및 디스플레이, 태양광 제조공정중에 발생하는 미세오염(Micro Contamination)을 제어하고 최적의 공정 수율을 유지하여 생산성을 향상시키고, 고가의 공정장비 부품을 재사용할 수 있도록 재생하여 생산원가를 절감하는데 이바지하는 사업분야라고 할 수 있습니다.

미세오염(Micro Contamination)은 제품의 생산수율(Yield)과 부품의 수명을 단축시켜 제품 품질에 악영향을 미칩니다. 세정, 코팅산업은 생산과정에서 발생하는 미세오염을 제어하는 산업으로서 단순히 장비나 부품의 오염을 제거하고 재생하는 것뿐만 아니라 사용을 위한 컨디션을 최적의 상태로 유지시키고 사용수명을 연장하는 한편,공정준비 시간을 단축시킴으로써 공정효율과 생산수율의 증가에 기여합니다.

공정장비에 사용되는 부품은 일정주기를 가지고 폐기되고 새 것으로 교체되기를 반복합니다. 통상 반도체 및 디스플레이, 태양광 등에 사용되는 공정장비의 부품은 종류에 따라 수백만원에서 수천만원을 호가하며, 짧게는 1주일 이내, 길게는 3개월 정도의 공정사용 이후 새 것으로 교체하는 것이 일반적입니다. 공정장비 부품의 교체주기가 있는 이유는 공정중에 사용되는 강력한 화학물질과 플라즈마, 가혹한 공정조건, 높은 전압의 사용으로 내부의 부품들이 부식되거나 표면층이 손상되어 이를 방치할 경우 생산수율과 생산효율이 낮아져 결국 칩 제조업체의 경쟁력을 악화시키는 결과로 이어질 수 있습니다. 따라서 반도체 및 디스플레이, 태양광 칩 제조업체는 정기적 혹은 비정기적인 PM을 통해 생산성을 향상시키고 품질을 유지하기 위하여 당사와 같은 세정, 코팅 전문회사와 협력관계를 유지하고 있습니다.

당사는 1996년 설립 이후 대한민국 반도체 산업에서 최초로 정밀 세정과 특수 코팅을 사업화한 회사로서 한국을 비롯하여 미국, 중국, 대만, 싱가포르 총 5개국에 세정, 코팅 사업을 영위하고 있습니다.

(가) 회사의 특징

당사의 사업부문의 특징은 첫번째, 경기에 민감하지 않으며, 고객사의 사업이 지속되는한 반드시 필요한 사업이며, 두번째, 전방산업의 불경기 및 원가절감 필요성이 대두될 경우에 신규 부품에 대한 대체재로서 수요가 늘어 나는 경향이 있습니다. 세번째, 다년간의 축적된 노하우와 기반시설이 필요하여 경쟁자가 쉽게 진입하기 어려운 진입장벽이 존재하며, 네번째, 고객사의 자산을 세정, 코팅 하는 사업모델로 재고자산의 규모가 매우 작으며, 특히 대기업과의 거래를 통해 매출채권 회전이 우수한 특징을 가지고 있습니다. 아래는 당사의 비즈니스적 장점과 특징을 설명하는 내용입니다.

구분	내용

최고 수준의 세정, 코팅 서비스 제공	ㆍ1996년 대한민국 최초의 세정, 코팅 전문 서비스 제공을 통한 사업화

ㆍ세정, 코팅 방법에 대한 연구개발과 20년 이상의 노하우를 체계적인 데이터로 관리하여 공정중 발생하는 문제에 대한 최적의 솔루션 제시

ㆍCu 공정과 Non Cu 공정의 분리 운영을 통한 Cross Contamination 방지

지속성장과 높은 수익성	ㆍ2015년부터 2019년까지 5개년 연평균 매출 성장율은 20%, 영업이익 성장율은 25%로 지속 성장세에 있으며, 2019년은 2018년대비 매출은 4% 성장한 1,734억원, 영업이익은 345억원을 기록함

ㆍ전세계 5개국에서의 서비스를 통한 국가, 지역별 경기위축에도 안정적인 경영 가능

전세계 Major 고객사와의거래관계	ㆍ한국의 Major 반도체 칩 생산업체인 삼성전자, SKhynix와 거래하는 회사

ㆍIntel, Micron, TSMC, UMC, Global Foundry 등 전세계 Major 고객사와 거래를 통한 고객사 경기에 따른 Risk 최소

ㆍ반도체, 디스플레이, 태양광에 이르는 다양한 포트폴리오

World wide 네트워크와확장 가능성	ㆍ한국, 미국, 중국, 대만, 싱가포르등 반도체 최고 국가에서 Major의 고객에게 서비스 제공

ㆍ중국, 미국 등 향후 세계 최고 시장으로의 확장 가능성

기술력	ㆍ 국내외 55개의 특허와 19개의 상표권 등 원천기술의 특허 확보를 통한 기술 우위 확보

1) 최고 수준의 세정, 코팅 서비스 제공

당사는 1996년 한국 최초의 반도체 공정장비에 대한 세정, 코팅 서비스를 전문화하여 사업화한 회사입니다. 반도체 및 디스플레이, 태양광 칩 제조 공정상 공장장비의 오염은 반드시 수반될 수 밖에 없는 현상입니다. 이러한 오염은 생산 수율을 떨어뜨리고 제품의 불량을 야기하여 칩 제조업체의 제조원가 상승의 주 원인이 되며, 오염을 원활하게 해결하지 못할 경우 경쟁업체와의 경쟁관계에서 뒤쳐지는 결과를 초래하게 됩니다.

코미코는 내부 MES(Manufacturing Excution System)라는 생산관리 프로그램을 통하여 고객이 당사로 서비스를 요청하는 공정장비 부품의 이력을 관리하고 있습니다. 코미코 안성법인의 경우 연간 약 100만건의 고객사 부품이 당사 MES를 통해 이력관리가 되고 있으며, 최초 반입일, 세정, 코팅 횟수, 공정중 이상 발생내역 등이 기록됨으로써 공정부품이 생산중 발생될 수 있는 Issue를 사전예방 할 수 있도록 정보를 제공하고 있습니다. 이러한 기록들은 20여년간 당사 내부 전산시스템에 데이터베이스화 되어 있으며, 이는 한국뿐만 아니라 미국, 중국, 대만, 싱가포르 등 당사의 자회사 모두가 동일한 시스템을 통해 전세계 고객에게 제공하고 있는 서비스입니다.

당사는 MES로 수집된 정보를 기반으로 전세계 고객사에서 발생하는 세정, 코팅시 발생하는 문제점, 이에 대한 해결방안, 사례 등을 체계적으로 관리하고 더 나아가 고객에게 발생할 수 있는 관련 정보를 기반으로 더 발전된 세정, 코팅 서비스를 개발하고 이를 제공함으로써 고객 만족을 극대화 하고 있습니다.

2) 지속성장과 높은 수익성

당사는 2013년 8월 분할에 따른 법인설립 이후 지속적인 매출과 영업이익 성장을 이루고 있습니다. 아래 표에서 보여지는 것과 같이 연결기준 전체 매출액은 2016년 940억원에서 2017년 1,251억원으로 33.1% 성장하였으며, 2018년에는 1,665억원, 2019년에는 1,734억원으로 매년 역대 최고 실적을 갱신하고 있습니다.

[코미코 매출현황]
(단위:백만원)

매출	2019년	2018년	2017년	2016년

국내법인	86,296	92,016	67,621	44,080

해외법인	96,213	77,091	63,906	53,001

연결조정	-9,047	-2,540	-6,470	-3,097

합 계	173,461	166,567	125,056	93,983

주) 연결조정은 국내법인과 해외법인간 발생한 내부거래 제거 금액입니다.

회사의 수익성을 보여주는 영업이 익은 2016년 177억원에서 2017년 265억원으로 49.4% 성장하였고, 2018년은 406억원으로 2017년 실적을 크게 넘어섰습니다. 2019년에는 52시간 근무제에 따른 인건비 증가와 대규모 투자에 따른 감가상각비 증가 등으로 전년보다는 감소한 345억원을 달성하였습니다.

3) 전세계 Major 고객사와의 거래관계

당사의 경우 한국에서 반도체 세정, 코팅을 사업화하고 이 노하우를 기반으로 미국, 중국, 대만, 싱가포르로 네트워크를 확대하였으며, 이러한 결과로 2008년부터 2010년까지 지속된 반도체 업계간의 치킨게임 시기에도 일부 고객사의 흥망에 흔들리지 않고 지속적인 성장과 안정성을 유지할 수 있었습니다.

결국 복수의 고객사가 세정, 코팅에 대한 전문적인 서비스를 요구하는 현상은 당사의기술력과 노하우를 높이 평가하는 증거라고 할 수 있습니다.

