디엔에프 분기보고서 (2022.03)
5. 위험관리 및 파생거래

1. 금융위험관리

연결실체는 경영활동과 관련하여 신용위험, 유동성위험 및 시장위험 등 다양한 금융위험에 노출되어 있습니다. 연결실체는 금융위험이 경영에 미칠 수 있는 불리한 효과를 최소화하기 위해 노력하고 있습니다.1) 신용위험관리연결실체는 채무불이행으로 인한 재무적 손실을 경감시키기 위하여 신용도가 일정 수준 이상인 거래처와 거래하고 있습니다. 연결실체는 최초 거래시 신용등급 및 거래량을 확인하여 한도를 부여하고 있으며, 채무불이행 및 재고보유량을 확인하여 거래량을 조절하는 방법으로 신용위험을 최소하고자 노력하고 있습니다. 보고기간종료일 현재 회수기일이 경과하였으나 신용등급에 중요한 변동이 없고, 회수가능하다고 판단되어 대손충당금을 설정하지 않은 채권이 포함되어 있습니다. 연결실체는 이러한 채권에 대하여 담보를 설정하거나 기타 신용보강을 받고 있지 않으며, 거래상대방에 대한 연결실체의 채무와 상계할 법적 권리도 보유하고 있지 않습니다.(가) 금융상품 종류별 신용위험의 최대 노출금액은 다음과 같습니다.

(단위 : 천원)

구분	당분기	전기

장부금액	신용위험	내용	장부금액	신용위험	내용

최대노출금액	최대노출금액

매출채권	11,899,489	11,899,489	제품 등 재화의 공급에 따른 미회수대금	12,666,384	12,666,384	제품 등 재화의 공급에 따른 미회수대금

대여금	197,000	197,000	임직원단기대여금	313,750	313,750	임직원단기대여금

미수금	424,316	424,316	유무형자산및폐자재매각대금	161,213	161,213	유무형자산및폐자재매각대금

임차보증금	3,100	3,100	소액비품의 임차보증금	3,100	3,100	소액비품의 임차보증금

기타보증금	4,693,499	4,693,499	임직원기숙사보증금	4,670,579	4,670,579	임직원기숙사보증금

합계	17,217,404	17,217,404	17,815,026	17,815,026

2) 유동성위험관리연결실체는 미래의 현금흐름을 예측하여 단기 및 중장기 자금조달 계획을 수립하여 유동성위험을 관리하고 있으며, 당분기와 전기 중 금융부채의 잔존계약 만기에 따른 만기분석 내용은 다음과 같습니다. (단위 : 천원) 구분 장부금액 1개월이하 1개월~3개월 3개월~1년 1년~5년 5년초과 매입채무 및 기타채무 14,630,686 5,268,372 9,199,805 - 162,509 - 상환전환우선주부채 및 파생상품부채 7,937,984 7,937,984 - - - - 차입금 19,353,300 - 6,940,830 11,322,490 1,089,980 - 리스부채 329,795 19,484 38,411 130,838 141,062 - 합계 42,251,765 13,225,840 16,179,046 11,453,328 1,393,551 - (단위 : 천원) 구분 장부금액 1개월이하 1개월~3개월 3개월~1년 1년~5년 5년초과 매입채무 및 기타채무 11,464,452 7,521,997 3,806,502 - 135,953 - 상환전환우선주부채 및 파생상품부채 7,710,538 7,710,538 - - - - 차입금 19,414,130 1,700,000 7,060,830 9,502,490 1,150,810 - 리스부채 373,797 19,548 38,012 148,362 167,875 - 합계 38,962,917 16,952,083 10,905,344 9,650,852 1,454,638 - 3) 시장위험연결실체는 환율과 이자율의 변동으로 인한 시장위험에 노출되어 있습니다.(가) 외환위험관리① 보고기간종료일 현재 외환위험에 노출되어 있는 연결실체의 금융자산 및 금융부채의 내역의 원화환산 기준액은 다음과 같습니다. (단위 : 천원) 구분 당분기 전기 USD CNH JPY TWD USD CNH JPY TWD 금융자산 보통예금 3,123,819 - 31,475 - 120,024 - - - 매출채권 1,639,200 382,679 - 419,001 2,960,182 240,909 9,890 424,788 금융부채 매입채무 3,158,426 309,304 - - 7,106,499 108,765 - - ② 연결실체는 외화거래 수행에 따라 다양한 환율변동위험에 노출되어 있습니다. 당분기와 전기 중 주요 통화별 환율변동시 민감도 분석내용은 다음과 같습니다. (단위 : 천원) 구분 당분기 전기 10%상승 10%하락 10%상승 10%하락 USD 160,459 (160,459) (402,629) 402,629 CNH 7,338 (7,338) 13,214 (13,214) JPY 3,148 (3,148) 989 (989) TWD 41,900 (41,900) 42,479 (42,479) (나) 이자율위험관리연결실체는 고정이자율과 변동이자율로 자금을 차입하고 있으며, 이로 인하여 이자율위험에 노출되어 있습니다. 