와이씨켐 분기보고서 (2025.03)
7. 기타 참고사항

가. 보유 기술의 경쟁력

제품군	보유 기술의 경쟁력

Photo소재	Photoresist	-중합 및 합성 전담부서 보유 중으로 자체적인 디자인이 가능
-Base Polymer 구조의 설계, 합성
-물성의 정도를 조정 할 수 있으며 다양한 고객사에서 필요로
하는 수준으로 조정이 가능

Spin On Hard Mask

Wet chemical	웨이퍼 현상액 첨가제	- 고순도 정제기술

반도체 공정소재	- 이온교환수지 정제기술
- 극미량 분석기술

PR용 rinse	EUV rinse	- Pattern collapse 방지 기술, defect 개선기술, LWR 개선기술
- Amphiphilic material, swelling control promotor, Anti-collapse implant 구조 설계, 합성
- 각 물질의 성능을 이해하고 상호 효과를 보완 및 극대화할 수 있도록 조합하는 기술

기타	Wafering processchemical	- 공정단순화 최적 설계 기술

나. 지적재산권 현황

번호	구분	발명명칭	권리자	출원일	특허등록일	적용제품	출원국

(이전 생략)

1	특허	고두께 스핀 온 카본 하드마스크 조성물 및 이를 이용한 패턴화 방법	와이씨켐(주)	2019-04-09	2021-04-08	반도체 소재	대한민국

2	특허	고두께 스핀 온 카본 하드마스크 조성물 및 이를 이용한 패턴화 방법	와이씨켐(주)	2020-09-11	2021-05-06	반도체 소재	대한민국

3	특허	Center - Edge간 단차의 개선 및 LER 개선용 I-선용 네가티브형 포토레지스트 조성물공정 마진 개선용 I-선용 네가티브형 포토레지스트 조성물	와이씨켐(주)	2020-09-24	2021-05-21	반도체 소재	대한민국

4	특허	텅스텐막에 대한 질화티타늄막의 식각 선택비를 조절하기 위한 식각액 조성물 및 이를 이용한 식각방법	와이씨켐(주)	2020-08-04	2021-06-14	반도체 소재	대한민국

5	특허	증발감량이 적은 스핀온 카본 하드마스크 조성물 및 이를 이용한 패턴화 방법	와이씨켐(주)	2021-05-27	2022-01-07	반도체 소재	대한민국

6	특허	표면 결함수 및 헤이즈 저감용 실리콘 웨이퍼 최종 연마용슬러리 조성물 및 그를 이용한 최종 연마 방법	와이씨켐(주)	2021-07-08	2022-01-27	반도체 소재	대한민국

7	특허	패턴 프로파일 및 해상도 개선용 화학증폭형 포지티브 포토레지스트 조성물	와이씨켐(주)	2021-08-23	2022-03-10	반도체 소재	대한민국

8	특허	몰리브데늄막 식각액 조성물 및 그를 이용한 식각 방법	와이씨켐(주)	2022-03-22	2022-09-21	반도체 소재	대한민국

9	특허	고평탄화 성능을 지닌 스핀 온 카본 하드마스크 조성물 및 이를 이용한 패턴화 방법	와이씨켐(주)	2022-04-06	2022-12-14	반도체 소재	대한민국

10	특허	패턴 프로파일 개선 및 에치 내성(Etch Resistance) 증진용 화학증폭형 포지티브 포토레지스트 조성물	와이씨켐(주)	2022-10-21	2023-02-13	반도체 소재	대한민국

11	특허	구리 배리어층 연마용 CMP 슬러리 조성물	와이씨켐(주)	2022-07-06	2023-03-27	반도체 소재	대한민국

12	특허	패턴 프로파일 개선 및 부착력(Adhesion) 증진용 화학증폭형 포지티브 포토레지스트 조성물	와이씨켐(주)	2022-10-17	2023-03-29	반도체 소재	대한민국

13	특허	극자외선 리소그래피용 린스액 조성물 및 이를 이용한 패턴 형성 방법	와이씨켐(주)	2022-11-18	2023-06-20	반도체 소재	대한민국

14	특허	절삭유 조성물	와이씨켐(주)	2022-12-15	2023-06-20	반도체 소재	대한민국

15	특허	(일본)고내에치성 스핀 온 카본 하드마스크 조성물 및 이를 이용한 패턴화 방법	와이씨켐(주)	2019-04-09	2021-01-04	반도체 소재	일본

