2000R1334 — FR — 19.01.2002 — 003.001 — 1
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►BRÈGLEMENT (CE) No1334/2000 DU CONSEIL
du 22 juin 2000
instituantunrégimecommunautairedecontrôlesdesexportationsdebiensettechnologiesàdouble
usage
(JO L 159 du 30.6.2000, p. 1)
Modifié par:
Journal officiel
nopage date
►M1Règlement (CE) no2889/2000 du Conseil du 22 décembre 2000 L 336 14 30.12.2000
►M2Règlement (CE) no458/2001 du Conseil du 6 mars 2001 L 65 19 7.3.2001
►M3Règlement (CE) no2432/2001 du Conseil du 20 novembre 2001 L 338 1 20.12.2001
Rectifié par:
►C1Rectificatif, JO L 176 du 15.7.2000, p. 52 (1334/2000)
►C2Rectificatif, JO L 10 du 12.1.2002, p. 82 (2432/2001)
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RÈGLEMENT (CE) No1334/2000 DU CONSEIL
du 22 juin 2000
instituant un régime communautaire de contrôles des exportations
de biens et technologies à double usage
LE CONSEIL DE L'UNION EUROPÉENNE,
vu le traité instituant la Communauté européenne, et notamment sonarticle 133,
vu la propositionde la Commission(
1),
considérant ce qui suit:
(1)Les biens à double usage (y compris les logiciels et les
technologies) devraient être soumis à un contrôle efficacelorsqu'ils sont exportés de la Communauté.
(2)Un système commun efficace de contrôle des exportations desbiens à double usage est nécessaire pour assurer le respect desengagements et responsabilités des États membres à l'échelleinternationale, notamment en matière de non-prolifération, ainsi
que des engagements et responsabilités de l'Union européenne.
(3)L'existence d'un système commun de contrôle et de politiques
harmonisées d'application et de contrôle dans tous les Étatsmembres est une condition préalable à la libre circulation des
biens à double usage dans la Communauté.
(4)Le régime actuel de contrôle des exportations de biens à double
usage institué par le règlement (CE) no3381/94(2) et la décision
94/942/PESC(3) doit faire l'objet d'une harmonisation accrue afin
de continuer à garantir l'application efficace des contrôles.
(5)Des listes communes de biens à double usage, de destinations et
de lignes directrices sont des éléments essentiels d'un système
efficace de contrôle des exportations. De telles listes ont été
établies par la décision94/942/PESC et ses modification sultérieures et il y a lieu de les intégrer au présent règlement.
(6)La responsabilité de la suite à réserver aux demandes d'autori-
sations d'exportation incombe aux autorités nationales. Les
mesures et les décisions nationales qui ont une incidence sur lesexportations de biens à double usage doivent être arrêtées dans lecadre de la politique commerciale commune, et notamment dansle cadre du règlement (CEE) n
o2603/69 du Conseil du
20 décembre 1969 portant établissement d'un régime commun
applicable aux exportations(4).
(7)Les décisions relatives à la mise à jour des listes communes desbiens à double usage doivent être pleinement conformes aux
obligations et engagements que chaque État membre a acceptés
en tant que membre des régimes internationaux pertinents de non-prolifération et de contrôle des exportations ou du fait de laratification de traités internationaux en la matière.
(8)Il convient de contrôler également la transmission de logiciels etde technologies par voie électronique, par télécopieur ou partéléphone vers des destinations à l'extérieur de la Communauté.
(9)Il convient d'accorder une attention particulière aux problèmes deréexportationet d'utilisationfin ale.
(10)Le 22 septembre 1998, les représentants des États membres et dela Commission européenne ont signé des protocoles additionnels2000R1334 — FR — 19.01.2002 — 003.001 — 2
(1) JO C 399 du 21.12.1998, p. 1.
(2) JO L 367 du 31.12.1994, p. 1. Règlement modifié par le règlement (CE) no
837/95 (JO L 90 du 21.4.1995, p. 1).
(3) JO L 367 du 31.12.1994, p. 8. Décisionmodifiée endern ier lieu par la
décision2000/243/PESC (JO L 82 du 1.4.2000, p. 1.).
(4) JO L 324 du 27.12.1969, p. 25. Règlement modifié en dernier lieu par le
règlement (CEE) no3918/91 (JO L 372 du 31.12.1991, p. 31).
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aux accords de garanties respectifs conclus entre les États
membres, la Communauté européenne de l'énergie atomique etl'Agence internationale de l'énergie atomique, aux termes
desquels, entre autres, les États membres sont tenus de fournir
des informations sur des équipements et matériels non nucléairesdéterminés.
(11)La Communauté a adopté par le règlement (CEE) no2913/92 du
Conseil du 12 octobre 1992 établissant le code des douanescommunautaire(
1) et par le règlement (CEE) no2454/93 de la
Commission(2) mettant en application le règlement (CEE) no
2913/92, un ensemble de règles douanières qui prévoient, entre
autres, des dispositions portant sur l'exportation et la réexporta-
tion de marchandises. Rien dans le présent règlement ne limite lespouvoirs conférés par le code des douanes communautaire et sesdispositions d'application ou découlant de celui-ci.
(12)Conformément à l'article 30 du traité et dans les limites duditarticle, et dans l'attente d'une harmonisation plus poussée, lesÉtats membres doivent garder le droit de contrôler les transfertsde certains biens à double usage au sein de la Communautéeuropéenne aux fins de sauvegarder l'ordre et la sécurité publics.
Si ces contrôles sont effectués au regard de l'efficacité du contrôle
des exportations hors de la Communauté, ils feront l'objet d'unbilanpériodique par le Con seil.
(13)Pour garantir la bonne application du présent règlement, chaqueÉtat membre devrait prendre des mesures pour doter les autoritéscompétentes des pouvoirs appropriés.
(14)Chaque État membre devrait déterminer les sanctions à appliqueren cas d'infraction aux dispositions du présent règlement.
(15)Le Parlement européen a exprimé sa position dans sa résolutiondu 13 avril 1999(
3).
(16)Eu égard à ce qui précède, il y a lieu d'abroger le règlement (CE)
no3381/94,
A ARRÊTÉ LE PRÉSENT RÈGLEMENT:
CHAPITRE I
Objet et définitions
Article premier
Le présent règlement institue un régime communautaire de contrôle des
exportations de biens à double usage.
Article 2
Aux fins du présent règlement, on entend par:
a) «biens à double usage»: les produits, y compris les logiciels et les
technologies susceptibles d'avoir une utilisation tant civile quemilitaire; ils incluent tous les biens qui peuvent à la fois être utilisés àdes fins non explosives et entrer de manière quelconque dans lafabrication d'armes nucléaires ou d'autres dispositifs nucléaires
explosifs;
b) «exportation»:
i) une procédure d'exportation au sens de l'article 161 du code des
douanes communautaire;2000R1334 — FR — 19.01.2002 — 003.001 — 3
(1) JO L 302 du 19.10.1992, p. 1. Règlement modifié en dernier lieu par le
règlement (CE) no955/1999 du Parlement européen et du Conseil (JO L 119
du 7.5.1999, p. 1).
(2) JO L 253 du 11.10.1993, p. 1. Règlement modifié en dernier lieu par le
règlement (CE) no1662/1999 (JO L 197 du 29.7.1999, p. 25).
(3) JO C 219 du 30.7.1999, p. 34.
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ii) une procédure de réexportation au sens de l'article 182 dudit
code,
et
iii) la transmission de logiciels ou de technologies par voie
électronique, par télécopieur ou par téléphone vers une destina-tion à l'extérieur de la Communauté; n'est visée la transmissionorale de technologies par téléphone que si celles-ci sont décritesdans un document et si des parties pertinentes de celui-ci sont
lues au correspondant par téléphone ou lui sont décrites par ce
moyen de manière à obtenir un résultat sensiblement le même;
c) «exportateur»: toute personne physique ou morale pour le compte de
laquelle est faite une déclaration d'exportation, c'est-à-dire lapersonne qui, au moment où la déclaration est acceptée, est partieau contrat conclu avec le destinataire du pays tiers et est habilitée àdécider de l'envoi du produit hors du territoire douanier de la
Communauté. Si aucun contrat d'exportation n'a été conclu ou si la
partie au contrat n'agit pas pour son propre compte, c'est la faculté dedécider de l'envoi du produit hors du territoire douanier de laCommunauté qui constitue le facteur déterminant.
On entend également par «exportateur» toute personne, physique ou
morale, qui décide de transmettre des logiciels ou des technologiespar voie électronique, par télécopieur ou par téléphone vers une
destination à l'extérieur de la Communauté.
Lorsque le bénéfice d'un droit de disposer des biens à double usage
appartient à une personne établie en dehors de la Communauté selon
le contrat sur lequel l'exportation est fondée, l'exportateur est réputéêtre la partie contractante établie dans la Communauté;
d) «déclaration d'exportation»: l'acte par lequel une personne manifeste,
dans les formes et les modalités prescrites, sa volonté de placer desbiens à double usage sous le régime de l'exportation.
CHAPITRE II
Champ d'application
Article 3
1. L'exportation des biens à double usage figurant sur la liste de
l'annexe I est soumise à autorisation.
2. Conformément à l'article 4 ou à l'article 5, l'exportation vers toutes
ou certaines destinations de certains biens à double usage ne figurant passur la liste de l'annexe I peut également être soumise à autorisation.
3. Le présent règlement ne s'applique pas à la fourniture de services
ou à la transmission de technologies si cette fourniture ou transmission
implique un mouvement transfrontalier de personnes physiques.
4. Le présent règlement ne s'applique pas aux biens à double usage
qui ne font que transiter par le territoire de la Communauté, c'est-à-dire
qui n'ont pas reçu de destination douanière autre que le régime de transit
externe ou qui sont simplement introduits dans une zone franche ou dansun entrepôt franc et qui ne doivent pas être inscrits dans unecomptabilité matières agréée.
Article 4
1. L'exportation des biens à double usage ne figurant pas sur la liste
de l'annexe I est soumise à autorisation si les autorités compétentes del'État membre où l'exportateur est établi ont informé celui-ci que lesproduits en question sont ou peuvent être destinés, entièrement ou en
partie, à contribuer au développement, à la production, au maniement,
au fonctionnement, à l'entretien, au stockage, à la détection, àl'identification ou à la dissémination d'armes chimiques, biologiquesou nucléaires ou d'autres dispositifs nucléaires explosifs, ou audéveloppement, à la production, à l'entretien ou au stockage de missilespouvant servir de vecteurs à de telles armes.2000R1334 — FR — 19.01.2002 — 003.001 — 4
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2. L'exportation des biens à double usage ne figurant pas sur la liste
de l'annexe I est également soumise à autorisation si le pays acheteur oude destination est soumis à un embargo sur les armes décidé dans une
position commune ou une action commune adoptée par le Conseil de
l'Union européenne, ou dans une décision de l'Organisation pour lasécurité et la coopérationenEurope (OSCE) ou imposé par un erésolution contraignante du Conseil de sécurité des Nations unies et siles autorités visées au paragraphe 1 ont informé l'exportateur que les
produits en question sont ou peuvent être destinés, entièrement ou en
partie, à une utilisation finale militaire. Aux fins du présent paragraphe,on entend par «utilisation finale militaire»:
a) l'incorporation dans des produits militaires figurant sur la liste des
matériels de guerre des États membres;
b) l'utilisation d'équipements de production, d'essai ou d'analyse et de
composants à cet effet, en vue de la mise au point de la production ou
de l'entretien de produits militaires figurant sur la liste précitée;
c) l'utilisation en usine de tout produit non fini en vue de la production
de produits militaires figurant sur la liste précitée.
3. L'exportation des biens à double usage ne figurant pas sur la liste
de l'annexe I est également soumise à autorisation si les autorités visées
au paragraphe 1 ont informé l'exportateur que les produits en question
sont ou peuvent être destinés, entièrement ou en partie, à être utiliséscomme pièces ou composants de produits militaires figurant sur la listenationale des matériels de guerre qui ont été exportés du territoire del'État membre enquestionsan s l'autorisationprévue par la législation
nationale de cet État membre, ou en violation d'une telle autorisation.
4. Si un exportateur a connaissance de ce que des biens à double
usage ne figurant pas sur la liste de l'annexe I et qu'il entend exporter
sont destinés, entièrement ou en partie, à l'un des usages visés auxparagraphes 1, 2 et 3, il est tenu d'en informer les autorités visées auparagraphe 1, qui décideront de l'opportunité de soumettre l'exportationconcernée à autorisation.
5. Les États membres peuvent adopter ou maintenir des législations
nationales soumettant à autorisation l'exportation de biens à double
usage ne figurant pas sur la liste de l'annexe I lorsque l'exportateur a desmotifs de soupçonner que ces produits sont ou peuvent être destinés,entièrement ou en partie, à l'une des finalités visées au paragraphe 1.
6. UnÉtat membre qui, enapplicationdes paragraphes 1 à 5, exige
une autorisation pour l'exportation d'un bien à double usage nonénuméré à l'annexe I en informe, le cas échéant, les autres États
membres et la Commission. Les autres États membres tiennent dûment
compte de cette information et la communiquent, dans la mesure dupossible, à leurs bureaux de douane et autres autorités nationalescompétentes.
7. Les dispositions de l'article 9, paragraphes 2 et 3, sont applicables
pour ce qui est des biens à double usage non énumérés à l'annexe I.
8. Le présent règlement est sans préjudice du droit des États membres
de prendre des mesures nationales au titre de l'article 11 du règlement
(CEE) n
o2603/69.
Article 5
1. UnÉtat membre peut in terdire ou soumettre à autorisation
l'exportation des biens à double usage ne figurant pas sur la liste de
l'annexe I pour des raisons liées à la sécurité publique ou à la sauvegarde
des droits de l'homme.
2. Les États membres notifient à la Commission les mesures prises
conformément au paragraphe 1 immédiatement après leur adoption et enprécisent les raisons.
3. Les États membres notifient également immédiatement à la
Commissiontoute modificationapportée aux mesures prises con formé-ment au paragraphe 1.2000R1334 — FR — 19.01.2002 — 003.001 — 5
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4. La Commission publie les mesures notifiées conformément aux
paragraphes 2 et 3 au Journal officiel des Communautés européennes ,
série C.
CHAPITRE III
Autorisation d'exportation
Article 6
1. Le présent règlement établit, pour certaines exportations, une
autorisation générale communautaire d'exportation exposée à l'annexe II.
2. Pour toutes les autres exportations soumises à autorisation en vertu
du présent règlement, l'autorisation est octroyée par les autoritéscompétentes de l'État membre où l'exportateur est établi. Sous réserve
de la restrictionprévue au paragraphe 3, cette autorisationpeut être
individuelle, globale ou générale.
L'autorisation est valable dans toute la Communauté.L'autorisation peut, le cas échéant, être soumise à certaines exigences et
conditions, telles que l'obligation de fournir une déclaration d'utilisationfinale.
3. Les biens énumérés dans la partie 2 de l'annexe II ne sont pas
inclus dans une autorisation générale.
4. Les États membres indiquent dans les autorisations générales que
celles-ci ne peuvent être utilisées si l'exportateur a été informé par sesautorités du fait que les biens en question sont ou peuvent être destinés,entièrement ou en partie, à l'un des usages visés à l'article 4, paragraphe1, 2 ou 3, ou si l'exportateur a connaissance du fait que les biens en
question sont destinés aux usages précités.
5. Les États membres maintiennent ou introduisent dans leur
législation nationale respective la possibilité de délivrer à un exportateurdonné, pour un type ou une catégorie de biens à double usage, uneautorisationglobale qui peut être valable pour les exportation s vers unou plusieurs pays déterminés.
6. Les États membres communiquent à la Commission la liste des
autorités compétentes pour l'octroi des autorisations d'exportation de
biens à double usage.
La Commissionpublie la liste de ces autorités au Journal officiel des
Communautés européennes , série C.
Article 7
1. Si les biens à double usage pour lesquels a été demandée une
autorisation d'exportation individuelle vers une destination nonmentionnée à l'annexe II, ou vers toute destination dans le cas des
biens à double usage énumérés à l'annexe IV, sont ou seront situés dans
un ou plusieurs États membres autres que celui dans lequel la demande aété introduite, ces précisions sont indiquées dans la demande. Lesautorités compétentes de l'État membre auprès desquelles la demanded'autorisation a été introduite consultent immédiatement les autorités
compétentes de l'État membre ou des États membres en question et leur
fournissent toutes les informations utiles. Le ou les États membresconsultés font connaître, dans un délai de dix jours ouvrables, leursobjections éventuelles à l'octroi d'une telle autorisation, qui sontcontraignantes pour l'État membre où la demande a été introduite.
Si aucune objection n'est reçue dans un délai de dix jours ouvrables,
l'État membre ou les États membres consultés sont réputés n'avoir pas
d'objection.
Dans des cas exceptionnels, tout État membre consulté peut demander la
prorogationdu délai de dix jours. Cette prorogationn e peut toutefois pasexcéder trente jours ouvrables.
2. Si une exportation risque de porter atteinte aux intérêts essentiels
de sécurité d'unÉtat membre, celui-ci peut deman der à unautre État2000R1334 — FR — 19.01.2002 — 003.001 — 6
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membre de ne pas octroyer d'autorisation d'exportation ou, si cette
autorisation a été octroyée, demander son annulation, sa suspension, samodification ou sa révocation. L'État membre qui reçoit une telle
demande engage immédiatement avec l'État membre requérant une
consultation ne présentant pas de caractère contraignant, qui doit êtreachevée dans un délai de dix jours ouvrables.
Article 8
Pour décider de l'octroi ou non d'une autorisation d'exportation au titre
du présent règlement, les États membres prennent en considération tousles éléments pertinents, et notamment:
a) les obligations et engagements que chaque État membre a acceptés en
tant que membre des régimes internationaux de non-prolifération etde contrôle des exportations ou du fait de la ratification des traitésinternationaux en la matière;
b) leurs obligations découlant des sanctions imposées par une position
commune ou une action commune adoptée par l'Union européenne
ou par une décision de l'OSCE ou par une résolution contraignante duConseil de sécurité des Nations unies;
c) des considérations de politique étrangère et de sécurité nationale, y
compris celles qui s'inscrivent dans le cadre du code de conduite de
l'Union européenne en matière d'exportation d'armements;
d) des considérations relatives à l'utilisation finale prévue et au risque de
détournement.
Article 9
1. Les exportateurs mettent à la disposition des autorités compétentes
toutes les informations pertinentes requises concernant leur demande
d'exportation.
2. Les autorités compétentes, agissant conformément au présent
règlement, peuvent refuser d'octroyer une autorisation d'exportation etpeuvent annuler, suspendre, modifier ou révoquer une autorisationqu'elles ont déjà octroyée. En cas de refus, d'annulation, de suspension,de limitation substantielle ou de révocation de l'autorisation, elles
informent les autorités compétentes des autres États membres et la
Commission de leur décision et elles échangent toutes informationsutiles avec les autres États membres et la Commission, tout en respectantla confidentialité de ces informations conformément à l'article 15,paragraphe 3.
3. Un État membre qui entend délivrer une autorisation d'exportation
alors que, au cours des trois années précédentes, un ou plusieurs autresÉtats membres l'avaient refusée pour une transaction sensiblement
analogue, consulte au préalable ledit ou lesdits États membres. Si après
ces consultations, l'État membre cité en premier lieu décide malgré toutde délivrer l'autorisation, il en informe les autres États membres et laCommission en apportant toutes les informations pertinentes à l'appui desa décision.
Article 10
1. Toutes les autorisations individuelles et globales d'exportation sont
établies sur des formulaires similaires au modèle figurant à l'annexe IIIa.
2. À la demande des exportateurs, les autorisations globales
d'exportation comportant des limitations quantitatives sont fractionnées.
3. Les autorisations générales d'exportation accordées conformément
à l'article 6, paragraphe 2, sont publiées conformément aux législationset aux pratiques nationales. Elles sont établies conformément auxindications qui figurent à l'annexe IIIb.2000R1334 — FR — 19.01.2002 — 003.001 — 7
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CHAPITRE IV
Mise à jour de la liste des biens à double usage
Article 11
Les listes de biens à double usage figurant à l'annexe I et à l'annexe IV
sont mises à jour dans le respect des obligations et engagementspertinents, et de toute modification de ces derniers, que chaque Étatmembre a acceptés en tant que membre des régimes internationaux denon-prolifération et de contrôle des exportations, ou du fait de laratification des traités internationaux en la matière.
CHAPITRE V
Procédures douanières
Article 12
1. Lorsqu'il accomplit les formalités pour l'exportationde bien s à
double usage auprès du bureau de douane compétent pour traiter ladéclarationd'exportation , l'exportateur apporte la preuve que touteautorisation d'exportation nécessaire a été obtenue.
2. La traduction des documents produits comme preuve vers une
langue officielle de l'État membre où la déclaration d'exportation est
présentée peut être demandée à l'exportateur.
3. Sans préjudice des compétences qui lui seraient conférées au titre
et en application du code des douanes communautaire, un État membrepeut également, pour une période ne dépassant pas les périodes visées auparagraphe 4, suspendre la procédure d'exportation à partir de sonterritoire ou, au besoin, empêcher d'une autre manière les biens à doubleusage énumérés à l'annexe I et couverts par une autorisation
d'exportation en bonne et due forme de quitter la Communauté à partir
de son territoire lorsqu'il a des raisons de soupçonner:
a) que des informations pertinentes n'ont pas été prises en considération
lors de l'octroi de l'autorisation,
ou
b) que les circonstances ont considérablement changé depuis l'octroi de
l'autorisation.
4. Dans le cas visé au paragraphe 3, les autorités compétentes de
l'État membre ayant octroyé l'autorisation d'exportation sont immédia-
tement consultées pour qu'elles puissent prendre des mesuresconformément à l'article 9, paragraphe 2. Si ces autorités compétentesdécident de maintenir l'autorisation, elles répondent dans un délai de dixjours ouvrables, qui, à leur demande, peut être porté à trente joursouvrables dans des circonstances exceptionnelles. À la réception de cette
réponse ou si aucune réponse n'est reçue dans un délai, respectivement,
de dix ou de trente jours ouvrables, les biens à double usage sontimmédiatement libérés. L'État membre qui a accordé l'autorisation eninforme les autres États membres ainsi que la Commission.
Article 13
1. Les États membres peuvent prévoir que les formalités douanières
d'exportation des biens à double usage ne peuvent être accompliesqu'auprès de bureaux de douane habilités à cet effet.
2. Lorsqu'ils ont recours à la possibilité prévue au paragraphe 1, les
États membres communiquent à la Commission les bureaux de douanedûment habilités. La Commission publie cette information au Journal
officiel des Communautés européennes , série C.
Article 14
►
M3Les dispositions de l'article 843 et des articles 912 bisà 912
octiesdu règlement (CEE) no2454/93 ◄s'appliquent aux restrictions
relatives à l'exportation, la réexportation et la sortie du territoire2000R1334 — FR — 19.01.2002 — 003.001 — 8
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douanier des biens à double usage dont l'exportation est soumise à
l'autorisation en vertu du présent règlement.
CHAPITRE VI
Coopération administrative
Article 15
1. Les États membres prennent, en liaison avec la Commission, toutes
les dispositions utiles pour établir une coopération directe et un échange
d'informations entre les autorités compétentes, en particulier pour écarter
le risque que des disparités éventuelles dans l'application des contrôles àl'exportation de biens à double usage ne provoquent un détournement detrafic pouvant créer des difficultés à un ou plusieurs États membres.
2. Les États membres prennent toutes les dispositions utiles pour
établir une coopération directe et un échange d'informations entre lesautorités compétentes sur les utilisateurs finals sensibles afin que lesexportateurs concernés par le présent règlement bénéficient d'uneorientation cohérente.
3. Le règlement (CE) n
o515/97 du Conseil du 13 mars 1997 relatif à
l'assistance mutuelle entre les autorités administratives des Étatsmembres et à la collaborationen tre celles-ci et la Commissionenvued'assurer la bonne application des réglementations douanière et
agricole(
1), et notamment les dispositions relatives à la confidentialité
des informations, sont applicables mutatis mutandis , sans préjudice de
l'article 18 du présent règlement.
CHAPITRE VII
Mesures de contrôle
Article 16
1. Les exportateurs doivent conserver des registres ou relevés
détaillés de leurs exportations, selon la pratique en vigueur dans l'Étatmembre respectif. Ces registres ou relevés doivent contenir enparticulier les documents commerciaux tels que les factures, les
manifestes, les documents de transport ou autres documents d'expédition
comportant les informations suffisantes pour identifier:
a) la désignation des biens à double usage;
b) la quantité des biens à double usage;
c) les nom et adresse de l'exportateur et du destinataire;
d) l'utilisation finale et l'utilisateur final des biens à double usage, s'ils
sont connus.
2. Les registres ou relevés et les documents visés au paragraphe 1
doivent être conservés pendant une période d'au moins trois ans à partir
de la fin de l'année civile au cours de laquelle l'opération d'exportation aeu lieu. Ilsdoivent être présentés à la demande des autorités compétentesde l'État membre dans lequel l'exportateur est établi.
Article 17
En vue d'assurer la bonne application du présent règlement, chaque État
membre adopte les mesures nécessaires permettant à ses autoritéscompétentes:
a) de recueillir des informations sur toute commande ou opération
portant sur des biens à double usage;
b) d'établir que les mesures de contrôle à l'exportation ont été
correctement appliquées, ce qui peut inclure le droit d'accès auxlocaux professionnels des personnes ayant un intérêt dans uneopérationd'exportation .2000R1334 — FR — 19.01.2002 — 003.001 — 9
(1) JO L 82 du 22.3.1997, p. 1.
▼B
CHAPITRE VIII
Dispositions générales et finales
Article 18
1. Il est institué un groupe de coordination présidé par un représentant
de la Commission. Chaque État membre y désigne un représentant.
Le groupe de coordination examine toute question concernant l'applica-
tion du présent règlement susceptible d'être soulevée par le président oupar le représentant d'un État membre, et, entre autres:
a) les mesures que devraient prendre les États membres pour informer
les exportateurs des obligations qui leur incombent aux termes duprésent règlement;
b) des informations sur les formulaires d'autorisation d'exportation.
2. Le groupe de coordination peut, chaque fois qu'il l'estime
nécessaire, consulter les organisations représentatives des exportateurs
concernés par le présent règlement.
Article 19
Chaque État membre prend toute mesure appropriée pour assurer la mise
en œuvre de toutes les dispositions du présent règlement. Il détermine
notamment le régime des sanctions applicables aux violations desdispositions du présent règlement ou de celles adoptées pour sonapplication. Les sanctions ainsi prévues doivent être efficaces,proportionnées et dissuasives.
Article 20
Chaque État membre informe la Commission des dispositions
législatives, réglementaires et administratives qu'il prend en applicationdu présent règlement, notamment des mesures visées à l'article 19. La
Commission communique ces informations aux autres États membres.
Elle adresse tous les trois ans au Parlement européen et au Conseil unrapport concernant l'application du présent règlement. Les Étatsmembres communiquent à la Commission toutes les informationsnécessaires à l'établissement du rapport.
Article 21
1. Une autorisation est exigée pour les transfertsintracommunautaires
de biens à double usage énumérés à l'annexe IV. Les biens énumérésdans la partie 2 de l'annexe IV ne sont pas couverts par une autorisationgénérale.
2. a) UnÉtat membre peut décider qu'un e autorisationest requise pour
le transfert d'autres biens à double usage depuis son territoire versun autre État membre dans les cas où, au moment du transfert:
— l'opérateur sait que la destination finale des biens en question
est située à l'extérieur de la Communauté,
— l'exportation de ces biens vers cette destination finale est
soumise à une obligation d'autorisation dans l'État membre
depuis lequel les biens sont destinés à être transférés enapplicationdes articles 3, 4 ou 5 et un e telle exportationréalisée directement depuis son territoire n'est pas autorisée parune autorisation générale ou globale,
— aucune transformation ou ouvraison telles que définies à
l'article 24 du code des douanes communautaire ne seraréalisée sur les biens dans l'État membre vers lequel ils sontdestinés à être transférés.
b) La demande d'autorisation de transfert doit être faite dans l'État
membre depuis lequel les biens à double usage sont destinés à êtretransférés.
c) Dans les cas où l'exportation ultérieure de biens à double usage a
déjà été acceptée, dans le cadre des procédures de consultationprévues à l'article 7, par l'État membre depuis lequel les biens sont2000R1334 — FR — 19.01.2002 — 003.001 — 10
▼B
destinés à être transférés, l'autorisation de transfert est immédia-
tement délivrée à l'opérateur, à moins que les circonstances n'aientconsidérablement changé.
d) Un État membre qui adopte une législation prévoyant de telles
prescriptions informe la Commission et les autres États membresdes mesures qu'il a prises. La Commission publie ces informationsauJournal officiel des Communautés européennes , série C.
3. Les mesures prises enapplicationdes paragraphes 1 et 2
n'impliquent pas la réalisation de contrôles aux frontières intérieures
de la Communauté mais uniquement des contrôles effectués dans lecadre des procédures normales de contrôle appliquées de manière nondiscriminatoire sur l'ensemble du territoire de la Communauté.
4. L'applicationdes mesures prises au titre des paragraphes 1 et 2 n e
doit enaucuncas avoir pour résultat que les tran sferts d'unÉtat membre
à l'autre soient soumis à des conditions plus restrictives que celles
imposées pour les exportations des mêmes biens vers des pays tiers.
5. Les documents et relevés concernant les transferts intracommu-
nautaires de biens à double usage dont la liste figure à l'annexe I doiventêtre conservés pendant une période d'au moins trois ans à partir de la finde l'année civile au cours de laquelle le transfert a eu lieu et doivent êtreprésentés à la demande des autorités compétentes de l'État membre
d'origine du transfert de ces biens.
6. Un État membre peut, par sa législation nationale, exiger que, pour
tout transfert intracommunautaire au départ de cet État membre de biensvisés dans l'annexe I, catégorie 5, partie 2, et ne figurant pas dans la listede l'annexe IV, des informations complémentaires concernant ces bienssoient fournies à ses autorités compétentes.
7. Les documents commerciaux pertinents relatifs au transfert
intracommunautaire de biens à double usage énumérés à l'annexe I
doivent indiquer clairement que ces biens sont soumis à des contrôless'ils sont exportés de la Communauté. Au nombre de ces documentscommerciaux pertinents figurent, notamment, les contrats de vente,confirmations de la commande, factures ou bordereaux d'expédition.
Article 22
Le présent règlement n'affecte pas:
— l'application de l'article 296 du traité instituant la Communauté
européenne,
— l'application du traité instituant la Communauté européenne de
l'énergie atomique.
Article 23
Le règlement (CE) n
o3381/94 est abrogé.
Toutefois, les dispositions du règlement (CE) no3381/94 restent
applicables pour les demandes d'autorisation d'exportation introduitesavant la date d'entrée en vigueur du présent règlement.
Article 24
Le présent règlement entre en vigueur quatre-vingt-dix jours après la
date de sa publicationau Journal officiel des Communautés euro-
péennes.
Le présent règlement est obligatoire dans tous ses éléments et
directement applicable dans tout État membre.2000R1334 — FR — 19.01.2002 — 003.001 — 11
▼M3
ANNEXE I
LISTE DES BIENS ET TECHNOLOGIES À DOUBLE USAGE
[visée à l'article 3 du règlement (CE) no1334/2000]
La présente liste met en œuvre les accords internationaux surle contrôle des biens
à double usage, comprenant l'Arrangement de Wassenaar, le Régime de contrôle
de la technologie relative aux missiles (MTCR), le Groupe des fournisseurs
d'articles nucléaires (NSG), le Groupe Australie et la Convention sur les armes
chimiques (CNC). Il n'a pas été tenu compte des éléments que les États membres
souhaitent placer sur une liste d'exclusion. Il n'a pas été tenu compte des contrôles
nationaux (contrôles qui ne sont pas effectués au titre d'un régime) qui peuvent
être maintenus par les États membres.2000R1334 — FR — 19.01.2002 — 003.001 — 12
▼M3
REMARQUES GÉNÉRALES CONCERNANT L'ANNEXE I
1. Concernant le contrôle des biens conçus ou modifiés pour des usages
militaires, se rapporter à la ou aux listes ad hoc relatives au contrôle des biens
à usage militaire tenues par chaque État membre. Dans la présente annexe, la
mention "VOIR ÉGALEMENT LISTE DES MATÉRIELS DE GUERRE"
renvoie à ces listes.
2. Les contrôles dont il est question dans la présente annexe ne doivent pas être
rendus inopérants par le biais de l'exportation de biens non soumis à contrôle
(y compris des installations) contenant un ou plusieurs composants soumis à
contrôle, lorsque lesdits composants sont l'élément principal de ces biens et
peuvent en pratique en être détachés et utilisés à d'autres fins.
N.B.: Pour décider si le ou les composants soumis à contrôle doivent être
considérés comme l'élément principal, il convient d'évaluer les
facteurs de quantité, de valeur et de savoir-faire technologique les
concernant, ainsi que d'autres circonstances particulières qui pour-
raient faire du ou des composants soumis à contrôle l'élément
principal des biens fournis.
3. Les biens figurant dans la présente annexe s'entendent comme neufsou usagés.
NOTE RELATIVE À LA TECHNOLOGIE NUCLÉAIRE (NTN)
(À lire enrelationavec le chapitre E de la catégorie 0)
La "technologie" directement associée à des biens soumis à contrôle de la
catégorie 0 est soumise à contrôle conformément aux dispositions de la catégorie
0.
La "technologie" relative au "développement", à la "production" ou à
l'"utilisation" de biens soumis à contrôle demeure soumise à contrôle même
lorsqu'elle s'applique à des biens non soumis à contrôle.
La licence délivrée pour l'exportation de biens couvre également l'exportation, au
bénéfice du même utilisateur final, de la "technologie" minimale nécessaire à
l'installation, à l'exploitation, à l'entretien et à la réparation de ces biens.
Le contrôle portant sur les transferts de "technologie" ne s'applique pas aux
connaissances qui sont "du domaine public" ou relèvent de la "recherche
scientifique fondamentale".
NOTE GÉNÉRALE RELATIVE À LA TECHNOLOGIE (NGT)
(À lire enrelationavec le chapitre E des catégories 1 à 9)
L'exportation de "technologie" nécessaire au "développement", à la "production"
ou à l'"utilisation" des biens relevant des catégories 1 à 9 est soumis à contrôle
selonles disposition s des catégories 1 à 9.
La "technologie" nécessaire au "développement", à la "production" ou à
l'"utilisation" de biens soumis à contrôle demeure soumise à contrôle même
lorsqu'elle est applicable à un bien non soumis à contrôle.
Les contrôles ne s'appliquent pas à la "technologie" minimale nécessaire à
l'installation, à l'exploitation, à l'entretien (vérification) et à la réparation des
biens qui ne sont pas contrôlés ou dont l'exportation a été autorisée.
N.B.: Cela ne couvre pas la "technologie" visée aux alinéas 1E002.e.,
1E002.f., 8E002.a. et 8E002.b.
Le contrôle portant sur les transferts de "technologie" ne s'applique pas aux
connaissances qui sont "du domaine public", à la "recherche scientifique
fondamentale" ou aux connaissances minimales nécessaires pour les demandes
de brevet.
NOTE GÉNÉRALE RELATIVE AUX LOGICIELS (NGL)
(La présente note exempte des contrôles prévus au chapitre D des catégories 0 à
9)
Les catégories 0 à 9 de la présente liste ne sont pas applicables aux "logiciels"
qui:
a. sont couramment à la disposition du public, en étant:
1. vendus directement sur stock, sans restriction, à des points de vente au
détail, que cette vente soit effectuée
a. enmagasin ;2000R1334 — FR — 19.01.2002 — 003.001 — 13
▼M3
b. par correspondance; ou
c. par téléphone; et
2. conçus pour être installés par l'utilisateur sans assistance ultérieure
importante de la part du fournisseur; ou
N.B.: L'alinéa a. de la Note générale relative aux logiciels n'exempte pas
les "logiciels" mentionnés dans la catégorie 5, partie 2 ("Sécurité de
l'information").
b. sont "du domaine public".2000R1334 — FR — 19.01.2002 — 003.001 — 14
▼M3
DÉFINITION DES TERMES UTILISÉS DANS LA PRÉSENTE ANNEXE
Les définitions des termes entre 'apostrophes simples' sont données dans une note
technique se rapportant au bien en question.
Les définitions des termes entre "apostrophes doubles" sont les suivantes.
N.B.: Les références aux catégories sont indiquées entre parenthèses après le
terme défini.
"Accordable" (6): se dit d'un "laser" pouvant produire une énergie continue à
toutes les longueurs d'onde sur une gamme de différentes transitions "laser". Un
"laser" à sélection de raie produit des longueurs d'onde discrètes lors d'une
transition "laser" et n'est pas considéré comme "accordable".
"Adapté pour usage de guerre" (1): toute modification ou sélection (notamment
altération de la pureté, de la durée de conservation, de la virulence, des
caractéristiques de diffusion ou de la résistance aux rayons UV) conçue pour
augmenter la capacité à causer des pertes humaines ou animales, à dégrader les
équipements ou à endommager les récoltes ou l'environnement.
"Aéronef" (1, 7 et 9): véhicule aérien à voilure fixe, à voilure pivotante, à voilure
rotative (hélicoptère), à rotor basculant ou à voilure basculante.
N.B.: Voir également "aéronef civil".
"Aéronef civil" (1, 7 et 9): "aéronef" inscrit sous sa désignation propre sur les
listes de certificats de navigabilité publiées par les services de l'aviation civile,
comme desservant des lignes commerciales civiles intérieures et extérieures ou
destiné à un usage civil légitime, privé ou professionnel.
N.B.: Voir également "aéronef".
"Agilité de fréquence (radar)" (6): toute technique par laquelle la fréquence
porteuse d'un émetteur radar à impulsion est modifiée selon une séquence pseudo-
aléatoire, entre impulsions ou groupes d'impulsions, d'une quantité supérieure ou
égale à la bande passante de l'impulsion.
"Algorithme asymétrique" (5): un algorithme cryptographique utilisant différentes
clés mathématiques pour le chiffrement et le déchiffrement.
N.B.: Une utilisation courante des "algorithmes asymétriques" est la gestion
des clés.
"Algorithme symétrique" (5): unalgorithme cryptographique utilisan t la même
clé pour le chiffrement et le déchiffrement.
N.B.: Une utilisation courante des "algorithmes symétriques" est la confiden-
tialité des données.
"Alliage mécanique" (1): procédé d'alliage résultant de la liaison, de la cassure et
d'une nouvelle liaison de poudres élémentaires et de poudres d'alliage mères par
choc mécanique. Des particules non métalliques peuvent être incorporées dans
l'alliage par l'additionde poudres appropriées.
"Alloué par l'UIT" (3 et 5): allocation de bandes de fréquence conformément aux
règlements des radiocommunications de l'ITU (édition 1998) pour les services
primaires, autorisés et secondaires.
N.B.: Les allocations additionnelles et alternatives ne sont pas incluses.
"Amplification optique" (5): dans les communications optiques, technique
d'amplification introduisant un gain dans des signaux optiques engendrés par
une source optique distincte, sans conversion en signaux électriques, c'est-à-dire
en utilisant des amplificateurs optiques à semi-conducteurs, des amplificateurs
luminescents à fibres optiques.
"Analyseur de signaux dynamiques" (3): "analyseurs de signaux" faisant appel à
des techniques numériques d'échantillonnage et de transformation pour créer une
représentation du spectre de Fourier de la forme d'onde donnée, y compris les
informations relatives à l'amplitude et à la phase.
N.B.: Voir également "analyseur de signaux".
"Analyseur de signaux" (3): appareil capable de mesurer et d'afficher les
propriétés fondamentales de chaque composante de fréquence d'un signal multi-
fréquences.
"Antenne à réseau phasé, électroniquement orientable" (5 et 6): antenne formant
unfaisceau au moyend'uncouplage de phase, c'est-à-dire que la directiondu
faisceau est commandée par les coefficients d'excitation complexes des éléments
rayonnants et qu'elle peut être modifiée en azimut ou en élévation, ou les deux,
par l'application d'un signal électrique, aussi bien en émission qu'en réception.
"Atomisation par gaz" (1): procédé servant à réduire une coulée d'alliage
métallique enfusionengouttelettes de 500 micromètres de diamètre ou moin s au
moyend'unflux de gaz sous haute pression .2000R1334 — FR — 19.01.2002 — 003.001 — 15
▼M3
"Atomisation centrifuge" (1): procédé servant à réduire une coulée ou un cratère
de métal enfusionengouttelettes de 500 micromètres de diamètre ou moin s par
la force centrifuge.
"Atomisation sous vide" (1): procédé servant à réduire une coulée de métal en
fusionengouttelettes de 500 micromètres de diamètre ou moin s par l'évaporation
rapide d'ungaz dissous par applicationdu vide.
"Avec toutes les corrections disponibles" (2): lorsque toutes les mesures pratiques
dont dispose le fabricant pour réduire au minimum toutes les erreurs
systématiques de positionnement ont été considérées pour le modèle de
machine-outil en cause.