연결실체는 고정금리차입금과 변동금리차입금의 적절한 균형유지 정책을 수행하는 등 이자율위험을 관리하고 있으며, 당분기와 전기 중 이자율위험에 노출된 차입금 내용은 다음과 같습니다. (단위 : 천원) 구분 당분기 전기 차입금 19,353,300 17,914,130 합계 19,353,300 17,914,130 이자율 1% 변동시 민감도 분석내용은 다음과 같습니다. (단위 : 천원) 구분 당분기 전기 1%상승 1%하락 1%상승 1%하락 이자비용 146,698 (146,698) 135,789 (135,789) (다) 기타가격위험요소연결실체는 재무상태표 상 당기손익공정가치측정금융자산과 기타포괄손익공정가치측정금융자산으로 분류되는 지분증권의 가격위험에 노출되어 있습니다. 당분기말 현재연결실체의 시장성 있는 지분상품은 당기손익공정가치측정금융자산으로 분류되어 공정가치의 변동이 손익으로 반영되고 있으므로, 주가가 10% 상승(하락)하는 경우, 지분상품의 가격 변동이 연결실체의 법인세비용차감전순손익에 미치는 효과는 1,785,311천원(전기 : 1,775,311천원) 증가(감소)합니다. 2. 자본위험관리 연결실체의 자본관리 목적은 계속기업으로 영업활동을 유지하고 주주 및 이해관계자의 이익을 극대화하하고 자본비용의 절감을 위하여 최적의 자본구조를 유지하는데 있습니다. 연결실체는 배당조정, 신주발행 등의 정책을 통하여 자본구조를 경제환경의 변화에따라 적절히 수정변경하고 있습니다. 연결실체의 자본위험관리정책은 전기와 중요한 변동이 없습니다. (단위 : 천원) 구분 당분기 전기 부채총계 49,420,534 46,084,099 차감: 현금및현금성자산 14,496,361 13,264,918 순부채 34,924,173 32,819,181 자본총계 146,575,277 145,622,987 순부채비율 23.83% 22.54% 6. 주요계약 및 연구개발활동 1. 경영상의 주요계약 등 당사는 5G 이동 통신 사업 진출을 위해 전기/전자 분야 강소기업 100에 선정된㈜켐옵틱스의 주식 1,154,889주를 2020년 7월 1일에 인수하여 총발생주식 2,078,961주(우선주 222,000주 포함) 대비 50.2%지분율이며, 우선주를 금융부채로 분류함에 따라 지분율 55.6%를 기준으로 종속기업으로 편입하였습니다. 자세한 사항은 주요사항보고서(자기주식처분결정)(2020.06.15)와 타법인주식및출자증권취득결정(자율공시)(2020.06.15)을 참조하시기 바랍니다. ※ 당사는 2021년 7월 28일에 생산시설 증설 및 차세대 반도체 연구개발 목적으로 삼성전자(주)와 신주인수계약을 체결하였으며, 자세한 사항은 주요사항보고서(유상증자결정)(2021.07.28)와 증권발행결과(자율공시)(2021.08.11)를 참고하시기 바랍니다. ※ 당사는 기능성재료연구소에서 진행하던 고기능성 코팅제 사업집중을 위해 2021년 11월 25일에 (주)디엔에프신소재(지분율 100%)를 설립하였습니다. 2. 연구개발활동 가. 연구개발활동의 개요 당사는 급변하는 반도체 전자 재료시장에서 향후 사용 가능성이 있는 신규 물질 연구개발에 대한 연구 개발을 수행하고 있습니다. 나. 연구개발 담당 조직 당사에서는 최상의 성능과 품질을 보유한 제품을 개발하기 위하여 핵심기술 개발에 집중하는 것은 물론이고 사업영역의 확대와 미래기술 확보를 위하여 노력하고 있습니다. 연구개발 조직의 내용은 다음과 같습니다. 반도체 재료 연구소 선행기술연구센터 ◎ ALD/CVD Si 전구체 개발◎ ALD/CVD Metal 전구체 개발 ◎ 전구체 평가 및 ALD / CVD Process 개발 ◎ 차세대 OLED Display용 소재 개발◎ 차세대 고이동도 박막 트랜지스터용 소재 개발◎ 차세대 반도체용 Si 소재 개발◎ 차세대 반도체용 Metal 소재 개발 종속회사 (주)켐옵틱스 연구소 소자 개발 부서 다채널 가변광감쇠기, 파장가변 광송수신기 개발 재료 개발 부서 디스플레이용 가교제 및 반도체 재료 개발 종속회사 (주)디엔에프신소재 연구소 ◎ 연구1팀 ◎ 디스플레이용 눈부심 방지 코팅제 개발◎ 디스플레이 및 필름용 하드 코팅제 개발◎ 필름용 배리어 코팅제 개발 ◎ 저 굴절 및 고굴절 소재 개발 ◎ 연구2팀◎ 건물일체형 태양광(BIPV)컬러유리 코팅제 개발 ◎ 구리나노 입자 합성기술 개발 다. 