램테크놀러지 사업보고서 (2024.12)
6. 주요계약 및 연구개발활동

가. 주요계약보고서 작성기준일( 2024.12.31) 현재 해당사항 없습니다.나. 연구개발활동

당사의 연구소는 2002년 기업부설연구소를 설립하였습니다. 현재 연구소장하에 연구개발 조직 구성은 개발팀과 기술팀으로 구분됩니다. 개발팀은 제품 응용개발을 진행하며, 기술팀은 미래기술 개발 및 분석을 담당하고 있으며 각 팀의 유기적인 활동과 협력으로 연구개발 효과가 극대화 되도록 운영되고 있습니다.

(1) 연구개발 담당 조직

구 분	업 무

개발팀	반도체 Part	반도체 공정용 박리액 세정액 식각액 제품 개발

디스플레이 Part	디스플레이, TSP등 기타 IT 소재 공정용 박리액 세정액 식각액 제품 개발

기술팀	미래기술 Part	전자급 원료 정제 및 합성 기술 개발
단량체 및 중간체 합성 및 정제 기술 개발

일반 유무기 Part	일반 유무기 제품 및 개발 제품 분석

극미량 유무기 Part	극미량 유무기 제품 및 개발 제품 분석

(2) 연구개발비용 (단위 : 백만원)

구 분	2024년도(제24기)	2023년도(제23기)	2022년도(제22기)

자산처리	원재료비	-	-

인건비	-	-

감가상각비	-	-

위탁용역비	-	-

기타 경비	-	-	ㅁ

소 계	-	-

비용처리	제조원가	1,527	1,440	1,290

판관비	553	595	420

합 계	2,080	2,035	1,710

(매출액 대비 비율)	5.34	5.22	2.75

(3) 회사의 연구개발 실적

구분	개발년도	연구과제	연구결과 및 기대효과

박리액	2012년	OLED용 포토레지스트
박리액	Al Metal 배선 Attack 방지 포토레지스트 박리 및 유기물 세정액 개발

2013년	TSP용 DFR 박리액	터치스크린패널용 DFR 박리액 개발
터치스크린패널업체 진출 및 매출 증대 효과

2015년	반도체용 Polymer
박리액	반도체 공정 Al Metal 배선 Attack 방지 및
Polymer, 포토레지스트 박리액 개발
신규 시장 진출 및 매출 기여

식각액	2013년	TSP용 Ni/Cu배선 식각액	터치스크린패널용 Ni/Cu 배선 구현을 위한 식각액 개발

솔라셀용 실리콘 식각액	솔라셀용 웨이퍼 세정 및 식각액
신규 시장 진출 및 매출 기여

TSP용 ITO배선 식각액	터치스크린패널용 ITO 미세 패턴 식각 및 Metal 배선 Attack을 최소화한 식각액 개발
신규 시장 진출 및 매출 기여

TSP용 초산 배제 ITO
배선 식각액	터치스크린패널용 ITO 식각액내의 초산냄새를 제거한 식각액 개발

2014년	반도체 실리콘 산화막
식각액	반도체 공정용 실리콘 산화막 식각 및
특정 막질에 대해 식각 선택비를 갖는
식각액 개발
신규 시장 진출 및 매출 기여

솔라셀용 실리콘 식각액	솔라셀 잉곳 제조용 실리콘 식각액 개발
신규 시장 진출 및 매출 기여

LED 퀄츠 식각액	LED 공정용 퀄츠 식각액 개발
신규 시장 진출 기반 구축

반도체용 고기능성 산화막 식각액	반도체 비메모리 분야 Air Gap 공정용Cu, Ti Attack 최소화 산화막 식각액 개발

반도체 고선택비 질화막 식각액	산화막 식각율을 저하시킨 H3PO4 Base
질화막 식각액 개발

2015년	Sensor 소자 제조 공정용 Quartz 식각액	Quartz 적용 공정용 Hole 생성 구현 식각액 개발 신규시장 진출 및 매출 기여

차세대 반도체 공정용
질화막 식각액	차세대 반도체 공정 적용을 위한 선택적 질화막 식각액 개발 완료 및 신규시장 진출 대기중

2020년	고선택비 질화막 식각액	기존 고선택비 질화막 식각액의 사용 수명을개선하기 위한 연구 및 실리콘 재증착 개선

반도체 실리콘 산화막의 높은 식각율을 확보하는 실리콘 산화막식각액 개발	실리콘 산화막 식각율이 최대 6500Å/min 확보되는 제품 개발

2021년	반도체 공정별 실리콘 산화막 식각율이 최적화된 실리콘 산화막 식각액 개발	실리콘 산화막 식각율 200, 500, 5000 Å/min 확보되는 제품 개발

