엘오티베큠 사업보고서 (2022.12)
7. 기타 참고사항

[산업의 특성] 회사가 영위하고 있는 산업은 진공산업이나 고객 기준에 의한 분류 시 반도체, 태양광, 디스플레이, 일반제조용산업 등이 당사가 속해 있는 산업이라고 할 수 있습니다. 가. 진공산업 산업의 이해를 위해 펌프, 진공이라는 핵심어를 통해 당사가 속한 진공산업을 설명할 수 있습니다. 우선펌프라 함은 (1) 유체(fluid, 기체 또는 액체)를 끌어올리거나, 이동시키거나 그 압력을 증가시키는 장치 또는 (2) 기체를 제거함으로써 밀폐된 공간에 진공을 만드는 장치를 말합니다. [Pump : device to lift, transfer, or increase the pressure of a fluid (gas or liquid) or to create a vacuum in an enclosed space by the removal of gas. (Columbia Encyclopedia, Sixth Edition, Copyright(c)2005)] 전자의 펌프는 인간의 심장, 용수용 펌프, 레미콘의 펌프 등 일상생활에서 흔히 볼 수 있는 장치들이며, 후자의 펌프는 전혀 새로운 개념의 펌프로서 진공산업의 발전의 결과라고 할 수 있습니다. 진공이란, 이론적으로 물질이 전혀 존재하지 않은 공간 이지만, 완전한 진공은 아직 인공적으로 도달하지 못한 실정이며, 현재 최고진공 기록은 1㎤ 당 100,000개 이하의 기체 분자 상태입니다.[Vacuum : theoretically, space without matter in it. A perfect vacuum has never been obtained; the best man-made vacuum contain less than 100,000 gas molecules per cc, compared to about 30 billion billion (30*10^18 ) molecules for air at sea level. (Columbia Encyclopedia, Sixth Edition, Copyright(c)2005)] 참고로 대기상태에는1㎤당 약 30*10^18 의 기체분자가 있으며 현실적으로 진공을 정의하면 기체압력이 대기압보다 낮은 상태[Vacuum : the condition of a gaseous environment inwhich the gas pressure is below atmospheric pressure (AVS Dictionary of Terms, Copyright(c) 1980)]라고 설명할 수 있습니다. 진공의 상태는 공간의 절대압력, 즉 기체분자 밀도가 줄어듦에 따라 저진공, 중진공, 고진공, 초고진공 및 극고진공영역으로 표현됩니다. 오늘날 진공기술은 정밀과 청정을 요구하는 모든 산업 및 연구활동에 걸쳐 응용되어 이러한 산업의 인프라를 제공하는 산업이라고 할 수있으며, 이를 정리하면 다음과 같습니다. 분류>