연구개발 비용 당사의 최근 3년간 연구개발 비용은 다음과 같습니다. (단위 : 원) 과 목 제22기(당1분기) 제21기 (전기) 제20기 (전전기) 비 고 원 재 료 비 182,111,148 669,870,780 740,387,237 - 인 건 비 943,961,652 3,529,402,563 4,180,208,168 - 감 가 상 각 비 96,377,101 649,373,480 676,390,197 - 위 탁 용 역 비 0 - - - 기 타 383,692,602 4,545,932,678 2,597,272,648 - 연구개발비용 계 1,606,142,503 9,394,579,501 8,194,258,250 - 회계처리 판매비와 관리비 1,606,142,503 9,394,579,501 8,194,258,250 - 제조경비 - - - - 개발비(무형자산) - - - - 연구개발비 / 매출액 비율[연구개발비용계÷당기매출액×100] 4.85% 7.39% 8.62% - ※ 상기 자료는 한국채택국제회계기준(K-IFRS) 연결기준으로 작성되었습니다. 라. 연구개발 실적 연구과제 연구기관 개발완료 연구결과 및 기대효과 Al 전구체 개발 자체개발 2005.10 반도체 배선 박막재료로 매출 기여 ACL 소재 개발 자체개발 2007. 9 Hardmask 용 박막재료로 매출 기여 SOD 소재 개발 자체개발 2010.12 SOD 박막재료로 매출 기여 DPT용 소재 개발 자체개발 2012. 4 DPT 박막재료로 매출 기여 DRMA용 High-k 소재 개발 자체개발 2013. 8 DRAM Capacitor 용 박막재료로 매출 기여 Low-k 소재 개발 자체개발 2013.11 저온 Low-k 박막재료로 매출 기여 High-k metal gate용 소재 개발 자체 개발 2016.12 금속 실란계 화합물로 MSiO4 박막재료로 활용 기대 Si 산화막 및 질화막용 소재 개발 자체개발 2016. 2 실리콘 산화막 및 질화막 재료로 매출 기여(CSN series) Si 산화막 및 질화막용 소재 개발 자체개발 2017. 5 실리콘 산화막 및 질화막 재료로 매출 기여(DTDX series) High-k 용 소재 개발 자체개발 2017.12 High-k 용 박막재료로 매출 활용 기대(ZTA series) High-k 용 소재 개발 자체개발 2017.12 High-k 용 박막재료로 매출 활용 기대(HTA series) 다목적 Si 소재 개발 자체개발 2019.12 DPT 및 봉지재 박막 재료로 매출 기여(NSi series) 7. 기타 참고사항 1. 지 적재산권 보유현황 본 보고서 작성기준일 현재 49건 의 특 허권 을 취 득하여 보유하고 있으며 , 각 특허권의 상세 내용은 다음과 같습니다. 종 류 취득일 내 용 근거법령 취득소요현황 인력 기간 비용 전자재료 2005.09.07 반도체 박막 증착용 화합물 및 이를 이용한 박막 증착방법 특허법 4명 9월 2억 전자재료 2006.09.13 루테늄 박막증착용 전구체 및 이를 이용한 박막 증착방법 특허법 4명 1년3월 5억 전자재료 2007.09.04 게르마늄 화합물 및 그 제조 방법, 상기 게르마늄 화합물을 이용한 상변화 메모리 장치 및 그 형성방법(칩메이커와 공동연구) 특허법 5명 1년2월 4억 전자재료 2008.05.07 알루미늄 박막의 화학증착용 전구체 화합물 및 이의 제조방법 특허법 3명 2년 5억 전자재료 2010.05.10 신규한 텔루륨 박막 증착용 전구체 화합물 및 이를 이용한 텔루륨 박막 증착 방법 특허법 6명 2년3월 4억 전자재료 2010.05.10 신규 루테늄 화합물 및 이를 이용한 박막 증착 방법 특허법 6명 2년4월 5억 전자재료 2010.05.10 신규한 저머늄유도체 화합물 및 이의 제조방법 특허법 6명 1년7월 4억 전자재료 2011.06.02 알킬아미노실란의 제조 특허법 6명 1년10월 2억 전자재료 2012.08.23 폴리실라잔 처리 용제 및 이를 이용한 폴리실라잔 처리방법 특허법 8명 6월 1억 전자재료 2012.08.23 폴리실라잔 처리 용제 및 이를 이용한 폴리실라잔 처리방법 특허법 8명 6월 1억 전자재료 2014.01.24 알킬 징크 할라이드 산화아연 전구체 및 이를 이용한 산화아연계 박막 증착방법 (대기업 공동특허) 특허법 14명 2년 4월 1억 전자재료 2014.02.18 산화아연계 박막 증착용 전구체, 그 제조방법 및 이를 이용한 산화아연계 박막 증착방법(대기업 공동특허) 특허법 14명 2년 1억 전자재료 2015.05.07 접착제 조성물 및 그 조성물을 이용한 웨이퍼 본딩 방법 특허법 6명 2년 1억 전자재료 2015.11.10 지르코늄 산화물 박막 형성용 전구체 화합물, 이의 제조방법 및 이를 이용한 박막의 제조 방법 특허법 11명 2년 1억 전자재료 2015.12.29 신규한 중합체 