파크시스템스 반기보고서 (2023.06)
2. 주요 제품 및 서비스

1. 주요 제품 등의 관한 사항(단위 : 천원)

품목	2021년매출액(비율)	2022년매출액(비율)	2023년 반기매출액(비율)	제 품 설 명

연구용장비군	21,665,480	29,571,803	16,817,567	연구용 나노계측(분석)장비 등

28.39%	27.31%	31.67%

산업용장비군	51,389,727	75,658,062	35,018,337	산업용 나노계측(분석)장비 등

67.35%	69.88%	65.94%

기타	3,248,782	3,040,527	1,268,719	소모품 및 서비스

4.26%	2.81%	2.39%

합계	76,303,990	108,270,392	53,104,623	-

100.00%	100.00%	100.00%	-

주) 상기 재무수치는 K-IFRS 별도 기준입니다.2. 주요 제품 등의 가격변동추이

(단위 : 천원)

품목	2021년도(제25기)	2022년도(제26기)	2023년 반기(제27기)

연구용장비	내 수	117,992	147,131	144,413

수 출	139,095	112,055	171,659

산업용장비	내 수	1,919,655	1,430,903	2,383,482

수 출	1,245,670	1,499,755	1,761,914

주1) 상기 재무수치는 K-IFRS 별도 기준입니다.주2) 제품 모델별로 단가의 차이가 있으므로 매출제품의 모델구성에 따라 평균단가의 변동성이 있습니다.3. 주요 제품 설명당사의 제품은 크게 연구용 장비와 산업용 장비로 구분되며 산업용 장비는 다시 생산공정용과 분석용으로 구분됩니다.

1) 연구용 장비

연구용 장비로 NX-Series 모델이 있습니다. NX-Series는 당사의 최신 기술이 적용된 고기능, 고사양 제품으로 제품의 성능이 탁월할 뿐 아니라 사용의 편의성이 매우 우수합니다. 이 중 NX20과 NX-Hivac은 반도체를 비롯한 전자소자의 품질을 컨트롤하는 FA/QA 분석실에서 주로 사용되고 있습니다. NX20은 다양한 크기의 sample에 대해 다양한 옵션 기능의 사용이 가능하며 품질 개선 및 신기술 개발에 필요한 분석 장비로 사용되고 있고 특히 NX-Hivac은 현재 시판되는 유일한 High Vacuum 원자현미경으로 반도체 디바이스의 절단면과 같이 공기 중의 산소나 수분에 의해 시료 표면이 변환되는 경우 반드시 필요한 장비입니다. 연구용 장비는 시료의 형상을 이미지 하는 것 외에도 다양한 물성을 측정하고 분석하는 옵션 기능이 중요합니다. 당사는 EFM, SKPM, MFM, CP-AFM, SCM, SThM, FMM, Nanolithography 등 다양한 옵션을 구비하고 있어 대학교나 연구소에서 요구하는 다양한 기능을 충족하고 있으며 어느 경쟁사보다도 많은 종류의 옵션과 액세서리를 제공하고 있습니다.

[연구용 제품 라인]

제품명	구분	제품 사진	제품설명

NX10	연구용	nx10.jpg NX10	고성능으로 가장 정밀한 측정이 가능한 제품
일반 나노기술 연구에 모두 사용 가능
사용자 편리성이 고려된 다목적 장비로 작은 시료 측정에 사용하는 당사의 대표적 연구용 장비

NX20	연구용/
산업 분석용	nx20.jpg NX20	고성능으로 가장 정밀한 측정이 가능한 제품
일반 나노기술 연구 및 산업체 FA/QA 실험실에서 제품 성능 향상을 위한 연구에 사용 가능한 다목적 장비로 시료의 지름이 200mm까지 측정 가능한 대형 시료 측정용 장비

NX7	연구용	nx7.jpg NX7	예산이 제한된 고객을 대상으로 가성비가 좋은 다목적 장비로 작은 시료 측정용 장비로 대학이나 연구소에서 사용가능
대부분의 응용 옵션의 장착이 가능하여 일반 나노 기술 연구에 적합함

NX-Hivac	연구용	nx-hivac.jpg NX-Hivac	공기 중에서 변성이 쉽게 되는 시료의 전기적 특성을 관찰하기 위한 고진공 장비로 자동 진공 조절 SW와 motorized stages laser beam alignment 기능을 탑재하여 고객의 사용상의 편의성을 최대한 고려한 장비

FX40	연구용	fx40.jpg FX40	AI와 로보틱스 기술을 더해, 새로운 차원의 자동화와 정확도, 편리성을 갖춘 장비. 탐침의 위치와 종류를 자동으로 인식하고 선택, 장착 가능. 실험 준비 단계까지 자동화함으로써 사용자 편의성을 극대화한 장비.

