와이씨켐 반기보고서 (2023.06)
7. 기타 참고사항

가. 보유 기술의 경쟁력

제품군	보유 기술의 경쟁력

Photo소재	Photoresist	-중합 및 합성 전담부서 보유 중으로 자체적인 디자인이 가능
-Base Polymer 구조의 설계, 합성
-물성의 정도를 조정 할 수 있으며 다양한 고객사에서 필요로
하는 수준으로 조정이 가능

Spin On Hard Mask

Wet chemical	웨이퍼 현상액 첨가제	- 고순도 정제기술

반도체 공정소재	- 이온교환수지 정제기술
- 극미량 분석기술

PR용 rinse	EUV rinse	- Pattern collapse 방지 기술, defect 개선기술, LWR 개선기술
- Amphiphilic material, swelling control promotor, Anti-collapse implant 구조 설계, 합성
- 각 물질의 성능을 이해하고 상호 효과를 보완 및 극대화할 수 있도록 조합하는 기술

기타	Wafering processchemical	- 공정단순화 최적 설계 기술

나. 지적재산권 현황

번호	구분	발명명칭	권리자	출원일	특허등록일	적용제품	출원국

1	특허	식각시 하부 플러그를 보호하는 수용액 조성물 및이를 이용한 스토리지 노드간 분리공정	와이씨켐(주)	2004-01-05	2006-05-01	반도체 소재	대한민국

2	특허	유기 반사방지막용 가교제 중합체, 이를 포함하는 유기반사방지막 조성물 및 이를 이용한 포토레지스트의 패턴형성 방	와이씨켐(주)	2003-09-29	2006-06-30	반도체 소재	대한민국

3	특허	포토레지스트 패턴 코팅용 수용성 조성물 및이를 이용한 미세패턴 형성방법	와이씨켐(주)	2004-12-30	2007-02-01	반도체 소재	대한민국

4	특허	유기 반사 방지막 조성물 및 이를 이용한 패턴 형성 방법	와이씨켐(주)	2005-05-20	2007-02-21	반도체 소재	대한민국

5	특허	규소(Si)를 포함하는 다기능 반사 방지막	와이씨켐(주)	2006-02-13	2007-04-23	반도체 소재	대한민국

6	특허	포토레지스트 패턴 코팅용 조성물 및 이를 이용한 미세패턴 형성방법	와이씨켐(주)	2005-05-19	2007-07-27	반도체 소재	대한민국

7	특허	석영 튜브 세정액 조성물 및 이를 이용한 세정방법	와이씨켐(주)	2008-11-05	2011-06-15	반도체 소재	대한민국

8	특허	반도체 패턴 형성을 위한 I-선용 네가티브형 포토레지스트 조성물	와이씨켐(주)	2009-08-27	2012-01-26	반도체 소재	대한민국

9	특허	연마제 재생방법 및 재생 연마제	와이씨켐(주)	2009-09-28	2012-01-26	반도체 소재	대한민국

10	특허	포토레지스트 패턴 축소용 수용성 중합체, 상기 수용성 중합체를 포함하는 포토레지스트 패턴 축소용 조성물 및 상기 조성물을 이용한 미세패턴 형성방법	와이씨켐(주)	2006-01-16	2013-03-27	반도체 소재	대한민국

11	특허	유기 반사막방지막 형성용 조성물 및 이를 포함하는 유기 반사방지막	와이씨켐(주)	2009-12-01	2013-04-23	반도체 소재	대한민국

12	특허	금속성 및 다이아몬드 와이어 쏘잉용 수용성 금속 가공유	와이씨켐(주)	2011-12-30	2013-12-11	반도체 소재	대한민국

13	특허	반도체 소자의 패턴 형성 방법	와이씨켐(주)	2008-01-28	2014-01-29	반도체 소재	대한민국

14	특허	포토레지스트 패턴의 LWR 개선용 공정액	와이씨켐(주)	2012-05-02	2014-03-12	반도체 소재	대한민국

15	특허	상변화 메모리 소자용 세정액 조성물 및 이를 이용한 상변화 메모리 소자의 제조 방법	와이씨켐(주)	2012-05-03	2014-07-16	반도체 소재	대한민국