및 이를 포함하는 조성물(대기업 공동특허) 특허법 11명 2년 1억 전자재료 2016.01.15 코발트 함유 박막의 제조방법 및 이에 따라 제조된 코발트 함유 박막 특허법 7명 2년 1억 전자재료 2016.02.29 신규한 아미노실릴아민 화합물, 이의 제조방법 및 이를 이용한 실리콘 함유 박막 특허법 9명 2년 1억 전자재료 2016.02.29 신규한 아미노실릴아민 화합물, 이의 제조방법 및 이를 이용한 실리콘 함유 박막 특허법 9명 2년 1억 전자재료 2017.03.16 실리콘 전구체를 포함하는 박막 증착용 조성물 및 이를 이용한 실리콘 함유박막의 제조방법 특허법 9명 2년 1억 전자재료 2017.03.21 신규한 트리실릴아민 화합물, 이의 제조방법 및 이를 이용한 실리콘 함유 박막 특허법 7명 2년 1억 전자재료 2017.05.08 붕소함유 화합물을 포함하는 조성물, 이를 이용하여 제조된 붕소함유 박막 및 이를 이용한 붕소함유 박막의 제조방법 특허법 5명 2년 1억 전자재료 2017.05.08 신규한 사이클로다이실라잔 화합물, 이의 제조방법 및 이를 이용한 실리콘 함유 박막 특허법 7명 2년 1억 전자재료 2017.05.24 붕소함유 전구체, 이의 제조방법 및 이를 이용한 붕소함유 박막 특허법 7명 2년 1억 전자재료 2017.06.02 게르마늄 유도체 함유 박막증착용 조성물, 이를 이용하여 제조된 게르마늄 함유 박막 및 이를 이용한 게르마늄 함유 박막의 제조방법 특허법 9명 2년 1억 전자재료 2017.07.14 실리콘 전구체 및 이를 이용한 실리콘함유 박막의 제조방법 특허법 8명 2년 1억 전자재료 2017.08.16 붕소함유 화합물을 포함하는 조성물, 이를 이용하여 제조된 붕소함유 박막 및 이를 이용한 붕소함유 박막의 제조방법 특허법 7명 2년 1억 전자재료 2017.08.17 실리콘 전구체 및 이를 이용한 실리콘함유 박막의 제조방법 특허법 7명 2년 1억 전자재료 2017.09.18 실리콘 전구체, 이의 제조방법 및 이를 이용한 실리콘 함유 유전막의 제조방법 특허법 7명 2년 1억 전자재료 2018.02.22 신규한 중합체 및 이를 포함하는 조성물 특허법 7명 2년 1억 전자재료 2018.05.08 신규한 트리실릴아민 화합물, 이의 제조방법 및 이를 이용한 실리콘 함유 박막 특허법 9명 2년 1억 전자재료 2018.06.29 신규한 아미노실릴아민 화합물, 및 원자층 증착법을 이용한 Si-N결합을 포함하는 절연막의 제조방법 특허법 9명 2년 1억 전자재료 2018.08.17 비정질 탄소막 및 이의 제거방법 특허법 4명 2년 1억 전자재료 2019.03.12 전이금속 화합물, 이의 제조방법 및 이를 포함하는 전이금속함유 박막 증착용 조성물 특허법 8명 2년 1억 전자재료 2019.07.25 신규한 아미노실릴아민 화합물, 이의 제조방법 및 이를 이용한 실리콘 함유 박막 특허법 9명 2년 1억 전자재료 2019.08.20 플라즈마 원자층 증작법을 이용한 실리콘 질화 박막의 제조방법 특허법 10명 2년 1억 전자재료 2019.10.11 금속 트리아민 화합물, 이의 제조방법 및 이를 포함하는 전이금속 함유 박막증착용 조성물 특허법 9명 2년 1억 전자재료 2019.10.15 코발트 함유 박막의 제조방법 및 이에 따라 제조된 코발트 함유 박막 특허법 6명 2년 1억 전자재료 2020.02.04 니켈 함유 박막의 제조방법 및 이에 따라 제조된 니켈 함유 박막 특허법 6명 2년 1억 전자재료 2020.03.19 규 소함유 유기금속 전구체 화합물, 이의 제조방법 및 이를 이용한 금속-규소 산화물 박막의 제조방법 특허법 7명 2년 1억 전자재료 2020.03.19 다이실릴아민 화합물을 포함하는 실리콘 함유 박막증착용 조성물 및 이를 이용하는 실리콘 함유 박막의 제조방법 특허법 10명 2년 1억 전자재료 2020.04.23 실리콘함유 박막증착용 조성물 및 이를 이용하는 실리콘 함유 박막의 제조방법 특허법 10명 2년 1억 전자재료 2020.04.23 실릴아민 화합물, 이를 포함하는 실리콘 함유 박막증착용 조성물 및 이를 이용하는 실리콘 함유 박막의 제조방법 특허법 10명 2년 1억 전자재료 2020.10.12 비스(아미노실릴)아민 화합물을 포함하는 실리콘 함유 박막 증착용 조성물 및 이를 이용하는 실리콘 함유 박막의 제조방법 특허법 9명 2년 1억 전자재료 2020.12.08 실리콘 함유 박막 증착용 조성물 및 이를 이용한 실리콘 함유 박막의 제조방법 특허법 10명 2년 1억 전자재료 2021.02.15 비스(아미노실릴)아민 화합물을 포함하는 실리콘 함유 박막 증착용 조성물 및 이를 이용하는 실리콘 함유 박막의 제조방법 특허법 