[코미코 주요고객사]

지역	주요고객사	지역	주요고객사

한국	Samsung	미국	Samsung(Austin)

SKhynix	Intel

DB HiTek	GlobalFoundries

MagnaChip	Micron

LG전자	Texas Instruments

Juseong Eng	NXP

대만	TSMC	중국(Wuxi)	SKhynix(China)

Inotera	SMIC

PTC	HHNEC

ProMOS	CSOT

UMC	CSMC

싱가포르	GlobalFoundries	중국(Shenzhen)	BOE

Micron	CSOT

UMC	Tianmma

4) World wide 네트워크와 확장가능성 당사는 2005년 중국 Wuxi, 2006년 대만 Hsinchu, 2007년 미국 Austin, 2013년 싱가포르 Woodland에 각각 현지법인을 설립하였고 2018년 중국 Shenzhen에 있는 법인을 인수하였습니다. 2019년 1월 미국 Hillsboro (Oregon)에 법인을 설립하였고 4월에는 중국 안휘성 합비(허페이)에 법인을 설립하였습니다.

[KoMiCo 한국]

한국 안성에 위치한 코미코 안성법인은 정밀세정과 특수 코팅을 주로 서비스하며, 기술연구소, 경영기획을 비롯한 본사기능을 갖추고 있습니다. 주요 고객사로는 삼성전자, SKhynix, 동부하이텍, 매그나칩, 주성엔지니어링, LG전자 등이 있으며, 안성에 위치하여 주요 고객사로부터 약 50km 거리에 위치하여 밀접한 고객 대응이 가능합니다.

[Austin, 미국]

2007년 설립되었고, 미국 텍사스주 오스틴시에 위치한 미국법인은 정밀세정, 특수코팅, 반도체 기능성 부품의 판매를 주요 사업으로 영위하고 있습니다. 주요 고객으로는 삼성전자 Austin 반도체(Samsung Austin Semiconductor), Global Foundry, Intel, Micron, Texas Instrument, NXP 등이 있으며, 해외법인 중 가장 큰 매출액과 영업이익 실적을 거두고 있습니다.

[Wuxi, 중국]

2005년에 설립되었고 중국 Wuxi시에 위치한 중국법인은 정밀세정, 특수코팅, 반도체 기능성 부품의 판매를 주요 사업으로 영위하고 있습니다. 주요 고객으로는 SKhynix Wuxi, SMIC, TSMC, CSOT 등이며, 설립 이후부터 지금까지 안정적인 경영실적을 보여주고 있습니다.

[Hsinchu, 대만]

2006년에 설립되었고 대만 Hsinchu시에 위치한 대만법인은 정밀세정, 특수코팅, 반도체 기능성 부품의 판매를 주요 사업으로 영위하고 있습니다. 주요 고객으로는 TSMC, Micron, UMC, Inotera 등이며, 초기 투자시 코팅 사업에 초점을 맞춰 설립하였으며, 2017년은 대만 신규공장 증설을 시작하여 2018년 9월 완공하였습니다. 이를 통하여 세정 전용라인 구축 및 코팅Capa 확장, 신기술, 품질, 시스템 등 차별화하여 경쟁력을 확보해 나가고 있습니다.

[Woodland, 싱가포르]

2013년에 설립되었고 싱가포르 우드랜드에 위치한 싱가포르 법인은 정밀세정, 특수코팅, 반도체 기능성 부품의 판매를 주 사업으로 영위하고 있습니다. 주요 고객으로는 Micron, UMC, GlobalFoundry 등이 있으며, 2013년 11월부터 가동되고 있습니다. 싱가포르 지역에 위치한 고객사는 대부분 20nm 이상 급 공정을 진행하고 있는 관계로 정밀 세정과 코팅에 대한 절대적 필요성이 다른 국가에 비해 적은 편입니다. 그러나, 현지에 위치한 Micron, UMC, GlobalFoundry등은 한국, 중국, 미국, 대만과의 기술격차를 줄이기 위해 10nm급 공정을 도입하고 있으며, 미세패턴화가 진행될수록 세정과 코팅에 대한 수요가 증가되고 있습니다.

[Shenzhen, 중국]

2017년 설립되었고 중국 Shenzhen시에 위치하고 있으며 2018년 당사 중국법인(Wuxi)이 인수하였습니다. 당 법인은 디스플레이 관련 부품의 정밀세정, 특수코팅, 판매를 주요 사업으로 영위하고 있습니다. 주요 고객으로는 BOE, CSOT, Tianmma 등이 며, 점 차 성장해 나가고 있습니다.[Hillsboro, 미국] KoMiCo Technology Inc.(이하 KTI)의 제 2 공장을 Hilsboro에 설립하여 KTI 의 자회사로 운영하기 위하여 2019년 1월 14일자로 설립하였습니다. 중장기 Plan에 따른 KTI 사업확장을 위해 설립하였고 설립 자본금은 USD 100,000 입니다. KTI에서 100% 출자하였으며 KTI 내, 외부 자금을 활용하여 공장 건설 등의 투자를 진행하고 있습니다.[Hefei, 중국] MiCo Electronics (Wuxi) Ltd.(이하 KTW)에서 전액 출자하여 설립하였습니다. 향후 중장기적인 관점에서 중국 내 반도체, 디스플레이 부문 시장 확대를 목표로 하고 있으며 설립 자본금은 RMB 2,500,000 입니다.

(2) 회사의 주력사업 제품 설명

당사의 제품은 크게 세정, 코팅, 반도체 부품으로 구분하고 있습니다. 일반적인 제조업과 다르게 특정 제품을 일괄 제조 하는 생산라인이 아니기 때문에 세정이라는 특정프로세스를 거친 제품을 세정이라고 명명하고 있으며, 당사의 코팅 기술을 응용한 생산 프로세스를 거친 제품을 코팅이라고 명명하고 있습니다. 반도체 부품에 대한 리세일은 미국, 중국, 대만, 싱가포르법인에서 활발하게 이루어 지고 있으며, 이 방식은 한국의 기능성 부품 업체로부터 부품을 구입한 후 이를 일정 프로모션 비용과 이익을감안하여 재판매 하는 방식입니다. 아래 그림은 당사의 각 법인별 주요 제품취급을 설명하고 있습니다.

(가) 세정

당사의 제품 중 가장 큰 매출비중을 차지하고 있으며, 당사 사업의 모태가 된 제품으로서 최근 반도체 제조 기술의 발전에 따른 미세 오염물의 방지와 공정 대기시간을 줄이기 위한 표면처리 기술의 중요성이 강조되고 있습니다. 반도체 제조공정의 미세 패턴화가 5nm대까지 발전한 상황에서 미세오염물인 파티클의 제어는 반도체 제조공정의 수율과 생산성에 막대한 영향을 끼치고 있습니다. 당사의 경우 약 20여년간 축적한 공정 노하우를 기반으로 세계 최고 수준의 솔루션을 확보하고 있으며, 이러한 솔루션의 업그레이드와 당사 고유 신기술의 융복합된 기술로 반도체 세정부문을 선도하고 있습니다.

위 사진에서 보여지는 것과 같이 반도체 공정중 오염에 의해 당사로 반입되는 공정장비의 부품은 당사 내부프로세스에 따라 세정이 이루어지게 됩니다. 세정을 통해서 부품 표면의 오염물을 제거하여 원래 모재의 표면으로 재사용이 가능한 상태를 유지시켜 주며, 손상된 표면의 안정화를 통해서 칩 제조 공정 중 발생할 수 있는 Risk를 방지할 수 있도록 도와줍니다. 단지 단순한 물리적 오염물 제거에 그치지 않고 표면에 대한 안정성을 제공함으로써 고객사는 세정된 제품을 투입한 후 바로 공정에 투입함으로써 공정 대기시간을 획기적으로 단축 시킬 수 있습니다.

최근 반도체 세정의 큰 트랜드는 고객사의 공정과 부품의 물질에 따른 세정공정 자체의 분리에 있습니다. 당사의 경우 고객사 라인별, 공정별, 재질별 세정 라인이 따로 구축되어 있으며, 고객사 라인을 드나드는 물류차량도 공정별로 구분하여 반입부터 반출까지 엄격하게 제어하고 있습니다. 이는 비단 한국에 한정된 것이 아니라 해외법인의 공정라인도 한국과 동일한 시스템을 도입하고 있습니다.

