와이씨켐 분기보고서 (2023.09)
7. 기타 참고사항

가. 보유 기술의 경쟁력

제품군	보유 기술의 경쟁력

Photo소재	Photoresist	-중합 및 합성 전담부서 보유 중으로 자체적인 디자인이 가능
-Base Polymer 구조의 설계, 합성
-물성의 정도를 조정 할 수 있으며 다양한 고객사에서 필요로
하는 수준으로 조정이 가능

Spin On Hard Mask

Wet chemical	웨이퍼 현상액 첨가제	- 고순도 정제기술

반도체 공정소재	- 이온교환수지 정제기술
- 극미량 분석기술

PR용 rinse	EUV rinse	- Pattern collapse 방지 기술, defect 개선기술, LWR 개선기술
- Amphiphilic material, swelling control promotor, Anti-collapse implant 구조 설계, 합성
- 각 물질의 성능을 이해하고 상호 효과를 보완 및 극대화할 수 있도록 조합하는 기술

기타	Wafering processchemical	- 공정단순화 최적 설계 기술

나. 지적재산권 현황

번호	구분	발명명칭	권리자	출원일	특허등록일	적용제품	출원국

1	특허	식각시 하부 플러그를 보호하는 수용액 조성물 및이를 이용한 스토리지 노드간 분리공정	와이씨켐(주)	2004-01-05	2006-05-01	반도체 소재	대한민국

2	특허	유기 반사방지막용 가교제 중합체, 이를 포함하는 유기반사방지막 조성물 및 이를 이용한 포토레지스트의 패턴형성 방	와이씨켐(주)	2003-09-29	2006-06-30	반도체 소재	대한민국

3	특허	포토레지스트 패턴 코팅용 수용성 조성물 및이를 이용한 미세패턴 형성방법	와이씨켐(주)	2004-12-30	2007-02-01	반도체 소재	대한민국

4	특허	유기 반사 방지막 조성물 및 이를 이용한 패턴 형성 방법	와이씨켐(주)	2005-05-20	2007-02-21	반도체 소재	대한민국

5	특허	규소(Si)를 포함하는 다기능 반사 방지막	와이씨켐(주)	2006-02-13	2007-04-23	반도체 소재	대한민국

6	특허	포토레지스트 패턴 코팅용 조성물 및 이를 이용한 미세패턴 형성방법	와이씨켐(주)	2005-05-19	2007-07-27	반도체 소재	대한민국

7	특허	석영 튜브 세정액 조성물 및 이를 이용한 세정방법	와이씨켐(주)	2008-11-05	2011-06-15	반도체 소재	대한민국

8	특허	반도체 패턴 형성을 위한 I-선용 네가티브형 포토레지스트 조성물	와이씨켐(주)	2009-08-27	2012-01-26	반도체 소재	대한민국

9	특허	연마제 재생방법 및 재생 연마제	와이씨켐(주)	2009-09-28	2012-01-26	반도체 소재	대한민국

10	특허	포토레지스트 패턴 축소용 수용성 중합체, 상기 수용성 중합체를 포함하는 포토레지스트 패턴 축소용 조성물 및 상기 조성물을 이용한 미세패턴 형성방법	와이씨켐(주)	2006-01-16	2013-03-27	반도체 소재	대한민국

11	특허	유기 반사막방지막 형성용 조성물 및 이를 포함하는 유기 반사방지막	와이씨켐(주)	2009-12-01	2013-04-23	반도체 소재	대한민국

12	특허	금속성 및 다이아몬드 와이어 쏘잉용 수용성 금속 가공유	와이씨켐(주)	2011-12-30	2013-12-11	반도체 소재	대한민국

13	특허	반도체 소자의 패턴 형성 방법	와이씨켐(주)	2008-01-28	2014-01-29	반도체 소재	대한민국

14	특허	포토레지스트 패턴의 LWR 개선용 공정액	와이씨켐(주)	2012-05-02	2014-03-12	반도체 소재	대한민국

15	특허	상변화 메모리 소자용 세정액 조성물 및 이를 이용한 상변화 메모리 소자의 제조 방법	와이씨켐(주)	2012-05-03	2014-07-16	반도체 소재	대한민국