16	특허	(일본)화학증폭형 네가티브형 포토레지스트 조성물	와이씨켐(주)	2018-11-07	2021-02-12	반도체 소재	일본

17	특허	(대만)극자외선 리소그래피용 공정액 및 이를 사용한 패턴 형성 방법	와이씨켐(주)	2019-11-12	2021-02-11	반도체 소재	대만

18	특허	(일본)포토레지스트 패턴 축소 조성물과 패턴 축소 방법	와이씨켐(주)	2018-11-20	2021-02-12	반도체 소재	일본

19	특허	(일본)네가톤 포토레지스트를 이용한 패터닝 공정에서 LWR 개선방법과 조성물	와이씨켐(주)	2018-11-01	2021-03-05	반도체 소재	일본

20	특허	(대만)반도체 제조 공정에 있어서 식각 패턴 신규 형성 방법	와이씨켐(주)	2020-03-02	2021-03-21	반도체 소재	대만

21	특허	(중국)반도체 패텅 형성을 위한 KrF 레이저용 네가티브형 포토레지스트 조성물	와이씨켐(주)	2018-01-22	2021-04-02	반도체 소재	중국

22	특허	(중국)화학적 기계적 연마 후 세정용 조성물	와이씨켐(주)	2019-09-16	2021-04-02	반도체 소재	중국

23	특허	(대만)반도체 웨이퍼 세정액 조성물 및 그를 이용한 세정방법	와이씨켐(주)	2020-02-26	2021-04-21	반도체 소재	대만

24	특허	(대만)리소그래피용 공정액 조성물 및 이를 사용한 패턴 형성 방법	와이씨켐(주)	2020-06-29	2021-05-01	반도체 소재	대만

25	특허	(일본)반사방지 코팅액 조성물 및 이를 이용한 반사방지 코팅막	와이씨켐(주)	2018-07-11	2021-05-10	반도체 소재	일본

26	특허	(미국)절삭유 조성물	와이씨켐(주)	2019-10-30	2021-05-11	반도체 소재	미국

27	특허	(싱가포르)포토리소그래피용 조성물 및 이를 이용한 포토레지스트 패턴의 형성방법	와이씨켐(주)	2016-06-03	2021-05-24	반도체 소재	싱가포르

28	특허	(싱가포르)반도체 패턴 형성을 위한 KrF레이저용 네가티브형포토레지스트 조성물	와이씨켐(주)	2018-01-09	2021-06-08	반도체 소재	싱가포르

29	특허	(미국)고내 에칭성 스핀온 카본 하드마스크 조성물 및 이를 이용한 패턴화 방법	와이씨켐(주)	2019-04-11	2021-06-15	반도체 소재	미국

30	특허	(일본)절삭유 조성물	와이씨켐(주)	2019-10-28	2021-06-16	반도체 소재	일본

31	특허	(대만)반도체 제조 공정에 있어서 실리콘 또는 실리콘 화합물 패턴을 형성하기 위한 신규 방법	와이씨켐(주)	2020-01-20	2021-07-11	반도체 소재	대만

32	특허	(대만)포토리소그래피용 공정액 조성물 및 이를 이용한 패턴 형성 방법	와이씨켐(주)	2020-06-29	2021-07-21	반도체 소재	대만

33	특허	(대만)실리콘산화막 연마용 슬러리 조성물 및 그를 이용한 연마 방법	와이씨켐(주)	2020-03-02	2021-08-11	반도체 소재	대만

34	특허	(대만)실리콘질화막 식각 조성물	와이씨켐(주)	2020-02-06	2021-09-21	반도체 소재	대만

35	특허	(중국)고해상도 및 고아스펙트비를 갖는 KrF 레이저용 네가티브형 포토레지스트 조성물	와이씨켐(주)	2020-03-02	2021-09-28	반도체 소재	중국

36	특허	(미국)EUV 감광성 포토레지스트 미세패턴 형성용 현상액 조성물	와이씨켐(주)	2018-03-22	2021-11-09	반도체 소재	미국

37	특허	(미국)네가톤 포토레지스트를 이용한 패터닝 공정에서 LWR 개선방법과 조성물	와이씨켐(주)	2017-04-26	2021-11-09	반도체 소재	미국

38	특허	(미국)네가톤 포토레지스트를 이용한 패터닝 공정에서 LWR 개선방법과 조성물	와이씨켐(주)	2017-04-26	2021-11-30	반도체 소재	미국

39	특허	(대만)고두께 스핀 온 카본 하드마스크 조성물 및 이를 이용한 패턴화 방법	와이씨켐(주)	2020-03-26	2021-12-11	반도체 소재	대만