16	특허	실리콘을 포함하는 다기능 반사방지막 제조용 열경화성 실리콘수지 및 이 수지를 사용하여 제조된 반사방지막	와이씨켐(주)	2011-12-30	2014-09-11	반도체 소재	대한민국

17	특허	태양 광전지 커버 유리용 매크로 기공성 반사방지 조성물과 이를 사용한 태양광전지	와이씨켐(주)	2013-01-16	2015-04-23	반도체 소재	대한민국

18	특허	커패시터 쓰러짐 방지용 코팅 조성물	와이씨켐(주)	2012-12-12	2015-05-27	반도체 소재	대한민국

19	특허	산화방지용 포토레지스트 현상액 조성물	와이씨켐(주)	2013-11-25	2015-07-22	반도체 소재	대한민국

20	특허	포토레지스트 세정액 조성물 및 이를 이용한 패턴 형성방법	와이씨켐(주)	2003-04-09	2006-04-26	반도체 소재	대한민국

21	특허	하드마스크용 조성물 및 이를 이용한 패턴 형성방법	와이씨켐(주)	2005-06-30	2012-05-21	반도체 소재	대한민국

22	특허	포토레지스트 중합체, 이를 포함하는 포토레지스트 조성물 및 이를 이용한 포토레지스트의 패턴 형성 방법	와이씨켐(주)	2005-07-20	2012-11-20	반도체 소재	대한민국

23	특허	컬러포토레지스트 조성물 및 이를 이용한 액정표시장치	와이씨켐(주)	2002-09-17	2009-07-28	반도체 소재	대한민국

24	특허	고분자 감광성 화합물, 이를 포함하는 포토레지스트조성물 및 이의 제조 방법	와이씨켐(주)	2004-02-04	2011-05-13	반도체 소재	대한민국

25	특허	에칭 내성이 우수한 I-선용 네가티브형 포토레지스트 조성물	와이씨켐(주)	2015-08-28	2016-02-24	반도체 소재	대한민국

26	특허	컬러필터 이미지 센서용 현상액 조성물	와이씨켐(주)	2015-09-10	2016-03-09	반도체 소재	대한민국

27	특허	반도체 패턴 형성을 위한 KrF 레이저용 네가티브형 포토레지스트 조성물	와이씨켐(주)	2015-09-22	2016-04-21	반도체 소재	대한민국

28	특허	포토리소그래피용 세정액 및 이를 이용한 포토레지스트 패턴의 형성방법	와이씨켐(주)	2015-07-17	2016-04-26	반도체 소재	대한민국

29	특허	CMP용 슬러리 조성물 및 이를 이용한 연마방법	와이씨켐(주)	2015-11-06	2016-06-09	반도체 소재	대한민국

30	특허	고해상도 및 고아스펙트비를 갖는 KrF레이저용 네가티브형 포토레지스트 조성물	와이씨켐(주)	2016-03-22	2016-09-02	반도체 소재	대한민국

31	특허	그 재질로 형성된 패턴 상에 후속 유기물 패턴공정 수행이 가능한 특성을 갖는 네거티브 포토레지스트 조성물, 그 조성물을 이용한 광센서 제조방법 및 그 방법으로 제조된 광센서	와이씨켐(주)	2015-08-21	2017-03-14	반도체 소재	대한민국

32	특허	네가톤 포토레지스트를 이용한 패터닝 공정에서 LWR개선 방법과 조성물	와이씨켐(주)	2016-05-04	2017-04-21	반도체 소재	대한민국

33	특허	네가톤 포토레지스트를 이용한 패터닝 공정에서 LWR개선 방법과 조성물	와이씨켐(주)	2016-05-04	2017-04-21	반도체 소재	대한민국

34	특허	반사방지 코팅액 조성물 및 이를 이용한 반사방지 코팅막	와이씨켐(주)	2016-01-18	2017-06-14	반도체 소재	대한민국

35	특허	EUV용 감광성 포토레지스트 미세패턴 형성용 현상액 조성물	와이씨켐(주)	2017-04-10	2017-07-13	반도체 소재	대한민국

36	특허	고내에칭성 스핀 온 카본 하드마스크 조성물 및 이를 이용한 패턴화 방법	와이씨켐(주)	2016-10-13	2017-09-06	반도체 소재	대한민국