"Bande" (1): matériau constitué de "monofilaments", "brins", "nappes", "mèches"
ou "torons", etc., entrelacés ou unidirectionnels, en général préimprégnés de
résine.
N.B.: "Brin": faisceau de "monofilaments" (en général plus de 200)
pratiquement parallèles.
"Bande passante en temps réel" (3), pour les "analyseurs de signaux dynamiques":
gamme de fréquence la plus large que l'analyseur puisse fournir au visuel ou à la
mémoire de masse sans causer de discontinuité dans l'analyse des données
d'entrée. Pour les analyseurs comportant plus d'un canal, on utilisera, pour
effectuer le calcul, la configuration des canaux donnant la "bande passante en
temps réel" la plus large.
"Bande passante fractionnelle" (3): la "bande passante instantanée" divisée par la
fréquence centrale, exprimée en pourcentage.
"Bande passante instantanée" (3, 5 et 7): bande passante sur laquelle la puissance
de sortie demeure constante à 3 dB près sans ajustement des autres paramètres de
fonctionnement.
"Biais" (accéléromètre) (7): valeur indiquée par un accéléromètre en l'absence
d'accélération.
"Broche basculante" (2): broche porte-outil qui modifie, au cours du processus
d'usinage, la position angulaire de son axe de référence par rapport à tout autre
axe.
"Calculateur hybride" (4): équipement apte à la fois à:
a. accepter des données;
b. traiter des données à la fois en représentations analogiques et en
représentations numériques; et
c. assurer la sortie de données.
"Calculateur neuronal" (4): dispositif de calcul conçu ou modifié pour imiter le
comportement d'un neurone ou d'une collection de neurones (c'est-à-dire un
dispositif de calcul qui se distingue par sa capacité de moduler les poids et les
nombres des interconnexions d'une multiplicité de composants de calcul basée sur
des données précédentes).
"Calculateur numérique" (4 et 5): équipement qui, lorsque les données sont sous
forme d'une ou de plusieurs variables discrètes, est apte à la fois à:
a. accepter des données;
b. stocker des données ou des instructions dans des dispositifs de stockage
permanents ou modifiables (par réécriture);
c. traiter desdonnées au moyen d'une séquence stockée d'instructions modifiable;
et
d. assurer la sortie des données.
N.B.: Les modifications de la séquence stockée d'instructions comprennent
notamment le remplacement de dispositifs de stockage permanents, mais
pas de modification matérielle du câblage ou des interconnexions.
"Calculateur optique" (4): calculateur conçu ou modifié pour utiliser la lumière
pour représenter les données et dont les éléments de logique de calcul sont basés
sur des dispositifs optiques directement connectés.
"Calculateur à réseaux systoliques" (4): calculateur où le débit et la modification
des données sont contrôlables dynamiquement par l'utilisateur au niveau de la
porte logique.
"Capteurs d'imagerie monospectraux" (6): capteurs capables d'effectuer une saisie
d'imagerie à partir d'une bande spectrale discrète.
"Capteurs d'imagerie multispectraux" (6): capteurs capables d'effectuer une saisie
simultanée ou en série de données d'imagerie à partir de deux ou plusieurs bandes
spectrales discrètes. Les capteurs ayant plus de vingt bandes spectrales discrètes
sont quelquefois appelés capteurs d'imagerie hyperspectraux.2000R1334 — FR — 19.01.2002 — 003.001 — 16
▼M3
"Capteur de pression" (2): dispositif qui transforme les mesures de pression en
signal électrique.
"Capteurs radar interconnectés" (6): deux ou plus de deux capteurs radar
échangeant entre eux des données en temps réel.
"Carte à microprocesseur personnalisée" (5): carte à microprocesseur (carte à
puce) contenant un microcircuit qui a été programmé pour une application
spécifique et ne peut être reprogrammé par l'utilisateur pour aucune autre
application.
"Circuit intégré à film" (3): réseau d'"éléments de circuits" et d'interconnexions
métalliques formé par le dépôt d'un film mince ou épais sur un "substrat" isolant.
N.B.: "Élément de circuit" désigne un élément fonctionnel actif ou passif
unique dans un circuit électronique, tel qu'une diode, un transistor, une
résistance, un condensateur, etc.
"Circuit intégré hybride" (3): toute combinaison de circuits intégrés, ou circuits
intégrés comportant des "éléments de circuit" ou des "composants discrets" reliés
ensemble afin d'exécuter une ou plusieurs fonctions spécifiques et répondant à
tous les critères suivants:
a. contenant au moins un dispositif non encapsulé;
b. reliés ensemble au moyen de méthodes typiques de production de circuits
intégrés;
c. remplaçables en tant qu'entités; et
d. ne pouvant normalement être désassemblés.
N.B. 1: "Élément de circuit": élément fonctionnel actif ou passif unique dans
un circuit électronique, tel qu'une diode, un transistor, une résistance,
un condensateur, etc.
N.B. 2: "Composant discret": "élément de circuit" en boîtier séparé possédant
ses propres connexions externes.
"Circuit intégré monolithique" (3): combinaison de plusieurs "éléments de
circuits" passifs ou actifs ou des deux qui:
a. sont fabriqués par des processus de diffusion, d'implantation ou de dépôt sur
ou dans un élément semi-conducteur unique, appelé plaquette;
b. sont considérés comme associés de manière indivisible; et
c. assurent la ou les fonctions d'un circuit.
N.B.: "Élément de circuit" désigne un élément fonctionnel actif ou passif
unique dans un circuit électronique, tel qu'une diode, un transistor, une
résistance, un condensateur, etc.
"Circuit intégré multiplaquettes" (3): circuit contenant au moins deux "circuits
intégrés monolithiques" fixés sur un "substrat" commun.
"Circuit intégré optique" (3): "circuit intégré monolithique" ou "circuit intégré
hybride" contenant un ou plusieurs éléments, conçu pour fonctionner comme
photocapteur ou photoémetteur, ou pour assurer une ou plusieurs fonctions
optiques ou électro-optiques.
"Code objet" (4, 5 et 9): forme, permettant l'exécution par la machine, d'unmoyen
d'expression approprié pour donner une description d'unou de plusieurs processus
"code source" (langage source), qui a été converti par un système de
programmation.
"Code source" ou "langage source" (4, 5, 6, 7 et 9): moyen d'expression approprié
pour donner une description d'un ou de plusieurs processus pouvant être traduite
par unsystème de programmationenunprogramme sous un e forme ("code objet"
ou "langage objet") permettant son exécution par la machine.
"Commande adaptative" (2): système de commande qui règle sa réponse en
fonction des conditions détectées en cours de fonctionnement (norme ISO 2806-
1980).
"Commande de contournage" (2): commande de deux mouvements ou plus par
"commande numérique", exécutés suivant des instructions qui désignent la
position assignée suivante et la vitesse d'avance requise vers cette position; ces
vitesses varient les unes par rapport aux autres de manière à produire le contour
voulu (référence ISO/DIS 2806-1980).
"Commande électronique numérique de moteur pleine autorité" ("FADEC") (7 et
9): système de commande électronique pour moteurs à turbine à gaz ou moteurs
combinés, utilisant un calculateur numérique pour contrôler les variables
nécessaires pour régler la poussée du moteur ou la puissance de sortie sur l'arbre
tout au long de la gamme de fonctionnement du moteur depuis le début du dosage
du carburant jusqu'à l'arrêt du carburant.2000R1334 — FR — 19.01.2002 — 003.001 — 17
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"Commande numérique" (2): commande automatique d'un processus, réalisée par
un dispositif qui interprète des données numériques introduites en général au fur
et à mesure du déroulement de l'opération (norme ISO 2382).
"Commande par programme enregistré" (à) (2, 3 et 5): commande utilisant des
instructions stockées dans une mémoire électronique qui peuvent être exécutées
par un processeur afin de commander l'exécution de fonctions prédéterminées.
N.B.: Un équipement peut être à "commande par programme enregistré", que
la mémoire électronique soit interne ou externe.
"Commande de vol primaire" (7): commande de stabilité ou de manœuvre d'un
aéronef utilisant des générateurs de force ou de moment, à savoir des surfaces de
commande aérodynamiques ou la vectorisation de la poussée propulsive.
"Commande de vol totale" (7): commande automatisée des variables de l'état d'un
aéronef et de la trajectoire de vol afin d'atteindre les objectifs de la mission
répondant aux changements en temps réel des données relatives aux objectifs,
risques ou autres "aéronefs".
"Commutationoptique" (5): routage ou commutationde sign aux sous forme
optique sans conversion en signaux électriques.
"Composite" (1, 2, 6, 8 et 9): se dit d'une "matrice" et d'une phase ou de phases
supplémentaires, constituées de particules, de trichites, de fibres ou de toute
combinaison de celles-ci, présentes pour un but ou des buts spécifiques.
"Compression d'impulsions" (6): opération de codage et de traitement d'une
impulsion d'un signal radar de longue durée la transformant en une impulsion de
courte durée tout en conservant les avantages d'une énergie d'impulsion élevée.
"Constante de temps" (6): temps qui s'écoule entre l'excitation lumineuse et le
moment où l'augmentation du courant atteint une valeur de 1 − 1/e fois la valeur
finale, c'est-à-dire 63 % de sa valeur finale.
"Contrôle de puissance rayonnée" (7): désigne la modification de la puissance
émise du signal de l'altimètre de sorte que la puissance reçue à l'altitude de
l'"aéronef" soit toujours au niveau minimal nécessaire pour déterminer l'altitude.
"Contrôleur d'accès au réseau" (4): interface matérielle avec un réseau de
commutation réparti. Il utilise un support commun qui fonctionne en permanence
au même "débit de transfert numérique" en utilisant l'arbitrage (par exemple,
détection de jeton ou de porteuse) pour la transmission. Indépendamment des
autres, il choisit les paquets de données ou les groupes de données (par exemple,
IEEE 802) qui lui sont adressés. C'est un ensemble qui peut être intégré à des
équipements informatiques ou de télécommunications pour assurer l'accès aux
communications.
"Contrôleur de communication" (4): interface matérielle réglant la circulation des
informations numériques synchrones ou asynchrones. Il s'agit d'un ensemble qui
peut être intégré à un équipement informatique ou de télécommunications pour
assurer l'accès aux télécommunications.
"Cryptographie" (5): discipline qui englobe les principes, moyens et méthodes
servant à la transformation des données afin d'en dissimuler le contenu informatif,
empêcher sa modificationsan s détectionou empêcher sonutilisationsan s
autorisation. La "cryptographie" est limitée à la transformation d'informations par
l'emploi d'unou de plusieurs "paramètres secrets" (par exemple, des variables
cryptographiques) ou de la gestionde clef associée.
N.B.: "Paramètre secret" désigne une constante ou une clef non portée à la
connaissance d'autres personnes ou partagée uniquement au sein d'ungroupe.
"Cultures vivantes isolées" (1): comprend les cultures vivantes sous forme
dormante ou en préparations sèches.
"Débit binaire" (5): débit de chiffres binaires (bits) tel qu'il est défini dans la
recommandation 53-36 de l'U.I.T., compte tenu du fait que, pour la modulation
non binaire, les bauds et les bits par seconde ne sont pas équivalents. Les bits
pour les fonctions de codage, de vérification et de synchronisation sont inclus.
N.B. 1: Lors de la détermination du "débit binaire", les canaux de service et
les canaux administratifs sont exclus.
N.B. 2: C'est le débit maximal dans un sens, c'est-à-dire soit à l'émission, soit
à la réception.
"Débit de transfert numérique" (5): débit total d'unités binaires d'information
directement transférées sur tout type de support.
N.B.: Voir également "Débit de transfert numérique total".
"Débit de transfert numérique total" (5): nombre de bits, y compris les bits de
codage en ligne et les bits supplémentaires, etc. passant, par unité de temps, entre
les équipements correspondants dans un système de transmission numérique.
N.B.: Voir également "Débit de transfert numérique".2000R1334 — FR — 19.01.2002 — 003.001 — 18
▼M3
"Débit vectoriel tridimensionnel" (4): nombre de vecteurs produits par seconde
qui comportent des vecteurs polytraits de 10 pixels, en rectangle, à orientation
aléatoire, à valeurs de coordonnées X-Y-Z entières ou à virgule flottante (en
retenant celle qui donne le débit maximal).
"Densification isostatique à chaud" (2): procédé consistant à exercer une pression
sur un moulage à une température supérieure à 375 K (102 ºC), dans une cavité
fermée, par divers moyens (gaz, liquide, particules solides, etc.) afin de créer une
force agissant également dans toutes les directions en vue de réduire ou d'éliminer
les vides internes du moulage.
"Densité de courant globale" (3): nombre total d'ampères-tours dans la bobine
(c'est-à-dire le nombre de tours multiplié par le courant maximal porté par chaque
tour) divisé par la section transversale totale de la bobine (y compris les filaments
supraconducteurs, la matrice métallique dans laquelle les filaments supraconduc-
teurs sont incorporés, le matériau d'encapsulage, toute voie de refroidissement,
etc.).
"Développement" (NGT, NTN, toutes catégories): opérations liées à toutes les
étapes préalables à la production en série, telles que conception, recherches de
conception, analyses de conception, principes de conception, montages et essais
de prototypes, plans de production pilotes, données de conception, processus de
transformation des données de conception en un produit, conception de
configuration, conception d'intégration, plans.
"Domaine public (du)" (NGT, NTN, NGL): qualifie la "technologie" ou le
"logiciel" ayant été rendus accessibles sans qu'il ait été apporté de restrictions à sa
diffusion ultérieure (les restrictions relevant du droit d'auteur (copyright)
n'empêchent pas une "technologie" ou un "logiciel" d'être considérés comme
relevant du "domaine public").
"Durée d'impulsion" (6): largeur d'une impulsion "laser" mesurée au niveau de la
largeur totale demi-intensité.
"EC" signifie "élément de calcul".
"Écart de positionnement angulaire" (2): différence maximale entre la position
angulaire et la position angulaire réelle, mesurée avec une très grande précision,
après que le porte-pièce a été déplacé par rapport à sa position initiale (cf. norme
VDI/VDE 2617, projet: "Tables rotatives sur les machines de mesure à
coordonnées").
"Effecteurs terminaux" (2): dispositifs tels que les pinces, les "outils actifs" et tout
autre outillage fixés sur l'embase placée à l'extrémité du bras manipulateur d'un
"robot".
N.B.: "Outil actif": dispositif destiné à appliquer à la pièce à usiner la
puissance motrice, l'énergie nécessaire au processus ou les capteurs.
"Élément de calcul" (EC) (4): la plus petite unité de calcul produisant un résultat
arithmétique ou logique final.
"Élément principal" (4): élément dont la valeur de remplacement représente plus
de 35 % de la valeur totale du système dont il est un élément. La valeur de
l'élément est le prix payé pour cet élément par le fabricant ou l'intégrateur du
système. La valeur totale est le prix de vente international à des parties qui n'ont
aucunlienavec le ven deur, prix départ, lieu de fabricationou lieu de groupage
d'expédition.
"Ensemble électronique" (3, 4 et 5): groupe de composants électroniques
("éléments de circuits", "composants discrets", circuits intégrés, etc.) reliés
ensemble pour assurer une ou plusieurs fonctions spécifiques, remplaçables
globalement et normalement démontables.
N.B. 1: "Élément de circuit" désigne un élément fonctionnel actif ou passif
unique dans un circuit électronique, tel qu'une diode, un transistor,
une résistance, un condensateur, etc.
N.B. 2: "Composant discret" désigne un "élément de circuit" en boîtier séparé,
possédant ses propres connexions externes.
"Équipement de production" (1 et 9): outillages, gabarits, montages, mandrins,
moules, matrices, appareillages, mécanismes d'alignement, équipements d'essais,
autres machines et leurs composants, limités à ceux spécialement conçus ou
modifiés pour le "développement" ou pour une ou plusieurs phases de la
"production".
"Équipements d'assistance à la production" (9): équipements et les logiciels
conçus spécialement pour eux, intégrés dans les installations servant au
"développement" ou à une ou plusieurs phases de la "production".
"Erreur circulaire probable" (ECP) (7): mesure de la précisionexprimée par le
rayon du cercle centré sur la cible dans lequel, d'une distance donnée, 50 % des
charges utiles font impact.
"États (non) parties à la convention sur les armes chimiques" (1): les États pour
lesquels la Convention sur l'interdiction de la mise au point, de la fabrication, du2000R1334 — FR — 19.01.2002 — 003.001 — 19
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stockage et de l'emploi des armes chimiques est (n'est pas) entrée en vigueur (cf.
www.opcw.org).
"État participant" (7 et 9): État participant à l'arrangement de Wassenaar (voir
www.wassenaar.org).
"Extraction en fusion" (1): procédé servant à "solidifier rapidement" et à extraire
à un alliage sous forme de ruban par l'introduction d'un petit segment d'un bloc
refroidi enrotationdan s le baind'unalliage métallique enfusion .
N.B.: "Solidifier rapidement" signifie solidifier un matériau fondu à des
vitesses de refroidissement supérieures à 1 000 K/s.
"Facteur d'échelle" (gyromètre ou accéléromètre) (7): rapport entre une
modification à la sortie par rapport à une modification à l'entrée à mesurer. Le
facteur d'échelle est généralement évalué comme la pente de la ligne droite qui
peut être ajustée par la méthode des moindres carrés appliquée aux données
d'entrée-sortie obtenues en faisant varier l'entrée de façon cyclique sur la gamme
d'entrée.
"FADEC" signifie "commandes électroniques numériques de moteur pleine
autorité".
"Faux-rond de rotation" (2): déplacement radial mesuré dans un plan
perpendiculaire à l'axe de la broche en un point de la surface tournante externe
ou interne à essayer (cf. norme ISO 230/1, 1986, point 5.61).
"Fixe" (algorithme) (5): se dit d'unalgorithme de codage ou de compressionn e
pouvant pas accepter de paramètres fournis de l'extérieur (par exemple variables
cryptographiques ou clefs) et ne pouvant être modifié par l'utilisateur.
"Formage à l'état de superplasticité" (1 et 2): procédé de déformationutilisan t la
chaleur pour des métaux qui se caractérisent normalement par un faible
allongement à la rupture (moins de 20 %) à la température ambiante selon des
essais classiques de résistance à la traction, afin d'atteindre, au cours du
traitement, des allongements d'au moins deux fois cette valeur.
"Géographiquement dispersés" (Capteurs) (6): capteurs dont les emplacements
sont éloignés de plus de 1 500 mètres les uns des autres dans toute direction. Les
capteurs mobiles sont toujours considérés comme "géographiquement dispersés".
"Gradiomètre magnétique" (6): instrument conçu pour détecter la variation
spatiale des champs magnétiques provenant de sources extérieures à l'instrument.
Le gradiomètre magnétique consiste en un "magnétomètre" multiple et en
matériels électroniques associés, donnant la mesure du gradient de champ
magnétique.
N.B.: Voir également "gradiomètre magnétique intrinsèque".
"Gradiomètre magnétique intrinsèque" (6): élément unique de détection de
gradient de champ magnétique simple et matériels électroniques associés,
donnant la mesure du gradient de champ magnétique.
N.B.: Voir également "gradiomètre magnétique".
"Grammes effectifs" (Masse en) (0 et 1) de "produits fissiles spéciaux":
a. pour les isotopes de plutonium et l'uranium 233, la masse des isotopes en
grammes;
b. pour l'uranium enrichi à 1 % ou plus en isotope U-235, la masse des éléments
en grammes, multiplié par le carré de son enrichissement exprimé en fraction
décimale de masse;
c. pour l'uranium enrichi à moins de 1 % en isotope U-235, la masse des
éléments en grammes, multiplié par 0,0001.
"Immunotoxine" (1): association d'un anticorps monoclonal spécifique d'un type
de cellules et d'une "toxine" ou d'une "sous-unité de toxine", qui affecte
sélectivement des cellules malades.
"Incertitude de mesure" (2): paramètre caractéristique indiquant avec une fiabilité
de 95 % dans quelle fourchette autour de la mesure indiquée se situe la valeur
correcte de la variable à mesurer. Ce paramètre comprend les écarts
systématiques non corrigés, la largeur du jeu non corrigée et les écarts aléatoires
non corrigés (cf. norme ISO 10360-2 ou VDI/VDE 2617).
"Isolation" (9), dans le cas des composants d'un moteur de fusée, c'est-à-dire
l'enveloppe, la tuyère, l'admission, les fermetures de l'enveloppe; désigne des
feuilles de caoutchouc composite vulcanisé et semi-vulcanisé contenant un
matériau isolant ou réfractaire. Il peut aussi être incorporé au moteur sous forme
de gaine ou de clapet de décontrainte.
"Laser" (0, 2, 3, 5, 6, 7, 8 et 9): ensemble de composants produisant de la lumière
à la fois temporellement et spatialement cohérente, amplifiée par émission
stimulée de rayonnement.2000R1334 — FR — 19.01.2002 — 003.001 — 20
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N.B.: Voir également: "laser chimique";
"laser déclenché";"laser à très haute puissance";"laser à transfert".
"Laser chimique" (6): "laser" dans lequel les éléments excités proviennent de
l'énergie issue d'une réaction chimique.
"Laser déclenché" (Q-switch) (6): "laser" dans lequel l'énergie est stockée dans la
population d'inversion ou dans le résonateur optique et ultérieurement émise sous
forme d'une impulsion.
"Laser à très haute puissance" ("SHPL") (6): "laser" capable d'émettre (la totalité
ou une partie) de l'énergie émise en impulsions dépassant 1 kJ en un temps de
50 ms, ou ayant une puissance moyenne ou en ondes entretenues dépassant
20 kW.
"Laser à transfert" (6): "laser" dans lequel les éléments excités sont obtenus par
collision d'un atome ou d'une molécule ne produisant pas d'effet laser avec un
atome ou une molécule produisant un effet laser.
"Linéarité" (2): caractéristique généralement exprimée sous forme de la non-
linéarité, à savoir: l'écart maximal, positif ou négatif, de la caractéristique réelle
(moyenne des lectures en échelle montante et en échelle descendante) par rapport
à une ligne droite positionnée de manière à égaliser et à réduire autant que
possible les écarts maximaux.
"Logiciel" (NGL, toutes catégories): collectiond'unou de plusieurs
"programmes" ou "microprogrammes" fixée sur unquelcon que support matériel
d'expression.
N.B.: "Microprogrammes": séquence d'instructions élémentaires, enregistrées
dans une mémoire spéciale, dont l'exécution est déclenchée par
l'introduction de son instruction de référence dans un registre
d'instructions.
"Magnétomètre" (6): instrument conçu pour détecter les champs magnétiques
provenant de sources extérieures à l'instrument. Le magnétomètre consiste en un
élément de détection du champ magnétique simple et en matériels électroniques
associés, donnant la mesure du champ magnétique.
"Masse surfacique équivalente" (6): masse d'une optique par unité de surface
projetée sur la surface optique.
"Matériaux fibreux ou filamenteux" (0, 1 et 8) comprend:
a. les "monofilaments" continus;
b. les "torons" et les "nappes" continues;
c. les "bandes", tissus, nattes irrégulières et tresses;
d. les couvertures en fibres hachées, fibranne et fibres agglomérées;
e. les trichites monocristallines ou polycristallines de toutes longueurs;
f. la pulpe de polyamide aromatique.
"Matériau résistant à la corrosion par l'UF6" peut être le cuivre, l'acier inoxydable,
l'aluminium, l'oxyde d'aluminium, les alliages d'aluminium, le nickel ou les
alliages contenant 60 % ou plus en poids de nickel et de polymères
d'hydrocarbures totalement fluorés résistant à l'UF6, selonle procédé de
séparation.
"Matériel terminal d'interface" (4): matériel par lequel les informations entrent
dans le réseau de télécommunications ou en sortent, par exemple, téléphone,
dispositif de données, ordinateur, dispositif de télécopie.
"Matières fissiles spéciales" (0) désigne le plutonium-239, l'uranium-233
"l'uranium enrichi en isotopes 235 ou 233" et toute matière en contenant.
"Matrice" (1, 2, 8 et 9): phase presque continue qui remplit l'espace entre les
particules, les trichites ou les fibres.
"Matrice plan focal" (6): désigne une couche plane linéaire ou à deux dimensions,
ou une combinaison de couches planes, d'éléments détecteurs individuels, avec ou
sans dispositifs électroniques de lecture opérant dans le plan focal.
N.B.: La présente définition ne comprend pas un empilage d'éléments
détecteurs uniques ni des détecteurs à deux, trois ou quatre éléments,
à condition que ne soient pas réalisés dans chaque élément un retard
temporel et une intégration.
"Mèche" (1): faisceau de "monofilaments", en général pratiquement parallèles.2000R1334 — FR — 19.01.2002 — 003.001 — 21
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"Mélange chimique" (1): un produit solide, liquide ou gazeux comprenant deux
composants ou plus qui ne réagissent pas ensemble dans les conditions de
stockage du mélange.
"Mélangées" (1): se dit de fibres thermoplastiques et de fibres de renfort
mélangées filament à filament, afin de produire un mélange fibre de renfort
"matrice" sous une forme entièrement fibreuse.
"Mémoire centrale" (4): mémoire principale destinée aux données ou aux
instructions et à laquelle l'unité centrale de traitement doit pouvoir accéder
rapidement. Elle se compose de la mémoire interne d'un "calculateur numérique"
et de toute extension hiérarchisée de cette mémoire, telle que antémémoire ou
mémoire d'extension à accès non séquentiel.
"Microcircuit microcalculateur" (3): "circuit intégré monolithique" ou "circuit
intégré à multiplaquettes" contenant une unité arithmétique et logique (UAL)
capable d'exécuter des instructions universelles à partir d'une mémoire interne,
sur des données contenues dans la mémoire interne.
N.B.: La mémoire interne peut être renforcée par une mémoire externe.
"Microcircuit microprocesseur" (3): "circuit intégré monolithique" ou "circuit
intégré à multiplaquettes" contenant une unité arithmétique et logique (UAL)
capable d'exécuter à partir d'une mémoire externe une série d'instructions
universelles.
N.B. 1: Le "microcircuit microprocesseur" ne contient normalement pas de
mémoire accessible à l'utilisateur incorporée, bien qu'une mémoire sur
la microplaquette puisse être utilisée pour assurer sa fonction logique.
N.B. 2: Ceci comprend les ensembles de plaquettes conçus pour fonctionner
ensemble de façon à réaliser la fonction de "microcircuit micro-
processeur".
"Micro-organismes" (1 et 2): bactéries, virus, mycoplasmes, rickettsies,
chlamydiae ou champignons, qu'ils soient naturels, renforcés ou modifiés, sous
forme soit de "cultures vivantes isolées" soit de matières, y compris des matières
vivantes auxquelles ces cultures ont été délibérément inoculées ou qui ont été
délibérément contaminées avec ces cultures.
"Miroirs déformables" (6) (aussi dénommés miroirs à optique adaptative) désigne
les miroirs:
a. ayant une seule surface de réflexion optique continue qui est déformée de
manière dynamique par l'application de couples ou de forces individuels afin
de compenser les distorsions présentes dans la forme d'onde optique incidente
sur le miroir; ou
b. ayant des éléments optiques multiples de réflexion pouvant être repositionnés
de manière individuelle et dynamique par l'application de couples ou de forces
afin de compenser les distorsions présentes dans la forme d'onde optique
incidente sur le miroir.
"Missile" (1, 3, 5, 6, 7 et 9): système complet de fusée et de véhicule aérienn on
habité, dont la portée est au moins égale à 300 km et capables de transporter une
charge utile d'au moins 500 kg.
"Mode de transfert asynchrone ('MTA')" (5): mode de transfert dans lequel les
informations sont organisées en cellules; il est asynchrone en ce sens que la
récurrence des cellules dépend du débit binaire nécessaire ou instantané.
"Module spécifique" (0 et 1): module de Young exprimé en pascals (1 pascal =
1 N/m2) divisé par le poids spécifique exprimé enN/m3mesuré à une température
de (296 ± 2) K ((23 ± 2) ºC) et à une humidité relative de (50 ± 5) %.
"Monofilament" (1) ou filament: le plus petit accroissement d'une fibre, en
général d'un diamètre de plusieurs micromètres.
"MTA" signifie "mode de transfert asynchrone".
"Nappe" (1): faisceau (en général 12-120) de "brins" pratiquement parallèles.
N.B.: "Brin": faisceau de "monofilaments" (en général plus de 200)
pratiquement parallèles.
"Nécessaire" (NGT 1-9), appliqué à la "technologie" ou aux "logiciels", signifie
qu'onse limite à la portionparticulière de "techn ologie" ou de "logiciels"
permettant d'atteindre ou de dépasser les paramètres, caractéristiques ou fonctions
relatives aux performances visées. Cette "technologie" ou ces "logiciels"
"nécessaires" peuvent être communs à différents produits.
"Niveau de bruit" (6): signal électrique émis exprimé en termes de densité
spectrale de puissance. Le rapport entre les "niveaux de bruit" exprimé en crête à
crête est formulé comme suit: S2
pp=8No(f2−f1), où Sppest la valeur crête du
signal (par exemple en nanotesla), Noest la densité spectrale de puissance (par
exemple (nanotesla)2/Hz) et (f2−f1) définit la bande passante concernée.2000R1334 — FR — 19.01.2002 — 003.001 — 22
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"Optimisation de la trajectoire de vol" (7): procédure permettant de minimiser les
écarts par rapport à une trajectoire quadridimensionnelle (dans l'espace et dans le
temps) souhaitée en maximisant les performances ou l'efficacité pour des tâches
de mission.
"Performance théorique pondérée" (PTP) (3 et 4): mesure de la performance de
calcul exprimée en millions d'opérations théoriques par seconde (Motps), calculée
en procédant à l'agrégation des "éléments de calcul (EC)".
N.B.: Voir catégorie 4, note technique.
"Piste produite par le système" (6): relevé des positions de vol d'un avion, soumis
à un traitement, à une corrélation (données radar relatives aux cibles par rapport à
leurs positions selon le plan de vol) et à une mise à jour; ce relevé est destiné aux
contrôleurs du centre de la circulation aérienne.
"Pixel actif" (6 et 8): élément minimal (unique) de surface sensible du capteur qui
a une fonction de transfert photoélectrique lorsqu'il est exposé à un rayonnement
lumineux (électromagnétique).
"Portée instrumentée" (6): plage de portée spécifiée d'un radar à représentation
non ambiguë.
"Poursuite automatique de la cible" (6): technique de traitement permettant de
déterminer et de fournir automatiquement à la sortie une valeur extrapolée de la
positionla plus probable de la cible, entemps réel.
"Préalablement séparé" (0 et 1): auquel a été appliqué un procédé quelconque
visant à élever la concentration de l'isotope soumis à contrôle.
"Précision" (2 et 6): caractéristique généralement exprimée sous forme de
l'imprécision, à savoir: l'écart maximal, positif ou négatif, d'une valeur indiquée
par rapport à une norme acceptée ou une valeur réelle.
"Préformes de fibres de carbone" (1): un ensemble ordonné de fibres enduites ou
non devant constituer le cadre d'une pièce avant que la "matrice" ne soit
introduite pour former un "composite".
"Pressage hydraulique par actiondirecte" (2): procédé de déformationfaisan t
appel à une vessie souple remplie de liquide et placée en contact direct avec la
pièce.
"Presse isostatique" (2): presse capable de régler la pressiond'un e cavité fermée
par divers moyens (gaz, liquide, particules solides, etc.) afin de créer dans toutes
les directions à l'intérieur de la cavité une pression égale s'exerçant sur une pièce
ou unmatériau.
"Production" (NGT, NTN, toutes catégories): toutes les étapes de la production
telles qu'ingénierie des produits, fabrication, intégration, assemblage (montage),
contrôle, essais, assurance de la qualité.
"Programmabilité accessible à l'utilisateur" (4, 5 et 6): possibilité offerte à
l'utilisateur d'introduire, de modifier ou de remplacer des "programmes" par des
moyens autres que:
a. une modification matérielle du câblage ou des interconnexions; ou
b. l'établissement de commandes de fonction, y compris l'introduction de
paramètres.
"Programme" (2 et 6): séquence d'instructions pour la réalisation d'un processus,
exprimées sous une forme, ou transposable dans une forme permettant leur
exécutionpar unordin ateur.
"PTP" signifie "performance théorique pondérée"."Puissance de crête" (6): désigne l'énergie par impulsion en joules divisée par la
durée de l'impulsionensecon des.
"Pulvérisation" (1): procédé servant à réduire un matériau en particules par
écrasement ou broyage.
"Qualifié pour l'usage spatial" (Dispositif) (3 et 6): dispositif conçu, fabriqué et
contrôlé pour correspondre aux caractéristiques électriques, mécaniques ou
d'environnement nécessaires pour le lancement et le déploiement de satellites ou
de systèmes de vol haute altitude opérant à des altitudes de 100 km ou plus.
"Radar à spectre étalé" (6) — voir "Spectre étalé (radar)"."Réacteur nucléaire" (0): matériels qui se trouvent dans la cuve du réacteur ou y
sont fixés directement, les matériels de réglage de la puissance dans le cœur et les
composants qui renferment normalement le fluide caloporteur primaire du cœur
du réacteur, entrent en contact direct avec ce fluide ou permettent son réglage.
"Recherche scientifique fondamentale" (NGT, NTN): travaux théoriques ou
expérimentaux, entrepris principalement en vue de l'acquisition de connaissances
nouvelles touchant les principes fondamentaux de phénomènes ou de faits
observables, et non essentiellement orientés vers un but ou un objectif pratique.2000R1334 — FR — 19.01.2002 — 003.001 — 23
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"Renforcement d'image" (4): traitement d'images externes porteuses d'informa-
tions au moyen d'algorithmes tels que la compression temporelle, le filtrage,
l'extraction, la sélection, la corrélation, la convolution ou les transformations
entre domaines (par exemple, transformée de Fourier rapide ou transformée de
Walsh). Les algorithmes n'utilisant que la transformation linéaire ou angulaire
d'une image simple, tels que la translation, l'extraction de paramètres,
l'enregistrement ou la fausse coloration ne sont pas considérés comme rentrant
dans la présente définition.
"Réseau de capteurs optiques de commande de vol" (7): réseau de capteurs
optiques répartis, utilisant des faisceaux "laser", pour fournir des données de
commande de vol en temps réel pour traitement à bord.
"Réseau local" (4): système de transmission de données qui:
a. assure la communication directe entre un certain nombre de "dispositifs de
données" indépendants; et
b. est limité à un emplacement d'une superficie moyenne (par exemple,
immeuble administratif, usine, campus ou entrepôt).
N.B.: "Dispositif de données": équipement capable d'émettre ou de recevoir
des séquences d'informations numériques.
"Résistance spécifique à la traction" (0 et 1): résistance maximale à la traction
exprimée enN/m2divisée par le poids spécifique exprimé enN/m3mesurée à une
température de (296 ± 2) K ((23 ± 2) ºC) et à une humidité relative de (50 ± 5) %.
"Résolution" (2): le plus petit incrément d'un dispositif de mesure ou le bit le
moins important sur un instrument numérique (cf. ANSI B-89.1.12).
"Retard de propagationde la porte de base" (3): valeur du retard de propagation
correspondant à la porte de base utilisées dans un "circuit intégré monolithique".
Dans le cas d'une "famille" de "circuits intégrés monolithiques", on peut préciser
qu'il s'agit, pour une "famille" donnée, soit du retard de propagation par porte
typique, soit du retard de propagationtypique par porte.
N.B. 1: Le "retard de propagation de la porte de base" ne doit pas être
confondu avec le retard d'entrée à sortie d'un "circuit intégré
monolithique" complexe.
N.B. 2: La "famille" comprend tous les circuits intégrés auxquels s'appliquent
toutes les caractéristiques suivantes en tant que méthodologie de
fabrication et spécifications, à l'exception de leurs fonctions
respectives:
a. l'architecture commune du matériel et du logiciel;
b. la technologie commune de conception et de fabrication; et
c. les caractéristiques de base commune.
"Revêtement intérieur" (9): convient pour la liaison entre le propergol solide et
l'enveloppe ou le revêtement isolant; il s'agit en général de matériaux réfractaires
ou isolants dans une base de polymère, par exemple du carbone dans du
polybutadiene hydroxytelechelique (HTPB) ou un autre polymère contenant des
agents supplémentaires de cuisson appliqués à l'intérieur d'une enveloppe par
projectionou par en duit.
"Robot" (2 et 8): mécanisme de manipulations pouvant être du type à trajectoire
continue ou du type point par point, pouvant utiliser des capteurs et présentant
toutes les caractéristiques suivantes:
a. à fonctions multiples;
b. capable de positionner ou d'orienter des matériaux, des pièces, des outils ou
des dispositifs spéciaux par des mouvements variables dans un espace
tridimensionnel;
c. comportant trois ou plus de trois dispositifs d'asservissement en boucle ouverte
ou fermée pouvant inclure des moteurs pas à pas; et
d. doté d'une "programmabilité accessible à l'utilisateur" par la méthode de
l'apprentissage ou par un ordinateur qui peut être une unité de programmation
logique, c'est-à-dire sans intervention mécanique.
N.B.: La définition ci-dessus n'englobe pas les dispositifs suivants:
1. Mécanismes de manipulation exclusivement à commande manuelle ou
commandés par téléopérateur;
2. Mécanismes de manipulation à séquence fixe constituant des
dispositifs mobiles automatisés dont les mouvements sont
programmés et délimités par des moyens mécaniques. Les mouve-
ments programméssont délimités mécaniquement par des butées fixes
telles que tiges ou cames. La séquence des mouvements et la sélection
des trajectoires ou des angles ne sont pas variables ou modifiables
par des moyens mécaniques, électroniques ou électriques;2000R1334 — FR — 19.01.2002 — 003.001 — 24
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3. Mécanismes de manipulation à séquence variable et à commande
mécanique constituant des dispositifs mobiles automatisés dont les
mouvements sont programmés et délimités par des moyens mécani-
ques. Les mouvements programmés sont délimités mécaniquement
par des butées fixes mais réglables telles que tiges ou cames. La
séquence des mouvements et la sélection des trajectoires ou des
angles sont variables dans le cadre de la configuration programmée.
Les variations ou modifications de la configuration programmée (par
exemple, le changement de tiges ou de cames) selon un ou plusieurs
axes de mouvement sont effectuées uniquement par des opérations
mécaniques;
4. Mécanismes de manipulation à séquence variable, à commande non
asservie, constituant des dispositifs mobiles automatisés, dont les
mouvements sont programmés et délimités par des moyens mécani-
ques. Le programme est variable, mais la séquence ne progresse
qu'en fonction du signal binaire provenant des dispositifs binaires
électriques ou d'arrêts réglables délimités mécaniquement;
5. Gerbeurs définis comme des systèmes manipulateurs fonctionnant en
coordonnées cartésiennes, fabriqués en tant que parties intégrantes
d'un ensemble vertical de casiers de stockage et conçus pour l'accès à
ces casiers en vue du stockage et du déstockage.
"Routage adaptatif dynamique" (5): réacheminement automatique du trafic fondé
sur la détection et l'analyse des conditions présentes et réelles du réseau.
N.B.: Cette définition ne s'applique pas aux cas où le routage est décidé sur la
base d'informations préalablement définies.
"Sauts de fréquence" (Spectre à) (5): forme de "spectre étalé" dans laquelle la
fréquence d'émission d'une voie de transmission simple est changée par une
séquence aléatoire ou pseudo-aléatoire de sauts discontinus.
"Sécurité de l'information" (4 et 5): tous les moyens et fonctions réglant
l'accessibilité, ou assurant la confidentialité ou l'intégrité de l'information ou des
télécommunications, à l'exclusion des moyens et fonctions prévus pour la
protection contre les défaillances. Cela comprend notamment la "cryptographie",
la "crypto-analyse", la protection contre les émanations compromettantes et la
sécurité des ordinateurs.
N.B.: "Crypto-analyse": analyse d'un système cryptographique ou de ses
entrées et sorties pour en extraire des variables confidentielles ou des
données sensibles, y compris du texte en clair.
"Sécurité multiniveau" (5): catégorie de systèmes à sensibilités différentes qui
permettent l'accès simultané à des utilisateurs ayant des autorisations d'accès et
des besoins de connaissances différents, mais qui empêchent les utilisateurs
d'accéder aux informations pour lesquelles ils ne disposent pas d'autorisation.
N.B.: La "sécurité multiniveau" est une sécurité informatique et non une
fiabilité informatique, cette dernière notion se rapportant à la
prévention des défauts des matériels ou à la prévention des erreurs
humaines en général.
"SHPL" signifie "laser à très haute puissance".
"Signalisation sur voie commune" (5): méthode de signalisation entre centraux
dans laquelle une voie unique véhicule, au moyen de messages munis d'une
étiquette, l'information de signalisation relative à de multiples circuits ou
communications ainsi que d'autres informations telles que celles utilisées pour la
gestionde réseau.
"Soudage par diffusion" (1, 2 et 9): technique de jonction moléculaire à l'état
solide d'au moins deux pièces métalliques séparées en une seule pièce, la
résistance du joint étant égale à celle du matériau le moins résistant.