구 분	압력(Pa)	응용분야

저진공	100 Pa 이상	기계공학, 식품공학

중진공	100 - 0.1 Pa	전자공학, 광학, 직공야금

고진공	0.1 -10-5Pa	반도체, 레이저 광학

초고진공	10-5 - 10-8Pa	반도체, 신소재, 가속기, 우주과학, 표면과학

극고진공	10-8 Pa이하	우주과학, 차세대소자, 소립자연구

(출처 : 사단법인 한국진공연구조합, 진공산업 Journal , 2001. 6월호)주1) pascal(Pa) : 1표준기압은 101,325 Pa주2) Torr = 133.322 Pa, 1 표준기압의 760분의 1 나. 반도체, 디스플레이, 태양광 산업 당사가 속해 있는 주요 산업은 반도체 산업으로 반도체산업은 크게 소자산업, 장비산업, 원재료산업으로구분할 수 있으며 당사가 속해있는 세부산업은 장비산업으로 장비산업은 전공정장비, 후공정장비 및 검사장비로 분류할 수 있습니다. 이 중 전공정장비는 대부분 진공장비로서 진공펌프를 장착하고 있으며,공정 미세화에 따라 후공정장비 또한 진공펌프가 장착되고 있습니다.진공은 진공펌프를 통해서 얻을 수 있으므로 진공기술의 핵심은 진공펌프에 있습니다. 반도체 공정에서는 진공펌프 중 건식진공펌프와 터보분자펌프가 주로 사용되는데, 고진공펌프는 대기압에서는 작동이 되지 않으므로 중진공의 환경을 제공하는 건식진공펌프가 기초펌프(Roughing pump)로서 필요합니다. 반도체 제조공정은 대부분 진공상태에서 진행되기 때문에 반도체장비 자체가 하나의 진공시스템이라고볼 수 있으며, 공정의 특성에 맞는 진공도를 유지하는 것이 반도체의 생산성과 직결됩니다. 또한, 반도체제조라인은 그 공정이 다른 일반산업의 공정보다 복잡하고 난이도가 높으며 대규모의 자본이 투하되고 펌프의 수요도 일반산업에 비해 월등히 크므로 "반도체 제조용 진공펌프 시장"이라는 하나의 개별시장을형성하고 있습니다. 반도체 제조공정과 유사한 디스플레이, 태양광산업 등에서도 대부분의 전공정장비가 진공장비이기 때문에 진공펌프를 요하고 있습니다. [산업의 성장성] 당사가 속해있는 산업은 진공(Vacuum)산업으로 진공기술은 인위적으로 진공상태를만들어 그 안에서 실험과 생산이 가능하게 하는 기술로, 산업과 과학기술 발전의 밑바탕을 제공하는 인프라 기술이라 할 수 있습니다. 즉, 진공 상태가 되면 대기압에서는 얻지 못하는 여러가지 유용한 환경이 만들어지는데 진공기술은 식의약 산업에서부터 광학코팅, 반도체, 디스플레이, 표면과학, 나노과학, 핵융합, 우주과학 등 첨단기술 개발도구를 제공합니다. 미래의 진공기술은 나노기술, 정보통신기술, 우주기술 등 미래를 열어갈 차세대산업의 바탕 환경과 도구를 제공하는 기술로서 인류의 새로운 도전을 가능하게 하는 산업입니다.현재 당사가 주력으로 하고 있는 산업분야는 반도체 산업으로 반도체 산업 중에서도 전공정 장비시장을주요 목표시장으로 하고 있습니다. 반도체 제조공정 중 전공정은 거의 모든 공정이 진공상태에서 이루어지므로 반도체 장비 자체가 하나의 진공시스템이라고도 볼 수 있으며 진공펌프를 전공정장비의 핵심장비라고 할 수 있는데, 이러한 이유는 공정의 특성에 맞는 진공도의 유지가 생산성과 직결되기 때문입니다. 반도체 산업에서의 펌프는 타산업보다도 월등히 많은 펌프의 수요를 요구하고 있으며 공정 또한 타산업의 공정보다 어렵고 복잡한 특성으로 반도체용 진공펌프시장이라는 차별화된 큰 개별시장을 형성하고 있습니다. 반도체 산업외에 공정특성이 유사한 TFT-LCD 산업과 차세대 디스플레이인 OLED 시장 그리고 친환경 대체에너지 시장인 Solar-Cell시장 및 LED 시장, 코팅, 가스, 철강 등 일반산업 분야도 당사의 목표시장군에 속합니다. 더불어 기존의 습식제품을 사용하고 있던 화학, 철강, 식품, 제약 등의 일반산업 시장으로도 당사 제품의시장이 다변화, 확대가 가능할 것으로 보고 있습니다. 근래들어 환경오염에 대한 관심이 증대되고 탄소배출권 등의 환경규제가 잇달아 발의됨에 따라 환경오염의 우려가 있는 습식진공펌프(Oil-Pump) 대신 친환경 제품인 건식진공펌프의 수요가 증가할 것으로 예상되기 때문입니다. [경기변동의 특성] 반도체 장비용 진공펌프 시장은 반도체 소자업체들의 시설투자 계획에 따라 변동요인이 발생할 수 있습니다. 신규라인의 증설 외에 기존 펌프의 노후화 및 진부화에 따른 교체, 보완투자가 지속적으로 이루어지고 있어 반도체용 진공펌프 시장은 소자업체들의 시설투자계획의 영향은 받지만일반적인 경기변동에 따른 변동성이 크지 않은 시장이라고 할 수 있습니다. [국내외시장여건] 반도체를 비롯한 디스플레이, 태양광산업용 진공펌프시장은 당사를 제외하고는 모두 외국계 기업이 제품공급을 하고 있으며, 당사를 포함한 외국계 업체들은 업체별로 진공펌프의 제품군이 차이가 있고, 동일 제품군이라도 공정별로 시장이 세분화, 차별화되어 있어 각 업체별로 특화된 제품을 가지고 시장에 진출해 있고 각 개별업체간 특화된 시장으로 구분되어 있습니다. 진공펌프시장 중 당사가 속해있는 건식진공펌프시장은 전체의 약 70%로 가장 큰 시장이며, 다음으로 터보분자펌프시장이 약 25%, 크라이오펌프시장이 약 5%의 시장크기를 가지고 있습니다. [회사의 경쟁우위요소] 반도체, 디스플레이 등 고난이도의 공정에 투입되는 진공펌프의 기술은 스웨덴, 독일, 일본에서 주요기술을 보유하고 있어 당사 이외의 국내업체는 기술력 등의 진입장벽으로 인하여 진입하지 못하고 있습니다. 당사는 건식진공펌프의 성능과 제품신뢰성을 확보하기 위한 핵심기술중 하나인 screw 및 다양한 회전체 형상설계 기술을 포함한 다수의 핵심기술을 자체적으로 보유하고 있으며, 기 보유하고 있는 Multi-Type의 Hybrid Screw 메커니즘에 대한 특허를 확보하여 세계의 유수한 외국 선두업체들과 대등한 경쟁을 하고 있고, 반도체 산업에서 가장 미세하고 공정의 난이도가 어려운 Harsh한 공정에서는 검증된 기술력과 제품력으로 당사가 기술우위에 있습니다또한 당사가 판매하는 제품의 시장(고객)은 판매 후 메인 장비와의 어플리케이션과 기술지원이 반드시 필요하므로 사후관리가 매우 중요하다고 할 수 있습니다. 이에 당사는 24시간 Full 대응 서비스 지원체제를 유지하여 타사와는 차별화된 서비스 경쟁력을 유지하고 있습니다.