37	특허	화학적 기계적 연마 후 세정용 조성물	와이씨켐(주)	2017-03-17	2017-10-17	반도체 소재	대한민국

38	특허	포토레지스트 패턴 축소 조성물과 패턴 축소 방법	와이씨켐(주)	2016-06-24	2018-01-12	반도체 소재	대한민국

39	특허	화학증폭형 네가티브형 포토레지스트 조성물	와이씨켐(주)	2016-05-13	2018-07-04	반도체 소재	대한민국

40	특허	유무기 하이브리드 포토레지스트 공정액 조성물	와이씨켐(주)	2018-08-06	2018-10-15	반도체 소재	대한민국

41	특허	EUV 광원용 감광성 포토레지스트 미세페턴 형성용 현상액 조성물	와이씨켐(주)	2018-01-23	2019-02-07	반도체 소재	대한민국

42	특허	반도체 제조 공정에 있어서 미세 실리콘 패턴을 형성하기 위한 신규 식각방법	와이씨켐(주)	2018-01-23	2019-02-18	반도체 소재	대한민국

43	특허	극자외선 리소그래피용 공정액 조성물 및 이를 이용하는 패턴 형성방법	와이씨켐(주)	2018-06-14	2019-03-07	반도체 소재	대한민국

44	특허	극자외선 리소그래피용 공정액 조성물 및 이를 이용하는 패턴 형성방법	와이씨켐(주)	2018-06-14	2019-03-07	반도체 소재	대한민국

45	특허	패턴 프로파일 개선용 화학증폭형 포지티브 포토레지스트 조성물	와이씨켐(주)	2018-06-18	2019-05-07	반도체 소재	대한민국

46	특허	극자외선 리소그래피용 공정액 조성물 및 이를 이용하는 패턴 형성방법	와이씨켐(주)	2018-12-28	2019-08-12	반도체 소재	대한민국

47	특허	반도체 제조 공정에 있어서 실리콘 또는 실리콘 화합물 패턴을 형성하기 위한 신규 방법	와이씨켐(주)	2019-02-08	2019-09-30	반도체 소재	대한민국

48	특허	실리콘질화막 식각 조성물	와이씨켐(주)	2019-03-06	2019-10-04	반도체 소재	대한민국

49	특허	반도체 제조 공정에 있어서 식각 패턴 신규 형성 방법	와이씨켐(주)	2019-03-13	2019-12-03	반도체 소재	대한민국

50	특허	절삭유 조성물 및 그를 이용한 절삭방법	와이씨켐(주)	2018-05-30	2019-12-27	반도체 소재	대한민국

51	특허	반도체 웨이퍼 세정액 조성물 및 그를 이용한 세정방법	와이씨켐(주)	2019-03-08	2019-12-27	반도체 소재	대한민국

52	특허	리소그래피용 공정액 조성물 및 이를 사용한 패턴 형성 방법	와이씨켐(주)	2019-07-18	2020-02-18	반도체 소재	대한민국

53	특허	실리콘산화막 연마용 슬러리 조성물 및 그를 이용한 연마방	와이씨켐(주)	2019-03-04	2020-02-24	반도체 소재	대한민국

54	특허	포토 리소그래피용 조성물 및 이를 이용한 패턴 형성 방법	와이씨켐(주)	2019-09-26	2020-04-07	반도체 소재	대한민국

55	특허	고두께 스핀 온 카본 하드마스크 조성물 및 이를 이용한 패턴화 방법	와이씨켐(주)	2019-04-09	2021-04-08	반도체 소재	대한민국

56	특허	고두께 스핀 온 카본 하드마스크 조성물 및 이를 이용한 패턴화 방법	와이씨켐(주)	2020-09-11	2021-05-06	반도체 소재	대한민국