(나) 코팅

반도체 제조공정에서 가장 많이 사용되는 것은 제4의 물질이라고 불리우는 플라즈마입니다. 플라즈마는 반도체 제조공정에 있어 큰 기여를 하고 있으나, 워낙 강력한 화학적, 물리적 특성으로 인하여 반도체 공정장비 부품까지 데미지를 주고 있습니다. 따라서 반도체 공정장비의 부품은 플라즈마 내식성이 강한 세라믹 계열로 만드는 것이 일반적입니다. 그러나 세라믹은 무기화합물로서 형상을 제작하기 매우 어려울 뿐만 아니라 가공성이 떨어지는 단점이 있습니다. 또한 소결을 통한 세라믹 부품 생산에 따라 무게가 무겁고 가격이 매우 고가입니다. 위와 같은 단점에도 불구하고 플라즈마에 대한 내식성이 가장 중요한 반도체 부품의 요소이기에 세라믹 부품을 사용하지 않을 수 없었습니다.

부품 표면층에 대한 코팅처리는 매우 큰 장점이 있습니다. 먼저 Metal Body로 세라믹 Body를 대체함으로써 가격과 무게를 현저히 낮출 수 있으며, 용이한 가공성을 확보하여 반도체 공정장비 부품의 가공성이 크게 개선되었습니다. 또한 표면에 다양한 코팅물질과 방법을 선택 적용하여 다양한 공정조건을 설계하고 생산성과 효율성을 높이는 기술로 활용되고 있습니다. 당사는 오염된 세라믹 부품의 표면 재생뿐만 아니라 Metal 표면에 대한 세라믹 파우더 코팅 방법을 연구, 개발하였습니다. 비단 당사뿐만 아니라 반도체 부품, 장비업체들도 이러한 코팅의 필요성을 인식하면서 코팅에 대한 개발과 수요는 크게 확대되었습니다. 2000년 초반 공정장비 일부에만 도입되던코팅 방법은 현재 반도체 공정장비 전 부분에서 응용 되고 있으며, 반도체 칩제조업체, 공정장비 제작업체, 세정, 코팅 업체까지 코팅에 대한 기술력을 확보하기 위한 노력이 집중되고 있습니다.

위에 보이는 반도체 주요 공정장비의 핵심부품은 형상의 복잡함과 수많은 Hole 및 가공요소를 가지고 있습니다. 위와 같은 공정장비 부품은 기능과 용도에 따라 더욱 복잡한 형상으로 진화되고 있으며, 이러한 사유로 세라믹 소결을 통해서 원하는 기능과용도에 맞는 제품을 만들어 내는데 한계가 있습니다. 따라서 가공성이 용이한 Metal 재질의 Body 위에 플라즈마 내식성이 우수한 표면 효과를 얻어내기 위하여 플라즈마에 강한 세라믹 물질의 코팅을 이용하고 있습니다. 당사의 경우 각 공정장비별 요구사항에 적합한 세라믹 코팅 물질과 방법을 특화하여 서비스 하고 있으며, 고객 요구사항에 맞는 새로운 물질과 방법의 코팅을 지속적으로 출시하여 경쟁력을 강화하고 있습니다.

(다) 반도체 부품

당사의 모회사인 미코는 다양한 반도체 장비용 세라믹 소재 부품을 제작, 판매하고 있습니다. Heater, ESC 등의 고기능성 부품들은 수천만원을 호가하며 반도체 장비의성능에 가장 중요한 역할을 하는 부품이라고 할 수 있습니다. 당사의 해외법인들은 이러한 미코의 기능성 부품과 소모성 부품등을 수입하고 이를 반도체 칩 제조 업체 및 해외 장비업체에 재 판매하는 영업활동을 추진하고 있습니다. 반도체 부품은 2019년 기준 전체 매출액의 약 11% 를 차지하고 있습니다. (3) 신규사업당사는 반도체, 태양광, 디스플레이 산업부문의 정밀 세정과 특수 코팅, 반도체 부품 판매사업을 추진중에 있습니다. 당사의 반도체 칩 제조사에 대한 의존도를 낮추고 경쟁력을 강화하기 위하여 반도체 장비 제조 업체와의 파트너쉽 구축을 위한 고객 맞춤형 코팅 및 세정 기술을 개발하고 이를 고객사에 제안하고 있습니다. 당사의 코팅 기술중 Finecera, NOVA 등 고객이 요구하는 장비부품의 성능 향상을 위한 최적화된 코팅 및 세정기술을 기반으로 Major Supply Vendor로 등록되고자 노력하고 있습니다.

■ 반도체 장비 제조업체와의 파트너쉽 구축당사의 주요 고객사는 삼성전자, SKHynix, TSMC, Intel 등 반도체 칩 제조업체이며,2019년 전체 매출액의 약 90%를 차지하고 있습니다. 당사는 2018년 8월에 세계 굴지의 장비업체인 LAM Research Corp.와의 코팅 계약을 체결하여 협업 모델을 구체화하고 Business를 진행하고 있습니다. 즉 반도체 장비 제조업체가 최초 공정장비를 제작할 당시 당사의 최신 코팅 기술을 제공하여 매출증가와 거래선 다변화를 모색하고 동시에 경쟁사의 세정, 코팅 시장 진입 장벽을 높이는 전략을 추진 중에 있습니다. 특히 본 파트너쉽 구축은 당사가 독자 개발한 Finecera, NOVA, SF 등 최신 코팅기술이 주축이 되어 공정장비의 성능 향상은 물론 칩 제조업체의 공정 수율 개선에도기여할 수 있을 것으로 기대되고 있으며, 향후 매출 증가에도 기여할 것으로 기대하고 있습니다.

나. 시장현황

당사가 영위하고 있는 사업의 전방산업은 반도체, 디스플레이 산업입니다. 특히, 반도체산업에서 전체 매출액의 90% 이상이 창출되고 있습니다. 당사가 영위하고 있는 전방산업의 특징은 첫번째, 기술집약적 산업으로서 기술 트렌드의 변화가 빠르며, 두번째, 대규모 투자와 생산 효율성, 기술력이 사업의 가장 큰 경쟁요소입니다.

■ 반도체 산업(가) 산업의 연혁

반도체 산업은 1948년 트랜지스터 발명을 시작으로 1950년에는 트랜지스터의 생산이 시작되었고, 1950년대 후반에 들어 일본에서는 많은 트랜지스터 공장이 가동되었습니다. 10년 단위로 산업의 패러다임이 크게 변화되어 왔습니다. 1940년대 최초 트랜지스터 발명이후 1960년대에 들어서 IC의 개발로 직접화가 진행되었습니다. 1980년대에 이르러 IC를 더욱 고직접화한 VLSI가 개발되었습니다. 한국의 경우에도 바로 이시기에 반도체 메모리 부분에 삼성전자가 진출하면서 대한민국도 반도체 생산국으로 발돋움을 하게 되었습니다. 2000년대에 이르러 반도체 제조기술은 nm단위의 공정이 진행되었으며, 한국이 메모리 분야에서 절대 강자로서 우뚝 서는 시기이기도 하였습니다. 한국의 반도체 소자 산업은 1980년도 초반 외국업체에 대한 조립납품으로 시작하였으며, 1982년 일괄생산체제를 갖추고 이후 민관의 공동노력으로 괄목할만한 성장을 지속하여 왔습니다. 정부는 1981년 반도체육성계획을 수립하고 이어서 4M~256Mb DRAM의 개발지원, 인력양성 등으로 반도체 산업 인프라를 조성하는 등 국내 반도체 산업 태동기에서부터 큰 역할을 담당하였습니다. 한국 반도체 산업은 1992년 이후 DRAM을 발판으로 반도체 전 분야로 경쟁력이 확산되었고, 자체 기술을 확보하였던 1997년까지 거침없는 성장기를 거쳤으나, IT버블 붕괴에 따른 가격 급락, 포트폴리오 조정 등의 어려운 시기를 겪게 되었습니다. 2001년부터 2000년 후반까지 IT 산업 급성장과 함께 DRAM을 중심으로 NandFlash분야가 급성장하여 반도체 시장은 호황기를 누리게 됩니다. 이후 2008년 Global 경기침체의 영향으로 전세계의 소비가 줄어드는 상황에서 반도체 업계는 큰 위기를 맞이하였습니다. 전세계 주요 반도체 칩 제조 업체들은 끝을 알 수 없는 치킨게임을 진행하였고, 자금력과 생산효율성, 기술력을 갖춘 현재의 Intel, 퀄컴, 삼성전자, SKhynix, Micron, 도시바, TSMC, UMC 같은 회사들이 치킨게임의 최종 승자로 살아남게 되었습니다. 특히 이 과정을 통하여 삼성전자, SKhynix, 도시바, Micron과 같은 회사는 메모리 분야의 맹주로, Intel, 퀄컴 같은 회사는 System LSI, TSMC, UMC와 같은 회사는 Foundry 분야의 최대 강자로 독주체제를 완성하였습니다.