[향후 추진하려는 신규사업] 1) 반도체 산업 최근 반도체시장은 메모리 및 비메모리 반도체가 동반 성장하면서 지속적인 성장이 예상되고 있습니다.메모리 반도체시장은 스마트폰 업황회복과 서버용 등 고용량 메모리 수요가 지속되고 있으며, 비메모리 반도체시장도 자율주행차, 사물인터넷 등 신성장산업이 확대되고 있습니다. 또한 기존과 다른 양적 중심에서 질적 중심의 성장으로 프리미엄 스마트폰 및 서버 제품의 고성능, 고용량와 자동차, 가전 등 기존산업과 정보통신기술의 융합 트랜드에 따른 사물인터넷용 반도체가 향후 반도체시장을 견인할 것으로 전망되고 있습니다. 당사는 급변하는 시장의 요구와 다양한 고객의 Needs를 반영한 제품을 개발하여 시장을 확대하였으며, 지속적인 수주를 바탕으로 견조한 성장을 이룩할 것으로 기대하고 있습니다. 2) 디스플레이 산업 디스플레이시장의 대형패널시장은 해외업체의 산업발전을 위한 정부지원 정책하에 신규 설비투자 및 기술개발이 지속되고 있으며, 중소형 패널시장도 국내 외 업체의 스마트폰용 OLED의 수요확대 및 자동차용 디스플레이가 꾸준한 성장세가 이어지고 있습니다. 당사는 급변하는 시장의 요구에 대한 탄력적인 대응과 미래의 시장에 대한 한 발 앞선 대비를 위하여 지속적이고 공격적인 투자가 진행되어 다양한 고객의 Needs를 반영한 당사의 차세대 제품이 시장에 출시되고 있으며, 성공적으로 진행 될 경우 디스플레이 부분에서 향후 매출 및 이익 증대에 큰 기여를 할 것으로 기대하고 있습니다. 3) 태양광 산업 태양광 산업은 미래에 대한 친환경 대체에너지로 많은 관심을 받고 있고, 또한 정부에서 적극적으로 지원을 하고 있어 앞으로 태양광 시장의 큰 폭의 성장을 예상하고 있습니다. Solar cell 제조기술은 전세계적으로 그 기술을 인정받고 있는 반도체 및 디스플레이 기술과 유사하여, 이미 기술 개발 및 산업화에 필요한 인프라를 충분히 갖추고 있으므로, 이를 충분히 활용한다면 매우 유리한 산업으로 성장할 수 있다고 판단됩니다. 당사는 시장의 요구와 다양한 고객의 Needs를 반영한 제품을 개발하여 시장을 확대하고있으며, 성공적으로 진행 될 경우 태양광 산업부분에서 향후 매출 및 이익 증대에 큰 기여를 할 것으로 기대하고 있습니다.반도체 및 디스플레이의 수요확대 대비한 대규모 투자는 지속될 것으로 보이며, 그간 진행된 투자의 영향으로 산업현장에 설치된 부품 및 장비대수가 증가하여 관련된 교체수요도 늘어날 것으로 예상됩니다. 반도체, 디스플레이 공정과 관련하여 생산성 향상을 위한 선폭의 미세화 등으로 인한 세부공정투자의 증가로 시장 확대되고 있는 추세입니다. 당사는 다양한 산업시장에 고객의 Needs를 반영한 제품을 끊임없이 연구개발하고 있으며, 우수한 성능과 신뢰성을 인정 받아 향후 해외시장 진출을 위해 제품 다양화를 준비하고 있습니다. 하기에 작성된 개발제품은 주요 특징이 변동됨에 따라 신규사업명은 변경 될 수 있습니다. [신규개발 제품내역]