57	특허	Center - Edge간 단차의 개선 및 LER 개선용 I-선용 네가티브형 포토레지스트 조성물공정 마진 개선용 I-선용 네가티브형 포토레지스트 조성물	와이씨켐(주)	2020-09-24	2021-05-21	반도체 소재	대한민국

58	특허	텅스텐막에 대한 질화티타늄막의 식각 선택비를 조절하기 위한 식각액 조성물 및 이를 이용한 식각방법	와이씨켐(주)	2020-08-04	2021-06-14	반도체 소재	대한민국

59	특허	증발감량이 적은 스핀온 카본 하드마스크 조성물 및 이를 이용한 패턴화 방법	와이씨켐(주)	2021-05-27	2022-01-07	반도체 소재	대한민국

60	특허	표면 결함수 및 헤이즈 저감용 실리콘 웨이퍼 최종 연마용슬러리 조성물 및 그를 이용한 최종 연마 방법	와이씨켐(주)	2021-07-08	2022-01-27	반도체 소재	대한민국

61	특허	패턴 프로파일 및 해상도 개선용 화학증폭형 포지티브 포토레지스트 조성물	와이씨켐(주)	2021-08-23	2022-03-10	반도체 소재	대한민국

62	특허	몰리브데늄막 식각액 조성물 및 그를 이용한 식각 방법	와이씨켐(주)	2022-03-22	2022-09-21	반도체 소재	대한민국

63	특허	고평탄화 성능을 지닌 스핀 온 카본 하드마스크 조성물 및 이를 이용한 패턴화 방법	와이씨켐(주)	2022-04-06	2022-12-14	반도체 소재	대한민국

64	특허	패턴 프로파일 개선 및 에치 내성(Etch Resistance) 증진용 화학증폭형 포지티브 포토레지스트 조성물	와이씨켐(주)	2022-10-21	2023-02-13	반도체 소재	대한민국

65	특허	구리 배리어층 연마용 CMP 슬러리 조성물	와이씨켐(주)	2022-07-06	2023-03-27	반도체 소재	대한민국

66	특허	패턴 프로파일 개선 및 부착력(Adhesion) 증진용 화학증폭형 포지티브 포토레지스트 조성물	와이씨켐(주)	2022-10-17	2023-03-29	반도체 소재	대한민국

67	특허	극자외선 리소그래피용 린스액 조성물 및 이를 이용한 패턴 형성 방법	와이씨켐(주)	2022-11-18	2023-06-20	반도체 소재	대한민국

68	특허	절삭유 조성물	와이씨켐(주)	2022-12-15	2023-06-20	반도체 소재	대한민국

69	특허	(미국)포토레지스트 패턴 코팅용 조성물 및 이를 이용한 미세패턴 형성방법	와이씨켐(주)	2005.12.08	2009.11.10	반도체 소재	미국

70	특허	(일본)포토레지스트 패턴 코팅용 조성물 및 이를 이용한 미세패턴 형성방법	와이씨켐(주)	2006.01.17	2011.08.26	반도체 소재	일본

71	특허	(일본)포토리소그래피용 세정액 및 이를 이용한 포토레지스트 패턴의 형성방법	와이씨켐(주)	2016.07.13	2017.07.14	반도체 소재	일본

72	특허	(일본)커패시터 쓰러짐 방지용 코팅 조성물	와이씨켐(주)	2013.12.10	2017.10.06	반도체 소재	일본

73	특허	(대만)포토리소그래피용 세정액 및 이를 이용한 포토레지스트 패턴의 형성방법	와이씨켐(주)	2016.06.02	2017.11.11	반도체 소재	대만

74	특허	(미국)포토리소그래피용 세정액 조성물 및 이를 이용한 포토레지스트 패턴의 형성방법	와이씨켐(주)	2016.06.14	2017.11.28	반도체 소재	미국

75	특허	(미국)커패시터 쓰러짐 방지용 코팅 조성물	와이씨켐(주)	2015.05.04	2018.02.06	반도체 소재	미국

76	특허	(미국)반도체 패턴 형성을 위한 KrF 레이저용 네가티브형 포토레지스트 조성물	와이씨켐(주)	2018.01.12	2018.12.25	반도체 소재	미국