출처 : Gartner, NH투자증권 리서치본부

자료 : IC인사이츠

2 019년 반도체 산업은 각 분야의 강자들이 서로의 영역에 대한 강력한 도전을 계속하고 있습니다. Intel은 Micron과 함께 한국이 최대 강점을 가지고 있는 메모리분야로의 사업 확대를 선언하고 야심찬 투자를 진행하고 있습니다. 또한 삼성전자, SKhynix 역시 Intel과 퀄컴등이 독주하고 있는 System LSI 시장 확대를 위한 연구개발을 집중하고 있으며, TSMC, UMC 등도 Foundry 분야에서 독주를 계속하기 위한 공정개발에 박차를 가하고 있습니다. 특히 중국은 최대 반도체 칩 소비국에서 최대 반도체 생산 기지로의 기치를 내걸고 국가 주도의 성장전략을 추진하고 있습니다.

( 나) 반도체 산업의 규모 및 시장전망 세계 반도체 시장은 2017년 4,190억 달러 (YOY 24%), 2018년 4,750억 달러 (YOY 13%)를 기록하는 등의 호황을 누렸습니다. 특히 메모리 부분의 성장이 두드러졌습니다. 하지만 이 시기 과잉 공급된 메모리 제품들로 인해 이후 반도체 시장 침체의 계기가 되었습니다. (§Data 출처: IDC Semiconductors _July 2019) 2019년 반도체 시장은 전년대비 약 11% 감소한 4,183억 달러를 기록하였습니다. (§출처: Gartner_2020년 1월) 앞서 과잉 공급된 메모리 제품들이 재고로 축적되면서 메모리 가격의 하락을 불러왔고 이에 공급량 조절을 위해 주요 메모리 chip maker들이 생산량을 축소하는 상황이 발생하였습니다. 하지만 2020년부터 다시 성장세로 돌아올 것으로 전망하고 있는데, 이는 5G, AI, 데이터센터, 차량용 반도체 등 신성장 분야의 수요가 지속적으로 증가할 것으로 예상되기 때문입니다. 반 도체 팹 장비에 대한 투자는 2020년에는 성장할 것으로 예측되고 있습니다. 국제반도체 장비재료협회(SEMI)가 2019년 8월 발표한 세계 팹 전망 보고서에 따르면 2019년 팹 장비 투자가 전년대비 10% 증가할 것으로 보았습니다. 그러나 최근 코로나 19 사태로 인해, 향후 세계 경기 전망에 대한 불확실성이 커짐에 따라, 팹 장비 투자 성장 여부 또한 불투명한 상태입니다. 하지만, 이러한 불확실성이 제거되게 되면 반도체 팹 장비 투자 성장 또한 실현될 것으로 보고 있습니다.

다. 경쟁 현황

반도체 및 디스플레이, 태양광 시장에서의 세정, 코팅 사업은 각 회사가 갖추고 있는 생산설비와 노하우, 고객사와의 협력관계, 기술력, 인적자원이 집적화되는 시장으로서 회사가 가지고 있는 기술수준과 이를 통한 고객에 대한 가치 제공이 회사의 경쟁력을 판가름하는 기술집약적인 시장이라고 할 수 있습니다. 통상 경쟁의 형태는 자유로운 경쟁이며, 한국의 경우 독점이나 과점이 이루어 지지 않고 있습니다. 세정, 코팅 시장의 진입장벽으로는 각 경쟁사마다 가지고 있는 Trouble Shooting에 대한 노하우가 가장 크다고 할 수 있습니다. 결국 고객사에서 요구하는 제품수준을 제공할 수 있는지 여부가 가장 큰 경쟁력이면서 진입장벽입니다. 각 회사들은 이러한 사유로 핵심인력의 이탈을 방지하기 위하여 노력하고 있습니다. 두번째 진입장벽은 생산설비를 들 수 있습니다. 고객의 미세오염물 방지를 위해서는 각 회사마다 특색있고 효율적인 생산라인을 가지고 있어야 합니다. 또한 각종 계측기 및 CleanRoom 시설을 갖춰야 하기 때문에 대규모 투자가 동반되어야 하는 시장입니다. 이러한 사유로 한국의 경우 삼성전자에는 당사를 포함한 4개회사가 경쟁중이며, SKhynix에는 당사를 포함한 3개사가 경쟁중에 있습니다.

2. 주요 제품 서비스 등가. 주요 제품 등의 현황

(1) 주요 제품 등의 현황(단위:백만원,%)

구분	품목	2019년	2018년	2017년

매출액	비율	매출액	비율	매출액	비율

제품	세정	67,804	39.09%	64,668	38.82%	54,968	44.0%

코팅	87,294	50.32%	84,501	50.73%	57,168	45.7%

부품	8,781	5.06%	6,532	3.92%	4,128	3.3%

기타	16	0.01%	49	0.03%	0	0.0%

소계	163,895	94.49%	155,750	93.51%	116,263	93.0%

상품	부품	9,566	5.51%	10,817	6.49%	8,794	7.0%

매출총계	173,461	100.00%	166,567	100.00%	125,056	100.0%

나. 주요 제품 등의 가격변동추이

당사의 경우 취급하는 품목수가 약 6,000여가지이며, 특히 한해 생산되는 수량이 약 90만개로 주요 제품등의 가격변동 추이를 확인하는 것이 어렵습니다.

3. 주요 원재료에 관한 사항가. 주요 매입 현황

(단위 : 백만원)

품목	2019년	2018년	2017년

코팅파우더 외	5,452	7,302	3,745

기타	1,538	1,236	857

원재료 합계	6,990	8,538	4,602

주) 별도 재무제표 기준입니다. 나. 주요 원재료 등의 가격 변동 추이 당사의 원재료는 다품종으로 구성되어 있으며, 매입단위 및 단가편차가 크기 때문에 원재료 가격 변동 추이를 품목별로 산정하는데 어려움이 있습니다. 따라서 주요 원재료에 대해 총 매입비용을 총 매입수량으로 나누어 평균 가격을 산출하였습니다.

(단위:원)

품목	2019년	2018년	2017년

코팅파우더 외	255,593	321,949	230,682

기타	1,054	1,464	1,444

주) 국내법인 기준입니다.

다. 주요 매입처에 관한 사항 당사의 코팅 파우더는 대부분 관계사인 미코로 부터 수급하고 있습니다. 해외법인은 코팅파우더를 제외한 기타 원재료 등은 해당 국가에서 수급하고 있습니다.

사업부문	매입유형	주요 매입처

국내법인	코팅파우더 외	㈜미코 외

기타	서전기업, 가스켐테크놀로지 외

미국법인	코팅파우더 외	㈜미코 외

기타	Alliance Chemical 외

중국법인	코팅파우더 외	㈜미코 외

기타	무석시예양과기유한공사 외

대만법인	코팅파우더 외	㈜미코 외

기타	芝普 외

4. 생산 및 설비 가. 생산능력 및 생산실적 당사의 경우 일반 제조업과 다르게 제품의 오염물 배포 상태 또는 고객의 요구사항에 맞춰 생산이 이루어지기 때문에 동일제품에 대하여 세정, 코팅을 진행하더라도 제품의 공정시간이 모두 다릅니다. 따라서 모든 변수를 감안하여 정확한 생산능력을 산출하기는 어려우나 생산라인의 병목공정을 기준으로 1일 생산가능수량을 산출하고, 해당공정의 장비 수를 반영하여 연환산하여 산출하였습니다.

(단위:개,%)

법인	구분	2019년	2018년	2017년

국내법인(주1)	생산능력	1,634,196	950,395	929,610

생산실적	989,539	989,011	936,029

가동율	60.6%	104.1%	100.7%

미국법인	생산능력	224,543	218,400	211,400

생산실적	197,468	193,990	182,771

가동율	87.9%	88.8%	86.5%

중국법인(주2)	생산능력	939,600	232,157	223,432

생산실적	302,643	306,809	263,162

가동율	32.2%	132.2%	117.8%

대만법인(주3)	생산능력	107,412	38,074	27,945

생산실적	47,281	32,635	27,916

가동율	44.0%	85.7%	99.9%

싱가포르법인	생산능력	60,000	60,000	59,400

생산실적	30,434	42,856	50,178

가동율	50.7%	71.4%	84.5%

선전법인(주4)	생산능력	185	185	-

생산실적	147	135	-

가동율	79.4%	73.3%	-

주1) 국내법인의 경우 `19년에 2여년에 걸친 증설 투자가 완료되어 생산능력이 증가하였습니다.주2) 중국법인의 경우 `19년에 Wuxi 공장 증설 투자가 완료되어 생산능력이 증가하였습니다.주3) 대만법인의 경우 `18년 증설이 완료되어 `19년부터 생산능력이 증가하였습니다. 주 4) 선전법인의 경우 2018년 신규 편입되었습니다. LCD, OLED등의 Display 장비 부품을 대상으로 서비스를 제공하고 있습니다. ※ 각 국가별 근무시간 기준으로 생산능력을 산정하고 있습니다. 교대근무 등을 통해 생산능력을 추가 확보 할 수 있습니다. 세정과 코팅부문을 합산하여 산출하였습니다. 나. 생산설비에 관한 사항(1) 현황 당사는 국내 및 해외에 법인들이 설립되어 있으며, 그중 5개 법인이 세정과 코팅 시설을 갖추고 있습니다. 국내법인은 안성시에 소재하고 있으며, 해외법인은 중국 Wuxi, Shenzhen, Hefei, 미국 텍사스 Austin, 오레곤 Hillsboro, 대만 Hsinchu, 싱가포르 Woodland에 자리잡고 있습니다. 특히 국내법인과 미국법인은 자가건물입니다. 세부적인 자산 현황은 다음과 같습니다.

