파크시스템스 사업보고서 (2023.12)
2. 주요 제품 및 서비스

1. 주요 제품 등의 관한 사항(단위 : 천원)

품목	2021년매출액(비율)	2022년매출액(비율)	2023년매출액(비율)	제 품 설 명

연구용장비군	21,665,480	29,571,803	39,954,116	연구용 나노계측(분석)장비 등

28.39%	27.31%	34.79%

산업용장비군	51,389,727	75,658,062	72,435,677	산업용 나노계측(분석)장비 등

67.35%	69.88%	63.07%

기타	3,248,782	3,040,527	2,456,249	소모품 및 서비스

4.26%	2.81%	2.14%

합계	76,303,990	108,270,392	114,846,042	-

100.00%	100.00%	100.00%	-

주) 상기 재무수치는 K-IFRS 별도 기준입니다.2. 주요 제품 등의 가격변동추이

(단위 : 천원)

품목	2021년도(제25기)	2022년도(제26기)	2023년(제27기)

연구용장비	내 수	117,992	147,131	149,335

수 출	139,095	112,055	175,212

산업용장비	내 수	1,919,655	1,430,903	2,106,016

수 출	1,245,670	1,499,755	1,425,867

주1) 상기 재무수치는 K-IFRS 별도 기준입니다.주2) 제품 모델별로 단가의 차이가 있으므로 매출제품의 모델구성에 따라 평균단가의 변동성이 있습니다.3. 주요 제품 설명당사의 제품은 크게 연구용 장비와 산업용 장비로 구분되며 산업용 장비는 다시 생산공정용과 분석용으로 구분됩니다.

1) 연구용 장비

연구용 장비로 NX-Series 모델이 있습니다. NX-Series는 당사의 최신 기술이 적용된 고기능, 고사양 제품으로 제품의 성능이 탁월할 뿐 아니라 사용의 편의성이 매우 우수합니다. 이 중 NX20과 NX-Hivac은 반도체를 비롯한 전자소자의 품질을 컨트롤하는 FA/QA 분석실에서 주로 사용되고 있습니다. NX20은 다양한 크기의 sample에 대해 다양한 옵션 기능의 사용이 가능하며 품질 개선 및 신기술 개발에 필요한 분석 장비로 사용되고 있고 특히 NX-Hivac은 현재 시판되는 유일한 High Vacuum 원자현미경으로 반도체 디바이스의 절단면과 같이 공기 중의 산소나 수분에 의해 시료 표면이 변환되는 경우 반드시 필요한 장비입니다. 연구용 장비는 시료의 형상을 이미지 하는 것 외에도 다양한 물성을 측정하고 분석하는 옵션 기능이 중요합니다. 당사는 EFM, SKPM, MFM, CP-AFM, SCM, SThM, FMM, Nanolithography 등 다양한 옵션을 구비하고 있어 대학교나 연구소에서 요구하는 다양한 기능을 충족하고 있으며 어느 경쟁사보다도 많은 종류의 옵션과 액세서리를 제공하고 있습니다.

[연구용 제품 라인]

제품명	제품 사진	제품설명

NX10	nx10.jpg NX10	고성능으로 가장 정밀한 측정이 가능한 제품
일반 나노기술 연구에 모두 사용 가능
사용자 편리성이 고려된 다목적 장비로 작은 시료 측정에 사용하는 당사의 대표적 연구용 장비

NX20	nx20.jpg NX20	고성능으로 가장 정밀한 측정이 가능한 제품
일반 나노기술 연구 및 산업체 FA/QA 실험실에서 제품 성능 향상을 위한 연구에 사용 가능한 다목적 장비로 시료의 지름이 200mm까지 측정 가능한 대형 시료 측정용 장비

NX7	nx7.jpg NX7	예산이 제한된 고객을 대상으로 가성비가 좋은 다목적 장비로 작은 시료 측정용 장비로 대학이나 연구소에서 사용가능
대부분의 응용 옵션의 장착이 가능하여 일반 나노 기술 연구에 적합함

NX-Hivac	nx-hivac.jpg NX-Hivac	공기 중에서 변성이 쉽게 되는 시료의 전기적 특성을 관찰하기 위한 고진공 장비로 자동 진공 조절 SW와 motorized stages laser beam alignment 기능을 탑재하여 고객의 사용상의 편의성을 최대한 고려한 장비

FX40	fx40.jpg FX40	AI와 로보틱스 기술을 더해, 새로운 차원의 자동화와 정확도, 편리성을 갖춘 장비. 탐침의 위치와 종류를 자동으로 인식하고 선택, 장착 가능. 실험 준비 단계까지 자동화함으로써 사용자 편의성을 극대화한 장비.