"Sous-ensemble de guidage" (7): système associant un processus de mesure et de
calcul de la position et de la vitesse d'un véhicule (c'est-à-dire sa navigation) à un
processus de calcul et de transmission d'ordres aux systèmes de commande de vol
du véhicule pour encorriger la trajectoire.
"Sous-unité de toxine" (1): constituant structurellement et fonctionnellement
identifiable d'une "toxine" entière.
"Spectre étalé" (5): l'étalement est la technique par laquelle l'énergie d'une voie de
transmission à bande relativement étroite est étalée sur un spectre d'énergie
beaucoup plus large.
"Spectre étalé (radar)" (6): toute technique de modulation visant à répartir
l'énergie émise par un signal comportant une bande de fréquence relativement
étroite, sur une bande de fréquence beaucoup plus large, en utilisant par exemple
uncodage aléatoire ou pseudo-aléatoire.2000R1334 — FR — 19.01.2002 — 003.001 — 25
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"Stabilité" (7) désigne l'écart-type (1 sigma) de la variation d'un paramètre
particulier par rapport à sa valeur d'étalonnage mesurée dans des conditions
thermiques stables. Cette variations'exprime comme fon ctiondu temps.
"Substrat" (3): feuillet de matériau de base comportant ou non un dessin
d'interconnexions et sur lequel ou dans lequel peuvent être placés des
"composants discrets", des circuits intégrés ou les deux.
N.B. 1: Les termes "composant discret" désignent un "élément de circuit" en
boîtier séparé, possédant ses propres connexions externes.
N.B. 2: "Élément de circuit": élément fonctionnel actif ou passif unique dans
un circuit électronique, tel qu'une diode, un transistor, une résistance,
un condensateur, etc.
"Substrat brut" (6): composé monolithique dont les dimensions conviennent à la
fabrication d'éléments optiques, comme les miroirs ou fenêtres optiques.
"Superalliage" (2 et 9): alliage à base de nickel, de cobalt ou de fer présentant une
résistance supérieure à celle de tout alliage de la série AISI 300 à des
températures dépassant 922 K (649 ºC) dans des conditions d'environnement et de
fonctionnement extrêmes.
"Supraconducteur" (Matériau) (1, 3, 6 et 8): matériau (métal, alliage ou composé)
pouvant perdre toute résistance électrique (c'est-à-dire présenter une conductivité
électrique infinie et transporter de très grandes quantités de courant électrique
sans effet Joule).
N.B.: L'état "supraconducteur" d'un matériau est caractérisé pour chaque
matériau par une "température critique", un champ magnétique critique
qui est fonction de la température, et une intensité de courant critique
qui est fonction à la fois du champ magnétique et de la température.
"Surface aérodynamique à géométrie variable" (7): volets ou volets compensa-
teurs sur les bords de fuite, becs ou nez basculants sur les bords d'attaque dont la
positionpeut être comman dée envol.
"Synthétiseur de fréquence" (3): tout type de sources de fréquence ou de
générateurs de signaux, indépendamment de la technique effectivement utilisée,
fournissant à partir d'une ou de plusieurs sorties de multiples fréquences de sortie
simultanées ou sélectionnables, commandées par, dérivées de ou assujetties à un
nombre moindre de fréquences étalons (ou pilotes).
"Système anti-couple à commande par commande de circulation ou système de
commande de direction par commande de circulation" (7): systèmes utilisant l'air
soufflé sur les surfaces aérodynamiques pour augmenter ou contrôler les forces
produites par ces surfaces.
"Système de commande active de vol" (7): système ayant pour fonction
d'empêcher les mouvements ou les charges structurelles indésirables des
"aéronefs" et des missiles en traitant de façon autonome les données de sortie
émanant de plusieurs capteurs et en fournissant ensuite les ordres préventifs
nécessaires pour assurer une commande automatique.
"Système expert" (4 et 7): système fournissant des résultats par l'application de
règles à des données stockées indépendamment du "programme" et réalisant l'une
des capacités suivantes au moins:
a. modificationautomatique du "code source" tel qu'il a été en tré par l'utilisateur;
b. déclaration de la connaissance liée à une classe de problèmes en langage quasi
naturel;ou
c. acquisition des connaissances nécessaires pour évoluer (apprentissage
symbolique).
"Table rotative inclinable" (2): table permettant à la pièce à usiner de tourner et
de pivoter autour de deux axes non parallèles pouvant être coordonnés
simultanément pour la "commande de contournage".
"Technologie" (NGT, NTN, toutes catégories): connaissances spécifiques
requises pour le "développement", la "production" ou l'"utilisation" d'un produit;
ces connaissances se transmettent par la voie de la "documentation technique" ou
de l'"assistance technique".
N.B. 1: "Assistance technique": assistance pouvant revêtir des formes telles
que: instructions, procédés pratiques, formation, connaissances
appliquées, services de consultants et peut impliquer le transfert de
"documentation technique".
N.B. 2: "Documentation technique": données pouvant se présenter sous des
formes telles que bleus, plans, diagrammes, maquettes, formules,
tableaux, dessins et spécifications d'ingénierie, manuels et instructions
écrits ou enregistrés sur des supports ou dispositifs tels que disques,
bandes magnétiques, mémoires mortes.2000R1334 — FR — 19.01.2002 — 003.001 — 26
▼M3
"Température critique" (1, 3 et 6) (parfois appelée température de transition) d'un
matériau "supraconducteur" spécifique: température à laquelle un matériau perd
toute résistance au flux de courant continu.
"Temps d'attente d'interruption globale" (4): temps nécessaire à un système
informatique pour déceler une interruption due à un phénomène, pour pallier cette
interruption et réaliser un changement de contexte vers une autre tâche de la
mémoire locale prenant en charge l'interruption.
"Temps de commutationde fréquen ce" (3 et 5): temps (c'est-à-dire le délai)
maximal nécessaire lorsqu'on effectue une commutation d'une fréquence de sortie
choisie à une autre fréquence de sortie choisie, pour atteindre:
a. une fréquence à 100 Hz près de la fréquence finale; ou
b. un niveau de sortie à 1 dB du niveau de sortie final."Temps d'établissement" (3): temps requis pour que la valeur de sortie atteigne la
valeur finale à un demi-bit près lors de la commutation entre deux niveaux
quelconques à l'entrée d'un convertisseur.
"Tolérance de panne" (4): aptitude d'un système informatique à continuer, malgré
la défectuosité dufonctionnement de l'un quelconque de ses composants matériels
ou "logiciels", à fonctionner sans intervention humaine à un niveau permettant la
continuité du service, l'intégrité des données et le rétablissement du bon
fonctionnement dans un temps donné.
"Toron" (1): faisceau de "brins" torsadés.
N.B.: "brin": faisceau de "monofilaments" (en général plus de 200)
pratiquement parallèles.
"Traitement de flots de données multiples" (4): technique de "microprogrammes"
ou d'architecture de l'équipement permettant le traitement simultané d'un
minimum de deux séquences de données sous la commande d'une ou de
plusieurs séquences d'instructions par des moyens tels que:
a. les architectures de données multiples à instruction unique (SIMD) telles que
les processeurs matriciels ou vectoriels;
b. les architectures de données multiples à instruction unique et instructions
multiples (MSIMD);
c. les architectures de données multiples à instructions multiples (MIMD), y
compris celles qui sont étroitement connectées, complètement connectées ou
faiblement connectées; ou
d. des réseaux structurés d'éléments de traitement, y compris les réseaux
systoliques.
N.B.: "Microprogramme": séquence d'instructions élémentaires, enregistrées
dans une mémoire spéciale, dont l'exécution est déclenchée par
l'introduction de son instruction de référence dans un registre
d'instructions.
"Toxine" (1 et 2): toxine sous forme de préparation ou de mélange isolé
délibérément produite par un procédé quelconque, autre que les toxines présentes
comme contaminant dans d'autres matières telles que les spécimens pathologi-
ques, les cultures, les denrées alimentaires ou les stocks de semence de "micro-
organismes".
"Traitement de signal" (3, 4, 5 et 6): traitement de signaux externes porteurs
d'informations, au moyen d'algorithmes tels que la compression de temps, le
filtrage, l'extraction, la sélection, la corrélation, la convolution ou les
transformations entre domaines (par exemple, Transformée de Fourier rapide
ou Transformée de Walsh).
"Traitement en temps réel" (2, 4, 6 et 7): traitement de données par un ordinateur
opérant au niveau de fonctionnement nécessaire, en fonction des ressources
disponibles, avec un temps de réponse garanti, sans tenir compte de la charge de
travail du système, quand il est activé par un phénomène extérieur.
"Trempe brusque" (1): procédé servant à "solidifier rapidement" une coulée de
métal en fusion appuyant contre un bloc refroidi, pour obtenir un produit sous
forme de paillettes.
N.B.: "Solidifier rapidement" signifie solidifier un matériau fondu à des
vitesses de refroidissement supérieures à 1 000 K/s.
"Trempe sur rouleau" (1): procédé servant à "solidifier rapidement" une coulée de
métal en fusion appuyant contre un bloc refroidi en rotation, pour obtenir un
produit sous forme de paillettes, rubans ou barres.
N.B.: "Solidifier rapidement" signifie solidifier un matériau fondu à des
vitesses de refroidissement supérieures à 1 000 K/s.
"Uranium appauvri" (0): uranium appauvri en isotope 235 à un niveau inférieur à
celui qui se trouve dans la nature.2000R1334 — FR — 19.01.2002 — 003.001 — 27
▼M3
"Uranium enrichi en isotopes 235 ou 233" (0): uranium contenant de l'isotope 235
ou de l'isotope 233, ou les deux, enquan tités telles que le rapport de la somme
des teneurs en isotopes 235 et 233 à la teneur en isotope 238 est supérieur au
rapport de la teneur en isotope 235 à la teneur en isotope 238 propre à l'"uranium
naturel" (rapport isotopique de l'uranium naturel: 0,72 %).
"Uranium naturel" (0): uranium contenant le mélange d'isotopes qui se trouve
dans la nature.
"Utilisation" (NGT, NTN, toutes catégories) recouvre l'exploitation, l'installation
(y compris l'installation in situ), l'entretien (vérification), la réparation, la révision
et la rénovation.
"Vaccin" (1): préparation destinée à stimuler une réponse immunitaire de
protection chez les humains ou les animaux en vue de prévenir une maladie.
"Véhicule spatial" (7 et 9): satellites actifs et passifs et sondes spatiales.
"Vitesse de précession" (gyroscopes) (7): vitesse de la dérive à la sortie d'un
gyroscope par rapport à la sortie recherchée. Elle est constituée de composantes
aléatoires et systématiques et elle est exprimée en équivalent de déplacement
angulaire à l'entrée par unité de temps par rapport à l'espace inertiel.
"Voile" (2): déplacement axial mesuré en une révolution de la broche principale
dans un plan perpendiculaire au plateau de la broche en un point proche de la
circonférence de celui-ci (cf. norme ISO 230/1, 1986, point 5.63).2000R1334 — FR — 19.01.2002 — 003.001 — 28
▼M3
ACRONYMES ET ABRÉVIATIONS UTILISÉS DANS LA PRÉSENTE
ANNEXE
Les acronymes ou abréviations utilisés en tant que termes définis figurent dans la
rubrique "Définition des termes utilisés dans la présente annexe".
Acronyme ou
abréviationSignification
ABEC Annular Bearing Engineers Committee
AGMA AmericanGear Man ufacturers Association
AHRS systèmes de référence de cap et d'altitude
AISI American Iron and Steel Institute
ANSI American National Standards Institute
ASTM American Society for Testing and Materials
ATC contrôle de la circulation aérienne
BLU bande latérale unique
CAO conception assistée par ordinateur
CAS Chemical Abstracts Service
CCITT Comité consultatif international télégraphique et télépho-
nique
CDU unité de contrôle et visualisation
CEI Commission électrotechnique internationale
CNTD décomposition thermique par nucléation contrôlée
CRISLA réactionchimique par activationlaser isotopiquemen t
sélective
CVD dépôt chimique enphase vapeur
(CW) (lasers) onde entretenueDME équipement de mesure de distance
DSP densité spectrale de puissance
EB-PVD dépôt enphase vapeur par procédé physique par faisceau
d'électrons
(ECM) usinage électrochimique
ECP erreur circulaire probable
ECR résonance électron cyclotron
(EDM) usinage par électroérosion
EEPROM mémoire morte programmable effaçable électriquement
EIA Groupe consultatif de fabricants chargé aux États-Unis de la
rédaction des normes relatives aux équipements électroni-
ques
EMC compatibilité électromagnétique
END essai non destructif
FFT transformée de Fourier rapide
GC guerre chimique
GLONASS système global de navigation par satellites
GPS positionnement global par satellite
HBT transistors hétéro-bipolaires
(HDDR) module d'enregistrement numérique à haute densité
HEMT transistors à haute mobilité d'électrons
IEEE Institut de l'ingénierie électrique et électronique
IFOV champ de vision instantanéILS système d'atterrissage aux instruments
IRIG Inter-range instrumentation group
IRM imagerie par résonance magnétique
ISAR radar à ouverture synthétique inverse2000R1334 — FR — 19.01.2002 — 003.001 — 29
▼M3
Acronyme ou
abréviationSignification
ISO Organisation internationale de normalisation
JIS norme industrielle japonaise
JT Joule-Thomson
LIDAR système laser de localisation
(MAC) code d'authentification de messageMach rapport entre la vitesse d'un objet et la vitesse du son (d'après
Ernst Mach)
MLS système d'atterrissage à micro-ondes
MOCVD dépôt enphase vapeur par procédé chimique organ ométal-
lique
Motps millions d'opérations théoriques par seconde
MTBF temps moyen de bon fonctionnement
MTTF temps moyenjusqu'à défaillan ce
NBC nucléaire, biologique et chimique
OACI Organisation de l'aviation civile internationale
PAR radar d'approche de précision
PIN numéro d'identification personnel
ppm parties par million
QAM modulationd'amplitude enquadrature
RF radiofréquence
SACMA Suppliers of Advance Composite Materials Association
SAR radar à ouverture synthétique
(SC) monocristal
SD solidificationdirigée
SILMO séparationisotope moléculaire par "laser"
SILVA séparationisotope de vapeur atomique par "laser"
RAAL radar aéroporté à antenne latérale
SMPTE Society of Motion Picture and Television EngineersSRAM mémoire vive statique
SRM méthodes recommandées de la SACMA
SSR radar secondaire de surveillance
TCSEC Trusted Computer System EvaluationCriteria (Critères
d'évaluation du système informatique à sécurité multiniveau)
TIR lecture complète de l'aiguille
UAL unité arithmétique et logique
UER Union européenne de radiodiffusion
UIT Union internationale des télécommunications
URA unité remplaçable en atelier
URP unité remplaçable en piste
UTS résistance limite à la rupture
UV ultraviolet
VOR radiophare omnidirectionnel VHF
YAG grenat d'yttrium/aluminium2000R1334 — FR — 19.01.2002 — 003.001 — 30
▼M3
CATÉGORIE 0
MATIÈRES, INSTALLATIONSET ÉQUIPEMENTS NUCLÉAIRES2000R1334 — FR — 19.01.2002 — 003.001 — 31
▼M3
0A Équipements, ensembles et composants
0A001 "Réacteurs nucléaires" et leurs équipements et composants
spécialement conçus ou préparés:
a. "réacteurs nucléaires" capables de fonctionner de façon à
maintenir une réaction de fission en chaîne auto-entretenue etcontrôlée;
b. cuves métalliques, ou leurs principaux éléments préfabriqués,
spécialement conçus ou préparés pour contenir le cœur d'un
"réacteur nucléaire", y compris le couvercle de la cuve sous
pressiondu réacteur;
c. matériel de manutention spécialement conçu ou préparé pour
introduire ou extraire le combustible d'un "réacteur nucléaire";
d. barres de commande spécialement conçues ou préparées pour
régler le processus de fission dans un "réacteur nucléaire", leurs
structures de support ou de suspension, les mécanismes de
réglage des barres de commande et les tubes de guidage de ces
barres;
e. tubes de force spécialement conçus ou préparés pour contenir
les éléments combustibles et le fluide de refroidissement
primaire dans un "réacteur nucléaire" à une pression de régime
supérieure à 5,1 MPa;
f. zirconium métallique et alliages à base de zirconium sous
forme de tubes ou d'assemblages de tubes dans lesquels le
rapport hafnium/zirconium est inférieur à 1/500 parties en
poids, spécialement conçus ou préparés pour être utilisés dans
un"réacteur n ucléaire";
g. pompes de refroidissement spécialement conçues ou préparées
pour faire circuler le fluide de refroidissement primaire de
"réacteurs nucléaires";
h. "internes d'un réacteur nucléaire" spécialement conçus ou
préparés pour être utilisés dans un "réacteur nucléaire", y
compris les colonnes de support du cœur, les canaux de
combustible, les écrans thermiques, les chicanes, les plaques à
grille du cœur et les plaques de diffuseur;
Note: À l'alinéa 0A001.h., l'expression "internes d'un
réacteur nucléaire" désigne toute structure majeure
située à l'intérieur d'une cuve de réacteur et
remplissant une ou plusieurs des fonctions suivantes:
support du cœur, maintien de l'alignement du
combustible, guidage du fluide de refroidissement
primaire, blindage de la cuve du réacteur contre les
radiations et réglage des instruments du cœur.
i. échangeurs de chaleur (générateurs de vapeur) spécialement
conçus ou préparés pour être utilisés dans le circuit du fluide de
refroidissement primaire d'un "réacteur nucléaire";
j. instruments de détection et de mesure des neutrons spéciale-
ment conçus ou préparés pour déterminer les niveaux des flux
de neutrons dans le cœur d'un "réacteur nucléaire".2000R1334 — FR — 19.01.2002 — 003.001 — 32
▼M3
0BÉquipement d'essai, d'inspection et de production
0B001 Installations de séparation des isotopes de l'"uranium naturel", de
l'"uranium appauvri" et des "matières fissiles spéciales", ainsi que
les équipements et composants spécialement conçus ou préparés à
cet effet, comme suit:
a. installations spécialement conçues pour la séparation des
isotopes de l'"uranium naturel", de l'"uranium appauvri" et
des "matières fissiles spéciales", comme suit:
1. installations de séparation à centrifugeuses à gaz;
2. installations de séparation à diffusion gazeuse;3. installations de séparation aérodynamiques;4. installations de séparation par échange chimique;5. installations de séparation à échange ionique;6. installations de séparation isotopique de vapeur atomique
par "laser" (SILVA);
7. installations de séparation isotopique moléculaire par "laser"
(SILMO);
8. installations de séparation à plasma;9. installations de séparation électromagnétique;
b. centrifugeuses à gaz et assemblages et composants, spéciale-
ment conçus ou préparés pour le procédé de séparation par
centrifugeuses à gaz, comme suit:
Note: Au point 0B001.b., on entend par "matériau ayant un
rapport résistance-densité élevé" l'un des matériaux
suivants:
a. acier maraging ayant une résistance maximale à la
traction égale ou supérieure à 2050 MPa;
b. des alliages d'aluminium ayant une résistance
maximale à la traction égale ou supérieure à
460 MPa; ou
c. des "matériaux fibreux ou filamenteux" ayant un
"module spécifique" supérieur à 3,18 × 106me t
une "résistance spécifique à la traction" supérieure
à 76,2 × 103m.
1. centrifugeuses à gaz;2. assemblages de rotors complets;3. cylindres tubes de rotor d'une épaisseur égale ou inférieure
à 12 mm, d'undiamètre compris en tre 75 et 400 mm,
constitués de matériaux ayant un rapport résistance-densité
élevé;
4. bagues ou soufflets d'une épaisseur de paroi égale ou
inférieure à 3 mm et d'un diamètre compris entre 75 et
400 mm, destinés à supporter localement un tube de rotor
ou à assembler uncertainn ombre de tubes de rotor,
constitués de matériaux ayant un rapport résistance-densité
élevé;
5. chicanes d'un diamètre compris entre 75 et 400 mm
destinées à être montées à l'intérieur d'un tube de rotor,
constituées de matériaux ayant un rapport résistance-
densité élevé;
6. couvercles supérieurs ou inférieurs d'un diamètre compris
entre 75 et 400 mm conçus pour s'adapter aux extrémités
d'un tube de rotor et constitués de matériaux ayant un
rapport résistance-densité élevé;
7. supports magnétiques consistant en un aimant en forme
d'anneau suspendu à l'intérieur d'un logement constitué ou
revêtu de "matériaux résistant à la corrosion par l'UF
6",
contenant un fluide amortisseur. L'aimant est couplé à une
pièce polaire ou à un second aimant fixé au couvercle
supérieur du rotor;
8. paliers spécialement préparés constitués d'un ensemble
pivot-écuelle monté sur un amortisseur;
9. pompes moléculaires consistant en cylindres présentant des
rainures hélicoïdales usinées ou filées intérieures et des
alésages usinés intérieurement;2000R1334 — FR — 19.01.2002 — 003.001 — 33
▼M3
10. stators toriques de moteur pour moteurs multiphase à
courant alternatif et à hystérésis (ou à réluctance) destinés à
fonctionner sous vide de manière synchrone dans le régime
de fréquences de 600 à 2 000 Hz et dans une plage de
puissance de 50 à 1 000 VA;
11. enceintes/enveloppes de centrifugeuses destinées à contenir
l'assemblage rotor tubulaire d'une centrifugeuse à gaz,
constituées d'un cylindre rigide possédant une paroi d'au
plus 30 mm d'épaisseur, ayant subi un usinage de précision
aux extrémités et constituées ou revêtues de "matériaux
résistant à la corrosion par l'UF6";
12. écopes composées de tubes ayant un diamètre interne d'au
plus 12 mm conçues pour l'extraction du gaz UF6contenu
dans le bol selon le principe dutube de Pitot, constituées ou
revêtues de "matériaux résistant à la corrosion par l'UF6";
13. changeurs de fréquences (convertisseurs ou inverseurs)
spécialement conçus ou préparés pour alimenter les stators
de moteur en vue de l'enrichissement par centrifugeuses à
gaz et ayant toutes les caractéristiques suivantes, ainsi que
les composants spécialement conçus à cet effet:
a. fréquence électrique multiphase de sortie comprise entre
600 et 2 000 Hz;
b. réglage de la fréquence à moins de 0,1 %;
c. distorsion harmonique inférieure à 2 %; et
d. rendement supérieur à 80 %;
c. équipements et composants, comme suit, spécialement conçus
ou préparés pour le procédé de séparationpar diffusion
gazeuse:
1. barrières de diffusiongazeuse enmatériaux métalliques,
polymères ou céramiques poreux résistant à la corrosion par
l'UF6, d'une dimension des pores de 10 à 100 nm, d'une
épaisseur égale ou inférieure à 5 mm et, pour les
configurations tubulaires, d'un diamètre égal ou inférieur à
25 mm;
2. caissons de diffusion gazeuse constitués ou revêtus de
"matériaux résistant à la corrosion par l'UF6";
3. compresseurs (axiaux, centrifuges ou volumétriques) ou
soufflantes à gaz ayant une capacité d'aspiration de 1 m3/min
ou plus d'UF6et une pression de sortie pouvant atteindre
666,7 kPa, constitués ou revêtus de "matériaux résistant à la
corrosionpar l'UF6";
4. garnitures d'étanchéité d'arbre de compresseurs ou de
soufflantes spécifiées en 0B001.c.3. et conçues pour un
taux de pénétration du gaz tampon inférieur à 1 000 cm3/
min;
5. échangeurs de chaleur réalisés en aluminium, cuivre, nickel
ou alliages contenant plus de 60 % en poids de nickel ou en
combinaisons de ces métaux en tubes gainés, conçus pour
fonctionner à une pression inférieure à la pression
atmosphérique avec untaux de fuite limitan t la hausse de
la pression à moins de 10 Pa par heure pour une différence
de pressionde 100 kPa;
6. vannes à soufflets constituées ou revêtues de "matériaux
résistant à la corrosion par l'UF6", d'undiamètre de 40 à
1 500 mm;
d. équipements et composants spécialement conçus ou préparés
pour le procédé de séparationaérodyn amique:
1. tuyères de séparation consistant en conduites courbes à
fentes avec un rayon de courbure inférieure à 1 mm,
résistant à la corrosion par l'UF6(à l'intérieur de la tuyère se
trouve uncouteau de répartitionqui sépare le flux passan t
par la tuyère endeux flux);
2. tubes cylindriques ou coniques à canaux d'admission
tangentiels commandés par le flux (tubes vortex), constitués
ou revêtus de "matériaux résistant à la corrosion par l'UF6",
d'undiamètre compris en tre 0,5 et 4 cm et d'unrapport
longueur/diamètre inférieur ou égal à 20:1, et munis d'un ou
de plusieurs canaux d'admission tangentiels;2000R1334 — FR — 19.01.2002 — 003.001 — 34
▼M3
3. compresseurs (axiaux, centrifuges ou volumétriques) ou
soufflantes à gaz ayant une capacité d'aspiration de 2 m3/
minute ou plus, constitués ou revêtus de "matériaux résistant
à la corrosionpar l'UF6", et garnitures de palier correspon-
dantes;
4. échangeurs de chaleur constitués ou revêtus de "matériaux
résistant à la corrosion par l'UF6";
5. enceintes pour les éléments de séparation aérodynamique,
constituées ourevêtues de "matériaux résistant à la corrosion
par l'UF6", destinées à recevoir les tubes vortex ou les
tuyères de séparation;
6. vannes à soufflets constituées ou revêtues de "matériaux
résistant à la corrosion par l'UF6", d'undiamètre de 40 à
1 500 mm;
7. systèmes de séparationde l'UF6et dugaz porteur (hydrogène
ou hélium) pour réduire la teneur en UF6à 1 ppm ou moins
comprenant les équipements suivants:
a. échangeurs de chaleur cryogéniques et cryoséparateurs
capables d'atteindre des températures inférieures ou
égales à 153 K (− 120 ºC);
b. appareils de réfrigérationcryogén ique capables
d'atteindre des températures inférieures ou égales à
153 K (− 120 ºC);
c. tuyères de séparationou tubes vortex pour séparer l'UF6du gaz porteur;
d. pièges à froid pour l'UF6capables d'atteindre des
températures inférieures ou égales à 253 K (− 20 ºC);
e. équipements et composants spécialement conçus ou préparés
pour le procédé de séparationpar échan ge chimique:
1. colonnes d'échange rapide liquide-liquide pulsées ayant un
temps de séjour correspondant à un étage de 30 secondes ou
moins et résistant à la corrosion par les solutions d'acide
chlorhydrique concentré (par exemple constituées ou
revêtues de matériaux plastiques appropriés tels que
fluorocarbures polymères ou verre);
2. contacteurs centrifuges liquide-liquide à échange rapide
ayant un temps de séjour correspondant à un étage de 30
secondes ou moins et résistant à la corrosion par les
solutions d'acide chlorhydrique concentré (par exemple
constitués ou revêtus de matériaux plastiques appropriés
tels que fluorocarbures polymères ou verre);
3. cellules de réductionélectrochimique résistan t à la corrosion
par les solutions d'acide chlorhydrique concentré pour la
conversion de l'uranium par réduction d'un état de valence
enunautre;
4. systèmes situés à l'extrémité de la cascade des cellules de
réductionélectrochimique con çus pour prélever U+4sur le
flux organique et, pour les parties en contact avec le flux,
constitués ou revêtus de matériaux appropriés (par exemple
verre, fluorocarbures polymères, sulfate de polyphényle,
polyéther sulfone et graphite imprégné de résine);
5. systèmes de préparationde l'alimen tationpour produire des
solutions de chlorure d'uranium de grande pureté constitués
d'équipements de purification par dissolution, extraction par
solvants et/ou échange d'ions, ainsi que de cellules
électrolytiques pour réduire l'uranium U+6ou U+4enU+3;
6. systèmes d'oxydationde l'uran ium pour oxyder l'U+3enU+4;
f. équipements et composants spécialement conçus ou préparés
pour le procédé de séparation par échange d'ions, comme suit:
1. résines à échange d'ions à réaction rapide, résines poreuses
macroréticulées ou pelliculaires dans lesquelles les groupes
actifs d'échanges chimiques se limitent à un revêtement
superficiel sur unsupport poreux in actif et autres structures
composites sous une forme appropriée, et notamment sous
forme de particules ou de fibres d'undiamètre in férieur ou
égal à 0,2 mm, résistant à l'acide chlorhydrique concentré et
conçues pour obtenir une vitesse d'échange à temps de demi-
réaction inférieur à 10 secondes et efficaces à des2000R1334 — FR — 19.01.2002 — 003.001 — 35
▼M3
températures comprises entre 373 K (100 ºC) et 473 K
(200 ºC);
2. colonnes d'échange d'ions (cylindriques) de plus de
1 000 mm de diamètre constituées ou revêtues de matériaux
résistant à l'acide chlorhydrique concentré (par exemple
titane ou plastiques à base de fluorocarbure) et pouvant
fonctionner à des température comprises entre 373 K
(100 ºC) et 473 K (200 ºC) et à des pressions supérieures
à 0,7 MPa;
3. systèmes d'échange d'ions à reflux (systèmes d'oxydation ou
de réductionchimique ou électrochimique) pour la régén é-
rationdes agen ts chimiques de réductionou d'oxydation
utilisés dans les cascades d'enrichissement à échange d'ions;
g. équipements et composants spécialement conçus ou préparés
pour le procédé de séparationisotopique de vapeur atomique
par "laser" (SILVA):
1. canons à électrons de forte puissance (à faisceau en nappe ou
àbalayage) ayantunepuissancefourniesupérieureà2,5kW/
cm, destinés à être utilisés dans des systèmes de vaporisation
d'uranium;
2. systèmes de manipulation de l'uranium métal liquide pour
l'uranium ou les alliages d'uranium fondus comprenant des
creusets constitués ou revêtus de matériaux résistant à la
chaleur et à la corrosion(par exemple tan tale, graphite
revêtu d'oxyde d'yttrium, graphite revêtu d'autres oxydes de
terres rares ou des mélanges de ces substances) et des
équipements de refroidissement pour les creusets;
N.B.: VOIR AUSSI2A225.
3. systèmes collecteurs pour les produits et les rejets constitués
ou revêtus de matériaux résistant à la chaleur et à la
corrosionpar l'uran ium métal vaporisé ou liquide tels que du
tantale ou du graphite revêtu d'oxyde d'yttrium;
4. enceintes de modules séparateurs (conteneurs cylindriques
ou rectangulaires) pour loger la source de vapeur d'uranium
métal, le canon à électrons et les collecteurs du produit et
des résidus;
5. "lasers" ou systèmes "lasers" pour la séparationdes isotopes
de l'uranium munis d'un stabilisateur de fréquence pour
pouvoir fonctionner pendant de longues périodes;
N.B.: VOIR AUSSI6A005 ET 6A205.
h. équipements et composants spécialement conçus ou préparés
pour le procédé de séparationisotopique moléculaire par "laser"
(SILMO) ou réactionchimique par activationlaser isotopique-
ment sélective (CRISLA):
1. tuyères de détente supersonique pour refroidir les mélanges
d'UF6et de gaz porteur jusqu'à 150 K (− 123 ºC) ou moins et
constitués de "matériaux résistant à la corrosion par l'UF6";
2. collecteurs de filtrage des produits du pentafluorure
d'uranium (UF5) composés de collecteurs ou de combinai-
sons de collecteurs à filtre, à impact ou à cyclone, et
constitués de "matériaux résistant à la corrosion par l'UF5/
UF6";
3. compresseurs constitués ou revêtus de "matériaux résistant à
la corrosionpar l'UF6" et garnitures d'étanchéité d'arbre
correspondantes;
4. équipement servant à la fluoration d'UF5(solide) enUF6(gaz);
5. systèmes de séparationde l'UF6et du gaz porteur (par
exemple azote ou argon) comprenant les équipements
suivants:
a. échangeurs de chaleur cryogéniques et cryoséparateurs
capables d'atteindre des températures inférieures ou
égales à 153 K (− 120 ºC);
b. appareils de réfrigérationcryogén ique capables
d'atteindre des températures inférieures ou égales à
153 K (− 120 ºC);
c. pièges à froid pour l'UF6capables d'atteindre des
températures inférieures ou égales à 253 K (− 20 ºC);2000R1334 — FR — 19.01.2002 — 003.001 — 36
▼M3
6. "lasers" ou systèmes "lasers" pour la séparationdes isotopes
de l'uranium munis d'un stabilisateur de fréquence pour
pouvoir fonctionner pendant de longues périodes;
N.B.: VOIR AUSSI6A005 ET 6A205.
i. équipements et composants spécialement conçus ou préparés
pour le procédé de séparationà plasma:
1. sources d'énergie hyperfréquence et antennes pour produire
ou accélérer des ions et ayant des caractéristiques suivantes:
fréquence de sortie supérieure à 30 GHz et puissance de
sortie moyenne supérieure à 50 kW;
2. bobines de champ à ions à haute fréquence pour des
fréquences supérieures à 100 kHz et capables de supporter
une puissance moyenne supérieure à 40 kW;
3. systèmes générateurs de plasma d'uranium;
4. systèmes de manipulation de métaux liquides pour l'uranium
ou les alliages d'uranium fondus, comprenant des creusets
constitués ou revêtus de matériaux ayant une résistance
appropriée à la corrosionet à la chaleur (par exemple
tantale, graphite revêtu d'oxyde d'yttrium, graphite revêtud'autres oxydes de terres rares ou des mélanges de ces
substances) et les équipements de refroidissement pour les
creusets;
N.B.: VOIR AUSSI2A225.
5. collecteurs pour les produits et les rejets constitués ou
revêtus de matériaux résistant à la chaleur et à l'action
corrosive de la vapeur d'uranium, tels que le graphite revêtu
d'oxyde d'yttrium ou le tantale;
6. enceintes de modules séparateurs (cylindriques) destinées à
loger la source de plasma d'uranium, la bobine excitatrice à
haute fréquence et les collecteurs du produit et des résidus,
et constituées d'un matériau non magnétique approprié (par
exemple acier inoxydable);
j. équipements et composants, spécialement conçus et préparés
pour le procédé de séparationélectromagn étique, comme suit:
1. sources d'ions uniques oumultiples, comprenant la source de
vapeur, l'ionisateur et l'accélérateur de faisceau, constituées
de matériaux non magnétiques appropriés (par exemple
graphite, acier inoxydable ou cuivre) et capables de fournir
un courant d'ionisation total égal ou supérieur à 50 mA;
2. plaques collectrices d'ions comportant des fentes ou des
poches (deux ou plus) pour collecter les faisceaux d'ions
d'uranium enrichis ou appauvris, et constitués de matériaux
non magnétiques appropriés (par exemple le graphite ou
l'acier inoxydable);
3. enceintes à vide pour les séparateurs électromagnétiques
d'uranium, constituées de matériaux non magnétiques (par
exemple l'acier inoxydable) et conçues pour fonctionner à
des pressions inférieures ou égales à 0,1 Pa;
4. pièces polaires d'undiamètre supérieur à 2 m;
5. alimentations haute tension pour les sources d'ions ayant
toutes les caractéristiques suivantes:
a. capables d'un fonctionnement permanent;
b. tension de sortie supérieure ou égale à 20000 V;
c. courant de sortie supérieur ou égal à 1 A;
et
d. régulation de tension meilleure que 0,01 % sur une
période de 8 heures;
N.B.: VOIR AUSSI3A227.
6. alimentation des aimants (haute intensité, courant continu)
ayant toutes les caractéristiques suivantes:
a. capables d'un fonctionnement permanent avec un courant
de sortie supérieur ou égal à 500 A sous une tension
supérieure ou égale à 100 V; et
b. régulation du courant ou de la tension meilleure que
0,01 % sur une période de 8 heures.
N.B.: VOIR AUSSI3A226.2000R1334 — FR — 19.01.2002 — 003.001 — 37
▼M3
0B002 Systèmes auxiliaires, équipements et composants spécialement
conçus ou préparés, comme suit, pour les usines de séparation
isotopique spécifiées en0B001, con stitués ou revêtus de
"matériaux résistant à la corrosion par l'UF6":
a. autoclaves d'alimentation, fours ou systèmes, utilisés pour
introduire l'UF6dans le système d'enrichissement;
b. condenseurs ou pièges à froid utilisés pour extraire l'UF6du
système d'enrichissement pour un transfert par réchauffage;
c. stations pour produits et résidus pour le transfert de l'UF6dans
les conteneurs;
d. stations de liquéfaction ou de solidification utilisées pour
extraire l'UF6du système d'enrichissement par compression,
refroidissement et conversion de l'UF6sous forme liquide ou
solide;
e. tuyauteries et collecteurs spécialement conçus pour la manipu-
lationde l'UF6à l'intérieur des cascades de diffusion, de
centrifugation ou aérodynamiques;
f. 1. distributeurs à vide ou collecteurs à vide ayant une capacité
d'aspirationégale ou supérieure à 5 m3/minute;ou
2. pompes à vide spécialement conçues pour fonctionner en
atmosphère d'UF6;
g. spectromètres de masse pour l'UF6/sources d'ions spécialement
conçus ou préparés pour prélever en continu des échantillons
d'alimentation, de produit ou de rejets dans les flux gazeux
d'UF6et présentant toutes les caractéristiques suivantes:
1. résolutionmassique un itaire supérieure à 320;
2. sources d'ions constituées ou revêtues de nichrome ou de
monel, ou nickelées;
3. sources d'ionisation par bombardement électronique; et
4. collecteur adapté à l'analyse isotopique.
0B003 Usines de conversion de l'uranium et matériel spécialement conçu
ou préparé à cette fin:
a. systèmes pour la conversion des concentrés de minerai
d'uranium en UO3;
b. systèmes pour la conversion d'UO3enUF6;
c. systèmes pour la conversion d'UO3enUO2;
d. systèmes pour la conversion d'UO2enUF4;
e. systèmes pour la conversion d'UF4enUF6;
f. systèmes pour la conversion d'UF4enuran ium métal;
g. systèmes pour la conversion d'UF6enUO2;
h. systèmes pour la conversion d'UF6enUF4;
i. systèmes pour la conversion d'UO2enUCl4.
0B004 Installations de production ou de concentration d'eau lourde, de
deutérium ou de composés de deutérium ainsi que les équipements
et composants spécialement conçus ou préparés à cet effet, à
savoir:
a. installations de production d'eau lourde, de deutérium ou de
composés de deutérium, comme suit:
1. installations d'échange eau-sulfure d'hydrogène;
2. installations d'échange ammoniac-hydrogène;
b. équipements et composants, comme suit:
1. tours d'échange eau-sulfure d'hydrogène fabriquées en acier
fin au carbone (par exemple ASTM A516), ayant un
diamètre compris entre 6 et 9 m, capables de fonctionner à
des pressions supérieures ou égales à 2 MPa et ayant une
surépaisseur de corrosionde 6 mm ou plus;
2. soufflantes ou compresseurs centrifuges à étage unique sous
basse pression(c'est-à-dire 0,2 MPa) pour la circulationde
sulfure d'hydrogène (c'est-à-dire un gaz contenant plus de
70 % de H2S) avec une capacité de débit supérieure ou égale
à5 6m3/s lorsqu'ils fonctionnent à des pressions d'aspiration
supérieures ou égales à 1,8 MPa et sont équipés de joints2000R1334 — FR — 19.01.2002 — 003.001 — 38
▼M3
conçus pour être utilisés en milieu humide en présence de
H2S;
3. tours d'échange ammoniac-hydrogène d'une hauteur supé-
rieure ou égale à 35 m, ayant un diamètre compris entre 1,5
et 2,5 m et pouvant fonctionner à des pressions supérieures à
15 MPa;
4. internes de tour, y compris les contacteurs d'étage, et les
pompes d'étage, y compris les pompes submersibles, pour la
production d'eau lourde par le procédé d'échange ammoniac-
hydrogène;
5. craqueurs d'ammoniac ayant une pression de fonctionnement
supérieure ou égale à 3 MPa pour la productiond'eau lourde
par le procédé d'échange ammoniac-hydrogène;
6. analyseurs à absorption d'infrarouge capables d'analyser le
rapport hydrogène-deutérium en continu avec des concen-trations de deutérium égales ou supérieures à 90 %;
7. brûleurs catalytiques pour la conversion en eau lourde du
deutérium enrichi par le procédé d'échange ammoniac-
hydrogène;
8. systèmes complets d'enrichissement de l'eau lourde ou
colonnes conçues à cet effet, pour l'enrichissement de l'eau
lourde jusqu'au niveau de concentration du deutérium requis
pour les réacteurs.
0B005 Installations spécialement conçues pour la fabrication d'éléments
combustibles pour "réacteurs nucléaires" et équipements spéciale-
ment conçus ou préparés à cet effet.
Note: Une installation de fabrication d'éléments combustibles
pour "réacteurs nucléaires" comprend le matériel qui:
a. entre normalement en contact direct avec le flux de
production des matières nucléaires, le traite directe-
ment ou en assure directement le réglage;
b. assure le scellage des matières nucléaires à l'intérieur
de la gaine;
c. vérifie l'intégrité de la gaine ou du scellage; ou
d. vérifie le traitement de finition du combustible scellé.