1) 국내법인_별도기준(단위: 천원)

구분	기초	취득	처분	감가상각	대체	정부보조금	기말	시가(주1)

토지	15,563,679	0	0	0	0	0	15,563,679	14,301,708

건물	17,707,484	725,080	0	(796,976)	0	0	17,635,588	10,288,927

구축물	171,164	100,895	0	(17,682)	0	0	254,377	-

기계장치	10,103,687	4,679,721	(27)	(2,098,805)	781,020	0	13,465,596	-

차량운반구	1,046,846	138,421	(3)	(322,104)	78,116	0	941,276	-

시설장치	15,277,144	11,866,593	0	(4,475,034)	1,826,050	(160,000)	24,334,753	-

공구와기구	35	0	(5)	0	0	0	30	-

비품	500,646	705,796	(97)	(218,889)	208,477	0	1,195,933	-

건설중인자산	3,053,664	644,380	0	0	(3,012,164)	0	685,880	-

사용권자산	0	354,370	(76,325)	(319,468)	645,779	0	604,356	-

합계	63,424,349	19,215,256	(76,457)	(8,248,958)	527,278	(160,000)	74,681,468	-

(주1) 시가와 관련하여 `19년 재산세 토지, 건축물 정기과세 기준으로 작성하였습니다. 토지는 국토해양부가 고시한 `19년 공시지가를, 건물은 지방세 납부서 상의 건물시가를 기준으로 작성하였습니다. 2) 연결기준

(단위: 천원)

구분	기초	취득	처분	감가상각	대체	정부보조금	환산차이조정	기말

토지	17,033,522	0	0	0	0	0	52,189	17,085,711

건물	29,946,269	725,080	0	(1,264,033)	103,939	0	437,004	29,948,259

구축물	982,130	2,159,288	0	(529,683)	5,465,209	0	179,604	8,256,548

기계장치	19,068,879	5,083,166	(365,942)	(3,876,030)	14,954,490	0	83,104	34,947,667

차량운반구	1,392,221	596,608	(60,253)	(477,627)	166,311	0	10,583	1,627,843

시설장치	16,672,846	961,411	(24,468)	(106,433)	59,682	0	(12,527)	17,550,511

공구와기구	135,014	1,039,537	(46,109)	(365,857)	335,463	0	11,173	1,109,221

비품	997,238	11,971,479	0	(5,059,637)	2,208,972	(160,000)	45,198	10,003,250

건설중인자산	16,907,189	34,170,713	0	0	(23,412,567)	0	127,212	27,792,547

사용권자산	0	949,936	(76,325)	(1,631,837)	7,295,808	0	72,775	6,610,357

합계	103,135,308	57,657,218	(573,097)	(13,311,137)	7,177,307	(160,000)	1,006,315	154,931,914

(2) 설비의 신설 / 매입계획 당사는 한국 및 각 해외법인에서 생산 Capa 확대에 따른 투자를 계획하고 있습니다.아래표는 2020년 사업계획상 설비의 신설과 매입계획 이며, 이는 경영환경에 따라 변경 될 수 있습니다. [2020년 투자계획_요약] (단위: 백만원)

구분	계정과목	투자금액	투자의 목적 및 내용	투자완료시기

안성	시설장치 外	3,078	1. 정례적인 보완투자 2. 생산자동화를 통한 생산효율 증대 3. 신기술 개발 투자	주1)

미국(Austin)	기계장치 外	1,056	1. 정례적인 보완투자	-

미국(Hillsboro)	시설장치 外	27,261	1. 신규 시장 진입 - 신 공장 건설 - 시설공사 및 공정장비 도입 등	2021년 2분기주3)

중국(Wuxi)	기계장치 外	910	1. 정례적인 보완투자	주2)

중국(Shenzhen)	기계장치 外	1,419	1. 디스플레이 부문 Capa 증설 - 설비 등 추가	-

대만	기계장치 外	739	1. 정례적인 보완투자	-

싱가포르	기계장치 外	154	1. 정례적인 보완투자	-

투자 합계	34,618

주1) 안성법인의 경우 생산 Capa확대를 위하여 2018년 2월 유형자산 양수를 결정하였고, 약 2년에 걸쳐 세정과 코팅 라인을 증설 및 부분 이전 완료하였습니다. 주2) 중 국법인의 경우 SKHynix Wuxi 공장 2기투자, HHGrace 기공 등 고객사 Capa 확대에 대비하기 위한 이전투자를 결정하여 약 2년에 걸쳐 `19년 공사 완료하였고 `20년부터 본격 가동 예정 입니다.주3) 미국법인의 경우 Oregon 주 Portland Hillsboro에 신 공장 건설을 `19년부터 진행 중에 있으며 Portland 인근에 있는 반도체 Chip maker들을 Target으로 하고 있습니다.주4) 상기 투자 내역 및 금액은 사업환경 및 계획의 변화에 따라 변경될 수 있습니다. 또한 `21년 집행 예정분은 반영되지 않은 금액입니다.

주5) 상기 금액은 실제 금액과 환율 및 건설중인 자산 분류 등으로 인해 일부 차이가 날 수 있습니다. 주6) 중국 허페이 투자의 경우 반도체 업황 및 중국 내부 동향을 등을 파악하여 탄력적으로 투자를 검토할 예정입니다. 5. 매출에 관한 사항 가. 매출 실적

(단위:백만원)

매출유형	품목	2019년	2018년	2017년

제품	세정	내수	67,748	64,626	54,968

수출	56	41	0

코팅	내수	84,198	80,607	56,705

수출	3,096	3,893	462

부품	내수	8,694	5,965	2,493

수출	86	567	1,635

기타	내수	16	49	0

소계	163,895	155,750	116,263

상품	부품	내수	5,600	8,693	8,794

수출	3,965	2,124	0

소계	9,566	10,817	8,794

합계	내수	166,257	159,941	122,959

수출	7,204	6,626	2,098

합계	173,461	166,567	125,056

주) 연결기준 자료입니다.

나. 주요 매출처 등 현황(단위:백만원)

구분	매출처	2019년	2018년	2017년

반도체	삼성전자,SK하이닉스 外	101,778	102,926	77,987

비중(%)	58.67%	61.8%	62.4%

인텔 外	54,895	51,056	39,304

비중(%)	31.65%	30.7%	31.4%

소계	156,673	153,982	117,291

비중(%)	90.32%	92.4%	93.8%

비반도체	16,789	12,585	7,765

9.68%	7.6%	6.2%

매출총계	173,461	166,567	125,056

주1) 연결기준으로 위 고객사별 매출은 당사의 해외법인과 안성법인이 세계 각국에 있는 각 고객사와 거래하는 실적의 합계입니다.

주2) 영업 상의 이유로 주요 고객사 명은 주요 고객사들을 통합하여 표현하고 그 실적 또한 합산하여 표시 하였습니다. 다. 판매조직 및 판매경로등 (1) 판매조직 당사의 판매조직은 각 법인별 법인장이 판매 조직을 총괄합니다. 본사인 한국법인에서는 매년 3분기에 각 법인의 경영계획을 심사하고 전세계 매출 계획을 수립합니다. 수립된 경영계획에 대한 실적을 매월 모니터링하여 차이에 대한 원인분석을 통해 각 법인별 판매조직에 재통보하는 시스템으로 운영되고 있습니다. 각 법인은 독립적인 영업본부장을 필두로 국가별, 고객별 차별화된 서비스를 제공할 수 있는 영업조직을 운영중에 있습니다. (2) 판매경로 당사의 판매경로는 최종 고객사에 직접 납품하는 구조로 되어 있습니다. 다만 해외에 위치한 자회사에서 서비스가 불가능한 제품 등 일부만이 KoMiCo 국내법인에서 각 해외 자회사로 판매된 뒤 다시 최종 고객사로 납품되며, 이는 연결기준으로 내부거래가 제거되어 중복 매출은 발생하지 않는 구조입니다. 그 외에 별도의 대리점, 도매상 등과 같은 유통구조가 없습니다.