16	특허	실리콘을 포함하는 다기능 반사방지막 제조용 열경화성 실리콘수지 및 이 수지를 사용하여 제조된 반사방지막	와이씨켐(주)	2011-12-30	2014-09-11	반도체 소재	대한민국

17	특허	태양 광전지 커버 유리용 매크로 기공성 반사방지 조성물과 이를 사용한 태양광전지	와이씨켐(주)	2013-01-16	2015-04-23	반도체 소재	대한민국

18	특허	커패시터 쓰러짐 방지용 코팅 조성물	와이씨켐(주)	2012-12-12	2015-05-27	반도체 소재	대한민국

19	특허	산화방지용 포토레지스트 현상액 조성물	와이씨켐(주)	2013-11-25	2015-07-22	반도체 소재	대한민국

20	특허	포토레지스트 세정액 조성물 및 이를 이용한 패턴 형성방법	와이씨켐(주)	2003-04-09	2006-04-26	반도체 소재	대한민국

21	특허	하드마스크용 조성물 및 이를 이용한 패턴 형성방법	와이씨켐(주)	2005-06-30	2012-05-21	반도체 소재	대한민국

22	특허	포토레지스트 중합체, 이를 포함하는 포토레지스트 조성물 및 이를 이용한 포토레지스트의 패턴 형성 방법	와이씨켐(주)	2005-07-20	2012-11-20	반도체 소재	대한민국

23	특허	컬러포토레지스트 조성물 및 이를 이용한 액정표시장치	와이씨켐(주)	2002-09-17	2009-07-28	반도체 소재	대한민국

24	특허	고분자 감광성 화합물, 이를 포함하는 포토레지스트조성물 및 이의 제조 방법	와이씨켐(주)	2004-02-04	2011-05-13	반도체 소재	대한민국

25	특허	에칭 내성이 우수한 I-선용 네가티브형 포토레지스트 조성물	와이씨켐(주)	2015-08-28	2016-02-24	반도체 소재	대한민국

26	특허	컬러필터 이미지 센서용 현상액 조성물	와이씨켐(주)	2015-09-10	2016-03-09	반도체 소재	대한민국

27	특허	반도체 패턴 형성을 위한 KrF 레이저용 네가티브형 포토레지스트 조성물	와이씨켐(주)	2015-09-22	2016-04-21	반도체 소재	대한민국

28	특허	포토리소그래피용 세정액 및 이를 이용한 포토레지스트 패턴의 형성방법	와이씨켐(주)	2015-07-17	2016-04-26	반도체 소재	대한민국

29	특허	CMP용 슬러리 조성물 및 이를 이용한 연마방법	와이씨켐(주)	2015-11-06	2016-06-09	반도체 소재	대한민국

30	특허	고해상도 및 고아스펙트비를 갖는 KrF레이저용 네가티브형 포토레지스트 조성물	와이씨켐(주)	2016-03-22	2016-09-02	반도체 소재	대한민국

31	특허	그 재질로 형성된 패턴 상에 후속 유기물 패턴공정 수행이 가능한 특성을 갖는 네거티브 포토레지스트 조성물, 그 조성물을 이용한 광센서 제조방법 및 그 방법으로 제조된 광센서	와이씨켐(주)	2015-08-21	2017-03-14	반도체 소재	대한민국

32	특허	네가톤 포토레지스트를 이용한 패터닝 공정에서 LWR개선 방법과 조성물	와이씨켐(주)	2016-05-04	2017-04-21	반도체 소재	대한민국

33	특허	네가톤 포토레지스트를 이용한 패터닝 공정에서 LWR개선 방법과 조성물	와이씨켐(주)	2016-05-04	2017-04-21	반도체 소재	대한민국

34	특허	반사방지 코팅액 조성물 및 이를 이용한 반사방지 코팅막	와이씨켐(주)	2016-01-18	2017-06-14	반도체 소재	대한민국

35	특허	EUV용 감광성 포토레지스트 미세패턴 형성용 현상액 조성물	와이씨켐(주)	2017-04-10	2017-07-13	반도체 소재	대한민국

36	특허	고내에칭성 스핀 온 카본 하드마스크 조성물 및 이를 이용한 패턴화 방법	와이씨켐(주)	2016-10-13	2017-09-06	반도체 소재	대한민국