40	특허	(미국)EUV 광원용 감광성 포토레지스트 미세패턴 형성용 현상액 조성물	와이씨켐(주)	2019-01-09	2021-12-14	반도체 소재	미국

41	특허	(싱가포르)고내에치성 스핀온 카본 하드마스크 조성물 및 이를 이용한 패턴화 방법	와이씨켐(주)	2017-10-12	2021-12-16	반도체 소재	싱가포르

42	특허	(일본)네가톤 포토레지스트를 이용한 패터닝 공정에서 LWR 개선 방법과 조성물	와이씨켐(주)	2017-04-26	2022-01-06	반도체 소재	일본

43	특허	(싱가포르)반사방지 코팅액 조성물 및 이를 이용한 반사방지 코팅막	와이씨켐(주)	2018-07-16	2022-01-31	반도체 소재	싱가포르

44	특허	(대만)EUV용 감광성 포토레지스트 미세패턴 형성용 현상액 조성물	와이씨켐(주)	2019-01-15	2022-03-01	반도체 소재	대만

45	특허	(중국)절삭유 조성물	와이씨켐(주)	2018-05-31	2022-03-08	반도체 소재	중국

46	특허	(미국) 포토레지스트 패턴 축소 조성물과 패턴 축소 방법	와이씨켐(주)	2017-06-20	2022-04-05	반도체 소재	미국

47	특허	(미국)반도체 제조 공정에 있어서 미세 실리콘 패턴을 형성하기 위한 신규 식각방법	와이씨켐(주)	2019-01-09	2022-04-26	반도체 소재	미국

48	특허	(중국) CMP용 슬러리 조성물 및 이를 이용한 연마방법	와이씨켐(주)	2019-01-09	2022-04-26	반도체 소재	중국

49	특허	(유럽_독일,이탈리아)고해상도 및 고아스펙트비를 갖는 KrF레 이저용 네가티브형 포토레지스트 조성물	와이씨켐(주)	2017-03-22	2022-05-04	반도체 소재	유럽

50	특허	(중국)화학증폭형 네가티브형 포토레지스트 조성물	와이씨켐(주)	2017-04-26	2022-06-28	반도체 소재	중국

51	특허	(중국)실리콘산화막 연마용 슬러리 조성물 및 그를 이용한 연 마방법	와이씨켐(주)	2020-03-02	2022-06-28	반도체 소재	중국

52	특허	(중국)포토레지스트 패턴 축소 조성물과 패턴 축소 방법	와이씨켐(주)	2017-06-20	2022-07-29	반도체 소재	중국

53	특허	(중국)실리콘질화막 식각 조성물	와이씨켐(주)	2020-02-10	2022-08-16	반도체 소재	중국

54	특허	(중국)고내에치성 스핀 온 카본 하드마스크 조성물 및 이를 이용한 패턴화 방법	와이씨켐(주)	2017-10-12	2022-09-02	반도체 소재	중국

55	특허	(대만)Center - Edge간 단차의 개선 및 LER 개선용 I-선용 네 가티브형 포토레지스트 조성물공정 마진 개선용 I-선용 네가 티브형 포토레지스트 조성물	와이씨켐(주)	2021-08-26	2022-09-01	반도체 소재	대만

56	특허	(대만)극자외선 포토 리소그래피용 공정액 조성물 및 이를 이용한 패턴 형성 방법	와이씨켐(주)	2021-08-04	2022-10-11	반도체 소재	대만

57	특허	(미국)극자외선 리소그래피용 공정액 조성물 및 이를 이용하는 패턴 형성 방법	와이씨켐(주)	2019-05-22	2022-10-18	반도체 소재	미국

58	특허	(중국) EUV용 감광성 포토레지스트 미세패턴 형성용 현상액 조성물	와이씨켐(주)	2018-03-22	2022-11-01	반도체 소재	중국

59	특허	(중국) EUV용 감광성 포토레지스트 미세패턴 형성용 현상액 조성물	와이씨켐(주)	2019-11-11	2022-11-01	반도체 소재	중국

60	특허	(미국) 반도체 제조 공정에 있어서 실리콘 또는 실리콘 화합물 패턴을 형성하기 위한 신규 방법	와이씨켐(주)	2020-01-17	2022-11-01	반도체 소재	미국

61	특허	(일본)반도체 제조 공정에 있어서 실리콘 또는 실리콘 화합물 패턴을 형성하기 위한 신규 방법	와이씨켐(주)	2020-01-17	2022-12-08	반도체 소재	일본