0B006 Installations de retraitement des éléments irradiés de combustible
pour "réacteurs nucléaires" et les équipements et composants
spécialement conçus ou préparés à cet effet.
Note: Le paragraphe 0B006 inclut:
a. les installations de retraitement des éléments combus-
tibles nucléaires irradiés, y compris les équipements
et composants qui sont normalement en contact direct
avec le combustible irradié et qui contrôlent directe-
ment les flux les plus importants de traitement des
matières nucléaires et des produits de fission;
b. les machines à hacher ou à déchiqueter les éléments
de combustible, c'est-à-dire des équipements télécom-
mandés destinés à couper, hacher, déchiqueter ou
cisailler les assemblages, faisceaux ou barres de
combustible nucléaire irradié;
c. les dissolveurs, récipients de sûreté anticriticité (par
exemple récipients de petit diamètre, annulaires ou
plats) spécialement conçus ou préparés pour la
dissolution du combustible nucléaire irradié, capables
de supporter des liquides chauds et hautement
corrosifs et pouvant être chargés et entretenus à
distance;
d. les extracteurs à solvant à contre-courant et équipe-
ments de traitement à échange d'ions spécialement
conçus ou préparés pour être utilisés dans des
installations de retraitement d'"uranium naturel",
d'"uranium appauvri" ou de "matières fissiles
spéciales";
e. les cuves de stockage ou d'entreposage spécialement
conçues de façon à éviter la criticité ou à résister à
l'action corrosive de l'acide nitrique;2000R1334 — FR — 19.01.2002 — 003.001 — 39
▼M3
Note: Les cuves de stockage ou d'entreposage
peuvent présenter les caractéristiques
suivantes:
1. parois ou structures internes ayant un
équivalent en bore (calculé pour tous les
constituants tels qu'ils sont définis dans la
note au paragraphe 0C004) d'au moins
2% ;
2. un diamètre maximal de 175 mm pour les
configurations cylindriques; ou
3. une largeur maximale de 75 mm pour une
configuration plate ou annulaire.
f. instruments de contrôle des procédés spécialement
conçus ou préparés pour la commande ou le suivi du
retraitement de l'"uranium naturel", de l'"uranium
appauvri" ou des "matières fissiles spéciales" irradiés.
0B007 Installations de conversion de plutonium et les équipements
spécialement conçus ou préparés à cet effet, comme suit:
a. systèmes de conversion de nitrate de plutonium en oxyde de
plutonium;
b. systèmes de productionde pluton ium métal.2000R1334 — FR — 19.01.2002 — 003.001 — 40
▼M3
0C Matières nucléaires
0C001 "Uranium naturel" ou "uranium appauvri" ou thorium sous la
forme d'unmétal, d'unalliage, d'uncomposé chimique ou d'un
concentré et toute autre matière contenant une ou plusieurs des
substances qui précèdent.
Note: Le point 0C001 ne vise pas:
a. les charges de quatre grammes ou moins d'"uranium
naturel" ou d'"uranium appauvri" lorsqu'elles sont
contenues dans un organe détecteur d'un instrument;
b. l'"uranium appauvri" spécialement fabriqué pour les
applications non nucléaires civiles suivantes:
1. blindage;
2. remblai;3. lest d'une masse maximale de 100 kg;4. contrepoids d'une masse maximale de 100 kg;
c. les alliages contenant moins de 5 % de thorium;
d. les produits céramiques contenant du thorium, qui ont
été fabriqués pour des usages non nucléaires.
0C002 "Matières fissiles spéciales"
Note: Le paragraphe 0C002 ne vise pas les charges de quatre
"grammes effectifs" ou moins lorsqu'elles sont contenues
dans un organe détecteur d'un instrument.
0C003 Deutérium, eau lourde (oxyde de deutérium) et autres composés du
deutérium ainsi que les mélanges et solutions contenant du
deutérium, dans lesquels le rapport isotopique deutérium/hydro-
gène est supérieur à 1/5 000.
0C004 Graphite, de qualité nucléaire, ayant un degré de pureté inférieur à
5 parties par million d'"équivalent de bore" et une densité
supérieure à 1,5 g/cm3.
N.B.: VOIR ÉGALEMENT 1C107.
Note 1: Le paragraphe 0C004 ne vise pas ce qui suit:
a) les objets en graphite ayant un poids inférieur à
1 kg, autres que ceux spécialement conçus ou
préparés pour l'utilisation dans un réacteur
nucléaire;
b) la poudre de graphite.
Note 2: Au paragraphe 0C004, "équivalent de bore" (EB) est
défini comme le total de EBzpour les impuretés (à
l'exclusion de l'EBcarbonepuisque le carbone n'est pas
considéré comme une impureté), y compris le bore, où:
EBz(ppm) = FC × concentration de l'élément Z en
ppm;
où FC est le facteur de conversion =σZ/C2AB
σB/C2AZet où σBetσZsont les sections de capture de neutrons
thermiquesexprimées (en barns)respectivement pourle
bore présent dans la nature et l'élément Z,
ABet AZétant les masses atomiques du bore présent
dans la nature et de l'élément Z, respectivement.
0C005 Composés ou poudres spécialement préparés pour la formation de
barrières de diffusiongazeuse, résistan t à la corrosionpar l'UF6(par exemple nickel ou un alliage contenant 60 % en poids ou plusde nickel, l'oxyde d'aluminium et les polymères d'hydrocarbures
entièrement fluorés), ayant un degré de pureté de 99,9 % en poids
ou plus, une dimension particulaire moyenne inférieure à 10
micromètres — mesurée selonla n orme B330 de l'ASTM — et un
haut degré d'uniformité des dimensions des particules.2000R1334 — FR — 19.01.2002 — 003.001 — 41
▼M3
0D Logiciel
0D001 "Logiciel" spécialement conçu ou modifié pour le "développe-
ment", la "production" ou l'"utilisation" des biens figurant dans la
présente catégorie.2000R1334 — FR — 19.01.2002 — 003.001 — 42
▼M3
0E Technologie
0E001 "Technologie", au sens de la note relative à la technologie
nucléaire, pour le "développement", la "production" ou l'"utilisa-
tion" des biens figurant dans la présente catégorie.2000R1334 — FR — 19.01.2002 — 003.001 — 43
▼M3
CATÉGORIE 1
MATÉRIAUX, PRODUITS CHIMIQUES, "MICRO-ORGANISMES" ET
"TOXINES"2000R1334 — FR — 19.01.2002 — 003.001 — 44
▼M3
1A Systèmes, équipements et composants
1A001 Composants constitués de composés fluorés, comme suit:
a. joints, garnitures d'étanchéité, agents d'étanchéité ou réservoirs
souples à carburant spécialement conçus pour des applications
spatiales ou aéronautiques, constitués de plus de 50 % de l'une
des substances visées aux alinéas 1C009.b. ou 1C009.c.;
b. polymères et copolymères piézo-électriques constitués des
substances de fluorure de vinylidène visées à l'alinéa 1C009.a.:
1. sous forme de film ou de feuille; et
2. ayant une épaisseur supérieure à 200 µm;
c. joints, garnitures d'étanchéité, sièges de soupapes, réservoirs
souples ou membranes constitués de fluoroélastomères conte-
nant au moins un groupe de vinyléther comme élément
constitutif, spécialement conçus pour des applications aéronau-
tiques, spatiales ou dans les "missiles".
Note: Dans l'alinéa 1A001.c., "missile" désigne des systèmes
complets de fusée et des systèmes de véhicules aériens
non habités.
1A002 Structures ou produits laminés "composites":
N.B.: VOIR ÉGALEMENT 1A202, 9A010 ET 9A110.
a. comportant une "matrice" organique et fabriqués à partir de
matériaux visés aux alinéas 1C010.c, 1C010.d. ou 1C010.e.; ou
b. comportant une "matrice" métallique ou de carbone et fabriqués
à partir de:
1. "matériaux fibreux ou filamenteux" au carbone ayant:
a. un"module spécifique" supérieur à 10,15 × 106m;et
b. une "résistance spécifique à la traction" supérieure à
17,7 × 104m;ou
2. matériaux visés à l'alinéa 1C010.c.
Note 1: Le paragraphe 1A002 ne vise pas les structures ou
produits laminés composites fabriqués à partir de
"matériaux fibreux ou filamenteux" de carbone impré-
gnés de résine époxyde, destinés à la réparation de
structures ou produits laminés pour aéronefs, et dont la
dimension ne dépasse pas 1 m2.
Note 2: Le paragraphe 1A002 ne vise pas les produits finis ou
semi-finis, spécialement conçus pour les applications
purement civiles suivantes:
a. matériel de sport;
b. industrie automobile;
c. industrie de la machine-outil;
d. applications médicales.
1A003 Produits manufacturés, en substances polymères non fluorées
visées à l'alinéa 1C008.a.3 sous forme de film, feuille, bande ou
ruban:
a. ayant une épaisseur supérieure à 0,254 mm; ou
b. revêtus de, ou stratifiés avec, du carbone, du graphite, des
métaux ou des substances magnétiques.
Note: Le paragraphe 1A003 ne vise pas les produits manu-
facturés revêtus de, ou stratifiés avec, du cuivre et conçus
pour la production de cartes de circuits imprimés
électroniques.
1A004 Équipements de protection et de détection et leurs composants,
autres que ceux visés dans la liste des matériels de guerre, comme
suit:
N.B.: VOIR ÉGALEMENT 2B351 ET 2B352.
a. Masques à gaz, cartouches filtrantes et équipements de
décontamination spécialement conçus ou modifiés pour la
protection contre les agents biologiques ou substances radio-
actives "adaptés pourusage de guerre" oules toxiques de guerre
et leurs composants spécialement conçus;2000R1334 — FR — 19.01.2002 — 003.001 — 45
▼M3
b. Vêtements, gants et chaussures de protection spécialement
conçus pour la protection contre les agents biologiques ou les
substances radioactives "adaptés pour usage de guerre" ou les
toxiques de guerre;
c. Systèmes de détectionn ucléaire, biologique et chimique (NBC)
spécialement conçus ou modifiés pour la détection ou
l'identification des agents biologiques ou substances radio-
actives "adaptés pour usage de guerre" ou des toxiques de
guerre et leurs composants spécialement conçus.
Note: Le paragraphe 1A004 ne vise pas:
a. les dosimètres personnels de surveillance de l'irradia-
tion;
b. les équipements limités par leur conception ou leur
fonction à la protection contre les risques propres aux
industries civiles telles que les exploitations minières,
les carrières, l'agriculture, l'industrie pharmaceu-
tique, le secteur médical et vétérinaire,
l'environnement, la gestion des déchets ou l'industrie
alimentaire.
1A005 Gilets pare-balles et leurs composants spécialement conçus, autres
que ceux fabriqués selon les normes ou spécifications militaires ou
leurs équivalents en performance.
N.B.: VOIR ÉGALEMENT LISTE DES MATÉRIELS DE
GUERRE
Note 1: Le paragraphe 1A005 ne vise pas les gilets pare-balles
individuels et leurs accessoires qui accompagnent les
utilisateurs pour leur protection individuelle.
Note 2: Le paragraphe 1A005 ne vise pas les gilets pare-balles
conçus pour la seule protection frontale contre les
éclats et le souffle de dispositifs explosifs non
militaires.
1A102 Composants carbone-carbone réimprégnés et pyrolisés, conçus
pour les lanceurs spatiaux visés au paragraphe 9A004 ou les fusées
sondes visées au paragraphe 9A104.
1A202 Structures composites autres que celles visées au paragraphe
1A002, sous forme de tubes et présentant les deux caractéristiques
suivantes:
N.B.: VOIR ÉGALEMENT 9A010 ET 9A110.
a. un diamètre intérieur compris entre 75 et 400 mm, et
b. fabriquées avec l'undes "matériaux fibreux ou filamen teux"
visés aux alinéas 1C010.a. ou .b. ou 1C210.a., ou avec des
matériaux préimprégnés au carbone visés à l'alinéa 1C210.c.
1A225 Catalyseurs platinés spécialement conçus ou préparés pour
provoquer la réaction d'échange des isotopes d'hydrogène entre
l'hydrogène et l'eau en vue de la récupération du tritium de l'eau
lourde ou de la productiond'eau lourde.
1A226 Charges spéciales pouvant être utilisées pour la séparation de l'eau
lourde et de l'eau ordinaire et présentant les deux caractéristiques
suivantes:
a. fabriquées en mailles de bronze phosphoreux ayant subi un
traitement chimique améliorant leur mouillabilité, et
b. conçues pour être utilisées dans des tours de distillation sous
vide.
1A227 Fenêtres de blindage antirayonnements à haute densité (verre au
plomb ou autre matériau), présentant toutes les caractéristiques
suivantes, ainsi que leurs cadres spécialement conçus:
a. une 'superficie du côté froid' supérieure à 0,09 m2;
b. une masse volumique supérieure à 3 g/cm3;et
c. une épaisseur égale ou supérieure à 100 mm.2000R1334 — FR — 19.01.2002 — 003.001 — 46
▼M3
Note technique:
Au paragraphe 1A227, l'expression 'superficie du côté froid'
désigne la superficie de vision de la fenêtre exposée au niveau de
radiation le plus bas dans l'application.2000R1334 — FR — 19.01.2002 — 003.001 — 47
▼M3
1BÉquipements d'essai, de contrôle et de production
1B001 Équipements pour la production de fibres, de préimprégnés, de
préformés ou de matériaux "composites" visés aux paragraphes
1A002 ou 1C010, comme suit, et leurs composants et accessoires
spécialement conçus:
N.B. VOIR ÉGALEMENT 1B101 ET 1B201.
a. machines pour le bobinage de filaments dont les mouvements
de mise en position, d'enroulement et de bobinage de la fibre
sont coordonnés et programmés selon trois ou plus de troisaxes, spécialement conçues pour fabriquer des structures ou des
produits laminés "composites" à partir de "matériaux fibreux ou
filamenteux";
b. machines pour la pose de bandes ou pour le placement de
câbles de filaments dont les mouvements de mise en position et
de pose de bandes, de câbles de filaments ou de feuilles sont
coordonnés et programmés selon deux ou plus de deux axes,
spécialement conçues pour la fabrication de structures "compo-
sites" pour cellules d'avions ou de 'missiles';
Note: À l'alinéa 1B001.b., 'missile' désigne des systèmes
complets de fusée et des systèmes de véhicules aériens
non habités.
c. machines de tissages multidirectionnel/multidimensionnel ou
machines à entrelacer, y compris les adaptateurs et les
ensembles de modification, pour tisser, entrelacer ou tresser
les fibres envue de la fabricationde structures "composites";
Note: L'alinéa 1B001.c. ne vise pas les machines textiles qui
n'ont pas été modifiées en vue des utilisations finales
susmentionnées.
d. équipements spécialement conçus ou adaptés pour la produc-
tion de fibres de renforcement, comme suit:
1. équipements pour la transformation de fibres polymères
(telles que polyacrylonitrile, rayonne, brai ou polycarbosi-
lane) en fibres de carbone ou en fibres de carbure de
silicium, y compris le dispositif spécial pour la tension du fil
au cours du chauffage;
2. équipements pour le dépôt en phase vapeur par procédé
chimique d'éléments ou de composés sur des substrats
filamenteux chauffés pour la fabrication de fibres de carbure
de silicium;
3. équipements pour l'extrusion par voie humide de céramique
réfractaire (telle que l'oxyde d'aluminium);
4. équipements pour la transformation, par traitement ther-
mique, d'aluminium contenant des fibres de matériaux
précurseurs enfibres d'alumin e;
e. équipements pour la production, par la méthode de fusion à
chaud, des fibres préimprégnées visées à l'alinéa 1C010.e.;
f. équipements de vérification non destructive pouvant servir à la
vérification en trois dimensions des défauts, faisant appel à
l'échotomographie ou à la radiotomographie, et spécialement
conçus pour les matériaux "composites".
1B002 Équipements pour la production des alliages métalliques, poudres
d'alliages métalliques ou matériaux alliés spécialement conçus
pour éviter la contamination et spécialement conçus pour être
utilisés dans l'un des procédés visés à l'alinéa 1C002.c.2.
N.B. VOIR ÉGALEMENT 1B102.
1B003 Outils, matrices, moules ou montages, pour le "formage à l'état de
superplasticité" ou le "soudage par diffusion" du titane, de
l'aluminium ou de leurs alliages, spécialement conçus pour la
fabrication:
a. de structures pour cellules d'avions ou structures aérospatiales;
b. de moteurs aéronautiques ou aérospatiaux; ou
c. de composants spécialement conçus pour ces structures ou
moteurs.
1B101 Équipements autres que ceux visés au paragraphe 1B001, et leurs
composants et accessoires, spécialement conçus pour la "produc-
tion" de structures composites comme suit:2000R1334 — FR — 19.01.2002 — 003.001 — 48
▼M3
N.B. VOIR ÉGALEMENT 1B201.
Note: Les composants et accessoires visés au paragraphe
1B101 comprennent les moules, mandrins, matrices,montages et outils servant à ébaucher, polymériser,
couler, fritter ou assembler les structures composites, les
stratifiés et leurs produits manufacturés.
a. machines pour le bobinage de filaments dont les mouvements
de mise en position, de bobinage et d'enroulement des fibres
sont coordonnés et programmés selon trois ou plus de trois
axes, spécialement conçues pour la fabrication de structures
composites ou de produits stratifiés à partir de matériaux
fibreux ou filamenteux, ainsi que les commandes de program-
mation et de coordination;
b. machines pour la pose de bandes dont les mouvements de mise
en position et de pose de bandes et de feuilles sont coordonnés
et programmés selondeux ou plus de deux axes, spécialemen t
conçues pour la réalisation de structures composites pour
cellules de véhicules aériens et de "missiles";
c. équipements spécialement conçus ou adaptés pour la "produc-
tion" de "matériaux fibreux ou filamenteux", comme suit:
1. équipements pour la transformation de fibres polymères
(telles que polyacrylonitrile, rayonne ou polycarbosilane), y
compris le dispositif spécial pour la tension du fil pendant le
chauffage;
2. équipements pour le dépôt en phase gazeuse d'éléments ou
de composés sur des substrats filamenteux chauffés;
3. équipements pour l'extrusion par voie humide des cérami-
ques réfractaires (par exemple l'oxyde d'aluminium);
d. équipements spécialement conçus ou adaptés pour le traitement
de la surface des fibres ou pour la réalisationdes préimprégn és
et des préformés visés au paragraphe 9C110.
Note: Les équipements visés à l'alinéa 1B101.d. incluent les
rouleaux, tendeurs, matériels de revêtement, matériels
de coupe et matrices "clickers".
1B102 "Équipements de production" de poudre de métal, autres que ceux
visés au paragraphe 1B002, et leurs composants comme suit:
N.B.: VOIR ÉGALEMENT 1B115.b.
a. "équipements de production" de poudre de métal pouvant servir
à la "production", en environnement contrôlé, de matériaux
sphériques ou atomisés visés aux alinéas 1C011.a., 1C011.b.,
1C111.a.1., 1C111.a.2. ou dans la liste des biens à usage
militaire;
b. composants spécialement conçus pour les "équipements de
production" visés au paragraphe 1B002 ou à l'alinéa 1B102.a.
Note: Le paragraphe 1B102 comprend:
a. les générateurs de plasma (propulseurs électrothermi-
ques à arc à haute fréquence) pouvant servir pour
obtenir des poudres métalliques déposées par pulvé-
risation ou sphériques, le processus étant organisé
dans un environnement argon-eau;
b. les équipements d'électro-explosion utilisables pour
l'obtention de poudres métalliques sphériques ou
atomisées, le processus étant organisé dans un
environnement argon-eau;
c. les équipements pouvant servir pour la "production"
de poudres d'aluminium sphériques par injection
d'une matière fondue dans un support inerte (par
exemple l'azote).
1B115 Équipements, autres que ceux visés au paragraphe 1B002 ou
1B102, pour la production de propergols et de constituants de
propergols, comme suit, et leurs composants spécialement conçus:
a. "équipements de production" pour la "production", la manipu-
lationou les essais de réceptiondes propergols liquides ou de
leurs constituants visés aux alinéas 1C011.a., 1C011.b., 1C111
ou à la liste des matériels de guerre;
b. "équipements de production" pour la "production", la manipu-
lation, le mélange, la polymérisation, le moulage,2000R1334 — FR — 19.01.2002 — 003.001 — 49
▼M3
l'emboutissage, l'usinage, l'extrusion ou les essais de réception
des propergols liquides ou de leurs constituants visés aux
alinéas 1C011.a., 1C011.b., 1C111 ou à la liste des matériels de
guerre.
Note: L'alinéa 1B115.b. ne vise pas les mélangeurs par
charge, les mélangeurs en continu ou broyeurs à
combustible liquide. Pour le contrôle des mélangeurs
par charge, des mélangeurs en continu ou des
broyeurs à jet liquide, voir les paragraphes 1B117,
1B118 et 1B119.
Note 1: Pour les équipements de production spécialement
conçus pour un usage militaire, voir la liste des
matériels de guerre.
Note 2: Le paragraphe 1B115 ne vise pas les équipements de
"production", de manipulation et d'essai de réception
du carbure de bore.
1B116 Tuyères spécialement conçues pour la fabrication de matériaux
dérivés par pyrolyse mis enforme sur unmoule, unman drinou un
autre support à partir de précurseurs gazeux qui se décomposent à
une température comprise entre 1 573 K (1 300 ºC) et 3 173 K
(2 900 ºC) et à une pression comprise entre 130 Pa et 20 kPa.
1B117 Mélangeurs par charge capables de mélanger sous vide dans la
fourchette de zéro à 13,326 kPa et de contrôler la température dans
le caisson de mélange, et présentant toutes les caractéristiques
suivantes et leurs composants spécialement conçus:
a. une capacité volumétrique totale supérieure ou égale à 110
litres;et
b. au moins un bras à mélanger/pétrir excentré.
1B118 Mélangeurs en continu capables de mélanger sous vide dans la
fourchette de zéro à 13,326 kPa et de contrôler la température dans
le caisson de mélange, et présentant toutes les caractéristiques
suivantes et leurs composants spécialement conçus:
a. deux ou plus de deux bras à mélanger/pétrir; et
b. possibilité d'ouvrir le caissonde mélan ge.
1B119 Broyeurs à jet liquide pouvant servir à meuler ou broyer les
substances visées aux alinéas 1C011.a., 1C011.b., au paragraphe
1C111 ou dans la liste des biens à usage militaire et leurs
composants spécialement conçus.
1B201 Machines pour le bobinage de filaments, autres que celles visées
aux paragraphes 1B001 ou 1B101, et les équipements connexes,
comme suit:
a. Machines pour le bobinage de filaments présentant toutes les
caractéristiques suivantes:
1. les mouvements de mise en position, d'enroulement et
d'embobinage de la fibre sont coordonnés et programmés
selondeux ou plus de deux axes;
2. spécialement conçues pour fabriquer des structures ou des
produits stratifiés composites à partir de "matériaux fibreux
ou filamenteux"; et
3. capables de faire tourner des rotors cylindriques d'un
diamètre compris entre 75 et 400 mm et d'une longueur de
600 mm ou plus;
b. Commandes servant à coordonner et programmer les machines
pour le bobinage de filaments spécifiées à l'alinéa 1B201.a.;
c. Mandrins de précision destinés aux machines pour le bobinage
de filaments spécifiées à l'alinéa 1B201.a.
1B225 Cellules électrolytiques pour la productionde fluor, don t la
capacité de productiondépasse 250 g de fluor par heure.
1B226 Séparateurs électromagnétiques d'isotopes, conçus pour ou équipés
de sources ioniques uniques ou multiples capables de produire un
courant total de faisceau ionique de 50 mA ou plus.
Note: Le paragraphe 1B226 comprend les séparateurs:
a. capables d'enrichir des isotopes stables;2000R1334 — FR — 19.01.2002 — 003.001 — 50
▼M3
b. dans lesquels les sources d'ions et les collecteurs se
trouvent à l'intérieur du champ magnétique et ceux
dans lesquels ils sont extérieurs au champ.
1B227 Convertisseurs pour la synthèse de l'ammoniac, unités de synthèse
de l'ammoniac dans lesquelles le gaz servant à la synthèse (azote et
hydrogène) est extrait d'une colonne d'échange ammoniac/hydro-
gène à haute pression et l'ammoniac synthétisé réintroduit dans la
même colonne.
1B228 Colonnes de distillation cryogéniques à hydrogène possédant
toutes les caractéristiques suivantes:
a. conçues pour fonctionner à une température intérieure de 35 K
(− 238 ºC) ou moins;
b. conçues pour fonctionner à une pression intérieure de 0,5 à
5 MPa (5 à 50 atmosphères);
c. fabriquées:
1. soit en acier inoxydable de la série 300 avec une faible
teneur en soufre, dont le numéro de grain, selon la norme
ASTM (ou une norme équivalente), est égal ou supérieur à
5;
2. soit enmatériaux équivalen ts compatibles avec H2et la
cryogénie; et
d. avec un diamètre intérieur égal ou supérieur à 1 m et une
longueur effective égale ou supérieure à 5 m.
1B229 Colonnes d'échange à plateaux eau-acide sulfhydrique et 'contac-
teurs internes', comme suit:
N.B. Pour les colonnes spécialement conçues ou préparées
pour la production d'eau lourde, voir 0B004.
a. colonnes d'échange à plateaux eau-acide sulfhydrique, présen-
tant toutes les caractéristiques suivantes:
1. capables de fonctionner à des pressions de 2 MPa ou plus;
2. fabriquées en acier au carbone dont le numéro de grain,
selon la norme ASTM (ou une norme équivalente), est égal
ou supérieur à 5; et
3. ayant un diamètre de 1,8 m ou plus.
b. 'contacteurs internes' pour les colonnes d'échange à plateaux
eau-acide sulfhydrique visés à l'alinéa 1B229.a.
Note technique:
Les 'contacteurs internes' des colonnes sont des plateaux
segmentés dont le diamètre utile assemblé est égal ou supérieur
à 1,8 m; ils sont conçus pour faciliter le contact à contre-
courant et fabriqués en aciers inoxydables dont la teneur en
carbone est égale ou inférieure à 0,03 %. Il peut s'agir de
plateaux perforés, de plateaux à soupape, de plateaux à calotte
ou de plateaux à turbo-grille.
1B230 Pompes capables de faire circuler des solutions d'un catalyseur
d'amidure de potassium concentré ou dilué dans de l'ammoniaque
liquide (KNH2/NH3), possédant toutes les caractéristiques
suivantes:
a. parfaitement étanches à l'air (c'est-à-dire scellées hermétique-
ment);
b. une capacité supérieure à 8,5 m3/h;et
c. l'une des caractéristiques suivantes:
1. pour les solutions d'amidure de potassium concentré (1 % ou
plus), une pression de fonctionnement de 1,5 à 60 MPa;
2. pour les solutions d'amidure de potassium dilué (moins de
1 %), une pression de fonctionnement de 20 à 60 MPa.
1B231 Installations ou unités, et équipements concernant le tritium,
comme suit:
a. installations, ou unités pour la production, la récupération,
l'extraction, la concentration ou la manipulation de tritium;2000R1334 — FR — 19.01.2002 — 003.001 — 51
▼M3
b. équipements pour les installations ou unités de tritium, comme
suit:
1. unités de refroidissement à l'hydrogène ou à l'hélium,
capables de refroidir jusqu'à 23 K (− 250 ºC) ou moins,
avec une capacité d'extraction de la chaleur supérieure à
150 W;
2. systèmes de stockage ou de purificationdes isotopes de
l'hydrogène utilisant des hydrures métalliques comme
support de stockage ou de purification.
1B232 Turbodétendeurs ou turbodétendeurs-compresseurs présentant les
deux caractéristiques suivantes:
a. conçus pour fonctionner à une température égale ou inférieure à
35 K (− 238 ºC); et
b. conçus pour un débit d'hydrogène égal ou supérieur à 1 000 kg/
h.
1B233 Installations ou unités, et équipements pour la séparation des
isotopes du lithium, comme suit:
a. installations ou unités pour la séparation des isotopes du
lithium;
b. équipements pour la séparation des isotopes du lithium, comme
suit:
1. colonnes chargées d'échange liquide-liquide spécialement
conçues pour les amalgames du lithium;
2. pompes à mercure ou amalgame de lithium;
3. cellules d'électrolyse pour amalgame de lithium;
4. évaporateurs pour solution concentrée d'hydroxyde de
lithium.2000R1334 — FR — 19.01.2002 — 003.001 — 52
▼M3
1C Matériaux
Note technique:
Métaux et alliages:
Sauf disposition contraire, aux paragraphes 1C001 à 1C012, on
entend par 'métaux' et 'alliages' les formes brutes et demi-produits
suivants:
Formes brutes:
Anodes, billes, barreaux (y compris barreaux entaillés et barres à
fil), billettes, blocs, blooms, briques, tourteaux, cathodes, cristaux,
cubes, dés, grains, lingots, masses, granulés, gueuses (de fonte),
poudre, rondelles, grenaille, brames, lopins, éponge, bâtonnets;
Demi-produits (revêtus ou non, plaqués, perforés, poinçonnés):
a. Matériaux corroyés ou travaillés, fabriqués par laminage,
étirage, extrusion, forgeage, filage par choc, pressage,
grenage, atomisation et broyage, à savoir: cornières, profilés/
laminés, cercles, disques, poussière, paillettes, feuilles et lames,
pièces forgées, tôle, poudre, objets pressés, pièces embouties/
frappées, rubans, anneaux, barres/baguettes (y compris les
baguettes de soudage nues, le fil machine et le fil laminé),
profilé, laminé, tôles fines, feuillards, tuyaux et tubes (y
compris des ronds, des carrés et des creux), fil étiré ou filé;
b. Matériaux moulés produits en sable, sous pression, en moule
métallique, en moule de plâtre ou un autre type de moule, y
compris le moulage sous haute pression, les formes frittées et
les formes obtenues par métallurgie des poudres.
Le contrôle ne doit pas être rendu inopérant par le biais de
l'exportation de formes non énumérées prétendues être des
produits finis mais constituant en fait des formes brutes ou des
demi-produits.
1C001 Matériaux spécialement conçus pour absorber les ondes élec-
tromagnétiques ou polymères intrinsèquement conducteurs comme
suit:
N.B.: VOIR ÉGALEMENT 1C101.
a. matériaux pour l'absorptionde fréquen ces supérieures à
2×1 08Hz et inférieures à 3 × 1012Hz;
Note 1: L'alinéa 1C001.a. ne vise pas:
a. les absorbeurs de type "cheveu", constitués de
fibres naturelles ou synthétiques, à charge nonmagnétique pour permettre l'absorption;
b. les absorbeurs n'ayant pas de perte magnétique,
dont la surface incidente est de forme non plane,
comprenant pyramides, cônes, prismes et
surfaces spiralées;
c. les absorbeurs plans présentant toutes les
caractéristiques suivantes:
1. constitués:
a. de matériaux en mousseplastique (flexibles
ou non flexibles) à charge de carbone, ou
de matériaux organiques, y compris les
liants, produisant un écho de plus de 5 %
par rapport au métal sur une largeur de
bande supérieure à ± 15 % de la fréquence
centrale de l'énergie incidente, et incapa-
bles de résister à des températures de plus
de 450 K (177 ºC);
ou
b. de matériaux céramiques produisant un
écho de plus de 20 % par rapport au métal
sur une largeur de bande supérieure à
± 15 % de la fréquence centrale de
l'énergie incidente, et incapables de
résister à des températures de plus de
800 K (527 ºC);
Note technique:
Les échantillons pour essais d'absorption
concernant la note 1.c.1 de l'alinéa 1C001.a.2000R1334 — FR — 19.01.2002 — 003.001 — 53
▼M3
devraient être un carré dont le côté mesure au
moins 5 longueurs d'onde de la fréquence
centrale et placé dans le champ lointain de la
source rayonnante.
2. résistance à la traction inférieure à 7 × 106N/
m2;et
3. résistance à la compression inférieure à
14 × 106N/m2;
d. absorbeurs plans constitués de ferrite frittée,
présentant les deux caractéristiques suivantes:
1. densité supérieure à 4,4; et
2. température de fonctionnement maximale de
548 K (275 ºC).
Note 2: La note 1 de l'alinéa 1C001.a. n'exclut aucunement
des contrôles, les matières magnétiques assurant
l'absorption lorsqu'elles sont incorporées dans la
peinture.
b. matériaux pour l'absorptionde fréquen ces supérieures à
1,5 × 1014Hz et inférieures à 3,7 × 1014Hz et non transparents
dans le domaine visible;
c. matériaux polymères intrinsèquement conducteurs ayant une
'conductivité électrique volumique' supérieure à 10000 S/m
(Siemens par mètre) ou une 'résistivité surfacique (superfi-
cielle)' inférieure à 100 ohms/m2, à base d'unou de plusieurs
des polymères suivants:
1. polyaniline;
2. polypyrrole;
3. polythiophène;4. polyphénylène-vinylène;
ou
5. polythiénylène-vinylène.
Note technique:
La 'conductivité électrique volumique' et la 'résistivité surfa-
cique (superficielle)' sont déterminées conformément à la
norme ASTM D-257 ou à des équivalents nationaux.
1C002 Alliages métalliques, poudres d'alliages métalliques ou matériaux
alliés, comme suit:
N.B.: VOIR ÉGALEMENT 1C202.
Note: Le paragraphe 1C002 ne vise pas les alliages métalli-
ques, poudres d'alliages métalliques ou matériaux alliés
pour le revêtement de substrats.
Notes techniques:
1. Les alliages métalliques cités au paragraphe 1C002 sont les
alliages contenant un pourcentage plus élevé en poids du métal
indiqué que de tout autre élément.
2. La tenue au fluage-rupture doit être mesurée conformément à
la norme E-139de l'ASTM ou à des équivalents nationaux.
3. La résistance à la fatigue oligocyclique doit être mesurée
conformément à la norme E-606 de l'ASTM, 'méthode
recommandée pour l'essai de résistance à la fatigue oligocy-
clique à amplitude constante', ou ses équivalents nationaux.
L'essai doit être axial avec un rapport moyen de l'effort
minimal à l'effort maximal égal à 1 et un coefficient de
concentration des contraintes (kt) égal à 1. Le rapport moyen
de l'effort minimal à l'effort maximal désigne la contrainte
maximale moins la contrainte minimale divisée par la
contrainte maximale.
a. aluminiures, comme suit:
1. aluminiures de nickel contenant au minimum 15 % en poids
d'aluminium, au maximum 38 % en poids d'aluminium, et au
moins un élément d'alliage additionnel;
2. aluminiures de titane contenant 10 % en poids ou plus
d'aluminium, et au moins un élément d'alliage additionnel;2000R1334 — FR — 19.01.2002 — 003.001 — 54
▼M3
b. alliages métalliques, comme suit, fabriqués à partir de matières
visées par l'alinéa 1C002.c.:
1. alliages de nickel ayant:
a. une tenue au fluage-rupture de 10000 heures ou plus à
923 K (650 ºC) sous une contrainte de 676 MPa; ou
b. une résistance à la fatigue oligocyclique de 10000 cycles
ou plus à 823 K (550 ºC) sous une contrainte maximale
de 1 095 MPa;
2. alliages de niobium ayant:
a. une tenue au fluage-rupture de 10000 heures ou plus à
1 073 K (800 ºC) sous une contrainte de 400 MPa; ou
b. une résistance à la fatigue oligocyclique de 10000 cycles
ou plus à 973 K (700 ºC) sous une contrainte maximale
de 700 MPa;
3. alliages de titane ayant:
a. une tenue au fluage-rupture de 10000 heures ou plus à
723 K (450 ºC) sous une contrainte maximale de
200 MPa; ou
b. une résistance à la fatigue oligocyclique de 10000 cycles
ou plus à 723 K (450 ºC) sous une contrainte maximale
de 400 MPa;
4. alliages d'aluminium ayant une résistance à la traction:
a. égale ou supérieure à 240 MPa à 473 K (200 ºC); ou
b. égale ou supérieure à 415 MPa à 298 K (25 ºC);
5. alliages de magnésium ayant:
a. une résistance à la traction égale ou supérieure à
345 MPa; et
b. un taux de corrosion inférieur à 1 mm/an dans une
solutionaqueuse de chlorure de sodium à 3 % mesuré
conformément à la norme G-31 de l'ASTM ou à des
équivalents nationaux;
c. poudres ou particules d'alliages métalliques pour matériaux,
présentant toutes les caractéristiques suivantes:
1. constituées de l'un des systèmes de composition suivants:
Note technique:
Dans les alinéas suivants, X = un ou plusieurs éléments
d'alliages.
a. alliages de nickel (Ni-Al-X, Ni-X-Al) qualifiés pour les
pièces et composants de moteurs à turbine, c'est-à-dire
avec moins de trois particules non métalliques (intro-
duites au cours du processus de fabrication) de plus de
100 µm pour 109particules d'alliages;
b. alliages de nobium (Nb-Al-X ou Nb-X-Al, Nb-Si-X ou
Nb-X-Si, Nb-Ti-X ou Nb-X-Ti);
c. alliages de titane (Ti-Al-X ou Ti-X-Al);
d. alliages d'aluminium (Al-Mg-Xou Al-X-Mg,Al-Zn-X ou
Al-X-Zn, Al-Fe-X ou Al-X-Fe); ou
e. alliages de magnésium (Mg-Al-X ou Mg-X-Al); et
2. obtenues dans un environnement contrôlé par l'un des
procédés suivants:
a. "atomisationsous vide";
b. "atomisationpar gaz";
c. "atomisationcen trifuge";
d. "trempe brusque";
e. "trempe sur rouleau" et "pulvérisation";
f. "extraction en fusion" et "pulvérisation"; ou
g. "alliage mécanique"; et
3. capables de constituer les matériaux visés aux alinéas
1C002.a. ou 1C002.b.;2000R1334 — FR — 19.01.2002 — 003.001 — 55
▼M3
d. matériaux alliés, présentant toutes les caractéristiques
suivantes:
1. constitués de l'un des systèmes de composition visés à
l'alinéa 1C002.c.1.;
2. sous forme de paillettes, rubans ou barres minces; et
3. obtenus dans un environnement contrôlé par l'un des
procédés suivants:
a. "trempe brusque";
b. "trempe sur rouleau"; ou
c. "extractionenfusion ".
1C003 Métaux magnétiques, de tous types et sous toutes formes,
présentant l'une des caractéristiques suivantes:
a. perméabilité relative initiale égale ou supérieure à 120000 et
épaisseur égale ou inférieure à 0,05 mm;
Note technique:
La mesure de la perméabilité initiale doit être effectuée sur des
métaux entièrement recuits.
b. alliages magnétostrictifs présentant une des caractéristiques
suivantes:
1. une magnétostriction à saturation supérieure à 5 × 10−4;ou
2. un facteur de couplage magnétomécanique (k) supérieur à
0,8;ou
c. feuillards d'alliage amorphe ou 'nanocristallin' présentant toutes
les caractéristiques suivantes:
1. une composition comprenant au moins 75 % en poids de fer,
de cobalt ou de nickel;
2. une induction magnétique à saturation (BS) égale ou
supérieure à 1,6 T; et
3. une des caractéristiques suivantes:
a. une épaisseur égale ou inférieure à 0,02 mm; ou
b. une résistivité électrique égale ou supérieure à 2 × 10−4
ohm/cm.
Note technique:
À l'alinéa 1C003.c., on entend par 'nanocristallins' les
matériaux ayant une granularité cristalline, déterminée par
diffraction de rayons X, inférieure ou égale à 50 nm.
1C004 Alliages d'uranium titane ou alliages de tungstène à "matrice" à
base de fer, de nickel ou de cuivre, présentant toutes les
caractéristiques suivantes:
a. masse volumique supérieure à 17,5g/cm3;
b. limite élastique supérieure à 880 MPa;
c. résistance à la rupture supérieure à 1 270 MPa; et
d. allongement supérieur à 8 %.
1C005 Conducteurs "composites" "supraconducteurs" en longueurs supé-
rieures à 100 m ou ayant une masse supérieure à 100 g, comme
suit:
a. conducteurs "composites" "supraconducteurs" multifilaments
contenant un ou des filaments au niobium-titane:
1. intégrés dans une "matrice" autre qu'une "matrice" de cuivre
ou d'unmélan ge à base de cuivre; ou
2. ayant une section transversale d'une surface inférieure à
0,28 × 10−4mm2(6 µm de diamètre pour les filaments
circulaires);
b. conducteurs "composites" "supraconducteurs" constitués d'un
ou de plusieurs filament(s) "supraconducteur(s)" autre(s) qu'au
niobium-titane, présentant toutes les caractéristiques suivantes:
1. "température critique", à une induction magnétique nulle,
supérieure à 9,85 K (− 263,31 ºC) mais inférieure à 24 K (−
249,16 ºC);2000R1334 — FR — 19.01.2002 — 003.001 — 56
▼M3
2. section transversale inférieure à 0,28 × 10−4mm2;et
3. persistance de l'état "supraconducteur" à une température de
4,2 K (− 268,96 ºC) lorsqu'ils sont exposés à un champ
magnétique correspondant à une induction de plus de 12 T.