37	특허	화학적 기계적 연마 후 세정용 조성물	와이씨켐(주)	2017-03-17	2017-10-17	반도체 소재	대한민국

38	특허	포토레지스트 패턴 축소 조성물과 패턴 축소 방법	와이씨켐(주)	2016-06-24	2018-01-12	반도체 소재	대한민국

39	특허	화학증폭형 네가티브형 포토레지스트 조성물	와이씨켐(주)	2016-05-13	2018-07-04	반도체 소재	대한민국

40	특허	유무기 하이브리드 포토레지스트 공정액 조성물	와이씨켐(주)	2018-08-06	2018-10-15	반도체 소재	대한민국

41	특허	EUV 광원용 감광성 포토레지스트 미세페턴 형성용 현상액 조성물	와이씨켐(주)	2018-01-23	2019-02-07	반도체 소재	대한민국

42	특허	반도체 제조 공정에 있어서 미세 실리콘 패턴을 형성하기 위한 신규 식각방법	와이씨켐(주)	2018-01-23	2019-02-18	반도체 소재	대한민국

43	특허	극자외선 리소그래피용 공정액 조성물 및 이를 이용하는 패턴 형성방법	와이씨켐(주)	2018-06-14	2019-03-07	반도체 소재	대한민국

44	특허	극자외선 리소그래피용 공정액 조성물 및 이를 이용하는 패턴 형성방법	와이씨켐(주)	2018-06-14	2019-03-07	반도체 소재	대한민국

45	특허	패턴 프로파일 개선용 화학증폭형 포지티브 포토레지스트 조성물	와이씨켐(주)	2018-06-18	2019-05-07	반도체 소재	대한민국

46	특허	극자외선 리소그래피용 공정액 조성물 및 이를 이용하는 패턴 형성방법	와이씨켐(주)	2018-12-28	2019-08-12	반도체 소재	대한민국

47	특허	반도체 제조 공정에 있어서 실리콘 또는 실리콘 화합물 패턴을 형성하기 위한 신규 방법	와이씨켐(주)	2019-02-08	2019-09-30	반도체 소재	대한민국

48	특허	실리콘질화막 식각 조성물	와이씨켐(주)	2019-03-06	2019-10-04	반도체 소재	대한민국

49	특허	반도체 제조 공정에 있어서 식각 패턴 신규 형성 방법	와이씨켐(주)	2019-03-13	2019-12-03	반도체 소재	대한민국

50	특허	절삭유 조성물 및 그를 이용한 절삭방법	와이씨켐(주)	2018-05-30	2019-12-27	반도체 소재	대한민국

51	특허	반도체 웨이퍼 세정액 조성물 및 그를 이용한 세정방법	와이씨켐(주)	2019-03-08	2019-12-27	반도체 소재	대한민국

52	특허	리소그래피용 공정액 조성물 및 이를 사용한 패턴 형성 방법	와이씨켐(주)	2019-07-18	2020-02-18	반도체 소재	대한민국

53	특허	실리콘산화막 연마용 슬러리 조성물 및 그를 이용한 연마방	와이씨켐(주)	2019-03-04	2020-02-24	반도체 소재	대한민국

54	특허	포토 리소그래피용 조성물 및 이를 이용한 패턴 형성 방법	와이씨켐(주)	2019-09-26	2020-04-07	반도체 소재	대한민국

55	특허	고두께 스핀 온 카본 하드마스크 조성물 및 이를 이용한 패턴화 방법	와이씨켐(주)	2019-04-09	2021-04-08	반도체 소재	대한민국

56	특허	고두께 스핀 온 카본 하드마스크 조성물 및 이를 이용한 패턴화 방법	와이씨켐(주)	2020-09-11	2021-05-06	반도체 소재	대한민국

57	특허	Center - Edge간 단차의 개선 및 LER 개선용 I-선용 네가티브형 포토레지스트 조성물공정 마진 개선용 I-선용 네가티브형 포토레지스트 조성물	와이씨켐(주)	2020-09-24	2021-05-21	반도체 소재	대한민국