가) RD300(사업 분야 및 진출 목적)

반도체 소자 제조공정 등에서 수소가스의 사용량 증가로 Light Gas에 대한 배기 특성이 향상된 진공펌프 기술 및 제품에 대한 필요성이 증가되고 있으며, 이에 대해 대응으로 Light Gas Handling 달성하고, 50,000L/min급 시장까지 진입을 목적으로 함.

(주요 특징)

300㎥/h 급 배기용량과 다단 구조의 루츠(Multi Stage Roots) 설계를 적용하여 Light Gas에 대한 배기 성능특성을 향상시키기 위한 목표로 개발이 진행 되었으며, 높은 내 식성 및 공정 부산물 처리능력 향상,온도가변으로 유연한 온도제어 가능 등을 주요 특징으로 하고 있음

나) 다단 Booster(사업 분야 및 진출 목적)

현재 다양한 진공 산업 시장에서 필요로하는 대 유량 및 Light Gas 배기 시장에 대응하기 위함이며, 다단 Booster를 이용 압축 비 개선하여 효율 향상 및 Light Gas Handling 향상하여 시장 진입을 목적으로 함

(주요 특징)

배기량과 배기 기체 압축 효율 향상시키고 Light Gas Handling 향상 목표로 개발이 진행 됨.

다) HD5500 및 HD7500(사업 분야 및 진출 목적)

현재 진공 시장에서 요청 되어지는 대 유량 시장 대응이며, 압축효율성을 향상시킨 설계가 적용된 다단 부스터와, 압축 비 개선 및 최적화를 통해 확보된 조합형 진공펌프로 80,000~100,000L/min급 시장까지 진입을 목적으로 함.

(주요 특징)

5,000~7,000㎥/h 급의 다단구조의 부스터(Booster) 적용으로 배기량과 배기 기체 압축 효율을 향상시켜 대 유량 처리 능력 향상 목표로 개발이 진행됨.

[그 밖에 투자의사결정에 필요한 사항]

가. 회사의 상표, 품질, 기술인증 사항 당사 주요제품군의 상표명은 Dura Dry로 2003년 12월 8일 특허청으로부터 상표등록증을 보유하고 있습니다. 이 외에 2008년 6월 EcoSL, EcoScrew 라는 브랜드로 국내 및 해외(유럽, 미국, 중국, 대만 등) 출원하였습니다. 또한, 회사는 제품의 품질 및 기술과 관련된 각종 인증을 보유하고 있으며, 특히 당사에서 개발, 생산, 판매하는 모든 제품에 미국 제품 안전 인증인 SEMI-S2, 유럽 제품안전 인증인 CE(European Communities)의 인증을 받았습니다. 나. 지적재산권 보유현황 회사가 영위하는 사업과 관련하여 다수의 특허권을 취득하여 보유하고 있으며, 주요 특허권에 대한 사항은 다음과 같습니다.