1C006 Fluides et substances lubrifiantes, comme suit:
a. fluides hydrauliques contenant comme ingrédient principal l'un
des composés ou substances suivants:
1. huiles d'hydrocarbures synthétiques siliconés, présentant
toutes les caractéristiques suivantes:
Note technique:
Aux fins de l'alinéa 1C006.a.1., les huiles d'hydrocarbures
siliconés contiennent exclusivement du silicium, de l'hydro-
gène et du carbone.
a. point d'éclair à plus de 477 K (204 ºC);
b. point d'écoulement à 239 K (− 34 ºC) ou moins;
c. indice de viscosité de 75 ou plus; et
d. stabilité thermique à 616 K (343 ºC); ou
2. chlorofluorocarbures présentant toutes les caractéristiques
suivantes:
Note technique:
Aux fins de l'alinéa 1C006.a.2., les chlorofluorocarbures
contiennent exclusivement du carbone, du fluor et du chlore.
a. pas de point d'éclair;
b. température d'allumage spontané à plus de 977 K
(704 ºC);
c. point d'écoulement à 219 K (− 54 ºC) ou moins;
d. indice de viscosité de 80 ou plus; et
e. point d'ébullition à 473 K (200 ºC) ou plus;
b. substances lubrifiantes contenant comme ingrédient principal
l'un des composés ou substances suivants:
1. éthers ou thio-éthers de phénylènes, d'alkylphénylène, ou
leurs mélanges, contenant plus de deux fonctions éther ou
thio-éther ou leurs mélanges; ou
2. fluides silicones fluorés ayant une viscosité cinématique
mesurée à 298 K (25 ºC) inférieure à 5 000 mm2/s (5000
centistokes);
c. fluides d'amortissement ou de flottaison d'une pureté supérieure
à 99,8 %, contenant moins de 25 particules d'une taille égale ou
supérieure à 200 µm pour 100 ml et constitués de 85 % au
moins de l'un des composés ou substances suivants:
1. dibromotétrafluoréthane;
2. polychlorotrifluoroéthylène (modifications huileuses et
cireuses seulement); ou
3. polybromotrifluoroéthylène;
d. liquides de refroidissement électroniques fluorocarbonés
présentant toutes les caractéristiques suivantes:
1. une teneur en poids de 85 % ou plus de l'une des substances
suivantes ou de leurs mélanges:
a. formes monomères de perfluoropolyalkylether-triazines
ou d'éthers perfluoroaliphatiques;
b. perfluoroalkylamines;
c. perfluorocyclanes; ou
d. perfluoroalcanes;
2. une masse volumique de 1,5 g/ml ou plus à 298 K (25 ºC);3. à l'état liquide à 273 K (0 ºC);
et
4. une teneur en poids en fluor supérieure ou égale à 60 %.2000R1334 — FR — 19.01.2002 — 003.001 — 57
▼M3
Note technique:
Aux fins du paragraphe 1C006:
a. le point d'éclair est déterminé au moyen de la méthode
Cleveland à vase ouvert, décrite dans la norme D-92 de
l'ASTM, ou des équivalents nationaux;
b. le point d'écoulement est déterminé au moyen de la méthode
décrite dans la norme D-97 de l'ASTM, ou des équivalents
nationaux;
c. l'indice de viscosité est déterminé au moyen de la méthode
décrite dans la norme D-2270 de l'ASTM, ou des équivalents
nationaux;
d. la stabilité thermique est déterminée au moyen de la méthode
suivante, ou équivalents nationaux:
20 ml du fluide à l'essai sont placés dans une chambre de 46 ml
en acier inoxydable du type 317, contenant une bille de chacun
des matériaux suivants: acier à outils M-10, acier 52100 et
bronze de qualité de marine (60 % Cu, 39% Zn, 0,75 % Sn);
ces billes ont un diamètre (nominal) de 12,5 mm.
La chambre est purgée à l'azote, scellée sous pression
atmosphérique et la température est portée à 644 ± 6 K
(371 ± 6 ºC) et maintenue à ce niveau pendant 6 heures.
L'échantillon est considéré comme thermiquement stable si, à la
fin du processus décrit ci-dessus, toutes les conditions suivantes
sont remplies:
1. la perte de poids pour chaque bille de métal est inférieure à
10 mg/mm2de la surface de la bille;
2. l'abaissement de la viscosité initiale, établie à311K(38ºC),
est inférieur à 25 %; et
3. l'indice d'acidité totale ou l'indice d'alcalinité totale est
inférieur à 0,40;
e. la température d'allumage spontané est déterminée au moyen
de la méthode décrite dans la norme E-659de l'ASTM, ou des
équivalents nationaux.
1C007 Matériaux de base pour céramiques, matériaux céramiques non
"composites", matériaux "composites" à "matrice" céramique et
matériaux précurseurs, comme suit:
N.B.: VOIR ÉGALEMENT 1C107.
a. matériaux de base constitués de borures de titane simples ou
complexes, ayant un total d'impuretés métalliques, non
comprises les adjonctions intentionnelles, de moins de
5 000 ppm, et une dimension particulaire moyenne égale ou
inférieure à 5 micromètres, et n'ayant pas plus de 10 % de
particules de plus de 10 µm;
b. matériaux céramiques non "composites", sous forme brute ou
de demi-produits, composés de borures de titane ayant une
densité égale ou supérieure à 98 % de la valeur théorique;
Note: L'alinéa 1C007.b. ne vise pas les abrasifs.
c. matériaux "composites" céramiques-céramiques à "matrice" de
verre ou d'oxyde renforcés avec des fibres présentant toutes les
caractéristiques suivantes:
1. obtenus à partir de l'un quelconque des matériaux suivants:
a. Si-N;
b. Si-C;
c. Si-Al-O-N; ou
d. Si-O-N; et
2. ayant une résistance spécifique à la traction supérieure à
12,7 × 103m;
d. matériaux "composites" céramiques-céramiques, avec ou sans
phase métallique continue, contenant des particules, des
trichites ou des fibres, dans lesquels les carbures ou nitrures
de silicium, de zirconium ou de bore constituent la "matrice";2000R1334 — FR — 19.01.2002 — 003.001 — 58
▼M3
e. matériaux précurseurs, à savoir matériaux polymères ou
métallo-organiques spéciaux, pour la production de toute(s)
phase(s) des matériaux visés par l'alinéa 1C007.c., comme suit:
1. polydiorganosilanes (pour la production de carbure de
silicium);
2. polysilazanes (pour la production de nitrure de silicium);
3. polycarbosilazanes (pour la production de céramiques à base
de silicium, de carbone et d'azote);
f. matériaux "composites" céramiques-céramiques à "matrice"
d'oxyde ou de verre, renforcés avec des fibres continuescorrespondant à l'un quelconque des systèmes suivants:
1. Al
2O3ou
2. Si-C-N.
Note: L'alinéa 1C007.f. ne vise pas les matériaux "compo-
sites" contenant des fibres correspondant à l'un de ces
systèmes qui ont une résistance à la traction de moins
de 700 MPa à 1 273 K (1 000 ºC) ou une résistance au
fluage en traction de plus de 1 % de déformation par
fluage pour une charge de 100 MPa à 1 273 K
(1 000 ºC) pendant 100 heures.
1C008 Substances polymères non fluorées, comme suit:
a. 1. bismaléimides;
2. polyiamidimides aromatiques;3. polyimides aromatiques;
4. polyétherimides aromatiques ayant une température de
transition vitreuse (T
g) supérieure à 513 K (240 ºC) mesurée
par le procédé par méthode sèche décrite dans la norme
ASTM D 3418;
Note: L'alinéa 1C008.a. ne vise pas les poudres non fusibles
de moulage par compression fusion ni les formes
moulées.
b. copolymères cristaux liquides thermoplastiques, ayant une
température de déformationsupérieure à 523 K (250 ºC)
mesurée conformément à la norme ASTM D-648, méthode A,ou équivalents nationaux, sous une charge de 1,82 N/mm
2,e t
composés de:
1. l'une des substances suivantes:
a. phénylène, biphénylène ou naphtalène; ou
b. phénylène, biphénylène ou naphtalène substitués par du
méthyle, du butyle tertiaire ou du phényle; et
2. l'undes acides suivan ts:
a. acide téréphtalique;
b. acide 6-hydroxy-2-naphtoïque; ou
c. acide-4-hydroxybenzoïque;
c. polyarylène éther cétones, comme suit:
1. polyéther éther cétone (PEEK);
2. polyéther cétone cétone (PEKK);
3. polyéther cétone (PEK);4. polyéther cétone éther cétone cétone (PEKEKK);
d. polyarylène cétones;
e. sulfures de polyarylène, dans lesquels le groupe arylène est
constitué de biphénylène, de triphénylène ou de leurs
combinaisons;
f. polybiphénylènéthersulfone.
Note technique:
La température de transition vitreuse (Tg) des substances visées au
paragraphe 1C008 est déterminée conformément à la méthode
sèche décrite dans la norme ASTM D 3418.2000R1334 — FR — 19.01.2002 — 003.001 — 59
▼M3
1C009 Composés fluorés non traités, comme suit:
a. copolymères de fluorure de vinylidène ayant une structure
cristalline bêta de 75 % ou plus sans étirage;
b. polyimides fluorés, contenant 10 % ou plus de fluor combiné;
c. élastomères en phosphazène fluoré, contenant 30 % ou plus de
fluor combiné.
1C010 "Matériaux fibreux ou filamenteux" susceptibles d'être utilisés
dans des structures ou produits laminés "composites" à "matrice"
organique, métallique ou de carbone, comme suit:
N.B.: VOIR ÉGALEMENT 1C210.
a. "matériaux fibreux ou filamenteux" organiques présentant
toutes les caractéristiques suivantes:
1. un"module spécifique" supérieur à 12,7 × 106m;et
2. une "résistance spécifique à la traction" supérieure à
23,5 × 104m;
Note: L'alinéa 1C010.a. ne vise pas le polyéthylène.
b. "matériaux fibreux ou filamenteux" au carbone présentant
toutes les caractéristiques suivantes:
1. un"module spécifique" supérieur à 12,7 × 106m;et
2. une "résistance spécifique à la traction" supérieure à
23,5 × 104m;
Note: L'alinéa 1C010.b. ne vise pas les tissus fabriqués à
partir de "matériaux fibreux ou filamenteux" servant à
réparer les structures d'aéronefs ni les laminés dont
les dimensions ne dépassent pas 50 cm × 90 cm par
feuille.
Note technique:
Lespropriétésdesmatériaux décrits à l'alinéa 1C010.b.doivent
être déterminées par les méthodes recommandées SRM 12 à 17
de la SACMA, ou par des méthodes nationales équivalentes
d'essais de câbles, telles que la Japanese Industrial Standard
JIS-R-7601, paragraphe 6.6.2., et fondées sur la moyenne des
lots.
c. "matériaux fibreux ou filamenteux" inorganiques présentant
toutes les caractéristiques suivantes:
1. un"module spécifique" supérieur à 2,54 × 106m;et
2. un point de fusion, de dissociation ou de sublimation
supérieur à 1 922 K (1 649 ºC) en environnement inerte;
Note: L'alinéa 1C010.c. ne vise pas:
1. les fibres d'alumine polycristalline, polyphasée et
discontinue, sous forme de fibres hachées ou de
nattes irrégulières, contenant 3 % ou plus en poids
de silice et ayant un "module spécifique" inférieur
à1 0×1 06m;
2. les fibres de molybdène et d'alliages de molybdène;3. les fibres de bore;4. les fibres céramiques discontinues dont le point de
fusion, de dissociation ou de sublimation est
inférieur à 2043 K (1770 ºC) en environnement
inerte.
d. "matériaux fibreux ou filamenteux":
1. constitués de l'un des éléments suivants:
a. polyétherimides visés par l'alinéa 1C008.a.;
ou
b. substances visées par les alinéas 1C008.b. à 1C008.f.; ou
2. constitués de matériaux visés par l'alinéa 1C010.d.1.a. ou
1C010.d.1.b. et "mélangés" à d'autres fibres visées aux
alinéas 1C010.a., 1C010.b. ou 1C010.c.;2000R1334 — FR — 19.01.2002 — 003.001 — 60
▼M3
e. fibres imprégnées de résine ou de brai (préimprégnées), fibres
revêtues de métal oude carbone (préformées), ou"préformes de
fibre de carbone", comme suit:
1. constituées de "matériaux fibreux ou filamenteux" visés aux
alinéas 1C010.a., 1C010.b. ou 1C010.c.;
2. constituées de "matériaux fibreux ou filamenteux" organi-
ques ou au carbone:
a. avec une "résistance spécifique à la traction" supérieure à
17,7 × 104m;
b. avec un"module spécifique" supérieur à 10,15 × 106m;
c. non visées par les alinéas 1C010.a. ou 1C010.b.; et
d. lorsqu'elles sont imprégnées de substances visées par le
paragraphe 1C008 ou l'alinéa 1C009.b., ayant une
température de transition vitreuse (Tg) supérieure à
383 K (110 ºC), ou de résines phénoliques ou époxydes,
ayant une température de transition vitreuse (Tg) égale ou
supérieure à 418 K (145 ºC).
Notes: L'alinéa 1C010.e. ne vise pas:
a. les "matériaux fibreux ou filamenteux" au carbone
imprégnés de résines époxydes (préimprégnés)
servant à réparer les structures d'aéronefs ou les
laminés, dont les dimensions ne dépassent pas
50 × 90 cm par feuille.
b. les préimprégnés lorsqu'ils sont imprégnés de
résines phénoliques ou époxydes ayant une
température de transition vitreuse (Tg) inférieure
à 433 K (160 ºC) et une température de cuisson
inférieure à la température de transition vitreuse.
Note technique:
La température de transition vitreuse (Tg) des substances visées
à l'alinéa 1C010.e. est déterminée conformément à la méthode
sèche décrite dans la norme ASTM D 3418. La température de
transition vitreuse des résines phénoliques ou époxydes est
déterminée conformément à la méthode sèche décrite dans la
norme ASTM D 4065 à une fréquence de 1 Hz et à une vitesse
de chauffage de 2 K (ºC) par minute.
1C011 Métaux et composés, comme suit:
N.B.: VOIR ÉGALEMENT LISTE DES MATÉRIELS DE
GUERRE ET 1C111.
a. métaux dont la dimension particulaire est inférieure à 60 µm,
qu'ils soient à grains sphériques, atomisés, sphéroïdaux, en
flocons ou pulvérisés, fabriqués à partir d'un matériau ayant une
teneur de 99 % ou plus de zirconium, de magnésium et de leurs
alliages;
Note technique:
La teneur naturelle du zirconium en hafnium (généralement de
2à7% )e s t comptée avec le zirconium.
Note: Les métaux ou alliages énumérés à l'alinéa 1C011.a.
sont visés, qu'ils soient ou non encapsulés dans de
l'aluminium, du magnésium, du zirconium ou du
béryllium.
b. le bore ou le carbure de bore d'une pureté supérieure ou égale à
85 % et dont la dimension particulaire est inférieure ou égale à
60 µm;
Note: Les métaux ou alliages énumérés à l'alinéa 1C011.b.
sont visés, qu'ils soient ou non encapsulés dans de
l'aluminium, du magnésium, du zirconium ou du
béryllium.
c. le nitrate de guanine;
d. la nitroguanidine (NQ) (CAS 556-88-7).
1C012 Matières comme suit:
Note technique:
Ces matières sont généralement utilisées pour des sources de
chaleur nucléaires.2000R1334 — FR — 19.01.2002 — 003.001 — 61
▼M3
a. plutonium sous une forme quelconque dont la teneur isotopique
enpluton ium 238 est supérieure à 50 % enpoids;
Note: L'alinéa 1C012.a. ne vise pas:
a. des envois portant sur une teneur en plutonium
égale ou inférieure à 1 gramme;
b. des envois égaux ou inférieurs à trois "grammes
effectifs" lorsqu'ils sont contenus dans un organe
détecteur d'un instrument.
b. neptunium 237 "préalablement séparé", sous une forme
quelconque.
Note: L'alinéa 1C012.b. ne vise pas les envois ayant une
teneur en neptunium 237 égale ou inférieure à 1
gramme.
1C101 Matériaux et dispositifs servant à la réduction des éléments
observables tels que la réflectivité radar, les signatures ultra-
violettes/infrarouges et acoustiques, autres que ceux visés au
paragraphe 1C001, utilisables dans les "missiles" et leurs sous-
systèmes.
Note 1: Le paragraphe 1C101 couvre:
a. les matériaux de structure et les revêtements
spécialement conçus pour réduire la réflectivité
radar;
b. les revêtements, y compris les peintures, spéciale-
ment conçus pour réduire ou adapter la réflectivité
ou l'émissivité dans les bandes micro-onde, infra-
rouge ou ultraviolet du spectre électromagnétique.
Note 2: Le paragraphe 1C101 ne couvre pas les revêtements
utilisés spécialement pour l'isolation thermique des
satellites.
1C102 Matériaux carbone-carbone réimprégnés et pyrolysés conçus pour
les lanceurs spatiaux visés au paragraphe 9A004 ou les fusées-
sondes visées au paragraphe 9A104.
1C107 Graphite et matériaux céramiques autres que ceux visés au
paragraphe 1C007, comme suit:
a. graphites recristallisés à grainfinsous forme de blocs bruts
dont la masse volumique est égale ou supérieure à 1,72 g/cm3,
mesurée à 288 K (15 ºC), et dont la taille des particules est
inférieure ou égale à 100 µm, utilisables dans les tuyères de
"missiles" et les nez de corps de rentrée;
N.B.: Voir également 0C004
b. graphites pyrolytiques ou fibreux renforcés utilisables dans les
tuyères de "missiles" et les nez de corps de rentrée;
N.B.: Voir également 0C004
c. matériaux composites céramiques (constante diélectrique infé-
rieure à 6 à des fréquences comprises entre 100 Hz et
10000 MHz), également utilisables dans les radomes de
"missiles";
d. blocs bruts usinables de céramiques non cuites renforcées au
carbure de silicium, utilisables dans les nez des pointes avant de
"missiles".
1C111 Propergols et leurs composants chimiques, autres que ceux
spécifiés au 1C011, comme suit:
a. substances propulsives:
1. poudre d'aluminium à grain sphérique, autre que celle visée
dans la liste des matériels de guerre, composée de particules
d'undiamètre uniforme inférieur à 200µm, fabriquée à partir
d'un matériau ayant une teneur en poids en aluminium
supérieure ou égale à 97 %, si au moins 10 % du poids total
est constitué de particules de moins de 63 µm selon la norme
ISO 2591:1988 ou des normes nationales équivalentes;
Note technique:
Une taille de particule de 63 µm (ISO R-565) correspond à
250 mesh (Tyler) ou 230 mesh (norme ASTM E-11).2000R1334 — FR — 19.01.2002 — 003.001 — 62
▼M3
2. combustibles métalliques, autres que ceux visés dans la liste
des matériels de guerre, dont la dimension particulaire est
inférieure à 60 µm, qu'ils soient à grains sphériques,
atomisés, sphéroïdaux, en flocons ou pulvérisés, ayant une
teneur en poids de 97 % ou plus de l'un ou de plusieurs
éléments suivants:
a. zirconium;
b. béryllium;
c. magnésium; ou
d. alliages des métaux mentionnés aux points a. à c. ci-
dessus;
Note technique:
La teneur naturelle du zirconium en hafnium (généralement
d e2à7% )e s t comptée avec le zirconium.
3. oxydants liquides, comme suit:
a. trioxyde d'azote;
b. dioxyde/tétroxyde d'azote;
c. pentoxyde d'azote;
b. substances polymères:
1. polybutadiène carboxytéléchélique (PBCT);
2. polybutadiène hydroxytéléchélique (PBHT), autre que celui
visé dans la liste des matériels de guerre;
3. polybudadiène acide acrylique (PBAA);
4. polybutadiène-acrylonitrile (PBAN);
c. autres additifs et agents de propulsion:
1.VOIR LISTE DES MATÉRIELS DE GUERRE pour le
butacène;
2. dinitrate de triéthylène glycol (TEGDN);3. 2-nitrodiphénylamine;
4. trinitrate de triméthyloéthane (TMETN);
5. dinitrate de diéthylène glycol (DEGDN);6. dérivés de ferrocène autres que ceux qui sont visés dans la
liste des matériels de guerre.
Note: Pour les propergols et leurs composants chimiques ne
figurant pas au paragraphe 1C111, voir la liste des
matériels de guerre.
1C116 Aciers maraging (aciers généralement caractérisés par une haute
teneur en nickel, une très faible teneur en carbone et l'emploi
d'éléments de substitution ou de précipités pour produire un
durcissement par vieillissement) sous forme de feuilles, de tôles ou
de tubes, dont la tension de rupture est supérieure ou égale à
1 500 MPa, mesurée à 293 K (20 ºC), et dont la paroi ou la tôle a
une épaisseur égale ou inférieure à 5 mm.
N.B.: VOIR ÉGALEMENT 1C216.
1C117 Tungstène, molybdène et leurs alliages, sous forme de particules
sphériques ou atomisées uniformes d'un diamètre inférieur ou égal
à 500 µm, d'une pureté de 97 % au moins, servant à la fabrication
de composants pour moteurs de "missiles", à savoir des protections
thermiques, des substrats et des cols de tuyères ainsi que des
surfaces de commande du vecteur poussée.
1C118 Acier inoxydable duplex stabilisé au titane (Ti-DSS) présentant
toutes les caractéristiques suivantes:
a. présentant toutes les caractéristiques suivantes:
1. contenant de 17,0 à 23,0 pour cent en poids de chrome et de
4,5 à 7,0 pour cent en poids de nickel;
2. une teneur en titane supérieure à 0,10 pour cent en poids; et
3. une microstructure ferro-austénitique (appelée aussi micro-
structure biphase) dont au moins 10 pour cent en volume est
constitué d'austénite (selon la norme ASTM E-1181-87 ou
des normes nationales équivalentes); et2000R1334 — FR — 19.01.2002 — 003.001 — 63
▼M3
b. se présentant sous l'une des formes suivantes:
1. lingots ou lames d'une taille égale ou supérieure à 100 mm
dans chaque dimension;
2. feuilles d'une largeur égale ou supérieure à 600 mm et d'une
épaisseur égale ou inférieure à 3 mm; ou
3. tubes ayant un diamètre extérieur égal ou supérieur à
600 mm et une épaisseur de paroi égale ou inférieure à
3 mm.
1C202 Alliages, autres que ceux visés aux alinéas 1C002.a.2.c ou d,
comme suit:
a. alliages d'aluminium présentant les deux caractéristiques
suivantes:
1. 'ayant' une résistance maximale à la traction égale ou
supérieure à 460 MPa à 293 K (20 ºC); et
2. sous forme de tubes ou de cylindres pleins (y compris des
pièces forgées), dont le diamètre extérieur excède 75 mm;
b. alliages de titane présentant les caractéristiques suivantes:
1. 'ayant' une résistance maximale à la traction égale ou
supérieure à 900 MPa à 293 K (20 ºC); et
2. sous forme de tubes ou de cylindres pleins (y compris des
pièces forgées), dont le diamètre extérieur excède 75 mm.
Note technique:
L'expression alliages 'ayant' couvre les alliages avant ou après
traitement thermique.
1C210 'Matériaux fibreux ou filamenteux' ou préimprégnés, autres que
ceux visés aux alinéas 1C010.a., b. ou e., comme suit:
a. 'matériaux fibreux ou filamenteux' au carbone ou à l'aramide,
présentant l'une des caractéristiques suivantes:
1. un"module spécifique" égal ou supérieur à 12,7 × 106m;ou
2. une "résistance spécifique à la traction" égale ou supérieure
à 235 × 103m;
Note: L'alinéa 1C210.a. ne vise pas les "matériaux fibreux
ou filamenteux" à l'aramide recouverts d'un modifi-
cateur d'aspect superficiel à base d'ester, selon une
teneur en poids de 0,25 % ou plus;
b. 'matériaux fibreux ou filamenteux' à base de verre, présentant
les deux caractéristiques suivantes;
1. un"module spécifique" égal ou supérieur à 3,18 × 106m;et
2. une "résistance spécifique à la traction" égale ou supérieure
à 76,2 × 103m;
c. "torons", "nappes", "mèches" ou "bandes", continus imprégnés
de résine thermodurcie dont la largeur est égale ou inférieure à
15 mm (une fois préimprégnés), fabriqués en "matériaux
fibreux ou filamenteux" au carbone ou à base de verre visés à
l'alinéa 1C210.a. ou b.
Note technique:
La résine constitue la matrice du "composite".
Note: Au paragraphe 1C210, les termes 'matériaux fibreux ou
filamenteux' sont limités aux "monofilaments", "torons",
"nappes", "mèches" ou "bandes" continus.
1C216 Aciers maraging, autres que ceux visés au paragraphe 1C116,
'ayant' une résistance maximale à la traction égale ou supérieure à
2 050 MPa à 293 K (20 ºC);
Note: Le paragraphe 1C216 ne vise pas les formes dont aucune
dimension linéaire n'excède 75 mm.
Note technique:
L'expression acier maraging 'ayant' couvre les aciers maraging,
avant ou après traitement thermique.
1C225 Bore enrichi dans l'isotope bore-10 (10B) au-delà de sa teneur
isotopique naturelle, comme suit: bore élémentaire, composés,2000R1334 — FR — 19.01.2002 — 003.001 — 64
▼M3
mélanges contenant du bore, produits fabriqués avec du bore,
déchets ou rebuts desdites matières.
Note: Au paragraphe 1C225, les mélanges contenant du bore
incluent les matériaux chargés de bore.
Note technique:
La teneur isotopique naturelle du bore-10 est d'environ 18,5 pour
cent en valeur pondérale (20 pour cent en valeur atomique).
1C226 Tungstène, carbure de tungstène et alliages contenant plus de 90 %
de tungstène en poids, présentant les deux caractéristiques
suivantes:
a. en formes ayant une cylindricosymétrie creuse (y compris des
segments de cylindre) avec un diamètre intérieur entre 100 mm
et 300 mm; et
b. une masse supérieure à 20 kg.
Note: La paragraphe 1C226 ne vise pas les pièces spécialement
conçues pour être utilisées comme poids ou comme
collimateurs de rayons gamma.
1C227 Calcium présentant les deux caractéristiques suivantes:
a. contenant moins de 1 000 ppm en poids d'impuretés métalliques
autres que du magnésium; et
b. contenant moins de 10 ppm en poids de bore.
1C228 Magnésium présentant les deux caractéristiques suivantes:
a. contenant à la fois moins de 200 ppm en poids d'impuretés
métalliques autres que du calcium; et
b. contenant moins de 10 ppm en poids de bore.
1C229 Bismuth présentant les deux caractéristiques suivantes:
a. une pureté de 99,99 % ou plus en poids; et
b. contenant moins de 10 ppm en poids d'argent.
1C230 Béryllium métal, alliages contenant plus de 50 % en poids de
béryllium, composés contenant du béryllium et produits fabriqués
avec ces substances, et déchets ou rebuts desdites matières.
Note: Le paragraphe 1C230 ne vise pas:
a. les fenêtres métalliques pour appareillages à rayon X
ou pour dispositifs de diagraphie;
b. les formes d'oxyde finies ou semi-finies spécialement
conçues pour des pièces de composants électroniques
ou comme supports de circuits électroniques;
c. le béryl (silicate de béryllium et d'aluminium) sous la
forme d'émeraudes ou d'aigues-marines.
1C231 Hafnium métal, alliages contenant plus de 60 % en poids de ce
métal, composés à base d'hafnium contenant plus de 60 % en poids
de ce métal, produits fabriqués avec ces matériaux et déchets ou
rebuts desdites matières.
1C232 Hélium-3 (3He), mélanges contenant de l'hélium-3 et produits ou
dispositifs contenant l'un de ces éléments.
Note: Le paragraphe 1C232 ne vise pas les produits ou
dispositifs contenant moins de 1 g d'hélium-3.
1C233 Lithium enrichi en isotope 6 (6Li) au-delà de sa teneur isotopique
naturelle, et produits ou dispositifs contenant du lithium enrichi,
comme suit: lithium élémentaire, alliages, composés, mélanges
contenant du lithium, produits fabriqués avec du lithium, déchets
ou rebuts de l'une des matières précitées.
Note: Le paragraphe 1C233 ne vise pas les dosimètres
thermoluminescents.
Note technique:
La teneur isotopique naturelle du lithium-6 est d'environ 6,5 pour
cent en valeur pondérale (7,5 pour cent en valeur atomique).
1C234 Zirconium contenant de l'hafnium dans lequel le rapport hafnium/
zirconium est inférieur à 1/500 en poids, comme suit: métal,
alliages contenant en poids plus de 50 % de zirconium, composés,2000R1334 — FR — 19.01.2002 — 003.001 — 65
▼M3
produits fabriqués avec ces éléments, déchets ou rebuts de l'une
des matières précitées.
Note: Le paragraphe 1C234 ne vise pas le zirconium sous
forme de feuilles ayant une épaisseur égale ou inférieure
à 0,10 mm.
1C235 Tritium, composés et mélanges du tritium dans lesquels le rapport
du tritium à l'hydrogène, en atomes, est supérieur à 1/1000, ou
produits ou dispositifs comprenant l'un de ces éléments.
Note: Le paragraphe 1C235 ne vise pas les produits ou
dispositifs contenant au maximum 1,48 × 103GBq (40
Ci) de tritium.
1C236 Radionucléides à émission alpha ayant une demi-vie alpha
supérieure ou égale à 10 jours mais inférieure à 200 ans, sous
les formes suivantes:
a. élémentaire;
b. composés dont l'activité alpha totale est de 37 GBq/kg (1 Ci/kg)
ou plus;
c. mélanges dont l'activité alpha totale est de 37 GBq/kg (1 Ci/kg)
ou plus;
d. produits ou dispositifs contenant l'un de ces éléments.
Note: Le paragraphe 1C236 ne vise pas les produits ou
dispositifs dont l'activité alpha est inférieure à 3,7 GBq
(100 millicuries).
1C237 Radium 226 (226Ra), alliages de radium 226, composés du radium
226, mélanges contenant du radium 226, produits fabriqués avec
du radium 226, et produits ou dispositifs contenant l'un de ces
éléments.
Note: Le paragraphe 1C237 ne vise pas:
a. les applicateurs médicaux;
b. les produits ou dispositifs contenant moins de
0,37 GBq (100 millicuries) de radium 226.
1C238 Trifluorure de chlore (ClF3).
1C239 Substances à haut pouvoir explosif, autres que celles visées par la
liste des matériels de guerre, ou substances ou mélanges contenant
plus de 2 % en poids de ces substances explosives, dont la densité
cristalline excède 1,8 g/cm3et dont la vitesse de détonation
dépasse 8 000 m/s.
1C240 Poudre de nickel et nickel sous forme de métal poreux, autres que
ceux visés au paragraphe 0C005, comme suit:
a. poudre de nickel présentant les deux caractéristiques suivantes:
1. undegré de pureté de 99,0 % enpoids ou plus; et
2. une dimension particulaire moyenne inférieure à 10 µm,
mesurée selonla n orme B 330 de l'ASTM;
b. nickel sous forme de métal poreux obtenu à partir des matières
spécifiées à l'alinéa 1C240.a.
Note: Le paragraphe 1C240 ne vise pas:
a. les poudres de nickel filamenteux;
b. les feuilles simples de nickel poreux d'une superficie
de 1 000 cm2par feuille ou moins.
Note technique:
L'alinéa 1C240.b. concerne le métal poreux formé par la
compression et le frittage des matières visées à l'alinéa 1C240.a.
pour former un matériau à pores fins traversant la structure.
1C350 Substances chimiques pouvant servir de précurseurs à des agents
chimiques toxiques, comme suit et "mélanges chimiques"
contenant une ou plusieurs de ces substances:
N.B.: VOIR ÉGALEMENT LA LISTE DES MATÉRIELS
DE GUERRE ET 1C450.
1. Thiodiglycol (111-48-8);
2. Oxychlorure de phosphore (10025-87-3);2000R1334 — FR — 19.01.2002 — 003.001 — 66
▼M3
3. Méthylphosphonate de diméthyle (756-79-6);
4.VOIR LISTE DES MATÉRIELS DE GUERRE POUR:
Difluorure méthylphosphonique(676-99-3);
5. Dichlorure méthylphosphonique (676-97-1);6. Phosphonate de diméthyle (868-85-9);7. Trichlorure de phosphore (7719-12-2);8. Phosphite de triméthyle (121-45-9);9. Dichlorure de thionyl (7719-09-7);
10. 1-méthylpipéridine-3-ol (3554-74-3);11. 2-chloro-N, N-diisopropyléthylamine (96-79-7);12. N,N-diisopropyl-2-aminoéthanethiol (5842-07-9);13. Quinuclidine-3-ol (1619-34-7);14. Fluorure de potassium (7789-23-3);15. 2-chloroéthanol (107-07-3);16. Diméthylamine (124-40-3);17. Ethylphosphonate de diéthyle (78-38-6);18. N, N-diméthylphosphoramidate de diéthyle (2404-03-7);19. Phosphonate de diéthyle (762-04-9);20. Chlorure de diméthylammonium (506-59-2);
21. Dichloroéthylphosphine (1498-40-4);
22. Dichlorure éthylphosphonique (1066-50-8);23.VOIR LISTE DES MATÉRIELS DE GUERRE POUR:
Difluorure éthylphosphonique(753-98-0);
24. Fluorure d'hydrogène (7664-39-3);25. Benzylate de méthyle (76-89-1);26. Dichlorure méthylphosphoneux (676-83-5);27. 2-diisoprophylaminoéthanol (96-80-0);28. 3,3-diméthylbutane-2-ol (464-07-03);29.VOIRLISTEDESMATÉRIELSDEGUERREPOUR:O-
éthyle-2-diisopropylamino éthyle méthyle phosphonite
(57856-11-8);
30. Phosphite de triéthyle (122-52-1);31. Trichlorure d'arsenic (7784-34-1);32. Acide benzylique (76-93-7);33. Méthylphosphonite de 0,0-diéthyle (15715-41-0);34. Diméthyléthylphosphonate (6163-75-3);35. Ethylphosphinyldifluorure (430-78-4);36. Méthylphosphinyldifluorure (753-59-3);37. Quinuclidine-3-one (3731-38-2);38. Pentachlorure de phosphore (10026-13-8);39. 3,3-diméthylbutanone (pinacolone) (75-97-8);40. Cyanure de potassium (151-50-8);41. Hydrogénodifluorure de potassium (7789-29-9);42. Hydrogénodifluorure d'ammonium (1341-49-7);43. Fluorure de sodium (7681-49-4);44. Bifluorure de sodium (1333-83-1);
45. Cyanure de sodium (143-33-9);
46. 2,2,2-nitriloéthanol (102-71-6);47. Pentasulphure de diphosphore (1314-80-3);48. Diisopropylamine (108-18-9);49. 2-diéthylaminoéthanol (100-37-8);50. Sulfure de sodium (1313-82-2);51. Chlorure de soufre (10025-67-9);52. Dichlorure de soufre (10545-99-0);53. Chlorure de tris(2-hydroxyéthyl)ammonium (637-39-8);2000R1334 — FR — 19.01.2002 — 003.001 — 67
▼M3
54. Chlorure de 2-chloroéthyldiisopropylammonium (4261-68-1).
Note 1: Pour les exportations vers des "États non parties à la
Convention sur les armes chimiques", le paragraphe
1C350 ne vise pas les "mélanges chimiques" contenant
une ou plusieurs des substances chimiques visées aux
alinéas 1C350.1, .3, 5, .11, .12, .13, .17, .18, .21, .22,
.26, 27, .28, .31, .32, .33, .34, .35, .36 et .54, dont
aucune des substances spécifiées ne constitue plus de
10 % en poids du mélange.
Note 2: Pour les exportations vers des "États parties à la
Convention sur les armes chimiques", le paragraphe
1C350 ne vise pas les "mélanges chimiques" contenant
une ou plusieurs des substances chimiques visées aux
alinéas 1C350.1, .3, .5, .11, .12, .13, .17, .18, .21, .22,
.26, .27, .28, .31, .32, .33, .34, .35, .36 et .54, dont
aucune des substances spécifiées ne constitue plus de
30 % en poids du mélange.
Note 3: Le paragraphe 1C350 ne vise pas les "mélanges
chimiques" contenant une ou plusieurs des substances
chimiques visées aux alinéas 1C350.2, .6, .7, .8, .9, .10,
.14,.15, .16, .19,.20, .24, .25,.30, .37, .38,.39, .40, .41,
.42, .43, .44, .45, .46, .47, .48, .49, .50, .51, .52 et .53,
dont aucune des substances spécifiées ne constitue plus
de 30 % en poids du mélange.
Note 4: Le paragraphe 1C350 ne vise pas les produits définis
comme des biens de consommation conditionnés pour
la vente au détail en vue d'un usage personnel ou
conditionnés pour un usage individuel.
1C351 Agents pathogènes humains, zoonoses et "toxines" comme suit:
a. Virus (qu'ils soient naturels, renforcés ou modifiés, sous forme
de "cultures vivantes isolées" ou de matériel, y compris du
matériel vivant délibérément inoculé ou contaminé avec ces
cultures), comme suit:
1. Virus Chikungunya;
2. Virus de la fièvre hémorragique de Crimée-Congo;
3. Virus de la fièvre de la Dengue;
4. Virus de l'encéphalite équine de l'Est;5. Virus Ebola;6. Virus Hantaan;7. Virus Junin;8. Virus de la fièvre de Lassa;9. Virus de la chorioméningite lymphocytaire;
10. Virus Machupo;
11. Virus Marburg;12. Virus de la variole du singe;13. Virus de fièvre de la vallée du Rift;14. Virus des encéphalites transmises par les tiques (virus de
l'encéphalite verno-estivale russe);
15. Virus de la variole;16. Virus de l'encéphalite équine du Venezuela;17. Virus de l'encéphalite équine de l'Ouest;18. Virus de la variole blanche;19. Virus de la fièvre jaune;
20. Virus de l'encéphalite japonaise;
b. Rickettsies (qu'elles soient naturelles, renforcées ou modifiées,
sous forme de "cultures vivantes isolées" ou de matériel, y
compris du matériel vivant délibérément inoculé ou contaminé
par ces cultures), comme suit:
1. Coxiella burnetii;
2. Bartonella quintana (Rochalimaea quintana, Rickettsia
quintana);
3. Rickettsia prowasecki;2000R1334 — FR — 19.01.2002 — 003.001 — 68
▼M3
4. Rickettsia rickettsii;
c. Bactéries (qu'elles soient naturelles, renforcées ou modifiées,
sous forme de "cultures vivantes isolées" ou de matériel, y
compris du matériel vivant délibérément inoculé ou contaminé
par ces cultures), comme suit:
1. Bacillus anthracis;
2. Brucella abortus;
3. Brucella melitensis;
4. Brucella suis;5. Chlamydia psyttaci;6. Clostridium botulinum;
7. Francisella tularensis;
8. Burkholderia mallei (Pseudomonas mallei);9. Burkholderia pseudomallei (Pseudomonas pseudomallei);
10. Salmonella typhi;
11. Shigella dysenteriae;
12. Vibrio cholerae;13. Yersinia pestis;
d. "Toxines", comme suit, ainsi que leurs "sous-unités de toxines":
1. Toxines botuliniques;
Note: L'alinéa 1C351.d.1. ne vise pas les toxines
botuliniques contenues dans des produits répon-
dant à tous les critères suivants:
1. formulations pharmaceutiques destinées à être
administrées à l'homme dans le cadre d'un
traitement médical;
2. préemballés en vue de leur distribution comme
produits médicaux;
3. autorisés par une autorité publique à être
commercialisés comme produits médicaux.
2. Toxines de Clostridium perfringens;
3. Conotoxine;4. Ricine;
5. Saxitoxine;
6. Shigatoxine;7. Toxines de Staphylococcus aureus;8. Tétrodotoxine;
9. Vérotoxine;
10. Microcystine (Cyanginosine);11. Aflatoxines
Note: Le paragraphe 1C351 ne vise pas les "vaccins" ou
"immunotoxines".
1C352 Agents pathogènes animaux, comme suit:
a. Virus, qu'ils soient naturels, renforcés ou modifiés, sous forme
de "cultures vivantes isolées" ou de matériels, y compris du
matériel vivant délibérément inoculé ou contaminé par ces
cultures, comme suit:
1. Virus de la fièvre porcine africaine;
2. Virus de l'influenza aviaire, qui sont:
a. Noncaractérisés; ou
b. Ceux définis par la directive 92/40/CEE (JO L 16 du
23.1.1992, p. 19) comme ayant un haut pouvoir
pathogène, comme suit:
1. Virus de type A ayant un IPIV (indice de
pathogénéité intraveineuse) supérieur à 1,2 chez
des poulets de 6 semaines; ou2000R1334 — FR — 19.01.2002 — 003.001 — 69
▼M3
2. Virus de type A, sous-types H5 ou H7, pour lesquels
le séquençage nucléotide a mis en évidence des
acides aminés de base multiples au site de clivage de
l'hémaglutinine;
3. Virus langue bleue;
4. Virus de la maladie de la mainet du pied;5. Virus de la variole caprine;
6. Virus de l'herpès porcin(maladie d'Aujeszky);
7. Virus de la fièvre ovine (virus du choléra de Hog);8. Virus Lyssa;
9. Virus de la maladie de Newcastle;
10. Virus de la peste des petits ruminants;
11. Entérovirus porcin de type 9 (virus de la maladie
vésiculaire du porc);
12. Virus de la peste bovine;
13. Virus de la variole ovine;
14. Virus de la maladie de Teschen;
15. Virus de la stomatite vésiculaire;
b. Mycoplasma mycoïdes, qu'ils soient naturels, renforcés ou
modifiés, sous forme de "cultures vivantes isolées" ou de
matériel, y compris du matériel vivant délibérément inoculé ou
contaminé par ces mycoplasmas mycoïdes.