58	특허	텅스텐막에 대한 질화티타늄막의 식각 선택비를 조절하기 위한 식각액 조성물 및 이를 이용한 식각방법	와이씨켐(주)	2020-08-04	2021-06-14	반도체 소재	대한민국

59	특허	증발감량이 적은 스핀온 카본 하드마스크 조성물 및 이를 이용한 패턴화 방법	와이씨켐(주)	2021-05-27	2022-01-07	반도체 소재	대한민국

60	특허	표면 결함수 및 헤이즈 저감용 실리콘 웨이퍼 최종 연마용슬러리 조성물 및 그를 이용한 최종 연마 방법	와이씨켐(주)	2021-07-08	2022-01-27	반도체 소재	대한민국

61	특허	패턴 프로파일 및 해상도 개선용 화학증폭형 포지티브 포토레지스트 조성물	와이씨켐(주)	2021-08-23	2022-03-10	반도체 소재	대한민국

62	특허	몰리브데늄막 식각액 조성물 및 그를 이용한 식각 방법	와이씨켐(주)	2022-03-22	2022-09-21	반도체 소재	대한민국

63	특허	고평탄화 성능을 지닌 스핀 온 카본 하드마스크 조성물 및 이를 이용한 패턴화 방법	와이씨켐(주)	2022-04-06	2022-12-14	반도체 소재	대한민국

64	특허	패턴 프로파일 개선 및 에치 내성(Etch Resistance) 증진용 화학증폭형 포지티브 포토레지스트 조성물	와이씨켐(주)	2022-10-21	2023-02-13	반도체 소재	대한민국

65	특허	구리 배리어층 연마용 CMP 슬러리 조성물	와이씨켐(주)	2022-07-06	2023-03-27	반도체 소재	대한민국

66	특허	패턴 프로파일 개선 및 부착력(Adhesion) 증진용 화학증폭형 포지티브 포토레지스트 조성물	와이씨켐(주)	2022-10-17	2023-03-29	반도체 소재	대한민국

67	특허	극자외선 리소그래피용 린스액 조성물 및 이를 이용한 패턴 형성 방법	와이씨켐(주)	2022-11-18	2023-06-20	반도체 소재	대한민국

68	특허	절삭유 조성물	와이씨켐(주)	2022-12-15	2023-06-20	반도체 소재	대한민국

69	특허	(미국)포토레지스트 패턴 코팅용 조성물 및 이를 이용한 미세패턴 형성방법	와이씨켐(주)	2005-12-08	2009-11-10	반도체 소재	미국

70	특허	(일본)포토레지스트 패턴 코팅용 조성물 및 이를 이용한 미세패턴 형성방법	와이씨켐(주)	2006-01-17	2011-08-26	반도체 소재	일본

71	특허	(일본)포토리소그래피용 세정액 및 이를 이용한 포토레지스트 패턴의 형성방법	와이씨켐(주)	2016-07-13	2017-07-14	반도체 소재	일본

72	특허	(일본)커패시터 쓰러짐 방지용 코팅 조성물	와이씨켐(주)	2013-12-10	2017-10-06	반도체 소재	일본

73	특허	(대만)포토리소그래피용 세정액 및 이를 이용한 포토레지스트 패턴의 형성방법	와이씨켐(주)	2016-06-02	2017-11-11	반도체 소재	대만

74	특허	(미국)포토리소그래피용 세정액 조성물 및 이를 이용한 포토레지스트 패턴의 형성방법	와이씨켐(주)	2016-06-14	2017-11-28	반도체 소재	미국

75	특허	(미국)커패시터 쓰러짐 방지용 코팅 조성물	와이씨켐(주)	2015-05-04	2018-02-06	반도체 소재	미국

76	특허	(미국)반도체 패턴 형성을 위한 KrF 레이저용 네가티브형 포토레지스트 조성물	와이씨켐(주)	2018-01-12	2018-12-25	반도체 소재	미국

77	특허	(대만)화학적 기계적 연마 후 세정용 조성물	와이씨켐(주)	2018-03-07	2019.01-11	반도체 소재	대만

78	특허	(대만)EUV용 감광성 포토레지스트 미세패턴 형성용 현상액 조성물	와이씨켐(주)	2018-03-23	2019-06-11	반도체 소재	대만