77	특허	(대만)화학적 기계적 연마 후 세정용 조성물	와이씨켐(주)	2018.03.07	2019.01.11	반도체 소재	대만

78	특허	(대만)EUV용 감광성 포토레지스트 미세패턴 형성용 현상액 조성물	와이씨켐(주)	2018.03.23	2019.06.11	반도체 소재	대만

79	특허	(일본)컬러필터 이미지 센서용 현상액 조성물	와이씨켐(주)	2018.03.01	2019.08.09	반도체 소재	일본

80	특허	(일본)CMP용 슬러리 조성물 및 이를 이용한 연마방법	와이씨켐(주)	2018.03.20	2019.09.06	반도체 소재	일본

81	특허	(대만)절삭유 조성물 및 그를 이용한 절삭방법	와이씨켐(주)	2018.05.31	2019.09.11	반도체 소재	대만

82	특허	(일본)반도체 패턴 형성을 위한 KrF 레이저용 네가티브형 포토레지스트 조성물	와이씨켐(주)	2018.01.10	2019.10.18	반도체 소재	일본

83	특허	(일본)에칭 내성이 우수한 I-선용 네가티브형 포토레지스트 조성물	와이씨켐(주)	2018.02.15	2019.10.18	반도체 소재	일본

84	특허	(미국)CMP용 슬러리 조성물 및 이를 이용한 연마방법	와이씨켐(주)	2018.03.23	2020.01.07	반도체 소재	미국

85	특허	(미국)에칭 내성이 우수한 I-선용 네가티브형 포토레지스트 조성물	와이씨켐(주)	2016.08.26	2020.01.21	반도체 소재	미국

86	특허	(대만)반도체 제조 공정에 있어서 미세 실리콘 패턴을 형성하기 위한 신규 식각방법	와이씨켐(주)	2019.01.15	2020.02.01	반도체 소재	대만

87	특허	(일본)고해상도 및 고아스펙트비를 갖는 KrF 레이저용 네가티브형 포토레지스트 조성물	와이씨켐(주)	2017.03.22	2020.02.28	반도체 소재	일본

88	특허	(대만)패턴 프로파일 개선용화학증폭형 포지티브 포토레지스트 조성물	와이씨켐(주)	2019.05.23	2020.06.01	반도체 소재	대만

89	특허	(미국)반사방지 코팅액 조성물 및 이를 이용한 반사방지 코팅막	와이씨켐(주)	2018.07.17	2020.07.21	반도체 소재	미국

90	특허	(대만)구리 배리어층 연마용 슬러리 조성물	와이씨켐(주)	2019.10.03	2020.08.11	반도체 소재	대만

91	특허	(독일, 프랑스, 네덜란드)반사방지 코팅액 조성물 및 이를 이용한 반사방지 코팅막	와이씨켐(주)	2018.07.17	2020.06.10	반도체 소재	유럽

92	특허	(미국)고해상도 및 고아스펙트비를 갖는 KrF 레이저용 네가티브형 포토레즈스트 조성물	와이씨켐(주)	2018.09.19	2020.09.15	반도체 소재	미국

93	특허	(일본)EUV용 감광성 포토레지스트 미세패턴 형성용 현상액 조성물	와이씨켐(주)	2019.09.09	2020.09.17	반도체 소재	일본

94	특허	(대만)극자외선 리소그래피용 공정액 조성물 및 이를 이용하는 패턴 형성방법	와이씨켐(주)	2019.05.23	2020.11.01	반도체 소재	대만

95	특허	(대만)극자외선 리소그래피용 공정액 조성물 및 이를 이용하는 패턴 형성방법	와이씨켐(주)	2019.05.23	2020.11.01	반도체 소재	대만

96	특허	(대만)유무기 하이브리드 포토레지스트 공정액 조성물	와이씨켐(주)	2019.07.08	2020.11.11	반도체 소재	대만

97	특허	(미국)화학적 기계적 연마 후 세정용 조성물	와이씨켐(주)	2019.08.27	2020.11.24	반도체 소재	미국

98	특허	(중국)에칭 내성이 우수한 I-선용 네가티브형 포토레지스트 조성물	와이씨켐(주)	2018.02.08	2020.12.15	반도체 소재	중국