Note: Le paragraphe 1C352 ne vise pas les "vaccins".
1C353 "Micro-organismes" génétiquement modifiés, comme suit:
a. "Micro-organismes" génétiquement modifiés ou éléments
génétiques qui contiennent des séquences d'acide nucléique
associées au caractère pathogène des organismes visés aux
points 1C351.a. à .c. ou aux points 1C352 ou 1C354;
b. "Micro-organismes" génétiquement modifiés ou éléments
génétiques qui contiennent des séquences d'acide nucléique
pouvant coder l'une quelconque des "toxines" visées au point
1C351.d. ou de leurs "sous-unités de toxines".
1C354 Agents pathogènes des plantes, comme suit:
a. Bactéries, qu'elles soient naturelles, renforcées ou modifiées,
sous forme de "cultures vivantes isolées" ou de matériel qui a
délibérément été inoculé ou contaminé par ces cultures, comme
suit:
1. Xanthomonas albilineans;
2. Xanthomonas campestris pv. citri, y compris les souches
désignées par Xanthomonas campestris pv. citri de types A,
B, C, D, E ou autrement classifiées comme étant
Xanthomonas citri, Xanthomonas campestris pv. aurantifolia
ou Xanthomonas campestris pv. citrumelo;
b. Champignons, qu'ils soient naturels, renforcés ou modifiés,
sous forme de "cultures vivantes isolées" ou de matériel qui a
délibérément été inoculé ou contaminé par de telles cultures,
comme suit:
1. Colletotrichum coffeanum var. virulans (Colletotrichum
kahawae);
2. Cochliobolus miyabeanus (Helminthosporium oryzae);3. Microcyclus ulei (syn. Dothidella ulei);
4. Puccinia graminis (syn. Puccinia graminis F. sp. tritici);
5. Puccinia striiformis (syn. Puccinia glumarum);6. Magnaporthe grisea (Pyricularia grisea/pyricularia oryzae);
1C450 Produits chimiques toxiques et précurseurs chimiques toxiques,
comme suit, et "mélanges chimiques" contenant une ou plusieurs
de ces substances:
N.B.: VOIR ÉGALEMENT 1C350, 1C351.d. ET LISTE
DES MATÉRIELS DE GUERRE2000R1334 — FR — 19.01.2002 — 003.001 — 70
▼M3
a) Produits chimiques toxiques, comme suit:
1. Amiton: phosphorothiolate de 0,0-diéthyle et de S-[2-
(diéthylamino)éthyle] et les sels alkylés ou protonés
correspondants (78-53-5);
2. PFIB: 1,1,3,3,3-pentafluoro-(triofluorométhyl) propène
(382-21-8);
3.VOIR LA LISTE DES MATERIELS DE GUERRE
POUR: BZ: Benzilate de 3-quinuclidinyl (6581-06-2);
4. Phosgène: Diochlorure de carbonyle (75-44-5);
5. Chlorure de cyanogène (506-77-4);
6. Cyanure d'hydrogène (74-90-8);
7. Chloropicrine: trichloronitrométhane (76-06-2);
Note 1: Pour les exportations vers des "États non parties
à la Convention sur les armes chimiques", le
paragraphe 1C450 ne vise pas les "mélanges
chimiques" contenant une ou plusieurs des
substances chimiques visées aux alinéas
1C450.a.1. et .a.2. dont aucune des substances
spécifiées ne constitue plus de 1 % en poids du
mélange.
Note 2: Pour les exportations vers des "États parties à la
Convention sur les armes chimiques", le para-
graphe 1C450 ne vise pas les "mélanges
chimiques" contenant une ou plusieurs des
substances chimiques visées aux alinéas
1C450.a.1. et .a2. dont aucune des substances
spécifiées ne constitue plus de 30 % en poids du
mélange.
Note 3: Le paragraphe 1C450 ne vise pas les "mélanges
chimiques" contenant une ou plusieurs des
substances chimiques visées aux alinéas
1C450.a.4., .a.5., .a.6. et .a.7. dont aucune des
substances spécifiées ne constitue plus de 30 %
en poids du mélange.
b) Précurseurs de produits chimiques toxiques, comme suit:
1. Produits chimiques, autres que ceux cités sur la liste des
matériels de guerre ou au point 1C350, contenant un atome
de phosphore auquel est lié ungroupe méthyle, éthyle, n -
propyle ou iso-propyle, sans autres atomes de carbone;
Note: L'alinéa 1C450.b.1 ne vise pas le Fonofos:
éthyldithiophosphonate de O-éthyle et de S-
phényle (944-22-9).
2. Dihalagénures N,N-dialky (Me, Et,n-Pr ou iso-Pr) phospho-
ramidiques;
3. N,N-dialdyl (Me, Et, n-Pr ou iso-Pr) phosphoramidiques de
dialkyle (Me, Et, n-Pr ou iso-Pr) autres que N, N-
diméthylphosphoramidate de diéthyl visé au point 1C350;
4. Chlorures de N,N-2-dialkyl (Me, Et,n-Pr ou iso-Pr)
aminpéthyle et les sels protonés correspondants, autres que
2-chloro-N,N-diisopropyléthylamine et chlorure de 2-chlo-
roéthyldiisopropylammonium visés au point 1C350;
5. N-N-2-dialkyl (Me, Et,n-Pr ou iso-Pr) aminoéthanols et les
sels protonés correspondants autres que 2-diisopropylami-
noéthanol (96-80-0) et 2-diéthylaminoéthanol (100-37-8)
visés au point 1C350;
Note: L'alinéa 1C450.b.5 ne vise pas:
a. le N,N-Diméthylaminoéthanol (108-01-0) et les
sels protonés correspondants;
b. les sels protonés de N,N-Diéthylaminoéthanol
(100-37-8).
6. N,N-dialkyl (Me, Et,n-Pr ou iso-Pr) aminoéthanethiol et les
sels protonés correspondants; autres que N,N-diisopropyl-2-
aminoéthanethiol visé au point 1C350;
7. Éthyldiéthanolamine (139-87-7);
8. Méthyldiéthanolamine (105-59-9).2000R1334 — FR — 19.01.2002 — 003.001 — 71
▼M3
Note 1: Pour les exportations vers des "États non parties
à la Convention sur les armes chimiques", le
paragraphe 1C450 ne vise pas les "mélanges
chimiques" contenant une ou plusieurs des
substances chimiques visées aux alinéas
1C450.b.1., .b2., .b.3., .b.4., .b.5. et .b.6. dont
aucune des substances spécifiées ne constitue
plus de 10 % en poids du mélange.
Note 2: Pour les exportations vers des "États parties à la
Convention sur les armes chimiques", le para-
graphe 1C450 ne vise pas les "mélanges
chimiques" contenant une ou plusieurs des
substances chimiques visées aux alinéas
1C450.b.1., .b2., .b.3., .b.4., .b.5. et .b.6. dont
aucune des substances spécifiées ne constitue
plus de 30 % en poids du mélange.
Note 3: Le paragraphe 1C450 ne vise pas les "mélanges
chimiques" contenant une ou plusieurs des
substances chimiques visées aux alinéas
1C450.b.7. et .b.8. dont aucune des substances
spécifiées ne constitue plus de 30 % en poids du
mélange.
Note 4: Le paragraphe 14350 ne vise pas les produits
définis comme des biens de consommation
conditionnés pour la vente au détail en vue
d'un usage personnel ou conditionnés pour un
usage individuel.2000R1334 — FR — 19.01.2002 — 003.001 — 72
▼M3
1D Logiciel
1D001 "Logiciel" spécialement conçu ou modifié pour le "développe-
ment", la "production" ou l'"utilisation" des équipements visés aux
paragraphes 1B001 à 1B003.
1D002 "Logiciel" pour le "développement" de produits laminés ou de
matériaux "composites" à "matrice" organique, métallique ou de
carbone.
1D101 "Logiciel" spécialement conçu ou modifié pour l'"utilisation" des
produits visés au paragraphe 1B101, 1B102, 1B115, 1B117,
1B118 ou 1B119.
1D103 "Logiciel" spécialement conçu pour l'analyse des observables
réduits tels que la réflectivité radar, les signatures infrarouges/
ultraviolettes et les signatures acoustiques.
1D201 "Logiciel" spécialement conçu pour l'"utilisation" des produits
visés au paragraphe 1B201.2000R1334 — FR — 19.01.2002 — 003.001 — 73
▼M3
1E Technologie
1E001 "Technologie", au sens de la note générale relative à la
technologie, pour le "développement" ou la "production" des
équipements ou matériaux visés par les alinéas 1A001.b.,
1A001.c., les paragraphes 1A002 à 1A005 et les sous-catégories
1B ou 1C.
1E002 Autres "technologies", comme suit:
a. "Technologie" pour le "développement" ou la "production" des
polybenzothiazoles ou des polybenzoxazoles;
b. "Technologie" pour le "développement" ou la "production" de
composés de fluoroélastomères contenant au moins un mono-
mère de vinyléther;
c. "Technologie" pour la conception ou la "production" des
matériaux de base ou des matériaux céramiques non "compo-
sites" suivants:
1. Matériaux de base présentant toutes les caractéristiques
suivantes:
a. L'une des compositions ci-après:
1. Oxydes de zirconium simples ou complexes et oxydes
complexes de silicium ou d'aluminium;
2. Nitrures de bore simples (formes cristallines cubi-
ques);
3. Carbures de silicium ou de bore simples ou
complexes; ou
4. Nitrures de silicium simples ou complexes;
b. Total d'impuretés métalliques, non comprises les adjonc-
tions intentionnelles, de moins de:
1. 1 000 ppm pour les oxydes simples ou les carbures
simples;ou
2. 5 000 ppm pour les composés complexes ou les
nitrures simples;
et
c. L'undes matériaux suivan ts:
1. oxyde de zirconium ayant une dimension moyenne
des particules égale ou inférieure à 1 µm et n'ayant pas
plus de 10 % de particules d'une dimension supérieure
à 5 µm;
2. autres matériaux de base ayant une dimension
moyenne de particule égale ou inférieure à 5 µm et
n'ayant pas plus de 10 % de particules d'une
dimension supérieure à 10 µm; ou
3. présentant toutes les caractéristiques suivantes:
a. plaquettes dont le rapport longueur/épaisseur est
supérieur à 5;
b. trichites dont le rapport longueur/diamètre est
supérieur à 10 pour des diamètres inférieurs à
2 µm;et
c. fibres continues ou hachées d'un diamètre inférieur
à 10 µm;
2. Matériaux céramiques non "composites" composés des
matériaux énumérés à l'alinéa 1E002.c.1.;
Note: L'alinéa 1E002.c.2. ne vise pas la "technologie"
pour la conception ou la production d'abrasifs.
d. "Technologie" pour la "production" de fibres polyamides
aromatiques;
e. "Technologie" pour l'installation, la maintenance ou la répara-
tiondes matériaux visés par le paragraphe 1C001;
f. "Technologie" pour la réparation des structures ou produits
stratifiés "composites" visés au paragraphe 1A002 ou aux
alinéas 1C007.c. ou 1C007.d.
Note: L'alinéa 1E002.f. ne vise pas la "technologie" pour la
réparation de structures d'"aéronefs civils" au moyen
de "matériaux fibreux ou filamenteux" au carbone et2000R1334 — FR — 19.01.2002 — 003.001 — 74
▼M3
de résines époxydes, qui figure dans les manuels des
fabricants.
1E101 "Technologie", au sens de la note générale relative à la
technologie, pour l'"utilisation" des produits visés aux paragraphes
1A102, 1B001, 1B101, 1B102, 1B115 à 1B119, 1C001, 1C101,
1C107, 1C111 à 1C117, 1D101 ou 1D103.
1E102 "Technologie", au sens de la note générale relative à la
technologie, pour le "développement" des "logiciels" visés aux
paragraphes 1D001, 1D101 ou 1D103.
1E103 "Technologie" pour le réglage de la température, de la pression ou
de l'atmosphère des autoclaves ou des hydroclaves utilisés pour la
"production" de "composites" ou de "composites" partiellement
traités.
1E104 "Technologie" relative à la "production" de matériaux obtenus par
pyrolyse mis enforme sur unmoule, man drinou tout autre support
à partir de précurseurs gazeux qui se décomposent entre 1573 K
(1 300 ºC) et 3 173 K (2 900 ºC), et sous des pressions de 130 Pa à
20 kPa.
Note: Le paragraphe 1E104 comprend la "technologie" pour la
composition de précurseurs gazeux, des schémas et
paramètres de commande des débits et des processus.
1E201 "Technologie", au sens de la note générale relative à la
technologie, pour l'"utilisation" des biens visés aux paragraphes
1A002, 1A202, 1A225 à 1A227, 1B201, 1B225 à 1B233, aux
alinéas 1C002.a.2.c. ou .d., 1C010.b. et aux paragraphes 1C202,
1C210, 1C216, 1C225 à 1C240 ou 1D201.
1E202 "Technologie", au sens de la note générale relative à la
technologie, pour le "développement" ou la "production" des
biens visés aux paragraphes 1A202 ou 1A225 à 1A227.
1E203 "Technologie", au sens de la note générale relative à la
technologie, pour le "développement" des "logiciels" visés au
paragraphe 1D201.2000R1334 — FR — 19.01.2002 — 003.001 — 75
▼M3
CATÉGORIE 2
TRAITEMENTDES MATÉRIAUX2000R1334 — FR — 19.01.2002 — 003.001 — 76
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2A Systèmes, équipements et composants
N.B.: Pour les roulements silencieux, voir la liste des matériels
de guerre.
2A001 Roulements antifriction et systèmes de roulement suivants et leurs
composants:
Note: Le paragraphe 2A001 ne vise pas les billes ayant des
tolérances spécifiées par le fabricant classées suivant la
norme ISO 3290 classe 5 ou pires.
a. Roulements à billes ou roulements à rouleaux massifs, ayant
des tolérances spécifiées par le fabricant classées suivant la
norme ISO 492 Classe de tolérance 4 (ou ANSI/ABMA Std 20
Classe de tolérance ABEC-7 ou RBEC-7, ou équivalents
nationaux) ou meilleures, et ayant des bagues, des billes ou des
rouleaux enmétal mon el ou enbéryllium;
Note: L'alinéa 2A001.a. ne vise pas les roulements à
rouleaux coniques.
b. Autres roulements à billes et roulements à rouleaux massifs,
ayant des tolérances spécifiées par le fabricant classées suivant
la norme ISO 492 classe de tolérance 2 (ou ANSI/ABMA Std
20 Classe de tolérance ABEC-9 ou RBEC-9, ou équivalents
nationaux) ou meilleures;
Note: L'alinéa 2A001.b. ne vise pas les roulements à
rouleaux coniques.
c. Systèmes de paliers magnétiques actifs utilisant l'un des
éléments suivants:
1. Matériaux ayant des densités de flux de 2.0 T ou plus et des
limites élastiques supérieures à 414 MPa;
2. Polariseurs homopolaires tridimensionnels entièrement élec-
tromagnétiques pour actionneurs; ou
3. Capteurs de positionà haute température (450 K (117 ºC) ou
plus).
2A225 Creusets fabriqués en matériaux résistant aux métaux actinides
liquides, comme suit:
a. creusets présentant les deux caractéristiques suivantes:
1. unvolume compris en tre 150 et 8 000 cm3;et
2. fabriqués en ou recouverts d'une couche de l'un quelconque
des matériaux ci-dessous ayant une pureté égale ou supé-
rieure à 98 % enpoids:
a. fluorure de calcium (CaF2);
b. zirconate de calcium (métazirconate) (CaZrO3);
c. sulfure de cérium (Ce2S3);
d. oxyde d'erbium (erbine) (Er2O3);
e. oxyde de hafnium (hafnone) (HfO2);
f. oxyde de magnésium (MgO);
g. alliage nitruré niobium-titane-tungstène (environ 50 %
Nb, 30 % Ti, 20 % W);
h. oxyde d'yttrium (yttria) (Y2O3);ou
i. oxyde de zirconium (zircone) (ZrO2);
b. creusets présentant les deux caractéristiques suivantes:
1. unvolume compris en tre 50 et 2 000 cm3;et
2. fabriqués ou à revêtement interne en tantale d'une pureté
égale ou supérieure à 99,9 % enpoids;
c. creusets présentant toutes les caractéristiques suivantes:
1. unvolume compris en tre 50 et 2 000 cm3;
2. fabriqués ou à revêtement interne en tantale d'une pureté
égale ou supérieure à 98 % enpoids; et
3. recouverts d'une couche de carbure, nitrure ou borure de
tantale, ou d'une combinaison quelconque de ces trois
substances.2000R1334 — FR — 19.01.2002 — 003.001 — 77
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2A226 Valves présentant les caractéristiques suivantes:
a. une 'taille nominale' égale ou supérieure à 5 mm;
b. munies d'un obturateur à soufflet; et
c. faites entièrement ou revêtues intérieurement d'une couche
d'aluminium, d'alliage d'aluminium, de nickel ou d'alliage de
nickel contenant plus de 60 % de nickel en poids.
Note technique:
Pour les valves ayant des diamètres différents à l'entrée et à la
sortie, on entend par 'taille nominale' au paragraphe 2A226 le
diamètre le plus petit.2000R1334 — FR — 19.01.2002 — 003.001 — 78
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2BÉquipements d'essai, de contrôle et de production
Notes techniques:
1. Les axes de contournage secondaires parallèles, par exemple
un axe w surdes aléseuses horizontales ouun axe de rotation
secondaire dont l'axe de référence est parallèle à celui de
l'axe de rotation principal, ne sont pas comptés dans le
nombre total des axes de contournage. Les axes de rotation
ne doivent pas nécessairement tourner sur 360º. Un axe de
rotation peut être entraîné par un dispositif linéaire (par
exemple une vis ou une crémaillère).
2. Aux fins du point 2B, le nombre d'axes pouvant être
coordonnés simultanément pour la "commande de contour-
nage" est le nombre d'axes qui affectent le mouvement relatif
entre une pièce usinée quelconque et un outil, un mécanisme
de coupe ou une meule qui coupe ou retire du matériau de la
pièce usinée. Il ne comprend pas les autres axes qui affectent
d'autres mouvements relatifs à l'intérieur de la machine.
Ces axes sont notamment:a. les systèmes de dressage dans les machines à rectifier;
b. les axes rotatifs parallèles conçus pour le montage de
plusieurs pièces à usiner;
c. les axes rotatifs colinéaires conçus pour manipuler la
même pièce à usiner en la maintenant dans un mandrin à
différentes extrémités.
3. La nomenclature des axes sera conforme à la norme ISO
841, "Machines à commande numérique — nomenclature des
axes et des mouvements".
4. Pour les besoins des paragraphes 2B001 à 2B009, une
"broche basculante" est assimilée à un axe de rotation.
5. Des niveaux garantis de précision de positionnement dérivés
de mesures effectuées selon la norme ISO 230/2 (1988) (
1)ou
des normes nationales équivalentes peuvent être utilisés au
lieu des protocoles d'essai individuels pour chaque modèle
de machine-outil. La précision de positionnement garantie
signifie la valeur précise fournie par les autorités compé-
tentes de l'État membre où l'exportateur est établi comme
représentative de la précision d'un modèle de machine.
Détermination des valeurs garantiesa. Sélectionner cinq machines d'un modèle à évaluer;
b. Mesurer les précisions d'axe linéaire selon la norme ISO
230/2 (1988) (
1);
c. Déterminer les valeurs A pour chaque axe de chaque
machine. La méthode de calcul de la valeur A est décrite
dans la norme ISO;
d. Déterminer la valeur moyenne de la valeur A de chaque
axe. Cela signifie que la valeur Â devient la valeur
garantie de chaque axe pour le modèle (Âx Ây …);
e. La liste de la catégorie 2 se référant à chaque axe
linéaire, il y aura autant de valeurs garanties qu'il y a
d'axes linéaires;
f. Si un axe quelconque d'un modèle de machine non visé
par les alinéas 2B001.a. à 2B001.c. ou par le paragraphe
2B201 a une précision garantie Â de 6 microns ou moins
pour les machines de rectification et de 8 microns ou
moins pour les machines de fraisage et de tournage, le
fabricant devrait être tenu de réaffirmer le niveau de
précision tous les dix-huit mois.
2B001 Machines-outils, comme suit, et toute combinaison de ceux-ci,
pour l'enlèvement ou la découpe des métaux, céramiques ou
matériaux "composites" pouvant, conformément aux spécifications
techniques du fabricant, être équipées de dispositifs électroniques
pour la "commande numérique":2000R1334 — FR — 19.01.2002 — 003.001 — 79
(1) Les fabricants qui calculent la précision de positionnement conformément à la norme
ISO 230/2 (1997) doivent consulter les autorités compétentes de l'État membre où ils
sont établis.
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N.B.: VOIR ÉGALEMENT 2B201.
Note 1: Le paragraphe 2B001 ne vise pas les machines-outils
spéciales limitées à la fabrication d'engrenages. Pour
ces machines, voir le paragraphe 2B003.
Note 2: Le paragraphe 2B001 ne vise pas les machines-outils
spéciales limitées à la fabrication de l'un des
composants suivants:
a. vilebrequins ou arbres à cames;
b. outils ou outils de coupe;
c. vers d'extrudeuse;
d. pièces de joaillerie gravées ou à facettes.
a. Machines-outils de tournage, présentant toutes les caractéristi-
ques suivantes:
1. précision de positionnement, avec "toutes les corrections
disponibles", égale ou inférieure à (meilleure que) 6 µm le
long de l'un quelconque des axes linéaires conformément à
la norme ISO 230/2 (1988)(1) ou de normes nationales
équivalentes; et
2. ayant deux axes ou plus pouvant être coordonnés simulta-
nément pour la "commande de contournage";
Note: L'alinéa 2B001 a. ne vise pas les machines de
tournage spécialement conçues pour la production
de lentilles de contact.
b. Machines-outils de fraisage, présentant l'une des caractéristi-
ques suivantes:
1. présentant toutes les caractéristiques suivantes:
a. précision de positionnement, avec "toutes les corrections
disponibles", égale ou inférieure à (meilleure que) 6 µm
le long de l'un quelconque des axes linéaires conformé-
ment à la norme ISO 230/2 (1988)(1) ou de normes
nationales équivalentes; et
b. trois axes linéaires et un axe de rotation pouvant être
coordonnés simultanément pour la "commande de
contournage";
2. ayant cinq axes ou plus pouvant être coordonnés simulta-
nément pour la "commande de contournage"; ou
3. précision de positionnement pour les perceuses en coor-
données, avec toutes les corrections disponibles, égale ou
inférieure à (meilleure que) 4 µm le long de l'un quelconque
des axes linéaires conformément à la norme ISO 230/2
(1988) (1) ou de normes nationales équivalentes;
4. machines à tailler à volant, présentant toutes les caracté-
ristiques suivantes:
a. "faux-rond de rotation" et "voile" de la broche inférieurs
à (meilleurs que) 0,0004 mm, lecture complète del'aiguille (TIR); et
b. déviation angulaire du mouvement du chariot (lacets,
roulis et tangage) inférieure à (meilleure que) 2 secondes
d'arc, lecture complète de l'aiguille (TIR), sur 300 mm de
déplacement;
c. Machines-outils de rectification, présentant l'une des caracté-
ristiques suivantes:
1. présentant toutes les caractéristiques suivantes:
a. précision de positionnement, avec toutes les corrections
disponibles, égale ou inférieure à (meilleure que) 4 µm le
long de l'un quelconque des axes linéaires conformément
à la norme ISO 230/2 (1988) (
1) ou de normes nationales
équivalentes; et
b. trois axes oupluspouvant être coordonnéssimultanément
pour la "commande de contournage"; ou2000R1334 — FR — 19.01.2002 — 003.001 — 80
(1) Les fabricants qui calculent la précision de positionnement conformément à la norme
ISO 230/2 (1997) doivent consulter les autorités compétentes de l'État membre où ils
sont établis.
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2. ayant cinq axes ou plus pouvant être coordonnés simulta-
nément pour la "commande de contournage";
Note: L'alinéa 2B001.c. ne vise pas les machines de
rectification suivantes:
1. machines de rectification externe, interne, ou
externe et interne, des cylindres, présentant toutes
les caractéristiques suivantes:
a. limitées à la rectification cylindrique; et
b. limitées à une dimension ou à un diamètre
extérieur maximal des pièces usinables de
150 mm;
2. machines spécialement conçues en tant que
rectifieuses en coordonnées, présentant l'une des
caractéristiques suivantes:
a. l'axe c sert à assurer la perpendicularité de la
meule par rapport au plan de travail; ou
b. l'axe est configuré pour rectifier des tambours à
rainures;
3. machines à affûter les outils ou les outils de coupe,
limitées à la production d'outils ou d'outils de
coupe;
4. machines de rectification de vilebrequins ou
d'arbres à cames;
5. rectifieuses de surfaces planes.
d. machines à décharge électrique autres qu'à fil ayant deux axes
de rotation ou plus qui peuvent être coordonnés simultanément
pour la "commande de contournage";
e. machines-outils pour l'enlèvement des métaux, céramiques ou
matériaux "composites", présentant toutes les caractéristiques
suivantes:
1. élimination de matériau au moyen de l'un des procédés
suivants:
a. jets d'eau ou d'autres liquides, y compris ceux utilisant
des additifs abrasifs,
b. faisceaux électroniques, ou
c. faisceaux "laser", et
2. ayant deux axes de rotation ou plus qui:
a. peuvent être coordonnés simultanément pour la
"commande de contournage", et
b. ont une précision de positionnement inférieure à
(meilleure que) 0,003º;
f. Machines de perçage pour trous profonds et machines de
tournage modifiées pour le perçage de trous profonds, ayant
une capacité maximale de profondeur de l'alésage supérieure à
5 000 mm et leurs composants spécialement conçus.
2B003 Machines-outils à "commande numérique" ou manuelles et leurs
composants, commandes et accessoires spécialement conçus,
spécialement conçues pour raser, finir, rectifier ou roder les
engrenages droits et à denture hélicoïdale et hélicoïdale double,
durcis (Rc= 40 ou supérieur), ayant un diamètre du cercle primitif
supérieur à 1 250 mm et une largeur de denture de 15 % ou plus du
diamètre du cercle primitif, finis jusqu'à une qualité AGMA 14 ou
meilleure (équivalent à ISO 1328 classe 3).
2B004 "Presses isostatiques" à chaud, présentant toutes les caractéristi-
ques suivantes, et composants et accessoires spécialement conçus:
N.B.: VOIR ÉGALEMENT 2B104 ET 2B204.
a. comportant un environnement thermique contrôlé dans la cavité
fermée et possédant une cavité de travail d'un diamètre intérieur
égal ou supérieur à 406 mm; et
b. présentant l'une des caractéristiques suivantes:
1. une pression de travail maximale supérieure à 207 MPa;
2. un environnement thermique contrôlé supérieur à 1773 K
(1 500 ºC); ou2000R1334 — FR — 19.01.2002 — 003.001 — 81
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3. une capacité d'imprégnation aux hydrocarbures et d'élimina-
tiondes produits gazeux de décompositionrésultan ts.
Note technique:
La dimension de la cavité de travail désigne le diamètre intérieur
de la cavité de travail de la presse dans laquelle la température et
la pression de travail sont réalisées et ne comprend pas les
dispositifs de montage. Cette dimension désignera, selon celle des
deux chambres qui contient l'autre, soit le diamètre intérieur de la
chambre haute pression, soit le diamètre intérieur de la chambre
isolée du four, la valeur prise en considération étant la plus petite.
N.B.: Pour les matrices, moules et outils spécialement conçus,
voir 1B003, 9B009 et les listes de matériels de guerre.
2B005 Équipements spécialement conçus pour le dépôt, le traitement et le
contrôle en cours d'opération de recouvrements, revêtements et
modifications de surfaces inorganiques, comme suit: pour lessubstrats non électroniques, par des procédés mentionnés dans le
tableau suivant l'alinéa 2E003.f. et dans les notes associées, leurs
composants de manutention, placement, manipulation et
commande automatisés spécialement conçus:
a. équipements de production à "commande par programme
enregistré" pour le dépôt en phase vapeur par procédé chimique
(CVD), présentant les deux caractéristiques suivantes:
N.B.: VOIR ÉGALEMENT 2B105.
1. procédés modifiés par l'une des techniques suivantes:
a. dépôt enphase vapeur par procédé chimique pulsatoire;
b. déposition thermique par nucléation contrôlée (CNTD);
ou
c. dépôt enphase vapeur par procédé chimique assisté ou
amélioré par plasma; et
2. présentant l'une des caractéristiques suivantes:
a. joints rotatifs sous vide poussé (inférieur ou égal à
0,01 Pa); ou
b. dispositif de commande de l'épaisseur du revêtement in
situ;
b. équipements de production à "commande par programme
enregistré" pour l'implantation ionique, ayant des courants du
faisceau de 5 mA ou plus;
c. équipements de production à "commande par programme
enregistré" pour le dépôt en phase vapeur par procédé physique
par faisceau d'électrons (EB-PVD), comportant des systèmes
d'alimentation de plus de 80 kW et présentant l'une des
caractéristiques suivantes:
1. un système de commande à "laser" du niveau du bain
liquide, qui règle avec précisionla vitesse d'avan ce du
lingot;ou
2. un dispositif de surveillance de la vitesse commandé par
ordinateur, fonctionnant selon le principe de la photo-
luminescence des atomes ionisés dans le flux en
évaporation, destiné à contrôler la vitesse de dépôt d'un
revêtement contenant deux éléments ou plus;
d. équipements de production à "commande par programme
enregistré" pour la pulvérisation de plasma, présentant l'une
des caractéristiques suivantes:
1. fonctionnement sousatmosphère contrôlée à pressionréduite
(inférieure ou égale à 10 kPa, mesurée à 300 mm au-dessus
de la sortie du pulvérisateur du pistolet) dans une chambre à
vide capable d'évacuer l'air jusqu'à 0,01 Pa avant le
processus de pulvérisation; ou
2. dispositif de commande de l'épaisseur du revêtement in situ;
e. equipements de production à "commande par programme
enregistré" pour le dépot par pulvérisation cathodique pouvant
avoir des densités de courant égales ou supérieures 0,1 mA/
mm2à une vitesse de dépot égale ou supérieure à 15 µm/heure;
f. équipements de production à "commande par programme
enregistré" pour le dépôt par arc cathodique, comportant une2000R1334 — FR — 19.01.2002 — 003.001 — 82
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grille d'électro-aimants pour la commande de direction du spot
d'arc à la cathode;
g. équipements de production à "commande par programme
enregistré" pour le placage ionique permettant la mesure in
situde l'une des caractéristiques suivantes:
1. épaisseur du revêtement sur le substrat et contrôle du débit;
ou
2. caractéristiques optiques.
Note: Le paragraphe 2B005 ne vise pas les équipements pour le
dépôt chimique en phase vapeur, pour le dépôt par arc
cathodique, pour le dépôt par pulvérisation cathodique,
pour le placage ionique ou pour l'implantation ionique,
spécialement conçus pour outils de coupe ou d'usinage.
2B006 Systèmes ou équipements de contrôle dimensionnel ou de mesure,
comme suit:
a. machines de contrôle dimensionnel à commande par calcula-
teur, à "commande numérique" ou à "commande par
programme enregistré", présentant une "incertitude de mesure"
de la longueur à trois dimensions (volumétrique) égale ou
inférieure à (meilleure que) (1,7 + L/1 000) µm (L représentant
la longueur mesurée, exprimée en mm), testée conformément à
la norme ISO 10360-2;
N.B.: VOIR ÉGALEMENT 2B206.
b. instruments de mesure de déplacement linéaire et angulaire,
comme suit:
1. instruments de mesure linéaire présentant l'une des caracté-
ristiques suivantes:
a. systèmes de mesure de type non à contact, ayant une
"résolution" égale ou inférieure à (meilleure que) 0,2 µm
dans une gamme de mesure égale ou inférieure à 0,2 mm;
b. systèmes transformateurs différentiels à tension linéaire
présentant les deux caractéristiques suivantes:
1. "linéarité" égale ou inférieure à (meilleure que) 0,1 %
dans une gamme de mesure égale ou inférieure à
5 mm;et
2. dérive égale ou inférieure à (meilleure que) 0,1 % par
jour à une température ambiante normale de la salle
d'essai ± 1 K; ou
c. systèmes de mesure présentant toutes les caractéristiques
suivantes:
1. contenant un "laser"; et
2. maintenant pendant au moins 12 heures, à ± 1 K près
d'une température normale et à une pression normale
toutes les caractéristiques suivantes:
a. une "résolution" pour la pleine échelle de 0,1 µm
ou moins (meilleure) et
b. une "incertitude de mesure" égale ou inférieure à
(meilleure que) (0,2 + L/2 000) µm (L représentant
la longueur mesurée, exprimée en mm);
Note: L'alinéa 2B006.b.1. ne vise pas les systèmes de
mesure à interféromètres, sans rétroaction en
boucle fermée ou ouverte, contenant un "laser"
afin de mesurer les erreurs du mouvement du
chariot des machines-outils, des machines de
contrôle dimensionnel, ou des équipements simi-
laires.
2. Instruments de mesure angulaire présentant un "écart de
positionnement angulaire" égal ou inférieur à (meilleur que)
0,00025º;
Note: L'alinéa 2B006.b.2. ne vise pas les instruments
optiques tels que les autocollimateurs utilisant la
lumière collimatée pour détecter le déplacement
angulaire d'un miroir.2000R1334 — FR — 19.01.2002 — 003.001 — 83
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c. équipements destinés à mesurer des irrégularités de surface, en
mesurant la dispersion optique comme fonction d'angle, avec
une sensibilité égale ou inférieure à (meilleure que) 0,5 nm.
Note 1: Les machines-outils pouvant servir de machines de
mesure sont visées si elles correspondent aux critères
établis pour la fonction de machines-outils ou la
fonction de machines de mesure, ou si elles dépassent
ces critères.
Note 2: Une machine décrite au paragraphe 2B006 est visée si
elle dépasse la limite de contrôle, à un point
quelconque de sa gamme de fonctionnement.
2B007 "Robots" présentant l'une des caractéristiques suivantes et leurs
unités de commande et "effecteurs terminaux" spécialement
conçus:
N.B.: VOIR ÉGALEMENT 2B207.
a. ayant une capacité, en temps réel, de traitement de l'image en
trois dimensions réelles ou d''analyse de scène' en trois
dimensions réelles, afin de créer ou de modifier des
"programmes" ou des données de programmes numériques;
Note technique:
La limitation visant l'"analyse de scène" ne comprend pas
l'approximation de la troisième dimension par la vision sous un
angle donné ni l'interprétation d'une échelle de gris limitée en
vue de la perception de la profondeur ou de la texture pour les
tâches autorisées (2 ½ D).
b. spécialement conçus pour satisfaire aux normes nationales de
sécurité relatives aux environnements d'armements explosifs;
c. spécialement conçus ou durcis au rayonnement pour résister à
une dose de radiation totale de plus de 5 × 103Gy (silicium)
sans que leur fonctionnement soit altéré; ou
Note technique:
Le terme Gy (silicium) désigne l'énergie en Joules par
kilogramme absorbé par un échantillon de silicium non blindé
lorsqu'il est exposé à une radiation ionisante.
d. spécialement conçus pour opérer à des altitudes supérieures à
30000 m.
2B008 Ensemble ou unités spécialement conçus pour machines-outils, ou
les systèmes ou équipements de contrôle dimensionnel ou de
mesure, comme suit:
a. Unités de rétroaction en position linéaire (par exemple
dispositifs de type inductif, échelles graduées, systèmes à
infrarouges ou systèmes à "laser") ayant une "précision" globale
inférieure à (meilleure que) (800 + (600 × L × 10−3)) nm (L
représentant la longueur réelle exprimée en mm);
N.B.: Pour les systèmes "laser", voir également la note à
l'alinéa 2B006.b.1.
b. Unités de rétroaction en position rotative, par exemple
dispositifs de type inductif, échelles graduées, systèmes à
infrarouges ou systèmes à "laser" ayant une "précision"
inférieure à (meilleure que) 0,00025º;
N.B.: Pour les systèmes "laser", voir également la note à
l'alinéa 2B006.b.1.
c. "Tables rotatives inclinables" et "broches basculantes" qui,
conformément aux spécifications techniques du fabricant,
peuvent renforcer des machines-outils, de sorte qu'elles
atteignent ou dépassent les limites fixées au paragraphe 2B.
2B009 Machines de tournage centrifuge et machines de fluotournage qui,
conformément aux spécifications techniques du fabricant, peuvent
être équipées d'unités de "commande numérique" ou d'une
commande par ordinateur et présentant toutes les caractéristiques
suivantes:
N.B.: VOIR ÉGALEMENT 2B109 ET 2B209.
a. deux axes contrôlés ou plus, dont deux au moins peuvent être
coordonnés simultanément pour la "commande de contour-
nage";et2000R1334 — FR — 19.01.2002 — 003.001 — 84
▼M3
b. une force de roulage de plus de 60 kN.
Note technique:
Pour les besoins du paragraphe 2B009, les machines combinant
les fonctions de tournage centrifuge et de fluotournage sont
assimilées à des machines de fluotournage.
2B104 "Presses isostatiques", autres que celles visées au paragraphe
2B004, présentant toutes les caractéristiques suivantes:
N.B.: VOIR ÉGALEMENT 2B204.
a. pressionde travail maximale égale ou supérieure à 69 MPa;
b. conçues pour atteindre et maintenir un environnement ther-
mique contrôlé de 873 K (600 ºC) ou plus; et
c. une chambre d'un diamètre égal ou supérieur à 254 mm;
2B105 Fours, autres que ceux visés à l'alinéa 2B005.a., conçus ou
modifiés pour la densification des matériaux composites carbone-
carbone.
2B109 Machines de fluotournage, autres que celles visées au paragraphe
2B009, et leurs composants spécialement conçus, comme suit:
N.B.: VOIR ÉGALEMENT 2B209.
a. machines de fluotournage présentant toutes les caractéristiques
suivantes:
1. pouvant, conformément aux spécifications techniques du
fabricant, être équipées d'unités de "commande numérique"
ou d'une commande par ordinateur, même s'ils ne le sont pas
à l'origine; et
2. ayant plus de deux axes pouvant être coordonnés simulta-
nément pour la "commande de contournage";
b. composants spécialement conçus pour les machines de
fluotournage visées au paragraphe 2B009 ou à l'alinéa 2B109.a.
Note: Le paragraphe 2B109ne vise pas les machines non
utilisables pour la production des composants et
équipements de propulsion (par exemple les corps depropulseurs) pour les systèmes visés au paragraphe
9A005, aux alinéas 9A007.a. ou 9A105.a.
Note technique:
Pour les besoins du paragraphe 2B109, les machines combinant
les fonctions de tournage centrifuge et de fluotournage sont
assimilées à des machines de fluotournage.
2B116 Systèmes d'essais aux vibrations, équipements et composants,
comme suit:
a. systèmes d'essais aux vibrations utilisant des techniques
d'asservissement et incorporant une commande numérique,
capable d'assurer la vibrationd'unsystème sous 10 g eff. (rms)
ou plus sur l'ensemble de la plage de fréquence entre 20 et
2 000 Hz et communiquant des forces de 50 kN, mesurées
"table nue", ou plus;
b. commandes numériques, associées avec les logiciels d'essais
spécialement conçus, avec une "bande passante temps réel"
supérieure à 5 kHz et conçues pour l'utilisation avec les
systèmes d'essais aux vibrations visés à l'alinéa 2B116.a.;
c. pots vibrants, avec ou sans amplificateurs associés, capables de
communiquer une force de 50 kN ou plus, mesurée 'table nue',
utilisables dans les systèmes d'essais aux vibrations visés à
l'alinéa 2B116.a.;
d. structures support des pièces à tester et équipements élec-
troniques conçus pour combiner plusieurs pots vibrants en un
système vibrant complet capable de fournir une force combinée
effective de 50 kN ou plus, mesurée 'table nue', utilisables dans
les systèmes d'essais aux vibrations visés à l'alinéa 2B116.a.
Note: Au paragraphe 2B116, l'expression 'table nue' désigne
une table plate ou une surface sans installation ni
équipement.