9명 2년 1억 전자재료 2021.05.10 유기금속 전구체 및 이를 이용한 박막 형성 방법(대기업 공동특허) 특허법 3명 2년 1억 전자재료 2021.08.04 박막 내 금속 또는 금속 산화물을 포함하는 실리콘 금속 산화물 봉지막 및 이의 제조방법 특허법 13명 2년 1억 전자재료 2022.01.20 몰리브덴 함유 박막의 제조방법 및 이로부터 제조된 몰리브덴함유 박막 특허법 5명 3년 1억 전자재료 2022.03.08 루테늄함유 박막의 제조방법 및 이로부터 제조된 루테늄함유 박막 특허법 5 3년 1억 종속회사 (주)켐옵틱스는 광통신 부품 사업 및 전 자재료 사업과 관련하여 40건의 특허권을 취득하여 보유하고 있습니다. 종속회사 (주)디엔에프신소재는 기능성코팅 및 나노입자 사업과 관련하여, 9건의 특허권을 취득하여 보유하고 있습니다. 2. 환경 관련 사항 환경물질의 배출 또는 환경보호와 관련된 사항을 규제하는 정부규제의 준수에 대한 사항은 다음과 같습니다. 환경배출물질 법규 규제 사항 준수 사항 먼지, 염화수소, 황화합물 등 대기환경보전법 대기방지시설 (1차 흡착탑/1차 세정식 스크러버) 대기 자가측정 (월2회 측정 /배출허용기준 미만) COD, BOD, SS 등 수질 및 수생태계 보전에 관한 법 전량 위탁처리(월 발생량 20톤 미만) 비점오염원 저감설비 설치 수질 및 수생태계 보전에 관한 법 SS,먼지등 강우시 발생되는비점오염원 저감 후 배출 사업장 폐기물 폐기물 관리법 허가 받은 외부 재활용 처리업체 및 소각 처리 업체를 통한 전량 외주 처리 ※ 당사는 상기와 같은 법규 준수 및 아래와 같은 환경보호 활동을 능동적으로 대응하고 있습니다. - ISO14001 환경 인증 및 유지관리 - 녹색성장 기본법에 준하는 온실가스 인벤토리 구축 및 배출 감소 활동 - 폐기물 재활용화 사업을 통한 가치 창출 - 안전보건경영시스템 인증획득(ISO45001) - 종속회사 (주)켐옵틱스 환경배출물질 법규 규제 사항 준수 사항 먼지, 질소산화물 대기환경보전법 대기방지시설 (세정식 스크러버) 대기 자가측정 년2회 측정(5종 사업장) Ph, TOC, SS, n-H(광유), ABS, T-N, T-P, 생태독성 수질 및 수생태계 보전에 관한 법 전량 위탁처리(월 발생량 30톤 미만) 사업장 폐기물 폐기물 관리법 허가 받은 외부 재활용 처리업체 및 소각 처리 업체를 통한 전량 외주 처리 - 종속회사 (주)디엔에프신소재 환경배출물질 법규 규제 사항 준수 사항 COD, BOD, SS 등 수질 및 수생태계 보전에 관한 법 전량 위탁처리(월 발생량 5톤 미만) 사업장 폐기물 폐기물 관리법 허가 받은 외부 재활용 처리업체 및 소각 처리 업체를 통한 전량 외주 처리 3. 사업의 내용과 관련된 사항 가. 산업의 특성 및 성장성 반도체는 사물인터넷 시대를 맞아 대호황기를 겪고 있으며, 그에 따른 칩의 소형화, 경량화, 저전력화, 고용량화, 고속화 등의 수요 트랜드에 따라 공정, 장비, 소재 등의 변화로 다양한 다양한 기술 진보를 만들어내고 있습니다. 반도체용 정밀화학소재산업, 특히 반도체 제조의 핵심소재로 사용되는 증착용소재산업은 글로벌 시장에서 선전하고 있는 전방산업과 국산화 기술개발이 활발한 장비산업과 달리, 상당 부분의 시장을 미국, 유럽, 일본 기업들이 점유하고 있어 국내 반도체 제조 기업의 시장 경쟁력을 높이기 위해 지속적인 국산화 노력이 필요한 산업입니다. 시장조사회사 IC인사이츠(IC Insights)가 공개한 반도체 산업 최신 보고서를 통해 부문별 성장률과 함께 전 세계 반도체 매출이 향후 5년간 연평균(CAGR) 7.1% 성장할 것이라고 밝혔으며, 반도체 산업의 지속적인 성장이 예상됩니다. source _ ic insights.jpg Source _ IC Insights 종속회사 (주)켐옵틱스의 사업 영역인 통신시장은 크게 무선통신시장과 유선통신시장으로 나눌 수 있으며 부품-모듈-장비-서비스로 이어지는 수직적인 구조를 이루고 있습니다. 2019년부터 한국과 미국에서는 5G 상용화 서비스를 개시한 이후 5G 통신망 투자 수요에 따라 시장은 급격하게 성장하고 있으며 국내의 경우 2022년 전국망 구축까지 투자가 지속될 것으로 전망하고 있습니다. 또한 광통신 산업은 국가 인프라 산업으로서 국가정책 관련성이 크고 높은 신뢰성이 요구되는 기술 집약형 산업이라는 특성이 있습니다. 5G 통신망 구축에 따라 5G 통신 시장은 급속하게 성장하고 있습니다. 