62	특허	(일본)반도체 웨이퍼 세정액 조성물 및 그를 이용한 세정방법	와이씨켐(주)	2020-02-10	2022-12-06	반도체 소재	일본

63	특허	(대만)텅스텐막에 대한 질화티타늄막의 식각 선택비를 조절하기 위한 식각액 조성물 및 이를 이용한 식각방법	와이씨켐(주)	2021-07-13	2023-01-11	반도체 소재	대만

64	특허	(일본)반도체 제조 공정에 있어서 식각 패턴 신규 형성 방법	와이씨켐(주)	2021-08-31	2022-12-22	반도체 소재	일본

65	특허	(미국)실리콘질화막 식각 조성물	와이씨켐(주)	2021-08-12	2023-01-17	반도체 소재	미국

66	특허	(일본)극자외선 리소그래피용 공정액 및 이를 사용한 패턴 형성 방법	와이씨켐(주)	2019-11-11	2023-01-18	반도체 소재	일본

67	특허	(중국)반도체 제조 공정에 있어서 미세 실리콘 패턴을 형성하기 위한 신규 식각방법	와이씨켐(주)	2019-11-12	2023-03-10	반도체 소재	중국

68	특허	(미국)화학증폭형 네가티브형 포토레지스트 조성물	와이씨켐(주)	2017-04-26	2023-02-21	반도체 소재	미국

69	특허	(중국)반도체 웨이퍼 세정액 조성물 및 그를 이용한 세정방법	와이씨켐(주)	2020-02-10	2023-04-25	반도체 소재	중국

70	특허	(일본)고두께 스핀 온 카본 하드마스크 조성물 및 이를 이용한 패턴화 방법	와이씨켐(주)	2020-03-25	2023-04-21	반도체 소재	일본

71	특허	(일본)극자외선 리소그래피용 공정액 조성물 및 이를 이용하는 패턴 형성 방법	와이씨켐(주)	2019-05-22	2023-04-27	반도체 소재	일본

72	특허	(일본)패턴 프로파일 개선용 화학증폭형 포지티브 포토레지스트 조성물	와이씨켐(주)	2019-05-22	2023-04-27	반도체 소재	일본

73	특허	(일본)실리콘질화막 식각 조성물	와이씨켐(주)	2020-02-10	2023-04-28	반도체 소재	일본

74	특허	(일본)실리콘산화막 연마용 슬러리 조성물 및 그를 이용한 연마방법	와이씨켐(주)	2020-03-02	2023-05-25	반도체 소재	일본

75	특허	(대만)표면 결함수 및 헤이즈 저감용 실리콘 웨이퍼 최종 연마용 슬러리 조성물 및 그를 이용한 최종 연마 방법	와이씨켐(주)	2022-06-09	2023-07-01	반도체 소재	대만

76	특허	(대만)패턴 프로파일 및 해상도 개선용 화학증폭형 포지티브 포토레지스트 조성물	와이씨켐(주)	2022-07-28	2023-07-21	반도체 소재	대만

77	특허	(일본)포토 리소그래피용 공정액 조성물 및 이를 이용한 패턴 형성 방법	와이씨켐(주)	2022-03-14	2023-09-12	반도체 소재	일본

78	특허	(일본)리소그래피용 공정액 조성물 및 이를 사용한 패턴 형성 방법	와이씨켐(주)	2020-06-24	2023-11-08	반도체 소재	일본

79	특허	(미국)패턴 프로파일 개선용 화학증폭형 포지티브 포토레지스트 조성물	와이씨켐(주)	2019-05-22	2024-02-20	반도체 소재	미국

80	특허	반도체 패턴 쓰러짐 방지용 코팅 조성물 및 이를 이용하여 코팅된 패턴	와이씨켐(주)	2023-07-17	2024-04-03	반도체 소재	대한민국

81	특허	(대만)몰리브데늄막 식각액 조성물 및 그를 이용한 식각 방법	와이씨켐(주)	2019-05-23	2024-04-11	반도체 소재	대만

82	특허	(미국)반도체 웨이퍼 세정액 조성물 및 그를 이용한 세정방법	와이씨켐(주)	2020-02-10	2024-04-30	반도체 소재	미국

83	특허	PCB 기판유리 강화용 코팅 조성물 및 이를 이용하여 제조된 PCB 기판유리	와이씨켐(주)	2023-07-13	2024-07-02	반도체 소재	대한민국