79	특허	(일본)컬러필터 이미지 센서용 현상액 조성물	와이씨켐(주)	2018-03-01	2019-08-09	반도체 소재	일본

80	특허	(일본)CMP용 슬러리 조성물 및 이를 이용한 연마방법	와이씨켐(주)	2018-03-20	2019-09-06	반도체 소재	일본

81	특허	(대만)절삭유 조성물 및 그를 이용한 절삭방법	와이씨켐(주)	2018-05-31	2019-09-11	반도체 소재	대만

82	특허	(일본)반도체 패턴 형성을 위한 KrF 레이저용 네가티브형 포토레지스트 조성물	와이씨켐(주)	2018-01-10	2019-10-18	반도체 소재	일본

83	특허	(일본)에칭 내성이 우수한 I-선용 네가티브형 포토레지스트 조성물	와이씨켐(주)	2018-02-15	2019-10-18	반도체 소재	일본

84	특허	(미국)CMP용 슬러리 조성물 및 이를 이용한 연마방법	와이씨켐(주)	2018-03-23	2020-01-07	반도체 소재	미국

85	특허	(미국)에칭 내성이 우수한 I-선용 네가티브형 포토레지스트 조성물	와이씨켐(주)	2016-08-26	2020-01-21	반도체 소재	미국

86	특허	(대만)반도체 제조 공정에 있어서 미세 실리콘 패턴을 형성하기 위한 신규 식각방법	와이씨켐(주)	2019-01-15	2020-02-01	반도체 소재	대만

87	특허	(일본)고해상도 및 고아스펙트비를 갖는 KrF 레이저용 네가티브형 포토레지스트 조성물	와이씨켐(주)	2017-03-22	2020-02-28	반도체 소재	일본

88	특허	(대만)패턴 프로파일 개선용화학증폭형 포지티브 포토레지스트 조성물	와이씨켐(주)	2019-05-23	2020-06-01	반도체 소재	대만

89	특허	(미국)반사방지 코팅액 조성물 및 이를 이용한 반사방지 코팅막	와이씨켐(주)	2018-07-17	2020-07-21	반도체 소재	미국

90	특허	(대만)구리 배리어층 연마용 슬러리 조성물	와이씨켐(주)	2019-10-03	2020-08-11	반도체 소재	대만

91	특허	(독일, 프랑스, 네덜란드)반사방지 코팅액 조성물 및 이를 이용한 반사방지 코팅막	와이씨켐(주)	2018-07-17	2020-06-10	반도체 소재	유럽

92	특허	(미국)고해상도 및 고아스펙트비를 갖는 KrF 레이저용 네가티브형 포토레즈스트 조성물	와이씨켐(주)	2018-09-19	2020-09-15	반도체 소재	미국

93	특허	(일본)EUV용 감광성 포토레지스트 미세패턴 형성용 현상액 조성물	와이씨켐(주)	2019-09-09	2020-09-17	반도체 소재	일본

94	특허	(대만)극자외선 리소그래피용 공정액 조성물 및 이를 이용하는 패턴 형성방법	와이씨켐(주)	2019-05-23	2020-11-01	반도체 소재	대만

95	특허	(대만)극자외선 리소그래피용 공정액 조성물 및 이를 이용하는 패턴 형성방법	와이씨켐(주)	2019-05-23	2020-11-01	반도체 소재	대만

96	특허	(대만)유무기 하이브리드 포토레지스트 공정액 조성물	와이씨켐(주)	2019-07-08	2020-11-11	반도체 소재	대만

97	특허	(미국)화학적 기계적 연마 후 세정용 조성물	와이씨켐(주)	2019-08-27	2020-11-24	반도체 소재	미국

98	특허	(중국)에칭 내성이 우수한 I-선용 네가티브형 포토레지스트 조성물	와이씨켐(주)	2018-02-08	2020-12-15	반도체 소재	중국