99	특허	(일본)화학적 기계적 연마 후 세정용 조성물	와이씨켐(주)	2019.08.30	2020.12.18	반도체 소재	일본

100	특허	(중국)컬러필터 이미지 센서용 현상액 조성물	와이씨켐(주)	2018.03.12	2020.12.29	반도체 소재	중국

101	특허	(일본)고내에치성 스핀 온 카본 하드마스크 조성물 및 이를 이용한 패턴화 방법	와이씨켐(주)	2019.04.09	2021.01.04	반도체 소재	일본

102	특허	(일본)화학증폭형 네가티브형 포토레지스트 조성물	와이씨켐(주)	2018.11.07	2021.02.12	반도체 소재	일본

103	특허	(대만)극자외선 리소그래피용 공정액 및 이를 사용한 패턴 형성 방법	와이씨켐(주)	2019.11.12	2021.02.11	반도체 소재	대만

104	특허	(일본)포토레지스트 패턴 축소 조성물과 패턴 축소 방법	와이씨켐(주)	2018.11.20	2021.02.12	반도체 소재	일본

105	특허	(일본)네가톤 포토레지스트를 이용한 패터닝 공정에서 LWR 개선방법과 조성물	와이씨켐(주)	2018.11.01	2021.03.05	반도체 소재	일본

106	특허	(대만)반도체 제조 공정에 있어서 식각 패턴 신규 형성 방법	와이씨켐(주)	2020.03.02	2021.03.21	반도체 소재	대만

107	특허	(중국)반도체 패텅 형성을 위한 KrF 레이저용 네가티브형 포토레지스트 조성물	와이씨켐(주)	2018.01.22	2021.04.02	반도체 소재	중국

108	특허	(중국)화학적 기계적 연마 후 세정용 조성물	와이씨켐(주)	2019.09.16	2021.04.02	반도체 소재	중국

109	특허	(대만)반도체 웨이퍼 세정액 조성물 및 그를 이용한 세정방법	와이씨켐(주)	2020.02.26	2021.04.21	반도체 소재	대만

110	특허	(대만)리소그래피용 공정액 조성물 및 이를 사용한 패턴 형성 방법	와이씨켐(주)	2020.06.29	2021.05.01	반도체 소재	대만

111	특허	(일본)반사방지 코팅액 조성물 및 이를 이용한 반사방지 코팅막	와이씨켐(주)	2018.07.11	2021.05.10	반도체 소재	일본

112	특허	(미국)절삭유 조성물	와이씨켐(주)	2019.10.30	2021.05.11	반도체 소재	미국

113	특허	(싱가포르)포토리소그래피용 조성물 및 이를 이용한 포토레지스트 패턴의 형성방법	와이씨켐(주)	2016.06.03	2021.05.24	반도체 소재	싱가포르

114	특허	(싱가포르)반도체 패턴 형성을 위한 KrF레이저용 네가티브형포토레지스트 조성물	와이씨켐(주)	2018.01.09	2021.06.08	반도체 소재	싱가포르

115	특허	(미국)고내 에칭성 스핀온 카본 하드마스크 조성물 및 이를 이용한 패턴화 방법	와이씨켐(주)	2019.04.11	2021.06.15	반도체 소재	미국

116	특허	(일본)절삭유 조성물	와이씨켐(주)	2019.10.28	2021.06.16	반도체 소재	일본

117	특허	(대만)반도체 제조 공정에 있어서 실리콘 또는 실리콘 화합물 패턴을 형성하기 위한 신규 방법	와이씨켐(주)	2020.01.20	2021.07.11	반도체 소재	대만

118	특허	(대만)포토리소그래피용 공정액 조성물 및 이를 이용한 패턴 형성 방법	와이씨켐(주)	2020.06.29	2021.07.21	반도체 소재	대만

119	특허	(대만)실리콘산화막 연마용 슬러리 조성물 및 그를 이용한 연마 방법	와이씨켐(주)	2020.03.02	2021.08.11	반도체 소재	대만