(매출기준 : 2019년 12월 31일) (단위:백만원)

매출유형	품목	판매경로	판매경로별 매출액

제품	세정	내수	코미코(국내/해외법인)→제조사	67,748

수출	코미코(국내/해외법인)→제조사	56

코팅	내수	코미코(국내/해외법인)→제조사	84,198

수출	코미코(국내/해외법인)→제조사	3,096

부품	내수	코미코(국내/해외법인)→제조사	8,694

수출	코미코(국내/해외법인)→제조사	86

기타	내수	코미코(국내/해외법인)→제조사	16

상품	부품	내수	코미코(국내/해외법인)→제조사	5,600

수출	코미코(국내/해외법인)→제조사	3,965

합계	173,461

(3) 판매 전략 당사는 해외 5개 국가에서 경영활동을 수행하고 있습니다. 따라서 각 국가의 주 고객사별 차별화된 판매전략을 수립하고 있으며, 각 법인에서 수립된 전략을 내부 공유를 통해 유기적인 전략 시행을 추진중에 있습니다. 6. 수주 현황 당사는 통상적인 회사와는 다르게 건별 수주를 받아서 생산을 진행하지 않습니다. 매일 고객사를 통해 세정, 코팅 부품을 받아오고 이를 1~3일 사이에 대부분 납품을 진행합니다. 이러한 사유로 수주 잔고등이 큰 의미가 없습니다. 7. 시장 위험과 위험관리 당사가 노 출된 주요 시장위험에는 외환위험, 금리위험 등이 있으며, 이러한 내용은 첨부된 공시서류인 "연결감사보고서 주석4. 재무위험관리” 에 기재되어 있으므로 해당 부분을 참조해 주시기 바랍니다

8. 파생상품 및 풋백옵션 등 거래현황

당사는 당기중 이자율변동 위험을 회피할 목적으로 체결한 파생상품계약을 모두 해지하였기에 당기말 현재 보유 중인 파생상품계약이 없습니다.

※ 당기 파생상품평가손익의 내역은 다음과 같습니다.

(단위:천원)

구분	거래목적	파생상품종류	평가손익	비고

당기	현금흐름위험회피	변동금리장기차입금의 이자율변동위험 헤지	23,952	기타포괄손익(법인세효과차감전)

전기	(23,380)

9. 경영상의 주요 계약 등

계약상대방	계약체결 시기	계약의 목적 및 내용	계약금액 또는 대금수수방법	계약상의 주요내용

삼성전자	1997.08.08	세정계약	세정,코팅 품목에 대한 포괄적 계약으로 품목에 따라 금액이 상이함	제품 매출계약

램리서치코리아	2000.01.20	세정계약

현대반도체	2000.01.26	세정계약

동부전자	2002.07.01	세정계약(물품공급계약서)

하이닉스반도체	2004.09.13	세정계약(자재거래기본계약)

매그나칩반도체	2004.10.07	세정계약(자재거래기본계약)

LAM RESEARCHCORPORATION	2018.08.03	코팅계약

10. 연구개발 활동 가. 연구개발 담당 조직

(1) 연구개발 조직 개요

당 사는 한국산업기술진흥협회로부터 기업부설연구소 인증을 받고 있으며, 보고서 작성 기준일 현재 58명의 연구인력이 세정과 코팅에 관련된 기초연구와 응용기술 연구를 통해 세계 최고 기술을 개발하여 고객의 가치창조에 기여하고 있습니다. 2017년부터 2019년 5월까지는 양산기술 인력과 기술개발 인력으로 구분하였으나 2019년 6월부터는 통합하여 운영하고 있습니다.

(2) 연구개발인력 구성

학력	박사	석사	학사	기타

인원수	3	29	22	4

(3) 주요 연구개발인력 현황

팀 명	인원	수행업무

기업부설연구소장	1	연구개발 방향설정 및 관리

코팅개발팀	25	코팅기술 개발

기술기획팀	5	기술관련 기획, 정부과제 및 특허관리

공정기술팀	6	C/S 및 기술이슈 대응

세정기술팀	21	세정기술 개발

나. 연구개발 비용(단위:백만원,%)

구 분	2019년	2018년	2017년

연구개발비용 계	5,266	3,561	2,732

연구개발비 / 매출액 비율[연구개발비용계÷당기매출액×100]	6.10%	3.9%	4.0%

* 별도기준입니다.

다. 연구개발 실적 (1) 연 구 개발 실적 (가) 세정기술 분야

구분	연구과제	연구 내용 및 연구 기대 효과	연구결과 및 상품화 여부	개발시기

1	표면처리를 통한 ArcSpray 물성 향상	표면 처리 조건 (온도, 시간 등) 설정을 통한 Arc spray coating Adhesion 향상	- Adhesion 80% 향상 - PM주기 연장 - SPT 제품 양산 전개	2014

2	Pattern Arc Spray Coating 개발	표면 처리 조건 변경 및 Texturing에 의한 비표면적 향상	- PM주기 연장 - Particle 감소 - SPT 제품 양산 전개	2015

3	Cu on Al 세정 기술 개발	기존 Recipe 대비 모재 안정성 탁월한 기술 개발	- 제품 Life time 증가 (모재 안정성 95% 향상) - Cu 배선 SPT제품 양산 전개	2014

4	고기능성 제품 가압 및 Cavitation을 활용한 세정 장비 개발	Marco Micro Contamination과 Particle 제거를 위한 집중 가압 및 Cavitation 장치 개발	- 고기능성 제품의 Contamination 및 Particle 제거 효과	2009

5	Quartz 재질 표면 복원 기술 개발	Quartz 표면 안정화를 통한Particle source 억제 및 표면 상태 A급 복원 가능	- Quartz 표면 안정화 기술 확보 - 제품 Life time 증가 - 국내/해외 제품 양산 전개	2013

6	CVD Shower Head 표면 안정화 세정 기술 개발	CVD 공정 Shower head세정 기술 개발을 통한 반도체 공정 issue 감소	- Al 모재 손상 최소화를 통한 Hole Size 변화 최소화 - CVD 제품 양산 전개	2015

7	Anodizing 표면 손상 최소화를 통한 APS 코팅 박리 기술 개발	Anodizing 표면 손상 최소화를 고려한 APS 박리 적용으로 Parts Life Time 극대화.	- APS 선택적 제거 기술확보 - 반도체 공정 Qual. Test 진행 중	2015

8	Nano Particle 측정 및 제거 기술 개발	Nano Particle 제어 기술 개발을 통한 반도체 공정 Issue 감소 및 공정 효율 향상	- 10nm~1000nm Particle 제어 기술 확보 - 세정제품의 Gas Hole Particle 검증적용	2013

9	Nano Bubble을 이용한 표면 Particle / 이온 제거기술 개발	피 세척물과 Particle 간의 결합력 약화를 통한 표면 Nano/Micro Particle 및 이온 제거	- 기존 대비 Particle 제거, 이온 감소율 향상 확인 - 코팅제품의 세정공정 적용	2014

10	Etch 공정 표면 처리 안정화 기술 개발 및 장비 Set-up	모재 손상 최소화 및 공정부산물 제거 효과 극대화를 통한 코팅층 표면 안정화	- 모재 손상율 최소화 - 코팅 Life time 증가 - 코팅 표면 Particle 개선	2016

11	Ti on Al 세정 기술 개발	Ti를 선택적으로 용해시킬 수 있는 Chemical 혼합Recipe 개발	- 제품 Life time 증가 및 Hole Size 변화 최소화	2017

12	Etch 공정 Silicon Shower Head 류 Hole 내부 세정 기술 개발	Silicon Hole 오염 제거력 향상 및 표면 안정화를 통한 Particle Source 제거	- Hole Size 변형 및 모재 손상 없이 Hole 내부 표면안정화를 통한 Particle 감소 효과 확인	2019

13	CVD 공정 Showehead 표면처리 기술 개발	세정을 통한 오염물 제거후 Showerhead 표면 방사율, 반사도 Control 기술 개발	- CVD Chamber 내 공정 조건 개선 확인 - CVD Chamber S/H 류 양산 횡전개	2019

14	Etch 공정 Chamber CD 안정화 세정 기술 개발	세정 후 Ceramic 코팅층의 Stoichiometry Ratio 유지가 가능한 Recipe 개발	- CD 안정화 확인 - 세정 후 CD Issue Etch Chamber 횡전개	2019