한국전자통신연구원(ETRI)에 따르면, 국내 5G 시장은 2020년 27억달러에서 2026년 381억달러로 약 10배 이상 시장규모가 성장할 것으로 예상하고 있으며 해외 5G 시장은 2020년 378억 달러에서 2026년 1조1588억 달러로 약 30배 가까이 시장규모가 성장할 것으로 예상하고 있습니다. 5G 통신망 구축은 무선뿐만 아니라 유선 네트워크 구조에도 변화를 가져오고 있으며, 10기가 인터넷 상용화, 대용량 광전송장비 확대 설치 등 유선 인프라의 고도화 작업도 진행되고 있으므로 향후 지속적인 성장을 기대합니다. 종속회사 (주)디엔에프신소재는 디스플레이 · 필름 , 건축·산업용 자재 , 자동차, 가전제품 등 다양한 제품의 표면 보호나 기능적 특성을 부여하기 위한 기능성 코팅소재 사업을진행하고 있습니다. 기능성 코팅은 본래의 제품에 화학적 기능이나 기계적 기능, 전기전자적 기능 그리고 광학적 기능을 추가함에 따라 제품의 고기능화를 가능하게 할 수 있고 부가가치를 높일 수 있도록 도와주고 있습니다. 기능성 코팅은 산업 전반에 다양한 분야에서 요구되고 있으며 연간 5.2%이상 성장하고 있습니다. 특히 눈부심방지, 반사방지, 수분투과방지, 절연, 고경도, 발수 등의 기능성 코팅이 주목받고 있으며, 적용소재들의 박막화, 슬림화 추세로 인하여 기능성코팅 시장은 향후 지속적인 성장이 예상됩니다. 나. 경기변동의 특성 및 계절성 미국과 중국의 무역분쟁으로 인하여 글로벌 변동성 확대로 불안감이 증가하였고, 코로나 19 바이러스 팬데믹으로 소비 감소로 이어저 이로 인한 영향으로 국제 정세의 영향이 작다고 할 수 없습니다. 하지만 5세대 이동통신, 자동차 산업 회복, 데이터센터 수요증가, 인공지능 등 4차 산업의 영향 및 코로나19로 재택근무와 원격수업 등 비대면 경제가 활성화되면서 반도체와 서버용 반도체 수요가 폭발적으로 증가했다. 이렇듯 반도체의 수요, 가격, 국제정세 등은 반도체용 소재 매출 상황에 큰 영향을 끼치는 중요한 요인들 입니다. 종속회사 (주)켐옵틱스의 사업 영역인 통신 시장의 투자계획은 비교적 장기계획을 통하여 이루어지기 때문에 타 산업에 비해 경기 변동에 의한 영향이 적은 편입니다. 반면 통신료 책정정책, 공공 주파수 경매, 방통융합정책, 통신 인프라 촉진정책 등 정부 정책과 통신망 교체 등 시장 상황에 따라 영향을 크게 받고 있습니다. 그럼에도 불구하고 인터넷 사용자나 모바일 데이터 통신의 수요는 꾸준히 증가하고 있기 때문에 장기적 관점에서는 4~5년을 주기로 신규 서비스에 대한 수요와 관련 투자가 지속적으로 발생하고 있습니다. 종속회사 (주)디엔에프신소재의 기능성 코팅 시장은 일반적인 단순 표면 보호 목적의 코팅 시장에 비해 경기 변동에 의한 영향은 작다고 할 수 있습니다. 기능성 부여는 신제품, 신기술이 개발될 때마다 니즈가 더욱 증가하는 추세이며, 적용 범위도 다양해지고 있습니다. 다. 국내외 시장 여건 당사의 주력 제품들은 메모리 반도체의 소자 형성에 사용되는 증착재료이므로, 메모리 반도체 경기를 바탕으로 변화하는 고객사의 사업전략에 영향을 받습니다. 2020년 초 전 세계를 강타한 코로나 19 바이러스 팬데믹은 쉽게 회복되지 않고 있고, 미국과 중국의 무역분쟁도 극에 달하며 시장의 급격한 위축을 불러 일으켰습니다. 이러한 위기 상황에서도 5세대 이동통신, 자동차 산업 회복, 데이터센터 수요증가, 인공지능 등 4차 산업의 영향으로 코로나 19 바이러스 팬데믹으로부터 부정적 영향을 덜 받았습니다. 종속회사 (주)켐옵 틱스의 사업 영역인 국내외 통신 시장에서는 5G 네트워크 인프라 투자 및 개발이 진행되고 있습니다. 국내는 2019년 4월 전 세계 최초로 5G 서비스를 상용화 했고 약 2090만명 가입자[과학기술정보통신부_2021년 12월 기준]를 돌파하며 빠르게 증가하고 있고 지속적으로 증가될 것으로 예상 합니 다. 국내외 주요 국가들도 5G서비스 상용화를 위해 경쟁적으로 네트워크 인프라 투자를 진행함에 따라 광부품의 수요 또한 빠르게 성장할 것으로 기대하고 있습니다. 코로나19의 영향으로 2020년~2021년 국내 통신 3사의 투자가 지연되고 있었으 나 앞 으로 5G 통 신 품질 이슈 해결 요구, 인공지능, 메타버스, 빅테이터 등 5G 융합서비스가 활발해질 것이므로 2022년 에는 5 G 투자가 본격적으로 이루어질 것으로 예상 합니 다. 종속회사 (주)디엔에프신소재 사업영역 중 눈부심방지,반사방지 코팅은 디스플레이 커버 글라스 시장, 특히 폴더블 모바일, 가전기기, 자동차 디스플레이 시장이 성장하면서 수요가 점차 증가할 것으로 기대하고 있습니다. 건물일체형태양광(BIPV)커버 글라스의 컬러코팅 소재는 정부의 그린뉴딜 친환경 정책에 따라 수요가 증가할 것으로 예상됩니다. 라. 