2) 산업용 장비

산업용 장비에는 생산 공정용 장비와 분석용 장비가 있습니다. 하드디스크 헤드 생산 공정에 사용되는 NX-PTR과 웨이퍼 생산 공정에 사용되는 NX-Wafer는 주 7일, 하루 24시간 가동되는 자동화 장비입니다. NX-3DM도 생산 공정용 장비이며 CD(Critical Dimension) 계측, SWR(side wall roughness) 측정 등에 사용됩니다. 당사의 NX-Wafer 장비는 반도체 생산공정의 모니터링 장비로써 다양한 반도체 고객사들로 부터 호평을 받으며 판매되고 있습니다. 분석용 장비로 NX-HDM은 하드디스크 미디어, 사파이어 웨이퍼 등의 거칠기(roughness) 측정과 자동 결함 분석(ADR: Automatic Defect Review)에 주로 사용됩니다. 또한, 당사의 첫 디스플레이 장비인 NX-TSH는 300mm 이상의 대면적 측정도 가능한 장비로서, 향후 디스플레이산업에서의 활용이 확대될 것으로 예상됩니다. WLI(백색광 간섭계)와 AFM의 장점을 상호 결합해 하나의 장비로 통합한 세계 최초의 하이브리드 솔루션인 NX-Hybrid WLI를 공식 런칭하였으며, WLI 기술을 이용해 넓은 범위를 빠르게 측정하고 AFM을 이용해 정밀한 측정이 가능하게 되어 AFM의 어플리케이션 확장을 기대하고 있습니다. EUV 마스크의 결함 측정 및 제거, 제거 후 검증까지 모든 과정을 하나의 솔루션으로 제공하는 NX-Mask를 출시하였습니다. 해당 장비는 EUV 공정에서의 생산원가를 절감하고, 디바이스 수율을 높일 수 있는 장비로 많은 기대를 받고 있습니다. 또한, 높은 나노분해능으로 웨이퍼의 기계적, 지형적 데이터 뿐만 아니라 화학적 특성을 측정할 수 있는 NX-IR을 새로이 출시하였습니다.

[산업용 제품 라인]

제품명	구분	제품 사진	제품설명

NX-HDM	산업 분석용	nx-hdm.jpg NX-HDM	하드디스크 media sample의 광학 장비로 검출이 불가능한 나노 크기의 defect(결함)를 자동화 기능(SW)으로 찾아서 분석하는 ADR 기능과, media의 성능을 좌우 하는 표면 조도(roughness)를 서브나노 스케일로 측정 가능한 장비로 측정의 재현성이 매우 좋아 하드디스크 산업체의 공정에 제공

NX-PTR	산업 생산용	nx-ptr.jpg NX-PTR	하드디스크 산업체의 헤드공정 라인에 제공되고 있는 장비로, PTR 제작의 품질 개선과 개발에 따른 제품 분석 장비로 경쟁사나 다른 분석 장비에 비해 좋은 분해능과 정확성 그리고 재현성을 가진 장비

NX-Wafer	산업 생산용	nx-wafer.jpg NX-Wafer	웨이퍼 산업체에 납품되고 있는 장비로 200mm와 300mm wafer를 측정 가능한 완전 자동화 장비로 웨이퍼의 조도(roughness) 및 trench 측정을 기본으로 하고, 공정상에서 발생할 수 있으나 기존 광학 장비로 검출이 불가능한 wafer의 나노 크기의 defect를 자동으로 검출 분석할 수 있는 ADR 기능 제공.
기존 Optical profiler를 사용하여 측정하던 표면 프로파일링이 시료의 디바이스 크기가 작아져 더 좋은 분해능을 가진 Atomic Force Profiler에 대한 수요로 전환되어 AFM에 AFP 옵션으로 결합하여 제공

NX-3DM	산업 생산용	nx-3dm.jpg NX-3DM	기존의 AFM으로는 측정 불가능한 over hang 구조의 정확한 profiling이나 pattern의 side wall roughness를 측정 할 수 있는 장비로, 당사의 고유한 scanner 디자인으로 AFM head를 tilt시켜 이미지 측정이 가능하다. 200mm와 300mm wafer의 완전 자동화 장비로 scan head의 경우 0, 19, 38도 tilting이 가능.