15	Smart Factory 구축	공정 Parameter Monitoring System 구축세정 공정 자동화를 통한 생산성 및 품질 향상	- 공정 Issue 예방 (Big Data Analytics) - 세정 공정안정화 및 품질재현성 향상	2019

(나) 코팅 기술 분야

구분	연구과제	연구 내용 및 연구 기대 효과	연구결과 및 상품화 여부	개발시기

1	Silicon 코팅 국산화 기술 개발	Silicon 코팅 공법 개발을 통한 IMP 공정장비Silicon 코팅	- VARIAN PLAD 설비 코팅 국산화 성공 - 국내/외 IMP설비 양산 전개	2007

2	High Roughness 고온용 코팅 공법 개발	고온에서 적용 가능한 APS 코팅 개발에 따른 반도체 제조 장치 공정 부산물 포집 향상 및 생산 효율 향상	- SPT 설비 양산 전개	2008

3	내식성 향상 비정질 코팅층 제조 방법	코팅층 비정질 구조 형성을 통한 내플라즈마 특성 향상 피막 형성	- 비정질 특성 분말 제조 및 코팅층 제조 기술 확보 - Etcher 장비용 코팅 다수 양산 적용	2010

4	고온 플라즈마를 이용한 Hardshell 코팅막 제조	Porosity 0% 구현 코팅층 피막 제조를 통한 High Plasma resistance 코팅 기술 개발	- 챔버내 공정조건의 변경없이 코팅층 표면 고밀도화 개발 성공 - Etch 설비 양산 전개	2013

5	고밀도 Y2O3 코팅막 제조 기술 개발	기존대비 코팅층 기공이 50%이상 감소된 고밀도 Y2O3 APS 코팅층 형성 기술	- 고밀도 Y2O3 APS 코팅 구현 - Etch 설비 양산 전개	2014

6	Ni-P 함량 변화를 통한 내식성 특성 향상 기술 개발	내식성 향상 최적 Ni-P조성 개발을 통한 장비 PM 주기 향상	- Ni-P 최적비율 적용을 통한 제품의 내식성-기계적 특성 향상 - 국내외 Ni 코팅 제품 양산 전개	2015

7	불화막 처리가 된 코팅막 형성 제조 기술	코팅층 불화막 처리를 통한 내플라즈마성 향상 및 Particle발생 억제 코팅 개발	- F 이온 내화학성 향상 코팅기술 확보 - 국내외 다수 Etch 설비 양산 진행	2016

8	Nano scale 코팅층 제조 기술 개발	Nano scale 피막 형성을 통한 Particle 발생 억제	- 나노 분말을 이용한 용사 피막 구현 기술 개발	2016

9	NOVA2 공정 setup(대형 부품 코팅을 위한 AD 코팅 장비 개발)	자체 장비 개발을 통한 가격 경쟁력 확보를 위해 최적화 장비 개발 대형 반도체 부품의 양산을 위한 초대형 고진공 장비개발	- 자체 NOVA 코팅 장비 개발완료 - 국내외 AD 코팅 단일 막 및 다층막 코팅 대형부품 양산 Item 확대	2013~2016

10	3D-NOVA 코팅 기술 개발	횡전개 Item 확대를 위한 3D 형상제품 표면 NOVA 코팅 형성 기술 개발	- OEM 고객 대응 중 - 적용 Item 확대 중	2016

11	비접촉 3D 표면 검증 장비 setup	코팅 표면 검증을 통한 세정/코팅 품질 고도화 및 3D 제품 적용에 따른 분석경쟁력 확보	- 양산제품 검증 적용	2016

12	미세분말입자를 이용한 고밀도 세라믹 박막코팅개발 (Aerosol Deposition Coating-NOVA)	초고밀도 Yttria 박막코팅 개발을 통한 반도체 부품의 내플라즈마 특성 향상 및 챔버내 Particle 에 의한 Wafer 표면 Defect 감소	- Etch 장비 양산 적용 - 특허 등록 (5건)	2008~ 2014

13	반도체 금속부품 적용을 위한 Multi-Layer 코팅 개발	Metal 제품의 AD+APS 다층 코팅 개발을 통한 반도체 제조공정 중 패턴붕괴 문제 해결	- Etch 장비 금속 Liner류 양산 적용	2012~ 2014

14	YF3 코팅 기술 개발	반도체 Etch 챔버 안정화 조건에 최적화된 화학적 조성을 가지는 코팅 개발 Ver. 1	- 다수 설비 양산 진행	2015

15	F계 NOVA 코팅 기술 개발	플라즈마 내식성이 우수한 AD 코팅층 형성 기술 개발	- F계 NOVA 코팅층 형성 기술 개발	2016~2019

16	비접촉 Visual Inspection 장비 setup	Visual Inspection 강화를 통한 세정/코팅 품질 고도화 및 3D 적용에 따른 분석경쟁력 확보	- 양산제품 적용 중 (세정 후 Window 표면 측정)	2018~

17	고밀도 Y2O3 코팅막 제조 기술 개발	고밀도 Y2O3 코팅 기술 Ver. 2	- F 계열 코팅 양산 진행에 따른 Holding	2017

18	YOF 코팅 기술 개발	반도체 Etch 챔버 안정화 조건에 최적화된 화학적 조성을 가지는 코팅 개발 Ver. 2	- 국내 OEM 고객사 Qual. 완료 - 다수 제품 양산 적용 중	2017

19	4성분계 코팅 기술 개발	F 계열 코팅의 기계적 강도 향상 코팅	- 고객사 평가 대기	2018

20	혼산법 아노다이징 개발	기존 아노다이징 대비 내식성 향상 코팅	- 개발 완료, 고객사 제안 중	2018

21	아노다이징 내절연 특성 향상 기술 개발	아노다이징 표면 Polyimide 적용을 통한 내절연 특성 개선	- 파괴전압 내구성 4배 이상 상승 - 양산 사례 없음	2017

22	비접촉 두께 측정 장비 검토	코팅층 두께 검증을 통한 세정/코팅 품질 고도화 및 3D 제품 적용에 따른 분석경쟁력 확보	- 가성비 높은 장비 추가 검토 후 Setup 예정	2020

23	초고밀도 플라즈마 코팅 기술 개발	용사 코팅(APS)의 단점인 높은 기공율을 1/10 수준 이하로 낮추는 코팅 기술 개발	- 공정 최적화 및 제품 적용 테스트 진행 중	2018~

24	Thin Film Coating 기술 개발	초고밀도 (Zero Porosity) 박막 제조 기술 개발 및 High Plasma resistance 코팅 기술 개발 다양한 코팅재 사용 (Y2O3, YF3, YOF, etc.)	- WDO Y2O3 코팅 고객 평가 대기 중 (2019~) - YOF 코팅 기술 개발 중, 추후 CVD parts 적용 예정 (2020~)	2018~

25	AD 코팅막 코팅강화 기술 개발	코팅강화 기술 개발을 통한 코팅 Adhesion 경도 향상	- 다수 제품 양산 적용 중 - 특허 출원 (심사중)	2015~2018

26	고객사 맞춤형 코팅 기술 개발	Y-O-F 비율 조절 코팅 개발	- 고객사 Qual. 완료 및 적용 영역 확대 중	2018~

27	EVO 코팅 기술 개발	YF3 코팅 개발 (Ver. 2) 반도체 Etch 챔버 안정화 조건에 최적화된 화학적 조성을 가지는 고밀도 코팅 개발	- 개발 완료, 고객사 평가 대기	~2019

28	YAG 코팅 기술 개발	3, 5nm 대응 및 HBr 저항성 물질 코팅 개발	- 개발 완료, OEM 고객사 테스트 진행 중 - End User 고객사 제안 중	2019~

29	고밀도 Y2O3 코팅막 제조 기술 개발	고밀도 Y2O3 코팅 기술 Ver. 3	- 원자재 국산화 및 최적화 완료 - 고객사 제안 중	2019~

11. 그 밖에 투자 의사결정에 필요한 사항

가. 지적재산권 현황(1) KoMiCo 특허 리스트

(단위:건)

구분	지역	출원	등록

특허	국내	54	28

해외	47	27

PCT	19	0

SUM	120	55

실용신안	국내	1	1

상표	국내	10	10

해외	9	9

SUM	19	19

Total	140	75

(2) 기술별 분류(단위:건)