회사의 경쟁우위 요소 당사는 분자설계 및 합성, 정제에 특화된 높은 기술력을 바탕으로 2003년부터 국내·외 반도체 제조 업체 및 장비 업체와 공동개발을 시작하였고, 이후 양산을 위한 자체적인 플랜트 및 초고순도 정제 설비의 구축, 생산공정 개발, 정밀분석 장비 및 방법의 개발, 품질관리 체계를 통한 신뢰성 구축, 자체 제품공급을 위한 영업네트워크 구축을 통하여 2005년부터 이들 공동개발 제품을 차례로 양산공정에 공급하고 있습니다. 당시, Al 배선재료를 시작으로 Hardmask용 ACL 재료, Gap fill용 SOD 재료 등의 순서로 제품을 다각화 하였으며, 특히 2012년 납품 시작한 DPT 재료는 현재까지 높은 시장점유율을 유지하고 있습니다. 2013년 하반기부터 본격적으로 공급 시작한 High-k 전구체는 DRAM 제조 공정의 핵심인 Capacitor용 재료로 DRAM 미세화에 중심적 역할을 하였고, 같은 해 공급 시작한 저온 공정용 SiO/SiN 재료는 V-NAND 양산에 따라 사용량이 점차 증가하여 향후, DPT 재료와 함께 당사 매출 성장의 든든한 버팀목이 될 것으로 예상되고 있습니다. 이처럼 당사는 글로벌 협력업체들과 진행하는 차세대 반도체 제조 공정용 재료 개발 프로젝트에 지속적이고 적극적인 참여로 선도기술에 대한 교류를 활발하게 진행하고 있으며, 그로 인해 진입 장벽이 높은 재료시장에서 매해 새로운 재료의 공급을 성공시키고 있습니다. 또한, 당사는 자체 연구개발에 대한 지속적인 투자를 통하여, 새롭게 창출되고 있는 다양한 반도체 재료시장에 앞서 대응하고 기존 제품의 지속적인 품질 향상을 위해 기업 연구소 산하 분야별 특화된 연구팀을 운영하여 새로운 소재개발 및 품질 향상을 위한 노력을 지속하고 있습니다. 종속회사 (주)켐옵틱스가 속해있는 광통신 산업의 특성상 제품에 대한 장기간의 높은 신뢰성을 요구하므로 이를 충족할 수 있는 기술력과 품질경쟁력이 가장 중요한 요소입니다. 또한 초기 개발 단계에서부터 광통신 장비의 요구 사항을 만족할 수 있는 고객 맞춤형 개발 역량과 고객 대응 역량도 중요합니다. 당사는 10년 이상 광통신 부품 개발 및 제조 경험과 역량을 갖추고 있으며 고객과의 긴밀한 협력 관계에서 신뢰를 확보하고 있습니다. 종속회사 (주)디엔에프신소재는 기능성 코팅 소재 합성, 배합 뿐만 아니라 코팅 물성 평가 까지 대응 가능한 역량을 갖추고 있습니다. 특히 박막화, 슬림화 추세에 대응 가능한 박막코팅 소재 및 코팅 기술을 보유하고 있습니다. 다수의 대기업 및 글로벌 업체들의 요구사항에 빠르게 대응하면서 신뢰와 협력 관계를 구축하고 있습니다. 마. 진행 및 향후 추진하려고 하는 사업 당사에서 기존 사업 외에 새로이 추진하고 있는 제품 및 사업 분야는 아래와 같습니다. 1) LT(Low-temp) SiN용 재료 기존 디바이스에서는 SiN을 형성하기 위해 고온의 공정이 필요하였으며, 이로 인해 후속 공정에서의 Diffusion(확산), Pore(빈공간) 생성등의 문제 점을 가지게 되었습니다. 이러한 문제를 해결하기 위해 LT(Low-temp) SiN의 개발이 지속적으로 요구되고 있었으나, 공정상 적용에 어려움이 있었습니다. 이에 당사에서는 지속적인 연구개발을 통해 LT(Low-temp) SiN 재료 개발을 성공하였고, 현재 양산에 사용되는 장비와 최적화 작업을 진행하고 있습니다. 2) 차세대 Hardmask 재료 Hardmask 재료는 적용 방법에 따라 CVD 공정에 사용되는 ACL(Amorphous Carbon Layer) 재료와 Spin coating 공정에 사용되는 SOC(Spin on Carbon) 혹은 SOH(Spin on Hardmask) 재료로 나누어집니다. 이러한 Hardmask 재료 역시 미세화에 따라 대두되는 수율 문제 해결을 위해 새로운 스펙의 다양한 재료 수요가 발생되고 있습니다. 당사는 이러한 수요에 대응하기 위해 차세대 Hardmask 재료 개발을 진행하고 있습니다. 3) 차세대 Metal 재료 Seed (Logic), Fill (Memory, Nand) 공정에서 미세화로 인하여, 기존 사용중인 아이템 대체 요구가 대두되고 있습니다. 이에 박막 특성 향상을 위한 차세대 Metal 재료 개발을 진행하고 있습니다. 글로벌 장비업체와 공동 개발 계약을 체결하였으며, 현재 고객사의 관심이 증가 되고 있습니다. 4) 디스플레이 소재 LCD 중심의 디스플레이 패널 시장이 OLED 중심으로 변해가고, 나아가 Flexible OLED 패널에 대한 수요가 증가하고 있습니다. 특히, 국내외 스마트폰 제조업체들이 신규 출시 스마트폰에 Flexible OLED 패널 적용 계획을 보도하고 있습니다. OLED 소재는 유연하여 Flexible에 적합하긴 하지만 수분과 산소에 약해 이를 보호하는 Barrier층이 적용되는데, 이 Barrier층은 유연성이 떨어지는 단점이 있습니다. 