순번	구분	취득일자	내용	상용화 여부

1	특허권	2005.06.20	루츠형 로터와 스크루형 로터를 지닌 복합 드라이 진공펌프	상용화

2	특허권	2006.06.12	루츠로터와 스크류로터 복합건식 진공펌프	상용화

3	특허권	2006.09.11	복수 단의 루츠형 로터와 스크루형 로터를 지닌 복합드라이 진공 펌프	상용화

4	특허권	2006.11.10	루츠 로터와 스크루 로터 복합건식진공펌프	상용화

5	특허권	2007.06.07	Al-CVD 공정으로부터의 공정부산물을 트래핑하기 위한방법 및 장치	상용화

6	특허권	2007.08.14	Al₂O₃ ALD 공정 시스템의 배기 경로에서의공정부산물을 포집할 수 있는 트랩장치	상용화

7	특허권	2008.02.27	일체형 진공발생장치	상용화

8	특허권	2008.05.14	Composite dry vacuum pump having roots rotor and screw rotor	상용화

9	특허권	2008.08.25	루츠 로터와 스크루 로터 복합건식진공펌프	상용화

10	특허권	2009.03.04	Composite dry vacuum pump having roots rotor and screw rotor	상용화

11	특허권	2009.08.21	가장자리 자속을 이용한 전동기 회전자 위치 측정 방법 및 시스템, 이를 위한 홀센서 지지 구조	상용화

12	특허권	2009.11.03	Complex dry vacuum pump having Roots and screw rotors	상용화

13	특허권	2010.05.25	Composite dry vacuum pump having roots rotor and screw rotor	상용화

14	특허권	2011.03.30	Complex dry vacuum pump having Roots and screw rotors	상용화

15	특허권	2012.09.13	플라즈마 반응기	상용화

16	특허권	2012.11.14	INTEGRATED APPARATUS FOR VACUUM PRODUCING	상용화

17	특허권	2012.11.28	Complex dry vacuum pump having Roots and screw rotors	상용화

18	특허권	2013.01.31	배기 유체 처리 장치	상용화

19	특허권	2013.05.16	트랩 장치	상용화

20	특허권	2013.08.23	트랩 장치	상용화

21	특허권	2013.09.01	Composite dry vacuum pump having roots rotor and screw rotor	상용화

22	특허권	2014.01.08	금속성 부산물의 제거를 위한 방법 및 진공 시스템	상용화

23	특허권	2014.05.21	Complex dry vacuum pump having Roots and screw rotors	상용화

24	특허권	2014.12.31	입자 포집용 트랩장치	상용화

25	특허권	2015.07.29	공정설비에서 발생되는 배기가스 처리 플라즈마 반응기	상용화

26	특허권	2015.07.29	공정설비에서 발생되는 배기가스 처리 플라즈마 반응기	상용화

27	특허권	2015.10.20	공정설비에서 발생되는 배기가스 처리 플라즈마 반응기	상용화

28	특허권	2015.10.27	공정설비에서 발생되는 배기가스 처리설비	상용화

29	특허권	2015.11.03	공정설비에서 발생되는 배기가스 처리 플라즈마 반응기	상용화

30	특허권	2015.11.27	공정설비에서 발생되는 배기가스 처리 플라즈마 반응기	상용화

31	특허권	2016.04.06	공정설비에서 발생되는 배기가스 처리 플라즈마 반응기	상용화

32	특허권	2016.10.26	Method and vacuum system for removing metallic by-products	상용화

33	특허권	2016.11.15	APPARATUS FOR PROCESSING EXHAUST FLUID	상용화

34	특허권	2016.12.07	APPARATUS FOR PROCESSING EXHAUST FLUID	상용화

35	특허권	2017.01.01	Plasma reactor for purifying exhaust gas of the process facility	상용화

36	특허권	2017.04.25	공정설비에서 발생되는 배기가스 처리 플라즈마 반응기	상용화

37	특허권	2017.09.01	공정설비에서 발생되는 배기가스 처리 플라즈마 반응기	상용화

38	특허권	2018.03.07	고유량의 퍼플루오르화합물(PFCs) 가스 저감을 위한 나선형 플라즈마 챔버	상용화

39	특허권	2018.03.21	LOW-PRESSURE PLASMA REACTION DEVICE FOR TREATING EXHAUST FLUID	상용화

40	특허권	2018.07.01	Facility for purifying exhaust gas which is generated in processing plasma reactor	상용화