120	특허	(대만)실리콘질화막 식각 조성물	와이씨켐(주)	2020.02.06	2021.09.21	반도체 소재	대만

121	특허	(중국)고해상도 및 고아스펙트비를 갖는 KrF 레이저용 네가티브형 포토레지스트 조성물	와이씨켐(주)	2020.03.02	2021.09.28	반도체 소재	중국

122	특허	(미국)EUV 감광성 포토레지스트 미세패턴 형성용 현상액 조성물	와이씨켐(주)	2018.03.22	2021.11.09	반도체 소재	미국

123	특허	(미국)네가톤 포토레지스트를 이용한 패터닝 공정에서 LWR 개선방법과 조성물	와이씨켐(주)	2017.04.26	2021.11.09	반도체 소재	미국

124	특허	(미국)네가톤 포토레지스트를 이용한 패터닝 공정에서 LWR 개선방법과 조성물	와이씨켐(주)	2017.04.26	2021.11.30	반도체 소재	미국

125	특허	(대만)고두께 스핀 온 카본 하드마스크 조성물 및 이를 이용한 패턴화 방법	와이씨켐(주)	2020.03.26	2021.12.11	반도체 소재	대만

126	특허	(미국)EUV 광원용 감광성 포토레지스트 미세패턴 형성용 현상액 조성물	와이씨켐(주)	2019.01.09	2021.12.14	반도체 소재	미국

127	특허	(싱가포르)고내에치성 스핀온 카본 하드마스크 조성물 및 이를 이용한 패턴화 방법	와이씨켐(주)	2017.10.12	2021.12.16	반도체 소재	싱가포르

128	특허	(일본)네가톤 포토레지스트를 이용한 패터닝 공정에서 LWR 개선 방법과 조성물	와이씨켐(주)	2017.04.26	2022.01.06	반도체 소재	일본

129	특허	(싱가포르)반사방지 코팅액 조성물 및 이를 이용한 반사방지 코팅막	와이씨켐(주)	2018.07.16	2022.01.31	반도체 소재	싱가포르

130	특허	(대만)EUV용 감광성 포토레지스트 미세패턴 형성용 현상액 조성물	와이씨켐(주)	2019.01.15	2022.03.01	반도체 소재	대만

131	특허	(중국)절삭유 조성물	와이씨켐(주)	2018.05.31	2022.03.08	반도체 소재	중국

132	특허	(미국) 포토레지스트 패턴 축소 조성물과 패턴 축소 방법	와이씨켐(주)	2017.06.20	2022.04.05	반도체 소재	미국

133	특허	(미국)반도체 제조 공정에 있어서 미세 실리콘 패턴을 형성하기 위한 신규 식각방법	와이씨켐(주)	2019.01.09	2022.04.26	반도체 소재	미국

134	특허	(중국) CMP용 슬러리 조성물 및 이를 이용한 연마방법	와이씨켐(주)	2019.01.09	2022.04.26	반도체 소재	중국

135	특허	(유럽_독일,이탈리아)고해상도 및 고아스펙트비를 갖는 KrF레 이저용 네가티브형 포토레지스트 조성물	와이씨켐(주)	2017.03.22	2022.05.04	반도체 소재	유럽

136	특허	(중국)화학증폭형 네가티브형 포토레지스트 조성물	와이씨켐(주)	2017.04.26	2022.06.28	반도체 소재	중국

137	특허	(중국)실리콘산화막 연마용 슬러리 조성물 및 그를 이용한 연 마방법	와이씨켐(주)	2020.03.02	2022.06.28	반도체 소재	중국

138	특허	(중국)포토레지스트 패턴 축소 조성물과 패턴 축소 방법	와이씨켐(주)	2017.06.20	2022.07.29	반도체 소재	중국

139	특허	(중국)실리콘질화막 식각 조성물	와이씨켐(주)	2020.02.10	2022.08.16	반도체 소재	중국

140	특허	(중국)고내에치성 스핀 온 카본 하드마스크 조성물 및 이를 이용한 패턴화 방법	와이씨켐(주)	2017.10.12	2022.09.02	반도체 소재	중국