이를 극복하기 위한 재료 및 공정 개발이 활발하게 진 행되고 있으며, 당사 역시 해당 이슈를 해결하기 위한 재료 개발을 진행하고 있습니다. 4. 사업부문별 매출액, 영업이익, 자산 2022년 1분기 (주)디엔에프와 그 종속기업의 매출액, 매출비중, 영업이익, 영업이익 비중은 다음과 같습니다. 사업부문 구체적인 용도 매출액(천원) 비중(%) 영업이익(천원) 영업이익비중 (주)디엔에프[반도체] - DPT 제품 : DPT 제품(Double Patterning Tech.용 소재)- HCDS 제품 : HCDS 제품LT(Low-temp) SiO/SiN용 소재- High-k 제품 : 캐패시터 유전막용 소재- ACL 제품 : 식각공정에 사용되는 하드마스크필름용 소재- 확산방지막 제품 : 확산방지막용의 소재- 연구(High-k, Low-k, Metal 소재 등)제품- 나노 및 기능성코팅 재료 등 23,789,169 71.9% 3,384,473 89.0% (주)켐옵틱스[광통신 소 자] - 가변광감쇠기- 광스위치- 광송수신기- 파장분할다중화기- 광재료 및 전자재료 9,296,639 28.1% 419,823 11.0% 합 계 33,085,808 100.0% 3,804,296 100.0% ※ 주요제품에 대하여는 '고객과의 계약에서 생기는 수익' 인식에 있어 회사의 재무제표는 K-IFRS 제1115호 '고객과의 계약에서 생기는 수익'을 적용하여 작성되었으며, 연결기준으로 작성하였습니다. ※ 상기 표 에 기재된 매 출 액 은 2 022 년 1 월 1일 부 터 2022년 03월 31 일 까지 의 거 래 내역 을 기준으로 작성 되었습니다. 또한, 연결과정에서 발생한 무형자산(고객관계,로얄티)의 상각액은 DNF의 별도 영업이익에서 차감하였습니다. 2022년말 (주)디엔에프와 그 종속기업의 자산과 그 비중은 다음과 같습니다. (단위 : 백만원) [(주)디엔에프-반도체 등] 구 분 토지 건물및구축물 기계장치 건설중인자산 기타유형자산 계 비중(%) 기초 기초장부금액 25,836 16,154 8,856 5,114 4,928 60,888 82.05% - 취득원가 25,836 21,705 33,912 5,114 20,089 106,656 81.73% - 감가상각누계액(손상 포함) 0 (5,551) (25,056) 0 (15,161) (45,768) 81.32% 증감 일반취득 및 자본적지출 0 0 1,214 (91) 747 1,870 66.38% 감가상각 0 (185) (609) 0 (285) (1,079) 76.09% 처분ㆍ폐기ㆍ손상 0 0 0 0 0 0 0.00% 기타 0 0 0 0 (1) (1) 0.00% 기말 기말장부금액 25,836 15,969 9,461 5,023 5,390 61,679 81.58% - 취득원가 25,836 21,705 33,648 5,023 20,766 106,978 81.19% - 감가상각누계액(손상 포함) 0 (5,736) (24,187) 0 (15,376) (45,299) 80.66% 기말장부금액 비중(%) 82.10% 83.79% 70.74% 84.69% 93.30% 81.58% [(주)켐옵틱스- 광통신소자] 구 분 토지 건물및구축물 기계장치 건설중인자산 기타유형자산 계 비중(%) 기초 기초장부금액 5,633 3,115 3,849 311 414 13,322 17.95% - 취득원가 5,633 4,010 12,556 311 1,324 23,834 18.27% - 감가상각누계액(손상 포함) 0 (895) (8,707) 0 (910) (10,512) 18.68% 증감 일반취득 및 자본적지출 0 0 347 597 3 947 33.62% 감가상각 0 (25) (283) 0 (31) (339) 23.91% 처분ㆍ폐기ㆍ손상 0 0 0 0 0 0 0.00% 기타 0 0 0 0 1 1 0.00% 기말 기말장부금액 5,633 3,090 3,913 908 387 13,931 18.42% - 취득원가 5,633 4,010 12,903 908 1,338 24,792 18.81% - 감가상각누계액(손상 포함) 0 (920) (8,990) 0 (951) (10,861) 19.34% 기말장부금액 비중(%) 17.90% 16.21% 29.26% 15.31% 6.70% 18.42% ※ 주요 유형자산에 대한 시가는 객관적인 시가 판단이 어려워 기재를 생략했습니다.※ 기타는 환율변동에 의한 증감액 효과 등을 포함하고 있습니다.※ 기말장부금액 비중 및 비중은 반도체((주)디엔에프신소재포함) 와 광통신소자에 대한 비중입니다. 5. 조직도 (주)디엔에프 조직도(20220101).jpg (주)디엔에프 조직도(20220101)