2) 산업용 장비

당사의 산업용 장비는 크게 하드디스크 산업, 반도체 산업, 디스플레이 산업에 투입이 되고 있습니다.하드디스크 산업에서는 NX-HDM, NX-PTR이 사용되고 있습니다. NX-HDM은 ADR(Auto Defect Review)기능을 이용하여 결함 식별, 스캐닝 및 분석을 통해 결함 검토 역할을 수행하며, 샘플 표면의 조도 측정 등에 활용됩니다. NX-PTR은 하드디스크 헤드 생산공정에서 사용되는 장비로, 타사 대비 좋은 분해능과 정확성을 제공하기 때문에 품질 개선 및 개발,분석에 활용되고 있습니다.반도체 산업에서 사용되는 장비는 NX-Wafer, NX-3DM, NX-Hybrid WLI, NX-Mask, NX-IR이 있습니다. NX-Wafer는 당사의 대표 산업용 장비로서, 웨이퍼 검사 및 분석, 자동 결함 검토, CMP 후 조도 측정 등의 기능을 제공합니다. 반도체 샘플이 매우 미세하고 복잡한 3차원 형태가 되어가고 있기 때문에 해당 제품은 반도체 공정내에 여러 곳에서 사용되고 있습니다. 따라서, 고도화되는 반도체 공정에 대응하기 위한 글로벌 반도체 기업들로부터 전공정 및 후공정 여부를 가리지 않고 도입이 계속되고 있습니다. NX-3DM은 측벽 검사에 특화된 산업용 원자현미경입니다. 적층구조의 반도체 공정이 늘어나면서 고해상도의 측벽 이미징 및 임계각도 측정을 위해 개발된 장비입니다. 해당 장비는 측벽 거칠기 및 임계 치수 측정 시 샘플의 전처리 과정(절단, 장착 및 코팅 등)을 거치지 않고 데이터를 수집합니다. NX-Hybrid WLI는 WLI(백색광간섭계)기술을 원자현미경에 접목시킨 하이브리드 장비입니다. WLI는 넓은 영역을 빠르게 스캔할 수 있는 광학기술로 높은 처리량이 장점이며, 나노단위의 분해능을 지닌 원자현미경의 Application 확장에 도움이 됩니다. 전공정 및 후공정에서의 QA 및 Process control 그리고 advanced packaging 에서 활용이 될 것으로 기대하고 있습니다. 해당 장비는 글로벌 반도체 기업들로부터 관심을 받고 있으며, 수주 및 출고가 진행되고 있습니다. NX-Mask는 EUV 노광 공정중에 EUV마스크 위에 생기는 이물질을 제거하여 다시 EUV마스크를 재사용할 수 있게 해주는 리페어 장비입니다. 해당 장비는 글로벌 반도체 제조업체 및 마스크 제조업체에 납품을 하고 있습니다. 반도체 미세공정이 앞으로 계속 진행되는만큼 전체 반도체 공정에서 EUV공정의 비중은 상당해 질것으로 기대하고 있으며, 앞으로 EUV공정의 확장과 함께 더 많은 NX-Mask가 투입될 것으로 보고 있습니다. NX-IR은 적외선 분광법을 채택하여 시료 표면의 형상과 화학 분석 결과를 나노 스케일로 제공하는 장비입니다.NX-TSH는 대형 평판 디스플레이를 측정하기 위한 원자현미경입니다. 디스플레이 산업의 고도화와 함께 나노 단위 수준의 계측 수요가 생겨나고 있습니다. 대면적 샘플에 대한 Roughness, Step height, CD 측정 등을 수행하며, 비파괴적으로 OLED, LCD 등의 샘플에서 나노단위의 고해상도 이미지를 얻을 수 있습니다. 해당 제품은 메이저 디스플레이 업체에 이미 납품한 이력이 있으며, 앞으로 진행될 OLEDoS, MicroLED 등의 고도화된 디스플레이 생산에도 활용될 것을 기대하고 있습니다.

[산업용 제품 라인]

제품명	제품 사진	제품설명

NX-HDM	nx-hdm.jpg NX-HDM	하드디스크 media sample의 광학 장비로 검출이 불가능한 나노 크기의 defect(결함)를 자동화 기능(SW)으로 찾아서 분석하는 ADR 기능과, media의 성능을 좌우 하는 표면 조도(roughness)를 서브나노 스케일로 측정 가능한 장비로 측정의 재현성이 매우 좋아 하드디스크 산업체의 공정에 제공

NX-PTR	nx-ptr.jpg NX-PTR	하드디스크 산업체의 헤드공정 라인에 제공되고 있는 장비로, PTR 제작의 품질 개선과 개발에 따른 제품 분석 장비로 경쟁사나 다른 분석 장비에 비해 좋은 분해능과 정확성 그리고 재현성을 가진 장비

NX-Wafer	nx-wafer.jpg NX-Wafer	시료의 단차와 너비의 결함 측정과 분석을 전자동으로 처리하여, 공정 상의 결점의 근원을 탐색하는데 사용되는 장비. 측정시 높은 정확성과 반복성을 유지하여 균일한 측정 결과 제공. 전공정 및 후공정에 모두 사용이 되고 있으며, 정밀한 3차원 구조 측정이 필요한 공정에는 다양하게 적용.