84	특허	(대만)고평탄화 성능을 지닌 스핀 온 카본 하드마스크 조성물 및 이를 이용한 패턴화 방법	와이씨켐(주)	2023-03-02	2024-07-11	반도체 소재	대만

85	특허	(중국)극자외선 리소그래피용 공정액 및 이를 사용한 패턴 형성 방법	와이씨켐(주)	2019-11-11	2024-07-30	반도체 소재	중국

86	특허	(대만)고평탄화 성능을 지닌 스핀 온 카본 하드마스크 조성물 및 이를 이용한 패턴화 방법	와이씨켐(주)	2019-07-05	2024-07-30	반도체 소재	대만

87	특허	(중국)극자외선 리소그래피용 공정액 및 이를 사용한 패턴 형성 방법	와이씨켐(주)	2019-07-06	2024-07-31	반도체 소재	중국

88	특허	(일본)텅스텐막에 대한 질화티타늄막의 식각 선택비를 조절하기 위한 식각액 조성물 및 이를 이용한 식각방법	와이씨켐(주)	2021-07-05	2024-07-31	반도체 소재	일본

89	특허	(미국)유무기 하이브리드 포토레지스트 공정액 조성물	와이씨켐(주)	2019-07-07	2024-08-01	반도체 소재	미국

90	특허	(일본)극자외선 포토 리소그래피용 공정액 조성물 및 이를 이용한 패턴 형성 방법	와이씨켐(주)	2021-08-04	2024-08-15	반도체 소재	일본

91	특허	(미국)반도체 제조 공정에 있어서 식각 패턴 신규 형성 방법	와이씨켐(주)	2020-03-06	2024-09-17	반도체 소재	미국

92	특허	(미국)고두께 스핀 온 카본 하드마스크 조성물 및 이를 이용한 패턴화 방법	와이씨켐(주)	2020-03-25	2024-10-01	반도체 소재	미국

93	특허	(대만)패턴 프로파일 개선 및 에치 내성(Etch Resistance) 증진용 화학증폭형 포지티브 포토레지스트 조성물	와이씨켐(주)	2023-08-15	2024-10-21	반도체 소재	대만

94	특허	해상도 및 치수 안정성 개선용 화학증폭형 포지티브 포토레지스트 조성물	와이씨켐(주)	2022-10-21	2024-10-31	반도체 소재	대한민국

95	특허	(중국)극자외선 리소그래피용 공정액 조성물 및 이를 이용하는 패턴 형성 방법	와이씨켐(주)	2020-12-09	2024-11-22	반도체 소재	중국

96	특허	(중국)극자외선 리소그래피용 공정액 조성물 및 이를 이용하는 패턴 형성 방법	와이씨켐(주)	2020-12-09	2024-11-22	반도체 소재	중국

97	특허	(중국)패턴 프로파일 개선용 화학증폭형 포지티브 포토레지스트 조성물	와이씨켐(주)	2020-12-18	2024-11-22	반도체 소재	중국

98	특허	(미국)고두께 스핀 온 카본 하드마스크 조성물 및 이를 이용한 패턴화 방법	와이씨켐(주)	2021-09-29	2024-12-10	반도체 소재	미국

99	특허	(대만)증발감량이 적은 스핀 온 카본 하드마스크 조성물 및 이를 이용한 패턴화 방법	와이씨켐(주)	2022-04-25	2024-12-11	반도체 소재	대만

100	특허	(대만)극자외선 리소그래피용 린스액 조성물 및 이를 이용한 패턴 형성 방법	와이씨켐(주)	2023-09-15	2024-12-11	반도체 소재	대만

101	특허	(일본)극자외선 리소그래피용 공정액 조성물 및 이를 이용하는 패턴 형성 방법	와이씨켐(주)	2022-12-01	2025-01-09	반도체 소재	일본

102	특허	(일본)극자외선 리소그래피용 공정액 조성물 및 이를 이용하는 패턴 형성 방법	와이씨켐(주)	2022-12-01	2025-01-09	반도체 소재	일본

103	특허	(대만)반도체 패턴 쓰러짐 방지용 코팅 조성물 및 이를 이용하여 코팅된 패턴	와이씨켐(주)	2024-05-31	2025-02-21	반도체 소재	대만

104	특허	(일본)증발감량이 적은 스핀 온 카본 하드마스크 조성물 및 이를 이용한 패턴화 방법	와이씨켐(주)	2023-11-08	2025-03-18	반도체 소재	일본