99	특허	(일본)화학적 기계적 연마 후 세정용 조성물	와이씨켐(주)	2019-08-30	2020-12-18	반도체 소재	일본

100	특허	(중국)컬러필터 이미지 센서용 현상액 조성물	와이씨켐(주)	2018-03-12	2020-12-29	반도체 소재	중국

101	특허	(일본)고내에치성 스핀 온 카본 하드마스크 조성물 및 이를 이용한 패턴화 방법	와이씨켐(주)	2019-04-09	2021-01-04	반도체 소재	일본

102	특허	(일본)화학증폭형 네가티브형 포토레지스트 조성물	와이씨켐(주)	2018-11-07	2021-02-12	반도체 소재	일본

103	특허	(대만)극자외선 리소그래피용 공정액 및 이를 사용한 패턴 형성 방법	와이씨켐(주)	2019-11-12	2021-02-11	반도체 소재	대만

104	특허	(일본)포토레지스트 패턴 축소 조성물과 패턴 축소 방법	와이씨켐(주)	2018-11-20	2021-02-12	반도체 소재	일본

105	특허	(일본)네가톤 포토레지스트를 이용한 패터닝 공정에서 LWR 개선방법과 조성물	와이씨켐(주)	2018-11-01	2021-03-05	반도체 소재	일본

106	특허	(대만)반도체 제조 공정에 있어서 식각 패턴 신규 형성 방법	와이씨켐(주)	2020-03-02	2021-03-21	반도체 소재	대만

107	특허	(중국)반도체 패텅 형성을 위한 KrF 레이저용 네가티브형 포토레지스트 조성물	와이씨켐(주)	2018-01-22	2021-04-02	반도체 소재	중국

108	특허	(중국)화학적 기계적 연마 후 세정용 조성물	와이씨켐(주)	2019-09-16	2021-04-02	반도체 소재	중국

109	특허	(대만)반도체 웨이퍼 세정액 조성물 및 그를 이용한 세정방법	와이씨켐(주)	2020-02-26	2021-04-21	반도체 소재	대만

110	특허	(대만)리소그래피용 공정액 조성물 및 이를 사용한 패턴 형성 방법	와이씨켐(주)	2020-06-29	2021-05-01	반도체 소재	대만

111	특허	(일본)반사방지 코팅액 조성물 및 이를 이용한 반사방지 코팅막	와이씨켐(주)	2018-07-11	2021-05-10	반도체 소재	일본

112	특허	(미국)절삭유 조성물	와이씨켐(주)	2019-10-30	2021-05-11	반도체 소재	미국

113	특허	(싱가포르)포토리소그래피용 조성물 및 이를 이용한 포토레지스트 패턴의 형성방법	와이씨켐(주)	2016-06-03	2021-05-24	반도체 소재	싱가포르

114	특허	(싱가포르)반도체 패턴 형성을 위한 KrF레이저용 네가티브형포토레지스트 조성물	와이씨켐(주)	2018-01-09	2021-06-08	반도체 소재	싱가포르

115	특허	(미국)고내 에칭성 스핀온 카본 하드마스크 조성물 및 이를 이용한 패턴화 방법	와이씨켐(주)	2019-04-11	2021-06-15	반도체 소재	미국

116	특허	(일본)절삭유 조성물	와이씨켐(주)	2019-10-28	2021-06-16	반도체 소재	일본

117	특허	(대만)반도체 제조 공정에 있어서 실리콘 또는 실리콘 화합물 패턴을 형성하기 위한 신규 방법	와이씨켐(주)	2020-01-20	2021-07-11	반도체 소재	대만

118	특허	(대만)포토리소그래피용 공정액 조성물 및 이를 이용한 패턴 형성 방법	와이씨켐(주)	2020-06-29	2021-07-21	반도체 소재	대만

119	특허	(대만)실리콘산화막 연마용 슬러리 조성물 및 그를 이용한 연마 방법	와이씨켐(주)	2020-03-02	2021-08-11	반도체 소재	대만

120	특허	(대만)실리콘질화막 식각 조성물	와이씨켐(주)	2020-02-06	2021-09-21	반도체 소재	대만

121	특허	(중국)고해상도 및 고아스펙트비를 갖는 KrF 레이저용 네가티브형 포토레지스트 조성물	와이씨켐(주)	2020-03-02	2021-09-28	반도체 소재	중국