NX-3DM	nx-3dm.jpg NX-3DM	오버행 프로파일, 고해상도 측벽 이미징, 그리고 각도 측정을 위한 전자동 AFM 시스템. 분리식 XY 및 Z 스캔 시스템과 Z스캐너의 회전기능을 통해 정확한 측벽 분석 결과 제공.

NX-TSH	park nx-tsh (1).jpg NX-TSH	대형 평판 디스플레이 측정 시에 형상의 정확도가 중요해지면서 Atomic Force metrology에 대한 수요가 증가함에 따라 대면적 샘플 측정을 위해 개발된 AFM 장비.거칠기 측정, step height 측정, CD측정, 각도 측정 등의 측정치를 정확하게 측정하며 OLED, LCD 등에서 신뢰할 수 있는 고해상도 AFM 이미지 습득 가능.

NX-HybridWLI	nx_hybrid_wli_450_1.jpg NX-Hybrid WLI	반도체 및 관련 제품의 QA, 전공정 및 후공정 첨단 패키징을 아우르는 장비로서, 공정 제어 및 R 계측을 위해 WLI기술이 내장된 하이브리드 제품.WLI는 넓은 영역을 빠르게 측정하여 높은 처리량을 보여주는 광학기술이며, 원자현미경의 나노 단위 분해능 측정 능력과 결합되어 Advanced packaging 및 Wafer level 계측 등 원자현미경의 적용처를 더욱 확장.

NX-Mask	nx-mask.jpg NX-Mask	EUV 마스크를 위한 듀얼포드를 지원하며 마스크 패턴에 발생한 결함 및 파티클의 형상 측정 및 제거, 제거 후 검증까지 모든 과정을 하나의 솔루션으로 제공, 고비용의 마스크 공정, 특히 EUV 공정에서 생산원가를 낮추고생산성을 높일 수 있는 장비

NX-IR	nx-ir.jpg NX-IR	반도체 웨이퍼를 위한 나노스케일 근적외선 분광 시스템으로, 높은 나노 분해능으로 시료의 표면 형상 데이터 뿐만 아니라 화학적 특성정보를 제공하는 장비

3) 바이오 연구용 장비

NX12는 역 광학 현미경 (IOM: Inverted Optical Microscope)과 결합하여 사용되는 바이오 연구용 장비입니다. 액체 안에 있는 생체 시료를 IOM과 AFM으로 측정하는 것과 더불어 당사 고유의 기능인 SICM(Scanning Ion Conductance Microscope)을 사용하여 live cell 이미지는 물론 nano-scales patch clamping이 가능하여 앞으로 많은 application 개발 가능성을 가진 제품입니다.

[바이오용 제품 라인]

제품명	구분	제품 사진	제품설명

NX12	바이오 연구용	nx-bio.jpg NX12	세포 관찰, 생리학 연구를 비롯한 바이오 관련 연구에 사용하는 다목적 바이오 장비로 SICM 옵션을 이용한 새로운 응용기술 및 연구 개발이 가능한 장비.
다양한 바이오 관련 시료의 대기 중과 용액에서 모두 측정 가능하며, 광학 현미경을 결합하여 다양한 측정 기법을 결합 할 수 있는 바이오 시료 측정용 장비

4) ISE Accurion의 Imaging Ellipsometer는 타원계측법과 광학 현미경의 이점을 단일 장치에 구현한 장비입니다. 두 기술의 통합은 타원계측법 측정과 편광 대비 현미경의 한계를 모두 재정의하는 장점을 지닙니다. 이미징 타원계의 향상된 공간 해상도(약 1 μm)를 통해 타원계를 마이크로 분석, 마이크로일렉트로닉스 및 바이오 분석등 새로운 영역으로의 확장을 기대하고 있습니다.

제품명	구분	제품 사진	제품설명

EP4	연구용	accurion ep4.jpg EP4	1 μm 정도의 작은 마이크로 구조에서 두께와 굴절률의 특성 측정이 가능한 장비. 굴절률 또는 두께의 미세한 변화를 확인 가능하며, 미세 구조의 박막 시료 및 기판의 두깨 및 재료 특성 분석에 탁월한 장비.