2B117 Commandes des équipements et processus, autres que ceux
spécifiés en2B004, 2B005.a, 2B104 ou 2B105, con çus ou2000R1334 — FR — 19.01.2002 — 003.001 — 85
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modifiés pour la densification et la pyrolyse des pièces composites
des tuyères de fusées et des nez de véhicules de rentrée.
2B119 Machines d'équilibrage et équipements connexes, comme suit:
N.B.: VOIR ÉGALEMENT 2B219.
a. Machines d'équilibrage présentant toutes les caractéristiques
suivantes:
1. ne pouvant pas équilibrer des rotors/ensembles d'une masse
supérieure à 3 kg;
2. capables d'équilibrer des rotors/ensembles à des vitesses
supérieures à 12500 tours/min;
3. capables d'effectuer des corrections d'équilibrage selon deux
plans ou plus; et
4. capables de réaliser l'équilibrage jusqu'à unbalourd résiduel
de 0,2 g × mm par kg de masse du rotor;
Note: L'alinéa 2B119.a. ne vise pas les machines d'équili-
brage conçues ou modifiées pour des équipements
dentaires ou autres équipements médicaux.
b. Têtes indicatrices conçues ou modifiées pour être utilisées avec
les machines visées à l'alinéa 2B119.a.
Note technique:
Les têtes indicatrices sont parfois connues comme instruments
d'équilibrage.
2B120 Simulateurs de mouvement ou tables rotatives présentant toutes les
caractéristiques suivantes:
a. deux axes ou plus;
b. bagues collectrices capables de transmettre un courant élec-
trique et/ou des informations de signal; et
c. présentant l'une des caractéristiques suivantes:
1. pour chaque axe présentant toutes les caractéristiques
suivantes:
a. pouvant atteindre des taux de 400 degrés/s ou plus, ou
30 degrés/s ou moins; et
b. une résolution de taux égale ou inférieure à 6 degrés/s et
une précision égale ou inférieure à 0,6 degré/s;
2. ayant, dans le pire des cas, une stabilité de taux égale à ou
meilleure (inférieure) que plus ou moins 0,05 %, calculée en
moyenne sur 10 degrés ou plus; ou
3. une précision de positionnement égale à meilleure que 5
secondes d'arc.
Note: Le paragraphe 2B120 ne vise pas les tables rotatives
conçues ou modifiées pour des machines-outils ou des
équipements médicaux. Pour les commandes de tables
rotatives de machines-outils, voir le paragraphe 2B008.
2B121 Tables de positionnement (équipements capables d'effectuer un
positionnement rotatif précis dans n'importe quel axe), autres que
celles visées au paragraphe 2B120, présentant toutes les caracté-
ristiques suivantes:
a. deux axes ou plus; et
b. une précision de positionnement égale à ou meilleure que 5
secondes d'arc.
Note: Le paragraphe 2B121 ne vise pas les tables rotatives
conçues ou modifiées pour des machines-outils ou des
équipements médicaux. Pour les commandes de tables
rotatives de machines-outils, voir le paragraphe 2B008.
2B122 Centrifugeuses capables d'accélérations de plus de 100 g et ayant
des bagues collectrices capables de transmettre un courant
électrique et/ou des informations de signal.
2B201 Machines-outils, autres que celles visées au paragraphe 2B001,
comme suit, pour l'enlèvement ou la découpe des métaux,
céramiques ou matériaux "composites" pouvant, conformément
aux spécifications techniques du fabricant, être équipées de2000R1334 — FR — 19.01.2002 — 003.001 — 86
▼M3
dispositifs électroniques pour la "commande de contournage"
simultanée sur deux axes ou plus:
a. Fraiseuses, présentant l'une des caractéristiques suivantes:
1. précisions de positionnement, avec "toutes les corrections
disponibles", égales ou inférieures à (meilleures que) 6 µm
le long de l'un quelconque des axes linéaires conformément
à la norme ISO 230/2 (1988)(1) ou de normes nationales
équivalentes; ou
2. deux axes de rotation de contournage ou plus;
Note: L'alinéa 2B201.a. ne vise pas les fraiseuses
présentant les caractéristiques suivantes:
a. un déplacement de l'axe X de plus de 2 m; et
b. une "précision de positionnement" globale sur
l'axe X supérieure à (pire que) 30 µm.
b. Machines-outils de rectification, présentant l'une des caracté-
ristiques suivantes:
1. précisions de positionnement, avec "toutes les corrections
disponibles", inférieures à (meilleures que) 4 µm le long de
l'un quelcomque desaxes linéaires conformément à la norme
ISO 230/2 (1988) (1) ou de normes nationales équivalentes;
ou
2. deux axes de rotation de contournage ou plus;
Note: L'alinéa 2B201.b. ne vise pas les machines de
rectification suivantes:
a. machines de rectification externe, interne, ou
externe et interne, des cylindres, présentant toutes
les caractéristiques suivantes:
1. limitées à la rectification cylindrique;
2. ayant une dimension ou un diamètre extérieur
maximal des pièces usinables de 150 mm;
3. ne comportant pas plus de deux axes pouvant
être coordonnés simultanément pour la
"commande de contournage"; et
4. ne comportant pas d'axe de contournage c.;
b. rectifieuses en coordonnées dont les axes sont
limités aux axes x, y, c et a, l'axe c servant à
assurerla perpendicularité de la meule parrapport
au plan de travail, et l'axe a étant configuré pour
rectifier des tambours à rainures;
c. machines à affûter les outils ou les outils de coupe,
avec "logiciel", spécialement conçus pour la
production d'outils ou d'outils de coupe; ou
d. machines de rectification de vilebrequins ou
d'arbres à cames.
2B204 "Presses isostatiques", autres que celles visées aux paragraphes
2B004 ou 2B104, et équipements correspondants comme suit:
a. "presses isostatiques" présentant les deux caractéristiques
suivantes:
1. capables d'atteindre une pression maximale de travail égale
ou supérieure à 69 MPa; et
2. ayant une chambre d'un diamètre intérieur supérieur à
152 mm;
b. mandrins, moules et commandes spécialement conçus pour les
"presses isostatiques" visées à l'alinéa 2B204.a.
Note technique:
Au paragraphe 2B204, la dimension intérieure de la chambre est
celle de la chambre dans laquelle sont obtenues la pression et la
température de travail et n'inclut pas les fixations. Cette dimension
est la plus petite des deux suivantes: le diamètre intérieur de la2000R1334 — FR — 19.01.2002 — 003.001 — 87
(1) Les fabricants qui calculent la précision de positionnement conformément à la norme
ISO 230/2 (1997) doivent consulter les autorités compétentes de l'État membre où ils
sont établis.
▼M3
chambre de pression ou le diamètre intérieur de la chambre
servant de four isolé, selon celle des deux qui est située à
l'intérieur de l'autre.
2B206 Machines, instruments ou systèmes de contrôle dimensionnel,
autres que ceux cités au paragraphe 2B006, comme suit:
a. machines de contrôle dimensionnel à commande par calcula-
teur, à "commande numérique" ou à "commande par
programme enregistré", présentant les deux caractéristiques
suivantes:
1. deux axes ou plus; et
2. "incertitude de mesure" de la longueur à une dimension
égale ou inférieure à (meilleure que) (1,25 + L/1 000) µm,
testées avec une sonde d'une "précision" inférieure à
(meilleure que) 0,2 µm (L représentant la longueur mesurée,
exprimée enmm) (réf. VDI/VDE 2617, parties 1 et 2);
b. systèmes pour la vérification linéaire-angulaire simultanée des
demi-coques présentant les deux caractéristiques suivantes:
1. "incertitude de mesure" sur un axe linéaire quelconque égale
ou inférieure à (meilleure que) 3,5 µm par 5 mm; et
2. "écart de positionnement angulaire" égal ou inférieur à
(meilleur que) 0,02º.
Note 1: Les machines-outils pouvant servir de machines de
mesure sont visées si elles correspondent aux critères
établis pour la fonction de machines-outils ou la
fonction de machines de mesure, ou si elles dépassent
ces critères.
Note 2: Une machine décrite au paragraphe 2B206 est visée si
elle dépasse la limite de contrôle, à un point
quelconque de sa gamme de fonctionnement.
Note technique:
1. La sonde pour déterminer l'"incertitude de mesure" d'un
système de contrôle dimensionnel correspondra à celle
décrite à la norme VDI/VDE 2617, parties 2, 3 et 4.
2. Toutes les valeurs de mesure figurant dans le paragraphe
2B206 représentent des déviations positives ou négatives
autorisées par rapport à la valeur prescrite, c'est-à-dire pas
la totalité de la gamme.
2B207 "robots", "effecteurs terminaux" et leurs unités de commande,
autres que ceux visés au paragraphe 2B007, comme suit:
a. "robots" ou "effecteurs terminaux" spécialement conçus pour
répondre aux normes nationales de sécurité applicables à la
manipulation d'explosifs brisants (par exemple répondant aux
spécifications de la codification relative à l'électricité pour les
explosifs brisants);
b. unités de commande spécialement conçues pour l'un des
"robots" ou "effecteurs terminaux" visés à l'alinéa 2B207.a.
2B209 Machines de fluotournage ou de tournage centrifuge capables de
remplir des fonctions de fluotournage, autres que celles visées aux
paragraphes 2B009 ou 2B109, et mandrins, comme suit:
a. machines présentant les deux caractéristiques suivantes:
1. ayant trois galets ou plus (actifs ou de guidage); et
2. pouvant, conformément aux spécifications du fabricant, être
équipées d'unités de "commande numérique" ou de
commande par ordinateur;
b. mandrins de tournage conçus pour tourner des rotors cylin-
driques d'un diamètre intérieur variant entre 75 et 400 mm.
Note: L'alinéa 2B209.a. vise les machines qui n'ont qu'un seul
galet conçu pour déformer le métal et deux galets
auxiliaires pour retenir le mandrin, mais ne participant
pas directement au processus de déformation.2000R1334 — FR — 19.01.2002 — 003.001 — 88
▼M3
2B219 Machines centrifuges d'équilibrage multiplans, fixes ou déplaça-
bles, horizontales ou verticales, comme suit:
a. machines centrifuges d'équilibrage conçues pour équilibrer des
rotors flexibles d'une longueur égale ou supérieure à 600 mm etprésentant toutes les caractéristiques suivantes:
1. diamètre utile ou diamètre de tourillonsupérieur à 75 mm;
2. capacité de masse de 0,9 à 23 kg;
et
3. pouvant effectuer des équilibrages à une vitesse de rotation
supérieure à 5 000 tours/min;
b. machines centrifuges d'équilibrage conçues pour équilibrer des
composants de rotors cylindriques, creux et présentant toutes
les caractéristiques suivantes:
1. diamètre de tourillonsupérieur à 75 mm;
2. capacité de masse de 0,9 à 23 kg;
3. capables de limiter le déséquilibre résiduel à 0,01 kg × mm/
kg par planou moin s; et
4. être du type actionné par courroie.
2B225 Manipulateurs à distance pouvant être utilisés pour agir à distance
dans des opérations de séparation radiochimique ou des cellules
chaudes, présentant l'une des caractéristiques suivantes:
a. la capacité de pénétrer une paroi de cellule chaude égale ou
supérieure à 0,6 m (pénétration de la paroi); ou
b. la capacité de franchir le sommet d'une paroi de cellule chaude
d'une épaisseur égale ou supérieure à 0,6 m (franchissement de
la paroi).
Note technique:
Les manipulateurs à distance assurent la transmission des
commandes du conducteur humain à un bras de manœuvre à
distance et à un dispositif terminal. Ils peuvent être du type
'maître/esclave' ou être commandés par un manche à balai ou un
clavier.
2B226 Fours à induction (à vide ou à gaz inerte) sous atmosphère
contrôlée et leurs systèmes d'alimentation électrique, comme suit:
N.B.: VOIR ÉGALEMENT 3B.
a. fours présentant toutes les caractéristiques suivantes:
1. capables de fonctionner au-dessus de 1 123 K (850 ºC);
2. ayant des bobines d'induction d'un diamètre inférieur ou égal
à 600 mm; et
3. conçus pour des puissances de 5 kW ou plus;
b. systèmes d'alimentation électrique d'une puissance de 5 kW ou
plus, spécialement conçus pour les fours visés à l'alinéa
2B226.a.
Note: L'alinéa 2B226.a. ne vise pas les fours conçus pour le
traitement des plaquettes de semi-conducteurs.
2B227 Fours de fusionet de coulée sous vide ou autres fours à
environnement contrôlé pour métallurgie et leurs équipements
connexes, comme suit:
a. fours de refonte et de coulée à arc présentant les deux
caractéristiques suivantes:
1. capacité des électrodes consommables comprise entre 1 000
et 20000 cm3,et
2. capables de fonctionner à des températures de fusion
supérieures à 1 973 K (1 700 ºC);
b. fours de fusionà faisceau d'électron s et fours à atomisationet à
fusion de plasma présentant les deux caractéristiques suivantes:
1. puissance égale ou supérieure à 50 kW; et
2. capables de fonctionner à des températures de fusion
supérieures à 1 473 K (1 200 ºC);
c. systèmes de commande et de surveillance par ordinateur
spécialement mis au point pour l'un des fours visés aux alinéas
2B227.a. ou .b.2000R1334 — FR — 19.01.2002 — 003.001 — 89
▼M3
2B228 Équipement de fabrication ou d'assemblage de rotors, équipements
à dresser pour rotors, mandrins et matrices pour la formation de
soufflets, comme suit:
a. équipement d'assemblage de rotors pour l'assemblage de
sections, chicanes et bouchons de tubes de rotors de
centrifugeuses à gaz;
Note: L'alinéa 2B228.a. inclut les mandrins de précision, les
dispositifs de fixation et les machines d'ajustement
fretté.
b. équipements à dresser pour rotors en vue de l'alignement des
sections de tubes de rotors de centrifugeuses à gaz par rapport à
unaxe commun ;
Note technique:
À l'alinéa 2B228.b., pareil équipement comprendra normale-
ment descapteurs de mesurede précision reliés à unordinateur
qui commande ensuite l'action de dispositifs de serrage
pneumatique (par exemple, en vue d'aligner les sections de
tubes de rotor).
c. mandrins et matrices de formation de soufflets pour la
production de soufflets à circonvolution unique;
Note technique:
À l'alinéa 2B228.c., les soufflets ont l'ensemble des caracté-
ristiques suivantes:
1. diamètre intérieur entre 75 et 400 mm;
2. longueur égale ou supérieure à 12,7 mm;3. circonvolution unique ayant une profondeur supérieure à
2 mm;
et
4. fabriqués en alliages d'aluminium à résistance élevée, en
acier maraging ou en "matériaux fibreux ou filamenteux"
ayant une résistance élevée.
2. La nomenclature des axes sera conforme à la norme ISO 841,
"Machines à commande numérique — nomenclature des axes et
des mouvements".
2B231 Pompes à vide présentant toutes les caractéristiques suivantes:
a. uncol d'en trée égal ou supérieur à 380 mm;
b. une capacité de pompage égale ou supérieure à 15 m3/s;et
c.la capacité de produire un vide final meilleur que 13 mPa.
Notes techniques:
1. La capacité de pompage est déterminée au point de mesure
avec de l'azote ou de l'air.
2. Le vide final est déterminé à l'entrée de la pompe, l'entrée de
la pompe étant fermée.
2B232 Canons multi-étages à gaz léger, ou autres systèmes à canon à
grande vitesse (systèmes à bobine, électromagnétiques ou électro-
thermiques, et autres systèmes avancés) capables d'accélérer des
projectiles jusqu'à 2 km/s ou plus.
2B350 Installations et équipements pour la production de substances
chimiques, comme suit:
a. réacteurs ou cuves de réaction, avec ou sans agitateurs, d'un
volume (géométrique) interne total supérieur à 0,1 m3
(100 litres) et inférieur à 20 m3(20000 litres), dans lesquels
toutes les surfaces venant en contact direct avec les substances
chimiques contenues ou à produire sont constituées de l'un des
matériaux suivants:
1. alliages contenant plus de 25 % en poids de nickel et 20 %
enpoids de chrome;
2. fluoropolymères;3. verre (y compris revêtement vitrifié, émaillé ou en verre);4. nickel ou alliages contenant plus de 40 % en poids de nickel;5. tantale ou alliages de tantale;6. titane ou alliages de titane;
ou2000R1334 — FR — 19.01.2002 — 003.001 — 90
▼M3
7. zirconium ou alliages de zirconium;
b. agitateurs pour utilisationdan s des réacteurs ou cuves de
réaction dans lesquels toutes les surfaces des agitateurs venant
en contact direct avec les substances chimiques contenues ou à
produire sont constituées de l'un des matériaux suivants:
1. alliages contenant plus de 25 % en poids de nickel et 20 %
enpoids de chrome;
2. fluoropolymères;3. verre (y compris revêtement vitrifié, émaillé ou en verre);
4. nickel ou alliages contenant plus de 40 % en poids de nickel;
5. tantale ou alliages de tantale;
6. titane ou alliages de titane;
ou
7. zirconium ou alliages de zirconium;
c. cuves, citernes ou conteneurs d'un volume (géométrique)
interne total supérieur à 0,1 m3(100 litres) dans lesquels toutes
les surfaces venant en contact direct avec les substances
chimiques contenues ou à produire sont constituées de l'un des
matériaux suivants:
1. alliages contenant plus de 25 % en poids de nickel et 20 %
enpoids de chrome;
2. fluoropolymères;3. verre (y compris revêtement vitrifié, émaillé ou en verre);
4. nickel ou alliages contenant plus de 40 % en poids de nickel;
5. tantale ou alliages de tantale;
6. titane ou alliages de titane;
ou
7. zirconium ou alliages de zirconium;
d. échangeurs de chaleur ou condenseurs avec une surface de
transfert de chaleur supérieure à 0,15 m2et inférieure à 20 m2,
dans lesquels toutes les surfaces venant en contact direct avec
les substances chimiques à produire sont constituées de l'un des
matériaux suivants:
1. alliages contenant plus de 25 % en poids de nickel et 20 %
enpoids de chrome;
2. fluoropolymères;
3. verre (y compris revêtement vitrifié, émaillé ou en verre);
4. graphite ou 'carbone-graphite';5. nickel ou alliages contenant plus de 40 % en poids de
nickel;
6. tantale ou alliages de tantale;7. titane ou alliages de titane;
8. zirconium ou alliages de zirconium;
9. carbure de silicium;
ou
10. carbure de titane;
e. colonnes de distillation et d'absorption de diamètre intérieur
supérieur à 0,1 mètre dans lesquelles toutes les surfaces venant
en contact direct avec les substances chimiques à produire sont
constituées de l'un des matériaux suivants:
1. alliages contenant plus de 25 % en poids de nickel et 20 %
enpoids de chrome;
2. fluoropolymères;
3. verre (y compris revêtement vitrifié, émaillé ou en verre);
4. graphite ou 'carbone-graphite';5. nickel ou alliages contenant plus de 40 % en poids de nickel;
6. tantale ou alliages de tantale;
7. titane ou alliages de titane;
ou
8. zirconium ou alliages de zirconium;
f. équipement de remplissage fonctionnant à distance dans
lesquels toutes les surfaces venant en contact direct avec les2000R1334 — FR — 19.01.2002 — 003.001 — 91
▼M3
substances chimiques à produire sont constituées de l'un des
matériaux suivants:
1. alliages contenant plus de 25 % en poids de nickel et 20 %
enpoids de chrome; ou
2. nickel ou alliages contenant plus de 40 % en poids de nickel;
g. soupapes à joints d'étanchéité multiples possédant un orifice de
détectiondes fuites, soupapes à soufflet d'étan chéité, clapets de
non-retour ou soupapes à diaphragme, dans lesquels toutes les
surfaces venant en contact direct avec les substances chimiques
contenues ou à produire sont constituées de l'un des matériaux
suivants:
1. alliages contenant plus de 25 % en poids de nickel et 20 %
enpoids de chrome;
2. fluoropolymères;
3. verre (y compris revêtement vitrifié, émaillé ou en verre);
4. nickel ou alliages contenant plus de 40 % en poids de nickel;5. tantale ou alliages de tantale;
6. titane ou alliages de titane;
ou
7. zirconium ou alliages de zirconium;
h. tuyauterie à multiples parois incorporant un orifice de détection
des fuites, dans laquelle les surfaces venant en contact direct
avec les substances chimiques contenues ou à produire sont
constituées de l'un des matériaux suivants:
1. alliages contenant plus de 25 % en poids de nickel et 20 %
enpoids de chrome;
2. fluoropolymères;
3. verre (y compris revêtement vitrifié, émaillé ou en verre);
4. graphite ou 'carbone-graphite';5. nickel ou alliages contenant plus de 40 % en poids de nickel;
6. tantale ou alliages de tantale;
7. titane ou alliages de titane;
ou
8. zirconium ou alliages de zirconium;
i. pompes à joints d'étanchéité multiples, pompes à engrenages,
pompes à entraînement magnétique, pompes à soufflet ou à
diaphragme, avec undébit maximal spécifié par le con structeur
supérieur à 0,6 m3par heure, ou pompe à vide avec undébit
maximal spécifié par le constructeur supérieur à 5 m3par heure
[sous les conditions de température (273 K, ou 0 ºC) et de
pression (101,3 kPa) standard], dans lesquelles les surfaces
venant en contact direct avec les substances chimiques à
produire sont constituées de l'un des matériaux suivants:
1. alliages contenant plus de 25 % en poids de nickel et 20 %
enpoids de chrome;
2. céramiques;
3. ferrosilicium;
4. fluoropolymères;5. verre (y compris revêtement vitrifié, émaillé ou en verre);
6. graphite ou 'carbone-graphite';
7. nickel ou alliages contenant plus de 40 % en poids de
nickel;
8. tantale ou alliages de tantale;9. titane ou alliages de titane;
ou
10. zirconium ou alliages de zirconium;
j. incinérateurs conçus pour détruire les substances chimiques
visées au paragraphe 1C350, équipés de dispositifs spéciale-
ment conçus pour l'introduction des déchets, de dispositifs de
manutention spéciaux et ayant une température moyenne de
chambre de combustionsupérieure à 1 273 K (1 000 ºC), dan s
lesquels toutes les surfaces du système d'introduction des2000R1334 — FR — 19.01.2002 — 003.001 — 92
▼M3
déchets venant en contact direct avec les déchets chimiques
sont constituées ou fabriquées avec l'un des matériaux suivants:
1. alliages contenant plus de 25 % en poids de nickel et 20 %
enpoids de chrome;
2. céramiques; ou
3. nickel ou alliages contenant plus de 40 % en poids de nickel.
Note technique:
Le 'carbone-graphite' est un composé de carbone et de graphite
amorphes dont la teneur en graphite est égale ou supérieure à
8 % en poids.
2B351 Systèmes d'identification de gaz toxiques, comme suit, et
détecteurs associés;
a. conçus pour opérer en continu et capables de détecter les
toxiques de guerre et les substances chimiques visées au
paragraphe 1C350, à des concentrations inférieures à 0,3 mg/m3
d'air;ou
b. conçus pour détecter des composés ayant une activité anti-
cholinestératique.
2B352 Équipements pouvant être utilisés lors de la manipulation de
matériels biologiques, comme suit:
a. installations complètes de confinement biologique de type P3 et
P4;
Note technique:
Les niveaux de confinement P3 ou P4 (BL3, BL4, L3, L4) sont
conformes à la description du "Manuel de sécurité biologique
en laboratoire de l'OMS" (Genève, 1983).
b. fermenteurs utilisables pour la culture de "micro-organismes"
pathogènes et de virus pour la production de toxine, sans
propagationd'aérosols, et d'un e capacité totale égale ou
supérieure à 100 litres;
Note technique:
Les fermenteurs comprennent les bioréacteurs, les chémostats
et les systèmes à flux continu.
c. séparateurs centrifuges pouvant effectuer la séparation en
continu et sans propagation d'aérosols et possédant toutes les
caractéristiques suivantes:
1. débit supérieur à 100 litres par heure;
2. composants en acier inoxydable poli ou en titane;3. un ou plusieurs joints d'étanchéité dans la zone de
confinement de la vapeur;
et
4. capables d'effectuer une stérilisation in situà la vapeur en
milieu fermé;
Note technique:
Les séparateurs centrifuges comprennent les décanteurs.
d. dispositifs de filtration à courant (tangentiel) transversal
utilisables pour la séparation en continu sans propagation
d'aérosols, possédant les deux caractéristiques suivantes:
1. surface égale ou supérieure à 5 m2;et
2. capables d'effectuer la stérilisation in situ;
e. dispositifs de lyophilisationstérilisables à la vapeur ayan t un
condenseur d'une capacité supérieure à 50 kg et inférieure à
1 000 kg de glace par 24 heures;
f. équipements incorporant ou contenus dans des chambres de
confinement de type P3 ou P4, comme suit:
1. combinaisons protectrices complètes ou partielles avec
ventilation indépendante;
2. postes de sécurité biologique ou assurant un environnement
équivalent à la classe III de sécurité biologique;
Note: À l'alinéa 2B352.f.2., les isolateurs comprennent
les isolateurs flexibles, les boîtes sèches, les2000R1334 — FR — 19.01.2002 — 003.001 — 93
▼M3
chambres d'anaérobie, les boîtes à gants et les
hottes à flux laminaire.
g. chambres conçues pour les essais par détection d'aérosol avec
des "micro-organismes", des virus ou des "toxines", dont la
capacité est égale ou supérieure à 1 m3.2000R1334 — FR — 19.01.2002 — 003.001 — 94
▼M3
2C Matériaux
Néant.2000R1334 — FR — 19.01.2002 — 003.001 — 95
▼M3
2D Logiciel
2D001 "Logiciel", autre que celui visé au paragraphe 2D002, spéciale-
ment conçu ou modifié pour le "développement", la "production"
ou l'"utilisation" des équipements visés aux paragraphes 2A001 ou
2B001 à 2B009.
2D002 "Logiciel" destiné aux dispositifs électroniques, même lorsqu'il
réside dans un système ou dispositif électronique, permettant à ces
dispositifs ou systèmes de fonctionner en tant qu'unité de
"commande numérique", capable d'effectuer la coordination
simultanée de plus de quatre axes pour la "commande de
contournage".
Note: Le paragraphe 2D002 ne vise pas les "logiciels"
spécialement conçus ou modifiés pour le fonctionnement
des machines-outils non visées par la catégorie 2.
2D101 "Logiciel" spécialement conçu ou modifié pour l'"utilisation" des
équipements visés aux paragraphes 2B104, 2B105, 2B109, 2B116,
2B117 ou 2B119 à 2B122.
N.B.: VOIR ÉGALEMENT 9D004.
2D201 "Logiciel" spécialement conçu pour l'"utilisation" des équipements
aux paragraphes 2B204, 2B206, 2B207, 2B209, 2B219 ou 2B227.
2D202 "Logiciel" spécialement conçu ou modifié pour le développement,
la "production" ou l'"utilisation" des équipements visés au
paragraphe 2B201.2000R1334 — FR — 19.01.2002 — 003.001 — 96
▼M3
2E Technologie
2E001 "Technologie", au sens de la note générale relative à la
technologie, pour le "développement" des équipements ou du
"logiciel" visés par les sous-catégories 2A, 2B ou 2D.
2E002 "Technologie", au sens de la note générale relative à la
technologie, pour la "production" des équipements visés par les
sous-catégories 2A ou 2B.
2E003 Autres "technologies", comme suit:
a. "technologie" pour le "développement" de l'infographie inter-
active en tant qu'élément intégré aux unités de commande
numérique pour la préparation ou la modification de
programmes pièces;
b. "technologie" des procédés de fabrication par travail des
métaux, comme suit:
1. "technologie" de conception des outils, "matrices" ou
montages spécialement conçus pour les procédés suivants:
a. "formage à l'état de superplasticité";
b. "soudage par diffusion"; ou
c. "pressage hydraulique par actiondirecte";
2. données techniques constituées des méthodes de processus
ou des paramètres énumérés ci-dessous et servant à
contrôler:
a. le "formage à l'état de superplasticité" des alliages
d'aluminium, des alliages de titane ou des "superal-
liages":
1. préparationdes surfaces;
2. taux de déformation;
3. température;
4. pression;
b. le "soudage par diffusion" des "superalliages" ou des
alliages de titane:
1. préparationdes surfaces;
2. température;
3. pression;
c. le "pressage hydraulique par actiondirecte" des alliages
d'aluminium ou des alliages de titane:
1. pression;
2. durée du cycle;
d. la "densification isostatique à chaud" des alliages de
titane, des alliages d'aluminium ou des "superalliages":
1. température;
2. pression;
3. durée du cycle;
c. "technologie" pour le "développement" ou la "production" des
machines et matrices de formage hydraulique par étirage, pour
la fabricationde structures de cellules d'aéron ef;
d. "technologie" pour le "développement" de générateurs d'ins-
tructions (par exemple de programmes pièces) pour machines-
outils à partir de données de conception se trouvant à l'intérieur
d'unités de "commande numérique";
e. "technologie" pour le "développement" de "logiciel" d'intégra-
tion pour l'incorporation dans des unités de "commande
numérique" de systèmes experts servant à la prise en charge,
par des décisions à un niveau élevé, des opérations en atelier;
f. "technologie" pour l'application des revêtements inorganiques
par recouvrement ou modification de surface (spécifiés dans la
colonne 3 du tableau ci-après) sur des substrats non
électroniques (spécifiés dans la colonne 2 du tableau ci-après)
à l'aide des procédés spécifiés dans la colonne 1 du tableau ci-
après et définis dans la note technique du tableau ci-après.2000R1334 — FR — 19.01.2002 — 003.001 — 97
▼M3
Note: Le tableau et les notes techniques se trouvent après le
paragraphe 2E301.
2E101 "Technologie", au sens de la note générale relative à la
technologie, pour l'"utilisation" des équipements ou "logiciels"
visés aux paragraphes 2B004, 2B009, 2B104, 2B109, 2B116,
2B119 à 2B122 ou 2D101.
2E201 "Technologie", au sens de la note générale relative à la
technologie, pour l'"utilisation" des équipements ou "logiciels"
visés aux paragraphes 2A225, 2A226, 2B001, 2B006, aux alinéas
2B007.b. et 2B007.c., et aux paragraphes 2B008, 2B009, 2B201,
2B204, 2B206, 2B207, 2B209, 2B225 à 2B232, 2D201,2B119 à
2B122 ou 2D202.
2E301 "Technologie", au sens de la note générale relative à la
technologie, pour l'"utilisation" des biens spécifiés aux paragra-
phes 2B350 à 2B352.2000R1334 — FR — 19.01.2002 — 003.001 — 98
▼M3
Tableau
Méthodes de dépôt
1. Procédé de revêtement (1) (*) 2. Substrat 3. Revêtement résultant
A. Dépôt chimique enphase
vapeur (CVD)superalliages aluminiures pour passages
internes
céramiques (19) et verres à
faible dilatation(14)siliciures
carbures
couches diélectriques (15)
diamantcarbone adamantin (17)
carbone-carbone, matériaux
"composites" à "matrice" céra-
mique et à "matrice"
métalliquesiliciures
carburesmétaux réfractaires
leurs mélanges (4)
couches diélectriques (15)aluminiuresaluminiures alliés (2)
nitrure de bore
carbure de tungstène cémenté
(16)
carbure de silicium (18)carbures
tungstène
leurs mélanges (4)
couches diélectriques (15)
molybdène et alliages de
molybdènecouches diélectriques (15)
béryllium et alliages de béryl-
liumcouches diélectriques (15)
diamant
carbone adamantin (17)
matériaux pour fenêtres de
capteurs (9)couches diélectriques (15)
diamant
carbone adamantin (17)2000R1334 — FR — 19.01.2002 — 003.001 — 99
▼M3
1. Procédé de revêtement (1) (*) 2. Substrat 3. Revêtement résultant
B.Dépôt physique enphase vapeur
par évaporationthermique (TE-
PVD)
B.1. Dépôt physique enphase
vapeur par faisceau d'électrons
(EB-PVD)"superalliages" siliciures alliés
aluminiures alliés (2)
MCrAlX (5)zircones modifiées (12)
siliciures
aluminiuresleurs mélanges (4)
céramiques (19) et verres à
faible dilatation(14)couches diélectriques (15)
acier anticorrosion (7) MCrAlX (5)
zircones modifiées (12)leurs mélanges (4)
carbone-carbone, matériaux
"composites" à "matrice" céra-
mique et à "matrice"
métalliquesiliciures
carburesmétaux réfractairesleurs mélanges (4)
couches diélectriques (15)
nitrure de bore
carbure de tungstène cémenté
(16)
carbure de silicium (18)carbures
tungstène
leurs mélanges (4)couches diélectriques (15)
molybdène et alliages de
molybdènecouches diélectriques (15)
béryllium et alliages de béryl-
liumcouches diélectriques (15)
boruresbéryllium
matériaux pour fenêtres de
capteurs (9)couches diélectriques (15)
alliages de titane (13) borures
nitrures
B.2. Dépôt physique enphase
vapeur (PVD) par chauffage par
résistance assisté par faisceau
d'ions (dépôt ionique)céramiques (19) et verres à
faible dilatation(14)couches diélectriques (15)
carbone adamantin (17)
carbone-carbone, matériaux
"composites" à "matrice" céra-
mique et à "matrice"
métalliquecouches diélectriques (15)
carbure de tungstène cémenté
(16)
carbure de siliciumcouches diélectriques (15)
molybdène et alliages de
molybdènecouches diélectriques (15)
béryllium et alliages de béryl-
liumcouches diélectriques (15)
matériaux pour fenêtres de
capteurs (9)couches diélectriques (15)
carbone adamantin (17)2000R1334 — FR — 19.01.2002 — 003.001 — 100
▼M3
1. Procédé de revêtement (1) (*) 2. Substrat 3. Revêtement résultant
B.3. Dépôt physique enphase
vapeur (PVD) par vaporisation
par "laser"céramiques (19) et verres à
faible dilatation(14)siliciures
couches diélectriques (15)carbone adamantin (17)
carbone-carbone, matériaux
"composites" à "matrice" céra-
mique et à "matrice"
métalliquecouches diélectriques (15)
carbure de tungstène cémenté
(16)
carbure de siliciumcouches diélectriques (15)
molybdène et alliages de
molybdènecouches diélectriques (15)
béryllium et alliages de béryl-
liumcouches diélectriques (15)
matériaux pour fenêtres de
capteurs (9)couches diélectriques (15)
carbone adamantin
B.4. Dépôt physique enphase
vapeur (PVD) par évaporation
cathodique par arcsuperalliages siliciures alliés
aluminiures alliés (2)MCrAlX (5)
polymères (11) et "compo-
sites" à "matrice" organiqueborures
carburesnitrures
carbone adamantin (17)
C. Cémentation métallique en
caisse (voir paragraphe A ci-
dessus pour la cémentation hors
caisse) (10)carbone-carbone, matériaux
"composites" à "matrice" céra-
mique et à "matrice"
métalliquesiliciures
carburesleurs mélanges (4)
alliages de titane (13) siliciures
aluminiuresaluminiures alliés (2)
métaux et alliages réfractaires
(8)siliciures
oxydes2000R1334 — FR — 19.01.2002 — 003.001 — 101
▼M3
1. Procédé de revêtement (1) (*) 2. Substrat 3. Revêtement résultant
D. Projectionde plasma "superalliages" MCrAlX (5)
zircones modifiées (12)leurs mélanges (4)
nickel-graphite sujet à abrasion
matériaux sujets à abrasion
contenant du Ni-Cr-Al
Al-Si-polyester sujet à abrasionaluminiures alliés (2)
alliages d'aluminium (6) MCrAlX (5)
zircones modifiées (12)siliciuresleurs mélanges (4)
métaux et alliages réfractaires
(8)aluminiures
siliciurescarbures
acier anticorrosion (7) MCrA1X (5)
zircones modifiées (12)leurs mélanges (4)
alliages de titane (13) carbures
aluminiures
siliciures
aluminiures alliés (2)nickel-graphite sujet à abrasionmatériaux sujets à abrasion
contenant du Ni-Cr-Al
Al-Si-polyester sujet à abrasion
E. Dépôt de barbotine métaux et alliages réfractaires
(8)siliciures fondus
aluminiures fondus à l'exclusion
des éléments de chauffage par
résistance
carbone-carbone, matériaux
"composites" à "matrice" céra-
mique et à "matrice"
métalliquesiliciures
carbures
leurs mélanges (4)2000R1334 — FR — 19.01.2002 — 003.001 — 102
▼M3
1. Procédé de revêtement (1) (*) 2. Substrat 3. Revêtement résultant
F. Dépôt par pulvérisation
cathodiquesuperalliages siliciures alliés
aluminiures alliés (2)aluminiures modifiés par un
métal noble (3)
MCrAlX (5)
zircones modifiées (12)
platineleurs mélanges (4)
céramiques et verres à faible
dilatation(14)siliciures
platineleurs mélanges (4)couches diélectriques (15)
carbone adamantin (17)
alliages de titane (13) borures
nitrures
oxydes
siliciuresaluminiures
aluminiures alliés (2)
carbures
carbone-carbone, matériaux
"composites" à "matrice" céra-
mique et à "matrice"
métalliquesiliciures
carbures
métaux réfractairesleurs mélanges (4)couches diélectriques (15)
nitrure de bore
carbure de tungstène cémenté
(16)
carbure de silicium (18)carbures
tungstène
leurs mélanges (4)
couches diélectriques (15)nitrure de bore
molybdène et alliages de
molybdènecouches diélectriques (15)
béryllium et alliages de béryl-
liumborures
couches diélectriques (15)béryllium
matériaux pour fenêtres de
capteurs (9)couches diélectriques (15)
carbone adamantin (17)
métaux et alliages réfractaires
(8)aluminiures
siliciuresoxydescarbures
G. Implantation ionique aciers pour roulement à haute
températureadjonctions de chrome, de
tantale ou de niobium (colum-
bium)
alliages de titane (13) borures
nitrures
béryllium et alliages de béryl-
liumborures
carbures de tungstène cémenté
(16)carbures
nitrures2000R1334 — FR — 19.01.2002 — 003.001 — 103
▼M3
Notes relatives au tableau — Méthodes de dépôt
1. Les termes "procédé de revêtement" désignent aussi bien le revêtement initial que les retouches ou
remises enétat du revêtemen t.
2. Les termes "revêtement d'aluminiure allié" couvrent les revêtements réalisés en un ou plusieurs
stades dans lesquels un ou des éléments sont déposés avant ou pendant l'application du revêtement
d'aluminiure, même si ce dépôt est effectué par un autre procédé de revêtement. Ces termes ne
couvrent pas l'usage multiple de procédés de cémentation en caisse en un seul stade pour réaliser
des aluminiures alliés.
3. Les termes revêtement d'"aluminiure" modifié par un métal noble couvrent les revêtements réalisés
en plusieurs stades dans lesquels le ou les métaux nobles sont déposés par un autre procédé de
revêtement avant l'application du revêtement d'aluminiure.
4. Les termes "leurs mélanges" couvrent les matériaux infiltrés, compositions graduées, dépôts
simultanés et dépôts multicouches, qui sont obtenus par un ou plusieurs des procédés de revêtement
énumérés dans le tableau ci-dessus.
5. "MCrAlX" désigne un alliage de revêtement où M équivaut à du cobalt, du fer, du nickel ou à des
combinaisons de ces éléments, et X à du hafnium, de l'yttrium, du silicium, du tantale en toute
quantité ou à d'autres adjonctions intentionnelles de plus de 0,01 % en poids en proportions et
combinaisons diverses, à l'exclusion:
a) des revêtements de CoCrAIY contenant moins de 22 % en poids de chrome, moins de 7 % en
poids d'aluminium et moins de 2 % en poids d'yttrium;
b) des revêtements de CoCrAIY contenant 22 à 24 % en poids de chrome, 10 à 12 % en poids
d'aluminium et 0,5 à 0,7 % en poids d'yttrium; ou
c) des revêtements de NiCrAIY contenant 21 à 23 % en poids de chrome, 10 à 12 % en poids
d'aluminium et 0,9 à 1,1 % en poids d'yttrium.
6. Les termes "alliages d'aluminium" désignent des alliages ayant une résistance à la traction
maximale égale ou supérieure à 190 MPa, mesurée à une température de 293 K (20 ºC).
7. Les termes "acier anticorrosion" désignent les aciers de la série AISI (American Iron and Steel
Institute) 300 ou les aciers correspondant à une norme nationale équivalente.
8. Les "métaux et alliages réfractaires" sont les métaux suivants et leurs alliages: niobium
(columbium), molybdène, tungstène et tantale.
9. Les "matériaux pour fenêtres de capteurs" sont les suivants: alumine, silicium, germanium, sulfure
de zinc, séléniure de zinc, arséniure de gallium, diamant, gallium phosphoré, saphir et les
halogénures métalliques suivants: matériaux pour fenêtres de capteurs ayant un diamètre supérieur à
40 mm pour le fluorure de zirconium et le fluorure de hafnium.
10. La "technologie" afférente à la cémentation en caisse en une seule phase de profils de voilure d'une
seule pièce n'est pas visée par la catégorie 2.
11. Les "polymères" sont les suivants: polyimides, polyesters, polysulfures, polycarbonates et
polyuréthanes.