Tech.	세정기술	코팅기술	복합소재기술	기타

권리	지역	출원	등록	출원	등록	출원	등록	출원	등록

특허	국내	8	5	36	18	4	2	6	3

해외	1	0	37	21	7	6	2	0

PCT	1	0	13	0	3	0	2	0

SUM	10	5	86	39	14	8	10	3

실용신안	국내	0	0	0	0	0	0	1	1

(3) 국내 특허 리스트

No.	구분	명칭	권리자	출원일	등록일	적용제품	주무관청	비고

1	특허	기판 표면의 입자성 오염물 제거 방법 및 그 제거장치	㈜코미코	2001-05-30	2004-02-20	세정	특허청

2	특허	기공을 가진 오염된 모재 표면의 세정방법	㈜코미코	2001-10-30	2004-07-13	세정	특허청

3	특허	플라즈마 스프레이 방식을 이용한 세라믹 반도체 부품의 제조 및 재생 방법	㈜코미코	2001-12-07	2004-07-06	코팅	특허청

4	특허	반도체 제조장치용 부품 표면에 보호막을 제조하는 방법 및 표면 보호막이 형성된 반도체 제조장치용 부품	㈜코미코	2003-02-28	2006-03-13	코팅	특허청

5	특허	반도체 제조설비용 부품정보 제공시스템 및 부품정보 제공방법	㈜코미코	2004-06-18	2006-09-06	기타	특허청

6	특허	파티클 제거 방법 및 장치, 및 이를 포함하는 파티클 측정방법 및 장치	㈜코미코	2005-07-26	2009-12-15	기타	특허청

7	특허	파티클 제거 방법 및 장치, 및 이를 포함하는 파티클 측정 방법 및 장치	㈜코미코	2005-10-07	2010-06-08	기타	특허청

8	특허	이온주입장치, 이온주입장치의 내부구조물 및 이온주입장치의 코팅층 제조방법	㈜코미코	2007-07-10	2008-08-26	코팅	특허청

9	특허	불순물 제거용 세정액 및 이를 이용한 불순물 제거방법	㈜코미코	2007-10-30	2014-05-13	세정	특허청

10	특허	불순물 제거용 세정액 및 이를 이용한 불순물 제거방법	㈜코미코	2007-11-12	2014-07-01	세정	특허청

11	특허	용사코팅체, 용사코팅방법 및 용사코팅장치	㈜코미코	2007-12-18	2009-03-05	코팅	특허청

12	특허	용사 코팅 방법	㈜코미코	2007-12-31	2008-09-17	코팅	특허청

13	특허	용사 코팅층 형성 방법 및 상기 방법에 의해 형성된 용사 코팅층	㈜코미코	2008-01-14	2008-10-08	코팅	특허청

14	특허	용사 코팅용 분말 및 용사 코팅용 분말 제조방법	㈜코미코	2008-01-14	2008-10-08	코팅	특허청

15	특허	플라즈마 처리 장치 내부재 및 그 제조 방법	㈜코미코	2008-02-11	2008-12-01	코팅	특허청

16	특허	내 플라즈마 세라믹 코팅막 형성방법	㈜코미코	2008-07-25	2011-06-16	코팅	특허청

17	특허	세라믹 코팅막 형성 장치	㈜코미코	2008-07-25	2010-10-11	코팅	특허청

18	특허	내 플라즈마성 갖는 세라믹 코팅체	㈜코미코	2008-07-25	2010-06-17	코팅	특허청

19	특허	플라즈마 처리 장치용 배플 플레이트의 제조 방법	㈜코미코	2008-11-07	2009-12-15	코팅	특허청

20	특허	홀을 갖는 대상물을 세정하는 장치	㈜코미코	2009-11-10	2016-03-22	세정	특허청

21	특허	피막 형성 장치	㈜코미코	2010-08-16	2017-01-23	코팅	특허청

22	특허	기판 적재용 트레이	㈜코미코	2011-07-15	2017-11-06	복합소재	특허청

23	실용	내 플라즈마 코팅막, 이의 제조 방법 및 내 플라즈마성 부품	㈜코미코	2012-05-04	2018-12-19	코팅	특허청

24	특허	블라스트용 하이드록시아파타이트 분말의 제조 방법 및 블라스트용 하이드록시아파타이트 분말	㈜코미코	2012-10-16	2019-07-15	코팅	특허청

25	특허	박막 증착 장치용 내부재 및 이의 제조 방법	㈜코미코	2014-07-28	2017-10-19	코팅	특허청

26	특허	리프트 핀 및 이의 제조 방법	㈜코미코	2015-03-19	2015-08-25	복합소재	특허청

27	특허	내플라즈마 코팅막 및 이의 형성방법	㈜코미코	2015-12-31	2018-01-05	코팅	특허청

28	특허	내플라즈마 특성이 향상된 플라즈마 에칭 장치용 부재 및 그 제조 방법	㈜코미코	2017-09-14	2019-08-26	코팅	특허청

(4) 해외 특허 리스트

No.	국가	명칭	권리자	출원일	등록일	적용제품

1	US	Method of fabricating and repairing ceramic components for semiconductor fabrication using plasma spray process	㈜코미코	2002-12-04	2004-12-21	코팅

2	TW	Spray-coated body, method of coating an object by a spray coating process and apparatus for performing the same	㈜코미코	2008-06-17	2011-07-21	코팅

3	TW	Ion implanter, internal structure of ion implanter and method of forming a coating layer in the ion implanter	㈜코미코	2008-07-03	2012-07-11	코팅

4	CN	Ion implanter, internal structure of ion implanter and method of forming a coating layer in the ion implanter	㈜코미코	2008-07-03	2013-08-14	코팅

5	US	Ion implanter, internal structure of ion implanter and method of forming a coating layer in the ion implanter	㈜코미코	2008-07-03	2011-12-20	코팅

6	SG	POWDER FOR A SPRAY-COATING PROCESS AND METHOD OF FORMING THE POWDER, SPRAY-COATING LAYER USING THE POWDER AND METHOD OF FORMING THE SAME	㈜코미코	2008-09-24	2011-04-29	코팅

7	SG	SPRAY COATING POWDER AND METHOD OF MANUFACTURING SPRAY COATING POWDER	㈜코미코	2008-09-24	2009-08-28	코팅

8	TW	Powder for a spray-coating process and method of forming the power, spray-coating layer using the powder and method of forming the same	㈜코미코	2008-09-25	2013-11-21	코팅

9	CN	Spray coating powder and method of manufacturing the spray coating powder	㈜코미코	2008-11-14	2013-01-02	코팅

10	SG	Ion implanter, internal structure of ion implanter and method of forming a coating layer in the ion implanter	㈜코미코	2009-12-29	2011-05-15	코팅

11	CN	Ceramic coating with plasma resistance	㈜코미코	2011-01-25	2013-04-24	코팅

12	CN	Tray for loading substrates	㈜코미코	2013-03-21	2016-10-26	복합소재

13	JP	Aerosol coating method and plasma-resistant member formed by the same	㈜코미코	2013-08-28	2017-12-15	코팅

14	CN	Rubbing roller and method for producing same	㈜코미코	2015-04-02	2019-07-09	복합소재

15	TW	Interior material for thin film deposition device and method for manufacturing same	㈜코미코	2015-06-11	2016-08-01	코팅

16	TW	Aerosol coating method and plasma-resistant member formed by the same	㈜코미코	2015-08-01	2015-08-01	코팅

17	TW	INTERNAL MEMBER FOR A PLASMA TREATMENT APPARATUS AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME	㈜코미코	2015-11-10	2017-07-11	코팅

18	TW	INTERNAL MEMBER FOR A PLASMA TREATMENT APPARATUS AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME	㈜코미코	2015-11-10	2017-10-01	코팅

19	TW	Lift pin and method for manufacturing same	㈜코미코	2016-01-22	2017-06-11	복합소재

20	SG	Aerosol coating method and plasma-resistant member formed by the same	㈜코미코	2016-01-28	2018-09-10	코팅

21	US	Aerosol coating method and plasma-resistant member formed by the same	㈜코미코	2016-02-05	2019-04-30	코팅

22	CN	Aerosol coating method and plasma-resistant member formed by the same	㈜코미코	2016-03-30	2018-09-14	코팅

23	JP	Rubbing roller and method for producing same	㈜코미코	2016-09-29	2018-04-20	복합소재

24	US	Interior material for thin film deposition device and method for manufacturing same	㈜코미코	2016-12-08	2018-05-08	코팅

25	TW	Plasma resistant coating layer and method of forming the same	㈜코미코	2016-12-30	2018-02-21	코팅

26	JP	Lift pin and method for manufacturing same	㈜코미코	2017-08-31	2019-03-08	복합소재

27	US	Lift pin and method for manufacturing same	㈜코미코	2017-09-06	2019-10-01	복합소재

나. 법규, 정부 규제에 관한 사항 보고서 작성 기준일 현재 해당 사항이 없습니다.