122	특허	(미국)EUV 감광성 포토레지스트 미세패턴 형성용 현상액 조성물	와이씨켐(주)	2018-03-22	2021-11-09	반도체 소재	미국

123	특허	(미국)네가톤 포토레지스트를 이용한 패터닝 공정에서 LWR 개선방법과 조성물	와이씨켐(주)	2017-04-26	2021-11-09	반도체 소재	미국

124	특허	(미국)네가톤 포토레지스트를 이용한 패터닝 공정에서 LWR 개선방법과 조성물	와이씨켐(주)	2017-04-26	2021-11-30	반도체 소재	미국

125	특허	(대만)고두께 스핀 온 카본 하드마스크 조성물 및 이를 이용한 패턴화 방법	와이씨켐(주)	2020-03-26	2021-12-11	반도체 소재	대만

126	특허	(미국)EUV 광원용 감광성 포토레지스트 미세패턴 형성용 현상액 조성물	와이씨켐(주)	2019-01-09	2021-12-14	반도체 소재	미국

127	특허	(싱가포르)고내에치성 스핀온 카본 하드마스크 조성물 및 이를 이용한 패턴화 방법	와이씨켐(주)	2017-10-12	2021-12-16	반도체 소재	싱가포르

128	특허	(일본)네가톤 포토레지스트를 이용한 패터닝 공정에서 LWR 개선 방법과 조성물	와이씨켐(주)	2017-04-26	2022-01-06	반도체 소재	일본

129	특허	(싱가포르)반사방지 코팅액 조성물 및 이를 이용한 반사방지 코팅막	와이씨켐(주)	2018-07-16	2022-01-31	반도체 소재	싱가포르

130	특허	(대만)EUV용 감광성 포토레지스트 미세패턴 형성용 현상액 조성물	와이씨켐(주)	2019-01-15	2022-03-01	반도체 소재	대만

131	특허	(중국)절삭유 조성물	와이씨켐(주)	2018-05-31	2022-03-08	반도체 소재	중국

132	특허	(미국) 포토레지스트 패턴 축소 조성물과 패턴 축소 방법	와이씨켐(주)	2017-06-20	2022-04-05	반도체 소재	미국

133	특허	(미국)반도체 제조 공정에 있어서 미세 실리콘 패턴을 형성하기 위한 신규 식각방법	와이씨켐(주)	2019-01-09	2022-04-26	반도체 소재	미국

134	특허	(중국) CMP용 슬러리 조성물 및 이를 이용한 연마방법	와이씨켐(주)	2019-01-09	2022-04-26	반도체 소재	중국

135	특허	(유럽_독일,이탈리아)고해상도 및 고아스펙트비를 갖는 KrF레 이저용 네가티브형 포토레지스트 조성물	와이씨켐(주)	2017-03-22	2022-05-04	반도체 소재	유럽

136	특허	(중국)화학증폭형 네가티브형 포토레지스트 조성물	와이씨켐(주)	2017-04-26	2022-06-28	반도체 소재	중국

137	특허	(중국)실리콘산화막 연마용 슬러리 조성물 및 그를 이용한 연 마방법	와이씨켐(주)	2020-03-02	2022-06-28	반도체 소재	중국

138	특허	(중국)포토레지스트 패턴 축소 조성물과 패턴 축소 방법	와이씨켐(주)	2017-06-20	2022-07-29	반도체 소재	중국

139	특허	(중국)실리콘질화막 식각 조성물	와이씨켐(주)	2020-02-10	2022-08-16	반도체 소재	중국

140	특허	(중국)고내에치성 스핀 온 카본 하드마스크 조성물 및 이를 이용한 패턴화 방법	와이씨켐(주)	2017-10-12	2022-09-02	반도체 소재	중국

141	특허	(대만)Center - Edge간 단차의 개선 및 LER 개선용 I-선용 네 가티브형 포토레지스트 조성물공정 마진 개선용 I-선용 네가 티브형 포토레지스트 조성물	와이씨켐(주)	2021-08-26	2022-09-01	반도체 소재	대만

142	특허	(대만)극자외선 포토 리소그래피용 공정액 조성물 및 이를 이용한 패턴 형성 방법	와이씨켐(주)	2021-08-04	2022-10-11	반도체 소재	대만