41	특허권	2018.08.15	APPARATUS FOR PROCESSING EXHAUST FLUID	상용화

42	특허권	2019.03.06	플라즈마 반응을 이용한 유해가스 처리기를 구비하는 배관 장치 및 이를 포함하는 유해가스 처리설비	상용화

43	특허권	2019.10.16	유해가스 처리기를 구비하는 배관 장치 및 이를 포함하는 유해가스 처리설비	상용화

44	특허권	2019.10.24	유해가스 처리기를 구비하는 배관 장치와 이의 설계 방법	상용화

45	특허권	2019.10.30	플라즈마 반응기의 전극 구조물 및 이를 구비하는 유해가스 처리용 플라즈마 반응기	상용화

46	특허권	2020.01.14	플라즈마 반응과 촉매를 이용한 유해가서 처리장치	상용화

47	특허권	2020.02.10	반도체 제조설비용 배기 장비 및 이를 이용한 배기관 내 파우더 침적 방지 방법	상용화

48	특허권	2020.02.20	반도체 제조 장비의 파우더 포집 장치	상용화

49	특허권	2020.03.26	하이브리드 시일을 사용한 배관 장치 및 이를 포함하는 유해가스 처리 설비	상용화

50	특허권	2020.05.29	마모 발생을 방지하는 진공펌프	상용화

51	특허권	2020.09.08	배기가스 처리용 유도결합 플라즈마 발생장치 및 이를 위한 점화 시스템	상용화

52	특허권	2020.09.21	반도체 제조설비용 배기라인 파우더 퇴적 상태 모니터링 장치	상용화

53	특허권	2020.11.06	사이클론 분산장치	상용화

54	특허권	2020.11.06	과 압축 발생을 방지하는 진공펌프 하우징 및 이를 포함한 진공 펌프	상용화

55	특허권	2020.11.06	마모 발생을 방지하는 진공펌프	상용화

56	특허권	2021.01.12	반도체 제조설비용 배기관 세정을 위한 배기장비의 운영방법	상용화

57	특허권	2021.04.21	PIPING APPARATUS HAVING HARMFUL GAS TREATMENT DEVICE, DESIGN METHOD THEREFOR, AND HARMFUL GAS TREATMENT FACILITY COMPRISING SAME	상용화

58	특허권	2021.05.20	반도체 제조설비용 배기 장비 및 이를 이용한 배기관 내 파우더 침적 방지 방법	상용화

59	특허권	2021.05.31	반도체 제조설비용 보조 배기가스 정화장치	상용화

60	특허권	2021.06.10	반도체 제조설비용 배기가스 처리 장비	상용화

61	특허권	2021.09.01	반도체 제조설비용 배기관 세정을 위한 배기장비의 운영방법	상용화

62	특허권	2021.09.08	사이클로덱스트린계 분지형 고분자 및 이를 포함하는 생분해성 수지 조성물	상용화

63	특허권	2021.11.16	유도결합 플라즈마용 플라즈마 반응기 및 이의 조립 방법	상용화

64	특허권	2022.03.28	유도결합 플라즈마 반응기 및 유도결합 플라즈마 반응기의 안테나 코일용 와이어 구조물	상용화

65	특허권	2022.03.31	과 압축 발생을 방지하는 진공펌프 하우징 및 이를 포함한 진공 펌프	상용화

66	특허권	2022.08.26	배기가스 플라즈마 처리 장비용 가스 공급 장치 및 이를 구비하는 배기가스 플라즈마 처리 장비	상용화

67	특허권	2022.08.26	반도체 제조설비 및 이의 운영방법	상용화

다. 법률/규정 등에 의한 규제사항 법률, 규정 등에 의하여 정부나 지방자치단체 등으로부터 직접적인 규제를 받는 사항은 없으며 정부는 반도체 장비산업과 같이 고부가가치 산업의 육성을 추진하고 있는 바, 정부로부터의 일부 세제혜택을 받고 있습니다. 특히, 관세법에 의거하여 반도체협회가 추천하는 주요 원부자재에 대하여 관세를 감면해주고 있는데 그주요 사항은 관세법 제95조에 의거하여 도달진공도가 9×10­³torr(토르)이상의 제품 생산을 위한 공장자동화 시설재 수입의 경우 대기업 40%, 중소기업 50%의 관세감면을 받을 수 있습니다. 그리고 당사의 경우 세율불균형 관세감면을 받고 있는데 이는 관세법 제 89조에 의거하여 진공펌프의 제조 및 수리용부분품 중 세율불균형이 발생하는 원부자재에 대하여 FTA 관세감면을 받고 있습니다. 라. 조직도 당사는 조직간 소통과 신뢰를 통한 조직 효율성을 극대화 하고 사업의 중장기 회사 성장을 위해 전략적 조직운영을 하고 있습니다. 다음은 당사의 조직현황입니다.