NX-TSH	산업생산용	park nx-tsh (1).jpg NX-TSH	대형 평면 디스플레이와 같은 300mm 이상 샘플에 대한 나노 단위 측정이 가능한 장비로서, OLED, LCD, 포토마스크 등에서 roughness, height, CD 등을 비파괴적인 방법으로 고해상도 영상을 얻는 것이 가능

NX-HybridWLI	산업생산용	nx_hybrid_wli_450_1.jpg NX-Hybrid WLI	WLI(백색광 간섭계)와 AFM의 장점을 상호 결합해 하나의 장비로 통합한 세계 최초의 하이브리드 솔루션으로 WLI 기술을 이용해 넓은 범위를 빠르게 측정하는 동시에 AFM으로 미세한 부분을 한층 더 정밀하게 볼 수 있는 것이 특징

NX-Mask	산업생산용	nx-mask.jpg NX-Mask	EUV 마스크를 위한 듀얼포드를 지원하며 마스크 패턴에 발생한 결함 및 파티클의 형상 측정 및 제거, 제거 후 검증까지 모든 과정을 하나의 솔루션으로 제공, 고비용의 EUV 공정에서 생산원가를 낮추고 디바이스 수율을 높일 수 있는 장비

NX-IR	산업생산용	nx-ir.jpg NX-IR	반도체 웨이퍼를 위한 나노스케일 적외선 분광 시스템으로, 높은 나노 분해능으로 기계적, 지형적 데이터 뿐만 아니라 화학적 특성정보를 제공하는 장비

3) 바이오 연구용 장비

NX12는 역 광학 현미경 (IOM: Inverted Optical Microscope)과 결합하여 사용되는 바이오 연구용 장비입니다. 액체 안에 있는 생체 시료를 IOM과 AFM으로 측정하는 것과 더불어 당사 고유의 기능인 SICM(Scanning Ion Conductance Microscope)을 사용하여 live cell 이미지는 물론 nano-scales patch clamping이 가능하여 앞으로 많은 application 개발 가능성을 가진 제품입니다.

[바이오용 제품 라인]

제품명	구분	제품 사진	제품설명

NX12	바이오 연구용	nx-bio.jpg NX12	세포 관찰, 생리학 연구를 비롯한 바이오 관련 연구에 사용하는 다목적 바이오 장비로 SICM 옵션을 이용한 새로운 응용기술 및 연구 개발이 가능한 장비.
다양한 바이오 관련 시료의 대기 중과 용액에서 모두 측정 가능하며, 광학 현미경을 결합하여 다양한 측정 기법을 결합 할 수 있는 바이오 시료 측정용 장비

4) ISEAccurion의 Imaging Ellipsometer는 타원계측법과 광학 현미경의 이점을 단일 장치에 구현한 장비입니다. 두 기술의 통합은 타원계측법 측정과 편광 대비 현미경의 한계를 모두 재정의하는 장점을 지닙니다. 이미징 타원계의 향상된 공간 해상도(약 1 μm)를 통해 타원계를 마이크로 분석, 마이크로일렉트로닉스 및 바이오 분석등 새로운 영역으로의 확장을 기대하고 있습니다.

제품명	구분	제품 사진	제품설명

EP4	연구용	accurion ep4.jpg EP4	1 μm 정도의 작은 마이크로 구조에서 타원계의 민감도로 두께와 굴절률의 특성화가 가능한 장비. 광학 시스템의 시야 내부의 모든 구조를 동시에 측정할 수 있으며,AFM, QCM-D, 반사계측량, 라만과 같은 보완 방법과의 조합을 통해 관찰 가능.