141	특허	(대만)Center - Edge간 단차의 개선 및 LER 개선용 I-선용 네 가티브형 포토레지스트 조성물공정 마진 개선용 I-선용 네가 티브형 포토레지스트 조성물	와이씨켐(주)	2021.08.26	2022.09.01	반도체 소재	대만

142	특허	(대만)극자외선 포토 리소그래피용 공정액 조성물 및 이를 이용한 패턴 형성 방법	와이씨켐(주)	2021.08.04	2022.10.11	반도체 소재	대만

143	특허	(미국)극자외선 리소그래피용 공정액 조성물 및 이를 이용하는 패턴 형성 방법	와이씨켐(주)	2019.05.22	2022.10.18	반도체 소재	미국

144	특허	(중국) EUV용 감광성 포토레지스트 미세패턴 형성용 현상액 조성물	와이씨켐(주)	2018.03.22	2022.11.01	반도체 소재	중국

145	특허	(중국) EUV용 감광성 포토레지스트 미세패턴 형성용 현상액 조성물	와이씨켐(주)	2019.11.11	2022.11.01	반도체 소재	중국

146	특허	(미국) 반도체 제조 공정에 있어서 실리콘 또는 실리콘 화합물 패턴을 형성하기 위한 신규 방법	와이씨켐(주)	2020.01.17	2022.11.01	반도체 소재	미국

147	특허	(일본)반도체 제조 공정에 있어서 실리콘 또는 실리콘 화합물 패턴을 형성하기 위한 신규 방법	와이씨켐(주)	2020.01.17	2022.12.08	반도체 소재	일본

148	특허	(일본)반도체 웨이퍼 세정액 조성물 및 그를 이용한 세정방법	와이씨켐(주)	2020.02.10	2022.12.06	반도체 소재	일본

149	특허	(대만)텅스텐막에 대한 질화티타늄막의 식각 선택비를 조절하기 위한 식각액 조성물 및 이를 이용한 식각방법	와이씨켐(주)	2021.07.13	2023.01.11	반도체 소재	대만

150	특허	(일본)반도체 제조 공정에 있어서 식각 패턴 신규 형성 방법	와이씨켐(주)	2021.08.31	2022.12.22	반도체 소재	일본

151	특허	(미국)실리콘질화막 식각 조성물	와이씨켐(주)	2021.08.12	2023.01.17	반도체 소재	미국

152	특허	(일본)극자외선 리소그래피용 공정액 및 이를 사용한 패턴 형성 방법	와이씨켐(주)	2019.11.11	2023.01.18	반도체 소재	일본

153	특허	(중국)반도체 제조 공정에 있어서 미세 실리콘 패턴을 형성하기 위한 신규 식각방법	와이씨켐(주)	2019.11.12	2023.03.10	반도체 소재	중국

154	특허	(미국)화학증폭형 네가티브형 포토레지스트 조성물	와이씨켐(주)	2017.04.26	2023.02.21	반도체 소재	미국

155	특허	(중국)반도체 웨이퍼 세정액 조성물 및 그를 이용한 세정방법	와이씨켐(주)	2020.02.10	2023.04.25	반도체 소재	중국

156	특허	(일본)고두께 스핀 온 카본 하드마스크 조성물 및 이를 이용한 패턴화 방법	와이씨켐(주)	2020.03.25	2023.04.21	반도체 소재	일본

157	특허	(일본)극자외선 리소그래피용 공정액 조성물 및 이를 이용하는 패턴 형성 방법	와이씨켐(주)	2019.05.22	2023.04.27	반도체 소재	일본

158	특허	(일본)패턴 프로파일 개선용 화학증폭형 포지티브 포토레지스트 조성물	와이씨켐(주)	2019.05.22	2023.04.27	반도체 소재	일본

159	특허	(일본)실리콘질화막 식각 조성물	와이씨켐(주)	2020.02.10	2023.04.28	반도체 소재	일본

160	특허	(일본)실리콘산화막 연마용 슬러리 조성물 및 그를 이용한 연마방법	와이씨켐(주)	2020.03.02	2023.05.25	반도체 소재	일본