2022년	증류를 이용한 불산계 혼산액 분석 방법특허 1건 등록,추출을 이용한 불산계 혼산액 분석 방법특허 1건 등록

2022년	고선택비 질화막 식각액 검증 장치	식각액 검증을 위한 배치형 식각 장치 특허 1건 등록

OLED Multi Etchant용식각액 개발	OLED Multi Layer 일괄 식각액 기술 개발

2023년	Glass Hole Etchant 개발	TGV 인터포저 제조 핵심 기술인 Glass Hole 식각 기술개발

2024년	TGV 제조 핵심 기술 개발 관련 특허 1건 출원

세정액	2013년	반도체 구리배선용
식각 잔류물 세정액	반도체 구리배선용 식각 잔류물 세정액 개발
원가절감에 따른 기존 시장 유지 및 신규
시장 진출을 통한 매출 기여

반도체 화학 연마 입자
세정액	반도체 공정용 화학 연마후 연마액 입자 세정액 개발

2014년	LED 왁스 세정액	LED 공정용 점착제 제거 및 세정액 개발

반도체 FOUP 세정액	반도체 공정용 웨이퍼 이송 장치 세정액 개발

PR 세정액	반도체, LCD 공정 포토레지스트 제거 및 세정액 개발 신규 시장 진출 기반 구축

2015년	반도체용 신규 막질 적용 세정액 개발	반도체(비휘발성 메모리) 제조 공정용 신규막질 적용 Polymer 제거를 위한 세정액 개발 완료 및 신규시장 진출 대기중

2020년	금속 및 유기 불순물세정액	금속 세정 분야 활용되는 금속 및 유기 불순물 세정액 개발

2022년	차세대 반도체 Device, 건식 식각후 잔류물 세정액	차세대 반도체 Device 건식 식각 후 발생 되는금속 및 유기 불순물 세정액 개발

반도체 분야 기능성SC-1 기술 개발	기능성 SC 공정 개선 세정액 기술 개발

2023년	반도체 세정 공정New Chemical 기술 개발	반도체 세정 공정 효율 개선 위한 Additive 자체 합성 기술 개발

2024년	금속 킬레이트 결합 EDDHA합성 및 정제 기술 개발	금속 킬레이트 결합 가능한 EDDHA 합성 및 정제 관련 특허 2건 출원

정제	2014년	NMP 정제 기술	폐 NMP내의 유.무기 불순물 및 수분 정제 양산 기술 개발 신규 시장 진출 및 매출 기여

Xylene 정제 기술	Xylene내 유기 불순물 정제를 통한 고순도 Xylene 양산 기술 개발 신규 시장 진출 및 매출 기여

2018년	PXDM 정제 기술	고순도 PXDM의 불순물 제거 기술 개발을 통한 초 고순도 PXDM 양산화 기술 개발

2020년	초고순도 불화수소 정제 기술	기존 불화수소 정제 효율 및 양산성 향상을 위한 정제 기술 개발

2021년	초고순도 불화수소정제 기술	불화수소 정제 특허 1건 등록중기부 기술혁신 개발사업 협약 체결

2024년	고순도 인산 양자 정제 기술	양자 거동 제어를 통한 고순도 인산 정제 관련 특허 5건 출원

이차
전지	2013년	이차전지 소용량전해액	이차전지 소용량에 적용되는 전해액 개발

합성	2015년	필름소재 중간체 합성 개발	필름소재 중간체 합성 개발 Infra 확보 완료 및 산학협력 시스템 확보 등 제품 개발 진행 중

※ 당사는 보고서 작성기준일(2024년 12월 31일) 이후 변동사항으로 2025년 1월 31일에 양자 거동 제어를 통한 고순도 인산 정제 관련 특허 5건, 반도체 제조용 식각액 정제 장치 특허 1건, 금속 킬레이트 결합 가능한 EDDHA 합성 특허 1건을 등록 완료하였습니다. (4) 회사의 주요 보유 특허현황당사는 반도체, 디스플레이, 이차전지 공정용 케미칼 재료사업과 관련하여 지적재산권을 보유하고 있으며, 보유 현황은 하기와 같습니다.

(단위: 건)

구 분	국 내	해 외	합 계

특 허	17	4	21

상 표	3	0	3

합 계	20	4	24

당사는 전자 재료 케미칼 사업 보호 및 잠재 특허 분쟁에 효과적으로 대응하기 위하여 관련 연구개발 활동의 지적 재산화에 집중하여 2024년 사업보고서 작성 기준일 현재 국내 특허 17건, 해외 특허 4건 등록을 보유하고 있으며, 추가 지적 재산권 확보에 노력하고 있습니다.