143	특허	(미국)극자외선 리소그래피용 공정액 조성물 및 이를 이용하는 패턴 형성 방법	와이씨켐(주)	2019-05-22	2022-10-18	반도체 소재	미국

144	특허	(중국) EUV용 감광성 포토레지스트 미세패턴 형성용 현상액 조성물	와이씨켐(주)	2018-03-22	2022-11-01	반도체 소재	중국

145	특허	(중국) EUV용 감광성 포토레지스트 미세패턴 형성용 현상액 조성물	와이씨켐(주)	2019-11-11	2022-11-01	반도체 소재	중국

146	특허	(미국) 반도체 제조 공정에 있어서 실리콘 또는 실리콘 화합물 패턴을 형성하기 위한 신규 방법	와이씨켐(주)	2020-01-17	2022-11-01	반도체 소재	미국

147	특허	(일본)반도체 제조 공정에 있어서 실리콘 또는 실리콘 화합물 패턴을 형성하기 위한 신규 방법	와이씨켐(주)	2020-01-17	2022-12-08	반도체 소재	일본

148	특허	(일본)반도체 웨이퍼 세정액 조성물 및 그를 이용한 세정방법	와이씨켐(주)	2020-02-10	2022-12-06	반도체 소재	일본

149	특허	(대만)텅스텐막에 대한 질화티타늄막의 식각 선택비를 조절하기 위한 식각액 조성물 및 이를 이용한 식각방법	와이씨켐(주)	2021-07-13	2023-01-11	반도체 소재	대만

150	특허	(일본)반도체 제조 공정에 있어서 식각 패턴 신규 형성 방법	와이씨켐(주)	2021-08-31	2022-12-22	반도체 소재	일본

151	특허	(미국)실리콘질화막 식각 조성물	와이씨켐(주)	2021-08-12	2023-01-17	반도체 소재	미국

152	특허	(일본)극자외선 리소그래피용 공정액 및 이를 사용한 패턴 형성 방법	와이씨켐(주)	2019-11-11	2023-01-18	반도체 소재	일본

153	특허	(중국)반도체 제조 공정에 있어서 미세 실리콘 패턴을 형성하기 위한 신규 식각방법	와이씨켐(주)	2019-11-12	2023-03-10	반도체 소재	중국

154	특허	(미국)화학증폭형 네가티브형 포토레지스트 조성물	와이씨켐(주)	2017-04-26	2023-02-21	반도체 소재	미국

155	특허	(중국)반도체 웨이퍼 세정액 조성물 및 그를 이용한 세정방법	와이씨켐(주)	2020-02-10	2023-04-25	반도체 소재	중국

156	특허	(일본)고두께 스핀 온 카본 하드마스크 조성물 및 이를 이용한 패턴화 방법	와이씨켐(주)	2020-03-25	2023-04-21	반도체 소재	일본

157	특허	(일본)극자외선 리소그래피용 공정액 조성물 및 이를 이용하는 패턴 형성 방법	와이씨켐(주)	2019-05-22	2023-04-27	반도체 소재	일본

158	특허	(일본)패턴 프로파일 개선용 화학증폭형 포지티브 포토레지스트 조성물	와이씨켐(주)	2019-05-22	2023-04-27	반도체 소재	일본

159	특허	(일본)실리콘질화막 식각 조성물	와이씨켐(주)	2020-02-10	2023-04-28	반도체 소재	일본

160	특허	(일본)실리콘산화막 연마용 슬러리 조성물 및 그를 이용한 연마방법	와이씨켐(주)	2020-03-02	2023-05-25	반도체 소재	일본

161	특허	(대만)표면 결함수 및 헤이즈 저감용 실리콘 웨이퍼 최종 연마용 슬러리 조성물 및 그를 이용한 최종 연마 방법	와이씨켐(주)	2022-06-09	2023-07-01	반도체 소재	대만

162	특허	(대만)패턴 프로파일 및 해상도 개선용 화학증폭형 포지티브 포토레지스트 조성물	와이씨켐(주)	2022-07-28	2023-07-21	반도체 소재	대만