12. Par "zircones modifiées", on entend des zircones ayant subi des additions d'autres oxydes
métalliques (oxydes de calcium, de magnésium, d'yttrium, de hafnium ou de terres rares, par
exemple) afin de stabiliser certaines phases cristallographiques et compositions de ces phases. Les
revêtements servant de barrière thermique, constitués de zircones modifiées à l'aide d'oxyde de
calcium ou de magnésium par mélange ou fusion, ne sont pas visés.
13. "Alliages de titane" renvoie aux seuls alliages utilisés dans l'aérospatiale, ayant une résistance à la
tractionmaximale égale ou supérieure à 900 MPa, mesurée à 293 K (20 ºC).
14. "Verres à faible dilatation" renvoie à des verres ayant un coefficient de dilatation thermique égal ou
inférieur à 1 × 10−7K−1mesuré à 293 K (20 ºC).
15. Les "couches diélectriques" sont des revêtements composés de plusieurs couches de matériaux
isolants dans lesquelles les propriétés d'interférence d'un ensemble de divers matériaux ayant des
indices de réfraction différents sont utilisées pour réfléchir, transmettre ou absorber différentes
bandes de longueur d'onde. Les couches diélectriques renvoient à plus de quatre couches
diélectriques ou couches "composites" diélectrique/métal.
16. Le "carbure de tungstène cémenté" ne comprend pas les matériaux d'outils de coupe et de formage
consistant en carbure de tungstène (cobalt, nickel), en carbure de titane (cobalt, nickel), en carbure
de chrome/nickel-chrome et carbure de chrome/nickel.
17. N'est pas visée ici la "technologie" spécialement conçue pour déposer du carbone adamantin sur les
articles suivants:
lecteurs de disquettes et têtes magnétiques, matériel servant à la fabrication de produits à usage
éphémère, valves pour robinetterie, membranes acoustiques pour enceintes, pièces de moteurs
d'automobiles, outils de coupe, matrices d'emboutissage-pressage, matériel de bureautique,
microphones ou dispositifs médicaux.
18. Le "carbure de silicium" ne couvre pas les matériaux d'outils de coupe et de formage.2000R1334 — FR — 19.01.2002 — 003.001 — 104
▼M3
19. Les substrats céramiques ici mentionnés ne comprennent pas les matériaux céramiques contenant
5 % en poids, ou davantage, d'argile ou de ciment, soit en tant que constituants distincts, soit en
combinaison.
Les procédés spécifiés dans la colonne 1 du tableau sont définis comme suit:
a) Le dépôt enphase vapeur par procédé chimique (CVD) est unprocédé de revêtemen t par
recouvrement ou revêtement par modification de surface par lequel un métal, un alliage, un matériau
"composite", undiélectrique ou un e céramique est déposé sur unsubstrat chauffé. Les gaz réactifs
sont décomposés ou combinés au voisinage du substrat, ce qui entraîne le dépôt du matériau
élémentaire, de l'alliage ou du composé souhaité sur le substrat. L'énergie nécessaire à cette
décompositionou réactionchimique peut être fourn ie par la chaleur du substrat, par unplasma à
décharge luminescente ou par un rayonnement "laser".
N.B. 1 Le dépôt en phase vapeur par procédé chimique (CVD) comprend les procédés suivants:
dépôt hors caisse à flux de gaz dirigé, dépôt en phase vapeur par procédé chimique
pulsatoire, dépôt thermique par nucléation contrôlée (CNTD), dépôt en phase vapeur par
procédé chimique amélioré par plasma ou assisté par plasma.
N.B. 2 Le terme caisse désigne un substrat plongé dans un mélange de poudres.
N.B. 3 Les gaz réactifs utilisés dans le procédé hors caisse sont obtenus à l'aide des mêmes
réactions et paramètres élémentaires qu'avec le procédé de cémentation en caisse, à ceci
près que le substrat à revêtir n'est pas en contact avec le mélange de poudres.
b) Le dépôt enphase vapeur par procédé physique par évaporationthermique (TE-PVD) est unprocédé
de revêtement par recouvrement exécuté dans un vide, à une pression inférieure à 0,1 Pa, par lequel
une source d'énergie thermique est utilisée pour la vaporisation du matériau de revêtement. Ce
procédé donne lieu à la condensation ou au dépôt du matériau évaporé sur des substrats disposés de
façonadéquate.
L'addition de gaz à la chambre sous vide pendant le processus de revêtement afin de synthétiser les
revêtements composés constitue une variante courante du procédé.
L'utilisation de faisceaux d'ions ou d'électrons ou de plasma, pour activer ou assister le dépôt du
revêtement, est également une variante courante. On peut également utiliser des instruments de
contrôle pour mesurer en cours de processus les caractéristiques optiques et l'épaisseur des
revêtements.
Les techniques spécifiques de dépôt en phase vapeur par procédé physique par évaporation
thermique (TE-PVD) sont les suivantes:
1. dépôt en phase vapeur (PVD)par faisceau d'électrons, qui fait appel à un faisceau d'électrons pour
chauffer le matériau constituant le revêtement et en provoquer l'évaporation;
2. dépôt en phase vapeur (PVD) par chauffage par résistance assisté par faisceau d'ions, qui fait
appel à des sources de chauffage par résistance électrique en combinaison avec un (des)
faisceau(x) d'ions convergents afin de produire un flux contrôlé et uniforme du matériau évaporé;
3. vaporisation par "laser" qui utilise des faisceaux "lasers" pulsés ou en ondes entretenues pour
vaporiser le matériau constituant le revêtement;
4. dépôt par évaporation cathodique par arc qui utilise une cathode consommable du matériau
constituant le revêtement et qui émet une décharge d'arc provoquée à la surface par le contact
momentané d'un déclencheur mis à la masse. Les mouvements contrôlés de la formation d'arc
attaquent la surface de la cathode, ce qui crée un plasma fortement ionisé. L'anode peut être soit
un cône fixé à la périphérie de la cathode par l'intermédiaire d'un isolant, soit la chambre elle-
même. La polarisationdu substrat sert au dépôt hors de portée visuelle.
N.B. Cette définition ne s'applique pas au dépôt par arc cathodique aléatoire avec des
substrats non polarisés.
5. le dépôt ionique est une modification spéciale d'une technique générale de dépôt en phase vapeur
par procédé physique par évaporation thermique (TE-PVD) par laquelle une source d'ions ou un
plasma est utilisé pour ioniser le matériau à déposer, une polarisation négative étant appliquée au
substrat afin de faciliter l'extraction, hors du plasma, du matériau. L'introduction de matériaux
réactifs, l'évaporation de solides à l'intérieur de la chambre de traitement, ainsi que l'utilisation
d'instruments de contrôle pour mesurer en cours de processus les caractéristiques optiques et
l'épaisseur des revêtements sont des variantes ordinaires de ce procédé.
c) La cémentation métallique en caisse est un procédé de revêtement par modification de surface ou
revêtement par recouvrement, par lequel un substrat est plongé dans un mélange de poudres (caisse)
comprenant:
1. les poudres métalliques à déposer (généralement de l'aluminium, du chrome, du silicium ou des
combinaisons de ces métaux);
2. un activant (généralement un sel halogéné); et
3. une poudre inerte (la plupart du temps de l'alumine).2000R1334 — FR — 19.01.2002 — 003.001 — 105
▼M3
Le substrat et le mélange de poudres sont placés dans une cornue qui est portée à une température
comprise entre 1 030 K (757 ºC) et 1 375 K (1 102 ºC) pendant un temps suffisant pour permettre le
dépôt du revêtement.
d) La projection de plasma est un procédé de revêtement (par recouvrement) par lequel un canon
(chalumeau ou torche à plasma) produisant et contrôlant un plasma reçoit des matériaux de
revêtement sous forme de poudre ou de fil, les fait fondre et les projette sur un substrat où se forme
ainsi un revêtement intégralement adhérent. La pulvérisation de plasma peut être une pulvérisation à
faible pression ou une pulvérisation à grande vitesse.
N.B. 1 Par basse pression, on entend une pression inférieure à la pression atmosphérique
ambiante.
N.B. 2 Par grande vitesse, on entend une vitesse du gaz à la sortie du chalumeau supérieure à
750 m/s, calculée à 293 K (20 ºC) et à une pression de 0,1 MPa.
e) Le dépôt de barbotine est un procédé de revêtement par modification de surface ou revêtement par
recouvrement par lequel une poudre de métal ou de céramique, associée à un liant organique et en
suspension dans un liquide, est appliquée à un substrat par pulvérisation, trempage ou étalement.
L'ensemble est ensuite séché à l'air ou dans un four puis soumis à un traitement thermique afin
d'obtenir le revêtement voulu.
f) Le dépôt par pulvérisation cathodique est un procédé de revêtement par recouvrement, fondé sur un
phénomène de transfert d'énergie cinétique, par lequel des ions positifs sont accélérés par un champ
électrique et projetés surla surface d'unecible (matériau de revêtement). L'énergie cinétique dégagée
par le choc des ions est suffisante pour que des atomes de la surface de la cible soient libérés et se
déposent sur le substrat placé de façon adéquate.
N.B. 1 Le tableau se réfère uniquement au dépôt par triode, par magnétron ou par pulvérisation
cathodique, qui est utilisé pour augmenter l'adhérence du revêtement et la vitesse de
dépôt, et au dépôt par pulvérisation cathodique amélioré par radiofréquence, utilisé pour
permettre la vaporisation de matériaux de revêtement non métalliques.
N.B. 2 Des faisceaux ioniques à faible énergie (< 5 keV) peuvent être utilisés pour activer le
dépôt.
g) L'implantation ionique est un procédé de revêtement par modification de surface par lequel l'élément
à allier est ionisé, accéléré par un gradient de potentiel et implanté dans la zone superficielle du
substrat. Cela comprend les procédés dans lesquels l'implantation ionique est effectuée en même
temps que le dépôt enphase vapeur par procédé physique par faisceau d'électron s ou le dépôt par
pulvérisationcathodique.
(*) Les chiffres entre parenthèses renvoient aux notes suivant le tableau.2000R1334 — FR — 19.01.2002 — 003.001 — 106
▼M3
CATÉGORIE 3
ÉLECTRONIQUE2000R1334 — FR — 19.01.2002 — 003.001 — 107
▼M3
3A Systèmes, équipements et composants
Note 1: Le statut des équipements, dispositifs et composants
décrits aux paragraphes 3A001 ou 3A002 autres que
ceux décrits aux alinéas 3A001 a.3. à 10 ou à l'alinéa
3A001.a.12., qui sont spécialement conçus pour ou qui
présentent les mêmes caractéristiques fonctionnelles
que d'autres équipements, est déterminé par le statut de
ces autres équipements.
Note 2: Le statut des circuits intégrés décrits aux alinéas
3A001.a.3 à 9ou à l'alinéa 3A001.a.12, qui sont
programmés ou conçus, de façon non modifiable, pour
une fonction spécifique pour d'autres équipements, est
déterminé par le statut des autres équipements.
N.B.: Lorsque le fabricant ou le demandeur de la
licence ne peut déterminer le statut de ces
autres équipements, le statut des circuits
intégrés est déterminé aux alinéas 3A001.a.3.
à 3A001.a.9. et 3A001.a.12.
Si le circuit intégré est un "microcircuit
microprocesseur" ou un "microcircuit micro-
contrôleur" à base de silicium décrit à l'alinéa
3A001.a.3. ayant une longueur de mot d'opé-
rande (données) inférieure ou égale à 8 bits,
son statut est déterminé à l'alinéa 3A001.a.3.
3A001 Composants électroniques, comme suit:
a. Circuits intégrés d'usage général, comme suit:
Note 1: Le statut des plaquettes (finies ou non finies) dans
lesquelles la fonction a été déterminée doit être
évalué en fonction des paramètres de l'alinéa
3A001.a.
Note 2: Les circuits intégrés comprennent les types suivants:
"circuits intégrés monolithiques";
"circuits intégrés hybrides";"circuits intégrés à multipuces";"circuits intégrés à film", y compris les circuits
intégrés silicium sur saphir;
"circuits intégrés optiques".
1. Circuits intégrés conçus ou prévus comme circuits
résistants aux radiations pour supporter:
a. une dose totale de 5 × 10
3Gy (silicium) ou plus; ou
b. undébit de dose de 5 × 106Gy (silicium)/s ou plus;
2. "Microcircuits microprocesseurs", "microcircuits micro-
ordinateurs", microcircuits microcontrôleurs, circuits inté-
grés mémoires fabriqués à partir d'unsemi-con ducteur
composé, convertisseurs analogique-numérique, convertis-
seurs numérique-analogique, circuits intégrés électro-
optiques et "circuits intégrés optiques" pour le "traitement
du signal", dispositifs logiques programmables par l'utili-
sateur, circuits intégrés pour réseaux neuronaux, circuits
intégrés à la demande dont soit la fonction, soit le statut de
l'équipement dans lesquels ils seront utilisés, n'est pas
connu, processeurs de transformée de Fourier rapide (FFT),
mémoires mortes programmables effaçables électriquement
(EEPROM), mémoires flash, mémoires vives statiques
(SRAM), comme suit:
a. prévus pour fonctionner à une température ambiante
supérieure à 398 K (125 ºC);
b. prévus pour fonctionner à une température ambiante
inférieure à 218 K (− 55 ºC); ou
c. prévus pour fonctionner dans toute la gamme de
températures ambiantes comprise entre 218 K (−
55 ºC) et 398 K (125 ºC).
Note: L'alinéa 3A001.a.2. n'est pas applicable aux
circuits intégrés destinés aux automobiles ou
aux trains civils.2000R1334 — FR — 19.01.2002 — 003.001 — 108
▼M3
3. "Microcircuits microprocesseurs", "microcircuits microcal-
culateurs" et microcircuits de microcommande, présentant
l'une des caractéristiques suivantes:
Note: L'alinéa 3A001.a.3. comprend les processeurs de
signaux numériques, les processeurs matriciels
numériques et les coprocesseurs numériques.
a. une "performance théorique pondérée" ("PTP") égale ou
supérieure à 6 500 millions d'opérations théoriques par
seconde (Motps) et une unité arithmétique et logique
(UAL) ayant une largeur d'accès égale ou supérieure à
32 bits;
b. fabriqués à partir d'unsemi-con ducteur composé et
fonctionnant à une fréquence d'horloge supérieure à
40 MHz; ou
c. plus d'un bus de données ou d'instructions ou d'un port
de communications série permettant une interconnexion
externe directe entre des "microcircuits microproces-
seurs" parallèles avec untaux de tran sfert supérieur à
150 Moctets/s;
4. Circuits intégrés mémoires fabriqués à partir d'un semi-
conducteur composé;
5. Circuits intégrés convertisseurs analogique-numérique et
numérique-analogique, comme suit:
a. convertisseurs analogique-numérique, présentant l'une
des caractéristiques suivantes:
N.B.: VOIR ÉGALEMENT 3A101.
1. résolutionde 8 bits ou plus mais in férieure à 12 bits,
avec un "temps de conversion total" de moins de 5 ns
pour la résolutionmaximale;
2. résolutionde 12 bits avec un"temps de con version
total" de moins de 200 ns pour la résolution
maximale; ou
3. résolutionsupérieure à 12 bits avec un'temps de
conversion total' de moins de 2 µs pour la résolution
maximale;
b. convertisseurs numérique-analogique ayant une résolu-
tionde 12 bits ou plus avec un"temps d'établissemen t"
inférieur à 10 ns;
Notes techniques:
1. Une résolution de n bits correspond à une quantifica-
tion de 2nniveaux.
2. Le 'temps de conversion total' est l'inverse du taux
d'échantillonnage.
6. circuits intégrés électro-optiques et "circuits intégrés
optiques" pour le "traitement de signal", présentant toutes
les caractéristiques suivantes:
a. une ou plusieurs diodes "laser" internes;
b. un ou plusieurs photodétecteurs internes; et
c. des guides d'onde optiques;
7. réseaux logiques programmables, présentant l'une des
caractéristiques suivantes:
a. nombre de portes utilisables équivalent de plus de
30000 (portes à deux entrées);
b. "temps de propagationde la porte de base" typique de
moins de 0,4 ns; ou
c. fréquence d'inversion supérieure à 133 MHz;
Note: L'alinéa 3A001.a.7 inclut:
— les dispositifs logiques programmables
simples (SPLD)
— les dispositifs logiques programmables
complexes (CPLD)
— les prédiffusés programmables (FPGA)2000R1334 — FR — 19.01.2002 — 003.001 — 109
▼M3
— les réseaux logiques programmables par
l'utilisateur (FPLA)
— les interconnexions programmables par l'uti-
lisateur (FPIC).
N.B.: Les réseaux logiques programmables
sont également connus comme réseaux
de portes programmables ou réseaux
logiques programmables.
8. non utilisé;9. circuits intégrés pour réseaux neuronaux;
10. circuits intégrés à la demande dont soit la fonction, soit le
statut de l'équipement dans lesquels ils seront utilisés, n'est
pas connu du fabricant, présentant l'une des caractéristiques
suivantes:
a. plus de 1 000 sorties;
b. "temps de propagationde la porte de base" typique de
moins de 0,1 ns;
ou
c. fréquence de fonctionnement supérieure à 3 GHz;
11. circuits intégrés numériques, autres que ceux décrits aux
alinéas 3A001.a.3 à 3A001.a.10. et 3A001.a.12., fabriqués
à partir de tout semi-conducteur composé et présentant
l'une des deux caractéristiques suivantes:
a. nombre de portes équivalent de plus de 3 000 (portes à
deux entrées); ou
b. fréquence d'inversion supérieure à 1,2 GHz;
12. processeurs de transformée de Fourier rapide (FFT),
présentant une durée d'exécution nominale pour une
transformée de Fourier rapide de N points complexe
inférieure à (N log2N)/20 480) ms, N étant le nombre de
points;
Note technique:
Lorsque N est égal à 1024 points, la formule de l'alinéa
3A001.a.12. donne une durée d'exécution de 500 µs.
b. Dispositifs hyperfréquences ou à ondes millimétriques:
1. tubes électroniques à vide et cathodes, comme suit:
Note: L'alinéa 3A001.b.1. ne vise pas les tubes conçus ou
prévus pour fonctionner dans une bande de
fréquences quelconque présentant toutes les carac-
téristiques suivantes:
a. ne dépasse pas 31 GHz; et
b. est "allouée par l'UIT" pour les services de
radiocommunications, mais pas pour le radio-
repérage.
a. tubes à ondes progressives, à impulsions ou à ondes
entretenues, comme suit:
1. opérant sur des fréquences supérieures à 31 GHz;
2. comportant un élément chauffant de cathode ayant un
temps de montée inférieur à 3 secondes jusqu'à la
puissance HF nominale;
3. tubes à cavités couplées, ou leurs dérivés, ayant une
"bande passante fractionnelle" de plus de 7 % ou une
puissance de crête supérieure à 2,5 kW;
4. tubes à hélices ou leurs dérivés, présentant l'une des
caractéristiques suivantes:
a. "bande passante instantanée" de plus d'une octave,
et produit de la puissance moyenne (exprimée en
kW) par la fréquence (exprimée en GHz) supérieur
à 0,5;
b. "bande passante instantanée" d'une octave ou
moins et produit de la puissance moyenne
(exprimée enkW) par la fréquen ce (exprimée en
GHz) supérieur à 1,0; ou
c. "qualifiés pour l'usage spatial";2000R1334 — FR — 19.01.2002 — 003.001 — 110
▼M3
b. tubes amplificateurs à champs croisés ayant un gain
supérieur à 17 dB;
c. cathodes imprégnées pour tubes électroniques produisant
une densité de courant en émission continue dans les
conditions de fonctionnement nominales dépassant 5 A/
cm2;
2. circuits intégrés hyperfréquences ou modules présentant
toutes les caractéristiques suivantes:
a. contenant des "circuits intégrés monolithiques" ayant un
ou plusieurs éléments de circuit actifs; et
b. fonctionnant à des fréquences supérieures à 3 GHz;
Note 1: L'alinéa 3A001.b.2 ne vise pas les circuits
intégrés ou modules destinés à des équipements
conçus ou prévus pour fonctionner dans une
bande de fréquences quelconque présentant
toutes les caractéristiques suivantes:
a. ne dépasse pas 31 GHz; et
b. est "allouée par l'UIT" pour les services de
radiocommunications, mais pas pour le radio-
repérage.
Note 2: L'alinéa 3A001.b.2. ne vise pas les équipements
satellites de radiodiffusion conçus ouprévus pour
fonctionner dans la bande de fréquences de
40,5 GHz à 42,5 GHz.
3. transistors hyperfréquences prévus pour fonctionner à des
fréquences supérieures à 31 GHz;
4. amplificateurs à semi-conducteurs hyperfréquences présen-
tant l'une des caractéristiques suivantes:
a. fonctionnement à des fréquences supérieures à 10,5 GHz
et ayant une "bande passante instantanée" de plus d'une
demi-octave; ou
b. fonctionnant à des fréquences supérieures à 31 GHz;
5. filtres passe-bande ou coupe-bande accordables électroni-
quement ou magnétiquement, comportant plus de 5
résonateurs accordables capables de s'accorder sur une
bande de fréquences de 1,5:1 (fmax/fmin) enmoin s de 10 µs,
présentant l'une des caractéristiques suivantes:
a. bande passante de plus de 0,5 % de la fréquence centrale;
ou
b. bande de réjection de moins de 0,5 % de la fréquence
centrale;
6. ensembles hyperfréquences capables de fonctionner à des
fréquences supérieures à 31 GHz;
7. mélangeurs et convertisseurs conçus pour étendre la gamme
de fréquences des équipements décrits aux alinéas 3A002.c.,
3A002.e. ou 3A002.f. au-delà des limites qui y sont
mentionnées;
8. amplificateurs de puissance hyperfréquences contenant des
tubes visés à l'alinéa 3A001.b. et présentant toutes les
caractéristiques suivantes:
a. fonctionnement à des fréquences supérieures à 3 GHz;
b. puissance volumique de sortie moyenne supérieure à
80 W/kg; et
c. volume inférieur à 400 cm3;
Note: L'alinéa 3A001.b.8. ne vise pas les équipements
conçus ou prévus pour fonctionner dans une bande
de fréquences quelconque "allouée par l'UIT" pour
les services de radiocommunications, mais pas
pour le radiorepérage.
c. dispositifs utilisant les ondes acoustiques, comme suit, et leurs
composants spécialement conçus:
1. dispositifs utilisant les ondes acoustiques de surface et les
ondes acoustiques rasantes (peu profondes) (à savoir:
dispositifs de "traitement de signal" utilisant les ondes2000R1334 — FR — 19.01.2002 — 003.001 — 111
▼M3
élastiques dans des matériaux), présentant l'une des
caractéristiques suivantes:
a. fréquence porteuse supérieure à 2,5 GHz;
b. fréquence porteuse supérieure à 1 GHz mais n'excédant
pas 2,5 GHz et présentant l'une des caractéristiques
suivantes:
1. réjectionde fréquen ce des lobes latéraux supérieure à
55 dB;
2. produit du temps de propagationmaximal (exprimé en
µs) par la bande passante (exprimée en MHz) supé-
rieur à 100;
3. largeur de bande supérieure à 250 MHz; ou
4. temps de propagationdispersif supérieur à 10 µs; ou
c. fréquence porteuse de 1 GHz ou moins et présentant l'une
des caractéristiques suivantes:
1. produit du temps de propagationmaximal (exprimé en
µs) par la bande passante (exprimée en MHz) supé-
rieur à 100;
2. temps de propagationdispersif supérieur à 10 µs; ou
3. réjectionde fréquen ce des lobes latéraux supérieure à
55 dB et largeur de bande supérieure à 50 MHz;
2. dispositifs utilisant les ondes acoustiques (de volume) (à
savoir: dispositifs de "traitement de signal" utilisant des
ondes élastiques), permettant un traitement direct du signal à
des fréquences supérieures à 1 GHz;
3. dispositifs de "traitement de signal" acousto-optiques,
faisant appel à une interaction entre ondes acoustiques (de
volume ou de surface) et ondes lumineuses permettant le
traitement direct du signal ou d'images, y compris l'analyse
spectrale, la corrélation ou la convolution;
d. dispositifs ou circuits électroniques contenant des composants
fabriqués à partir de matériaux "supraconducteurs", spéciale-
ment conçus pour fonctionner à des températures inférieures à
la "température critique" d'au moins un des constituants
"supraconducteurs" et réalisant l'une des fonctions suivantes:
1. commutation de courant pour circuits numériques utilisant
des portes "supraconductrices" avec un produit du temps de
propagationpar porte (exprimé ensecon des) par la
puissance dissipée par porte (exprimée en watts) inférieur
à1 0−1 4J;ou
2. sélection de fréquence à toutes les fréquences utilisant des
circuits résonants ayant des facteurs de qualité (Q) dépassant
10000;
e. dispositifs à haute énergie, comme suit:
1. batteries et générateurs photovoltaïques, comme suit:
Note: L'alinéa 3A001.e.1. ne vise pas les batteries dont le
volume est égal ou inférieur à 27 cm3(par exemple
une batterie C ou R14 standard).
a. éléments de piles et de batteries et piles (batteries
primaires) ayant une densité d'énergie supérieure à
480 Wh/kg et prévus pour fonctionner dans une gamme
de températures allant de moins de 243 K(− 30ºC) àplus
de 343 K (70 ºC);
b. éléments et batteries d'accumulateurs rechargeables ayant
une 'densité d'énergie' supérieure à 150 Wh/kg après 75
cycles de charge/décharge dans une gamme de tempéra-
tures allant de moins de 253 K (− 20 ºC) à plus de 333 K
(60 ºC) pour uncouran t de décharge égal à C/5 heures (C
représentant la capacité nominale en ampères heures);
Note technique:
La 'densité d'énergie' est obtenue en multipliant la
puissance moyenne exprimée en watts (égale au produit
de la tension moyenne, exprimée en volts, par le courant
moyen exprimé en ampères) par la durée de la décharge,
exprimée en heures, à 75 % de la tension en circuit2000R1334 — FR — 19.01.2002 — 003.001 — 112
▼M3
ouvert et en divisant le produit obtenu par la massetotale
de l'élément (ou de la batterie) exprimée en kilogrammes.
c. générateurs photovoltaïques "qualifiés pour l'usage
spatial" et résistants aux radiations ayant une puissance
spécifique supérieure à 160 W/m2à une température de
fonctionnement de 301 K (28 ºC) sous un flux lumineux
de 1 kW/m2provenant d'un filament de tungstène porté à
2 800 K (2 527 ºC);
2. condensateurs à capacité de stockage d'énergie élevée,
comme suit:
N.B.: VOIR ÉGALEMENT 3A201.a.
a. condensateurs à décharge unique ayant une fréquence de
répétition inférieure à 10 Hz, présentant toutes les
caractéristiques suivantes:
1. tension nominale égale ou supérieure à 5kV;
2. densité d'énergie égale ou supérieure à 250 J/kg; et
3. énergie totale égale ou supérieure à 25 kJ;
b. condensateurs ayant une fréquence de répétition de 10 Hz
ou plus (à décharges successives), présentant toutes les
caractéristiques suivantes:
1. tension nominale égale ou supérieure à 5 kV;
2. densité d'énergie égale ou supérieure à 50 J/kg;3. énergie totale égale ou supérieure à 100 J;
et
4. durée de vie égale ou supérieure à 10000 cycles
charge/décharge;
3. électro-aimants et solénoïdes "supraconducteurs", spéciale-
ment conçus pour un temps de charge/décharge complète
inférieur à une seconde et présentant toutes les caractéristi-
ques suivantes:
N.B.: VOIR ÉGALEMENT 3A201.b.
Note: L'alinéa 3A001.e.3. ne vise pas les électro-aimants
ou solénoïdes "supraconducteurs" spécialement
conçus pour les équipements médicaux d'imagerie
par résonance magnétique (IRM).
a. énergie délivrée pendant la décharge supérieure à 10 kJ
au cours de la première seconde;
b. diamètre intérieur des bobinages porteurs de courant
supérieur à 250 mm; et
c. prévus pour un induction magnétique supérieure à 8 T ou
une "densité de courant globale" à l'intérieur des
bobinages de plus de 300 A/mm2;
f. codeurs de positionabsolue à arbre de type à en trée rotative,
présentant l'une des deux caractéristiques suivantes:
1. résolutionmeilleure que 1 pour 265000 (résolutionde
18 bits) pour la totalité de l'échelle; ou
2. précisionmeilleure que ± 2,5 secon des d'arc.
3A002 Équipements électroniques à usage général, comme suit:
a. matériels d'enregistrement, comme suit, et leurs bandes étalons
spécialement conçues:
1. enregistreurs analogiques d'instrumentation à bande magné-
tique, y compris ceux permettant d'enregistrer des signaux
numériques (par exemple, utilisant un module d'enregis-
trement numérique à haute densité), présentant l'une des
caractéristiques suivantes:
a. bande passante supérieure à 4 MHz par canal ou piste
électronique;
b. bande passante supérieure à 2 MHz par canal ou piste
électronique et comportant plus de 42 pistes; ou
c. erreur (de base) de décalage de temps, mesurée
conformément aux documents IRIG ou EIA pertinents,
inférieure à ± 0,1 µs;2000R1334 — FR — 19.01.2002 — 003.001 — 113
▼M3
Note: Les enregistreurs analogiques à bande magnétique
spécialement conçus pour des applications civiles
en matière de vidéo ne sont pas considérés comme
étant des enregistreurs d'instrumentation.
2. enregistreurs vidéo numériques à bande magnétique ayant
untaux de transfert d'interface numérique maximal supérieur
à 180 Mbits/s;
Note: L'alinéa 3A002.a.2. ne vise pas les enregistreurs
vidéo numériques à bande magnétique spéciale-
ment conçus pour l'enregistrement de télévision
utilisant un format de signal, qui peut être un
format de signal compressé, conformément aux
normes ou aux recommandations de l'UIT, du CEI,
de la SMPTE, de l'UER ou de l'IEEE relatives aux
applications civiles de télévision.
3. enregistreurs de données numériques d'instrumentation, à
bande magnétique, employant des techniques de balayage
hélicoïdal ou à tête fixe, présentant l'une des deux
caractéristiques suivantes:
a. taux de transfert d'interface numérique maximal supérieur
à 175 Mbits/s; ou
b. "qualifiés pour l'usage spatial";
Note: L'alinéa 3A002.a.3. ne vise pas les enregistreurs
analogiques à bande magnétique équipés d'une
électronique de conversion pour l'enregistrement
numérique à haute densité et agencés de manière à
n'enregistrer que des données numériques.
4. équipements ayant untaux de transfert d'interface numérique
maximal supérieur à 175 Mbits/s, conçus pour transformer
les enregistreurs vidéo numériques à bande magnétique en
vue de l'emploi comme enregistreurs numériques de données
d'instrumentation;
5. numériseurs de formes d'ondes et enregistreurs de transi-
toires, présentant toutes les caractéristiques suivantes:
a. taux de numérisation égaux ou supérieurs à 200 millions
d'échantillons par seconde et résolution de 10 bits ou
plus;et
b. débit continu de 2 Gbits/s ou plus;
Note technique:
Pour les instruments ayant une structure de bus parallèle, le
débit continu est la vitesse de mots la plus élevée multipliée
par le nombre de bits dans un mot.
Le débit continu est le débit de données le plus rapide que
l'instrument peut stocker en mémoire de masse sans aucune
perte d'information tout en assurant le taux d'échantillon-
nage et la conversion analogique-numérique.
b. "ensembles électroniques" "synthétiseurs de fréquences" ayant
un "temps de commutation de fréquence" d'une fréquence
donnée à une autre inférieur à 1 ms;
c. "analyseurs de signaux", comme suit:
1. "analyseurs de signaux", capables d'analyser des fréquences
supérieures à 31 GHz;
2. "analyseurs de signaux dynamiques", ayant une "bande
passante en temps réel" ►C2supérieure à 500 kHz; ◄
Note: L'alinéa 3A002.c.2. ne vise pas les "analyseurs de
signaux dynamiques" utilisant uniquement des
filtres de bande passante à pourcentage constant
(également connus sous le nom de filtres d'octaves
ou de filtres d'octave partiels).
d. générateurs de signaux de fréquence synthétisés produisant des
fréquences de sortie dont la stabilité à court et à long terme et la
précision sont commandées par, dérivées de, ou assujetties à la
fréquence étalon interne et présentant l'une des caractéristiques
suivantes:
1. fréquence maximale synthétisée supérieure à 31 GHz;2000R1334 — FR — 19.01.2002 — 003.001 — 114
▼M3
2. "temps de commutation de fréquence" d'une fréquence
donnée à une autre inférieur à 1 ms; ou
3. bruit de phase en bande latérale unique (BLU) meilleur que
− (126 + 20 log10F − 20 log10f), exprimé endBc/Hz, où F
représente le décalage par rapport à la fréquence de
fonctionnement exprimée en Hz et f la fréquence de
fonctionnement exprimée en MHz;
Note: L'alinéa 3A002.d. ne vise pas les équipements dans
lesquels la fréquence de sortie est produite par
l'addition ou la soustraction de deux fréquences ou
de plus de deux fréquences obtenues par des
oscillateurs à quartz, ou par une addition ou une
soustraction suivie d'une multiplication du résultat.
e. analyseurs de réseaux ayant une fréquence maximale de
fonctionnement supérieure à 40 GHz;
f. récepteurs d'essai hyperfréquences présentant les deux caracté-
ristiques suivantes:
1. fréquencemaximaledefonctionnementsupérieureà40GHz;
et
2. capacité de mesure simultanée de l'amplitude et de la phase;
g. étalons de fréquence atomiques présentant l'une des caracté-
ristiques suivantes:
1. stabilité à long terme (vieillissement) inférieure à (meilleure
que) 1 × 10−11/mois;ou
2. "qualifiés pour l'usage spatial".
Note: L'alinéa 3A002.g.1 ne vise pas les étalons de
fréquence au rubidium qui ne sont pas "qualifiés
pour l'usage spatial".
3A101 Dispositifs, équipements, systèmes et composants électroniques
autres que ceux visés au paragraphe 3A001, comme suit:
a. convertisseurs analogique-numérique, utilisables dans les
"missiles", conçus pour respecter les spécifications militaires
relatives aux équipements renforcés;
b. accélérateurs capables de délivrer des rayonnements électroma-
gnétiques produits par Bremsstrahlung à partir d'électrons
accélérés à 2 MeV ou plus, et systèmes contenant ces
accélérateurs.
Note: L'alinéa 3A101.b. ci-dessus ne vise pas les systèmes
ou équipements conçus à des fins médicales.
3A201 Composants électroniques, autres que ceux visés au paragraphe
3A001, comme suit:
a. condensateurs possédant l'un des ensembles de caractéristiques
suivants:
1. a. voltage nominal supérieur à 1,4 kV;
b. stockage d'énergie supérieur à 10 J;
c. capacité supérieure à 0,5 µF; et
d. inductance série inférieure à 50 nH; ou
2. a. voltage nominal supérieur à 750 V;
b. capacité supérieure à 0,25 µF; et
c. inductance série inférieure à 10 nH;
b. électro-aimants solénoïdaux supraconducteurs possédant toutes
les caractéristiques suivantes:
1. capables de créer des champs magnétiques supérieurs à 2 T;
2. ayant un rapport L/D (longueur divisée par diamètre
intérieur) supérieur à 2;
3. d'undiamètre in térieur supérieur à 300 mm; et
4. possédant un champ magnétique uniforme à moins de 1 %
sur la moitié centrale du volume intérieur;
Note: L'alinéa 3A201.b. ci-dessus ne vise pas les aimants
spécialement conçus et exportés 'comme éléments de'
systèmes médicaux d'imagerie à résonance magné-
tique nucléaire (RMN). Il est entendu que les termes2000R1334 — FR — 19.01.2002 — 003.001 — 115
▼M3
'comme éléments de' ne signifient pas nécessairement
que ces produits font physiquement partie du même
envoi. Des envois séparés de sources différentes sont
permis, à condition que les documents d'exportation
correspondants précisent clairement le fait que les
envois sont réalisés 'comme éléments de' systèmes
d'imagerie médicale.
c. générateurs de rayons X à décharge éclair ou accélérateurs
d'électrons à impulsion présentant l'un des ensembles de
caractéristiques suivants:
1. a. une énergie de crête des électrons de l'accélérateur égale
ou supérieure à 500 KeV mais inférieure à 25 MeV; et
b. un'facteur de mérite' (K) égal ou supérieur à 0,25 K; ou
2. a. une énergie de crête des électrons de l'accélérateur égale
ou supérieure à 25 MeV; et
b. une 'puissance de crête' supérieure à 50 MW.
Note: L'alinéa 3A201.c. ne vise pas les accélérateurs qui
sont des composants de dispositifs conçus à des fins
autres que l'irradiation par faisceaux électroniques ou
par rayons X (par exemple, microscopie électronique),et ceux conçus à des fins médicales.
Notes techniques:
1. Le 'facteur de mérite' K se définit comme suit:
K = 1,7 × 103×V2,65×Q
V étant l'énergie de crête des électrons exprimée en millions
d'électron-volts.
Q est la charge totale accélérée exprimée en coulombs
lorsque la durée d'impulsion du faisceau de l'accélérateur
est inférieure ou égale à 1 µs. Si la durée d'impulsion du
faisceau de l'accélérateur est supérieure à 1 µs, Q
représente la charge maximale accélérée en 1 µs.
Q est l'intégrale de i par rapport à t, pendant une µs ou
pendant la durée de l'impulsion du faisceau si celle-ci est
inférieure à 1 µs (Q {intégrale} idt) où i représente le
courant du faisceau exprimé en ampères et t le temps
exprimé en secondes).
2. 'Puissancedecrête'=(potentieldecrêteenvolts)×(courant
de crête du faisceau en ampères).
3. Dans les machines fonctionnant avec des cavités d'accéléra-
tion hyperfréquences, la durée de l'impulsion du faisceau est
soit 1 µs, soit la durée du paquet de faisceaux produit par
une impulsion du modulateur hyperfréquence si celle-ci est
inférieure à 1 µs.
4. Dans les machines fonctionnant avec des cavités d'accéléra-
tion hyperfréquences, le courant de crête du faisceau
représente le courant moyen pendant la durée d'un paquet
de faisceaux groupés.
3A225 Changeurs de fréquence ou générateurs, autres que ceux visés à
l'alinéa 0B001.b.13., possédant toutes les caractéristiques
suivantes:
a. une sortie polyphasée pouvant fournir une puissance égale ou
supérieure à 40 W;
b. capables de fonctionner dans la gamme de fréquences compris
entre 600 et 2 000 Hz;
c. une distorsion harmonique totale inférieure à 10 %; et
d. une précision de réglage de la fréquence meilleure que 0,1 %.
Note technique:
Les changeurs de fréquence visés au paragraphe 3A225 sont aussi
appelés convertisseurs ou inverseurs.
3A226 Alimentations à forte intensité continue, autres que celles visées à
l'alinéa 0B001.j.6., présentant les deux caractéristiques suivantes:
a. capables de produire de façon continue, pendant une période de
huit heures, 100 V ou plus, avec une intensité de courant
supérieure ou égale à 500 A; et2000R1334 — FR — 19.01.2002 — 003.001 — 116
▼M3
b. une stabilité de l'intensité ou de la tension meilleure que 0,1 %
pendant une période de 8 heures.
3A227 Alimentations en courant continu à haute tension, autres que celles
visées à l'alinéa 0B001.j.5, présentant les deux caractéristiques
suivantes:
a. capables de produire de façon continue, pendant une période de
8 heures, 20 kV ou plus, avec une intensité de courant
supérieure ou égale à 1 A; et
b. une stabilité de l'intensité ou de la tension meilleure que 0,1 %
pendant une période de 8 heures.
3A228 Commutateurs, comme suit:
a. tubes à cathode froide, qu'ils soient ou non remplis de gaz,
fonctionnant de manière similaire à un éclateur à étincelle et
présentant toutes les caractéristiques suivantes:
1. trois électrodes ou plus;
2. tension anodique nominale de crête égale ou supérieure à
2,5 kV;
3. courantanodiquenominaldecrêteégalousupérieurà100A;
et
4. temporisation de l'anode égale ou inférieure à 10 µs;
Note: Le paragraphe 3A228 vise également les tubes krytron
à gaz et les tubes sprytron à vide.
b. éclateurs à étincelle présentant les deux caractéristiques
suivantes:
1. déclenchés avec une temporisation de l'anode égale ou
inférieure à 15 µs; et
2. fonctionnant avec un courant nominal de crête égal ou
supérieur à 500 A;
c. modules ou ensembles possédant une fonction de commutation
rapide et présentant toutes les caractéristiques suivantes:
1. tension anodique nominale de crête supérieure à 2 kV;
2. courant de plaque nominal de crête égal ou supérieur à
500 A;et
3. temps de commutationégal ou in férieur à 1 µs.
3A229 Dispositifs de mise à feu et générateurs équivalents d'impulsions à
haute intensité, comme suit:
N.B.: VOIR ÉGALEMENT LA LISTE DES MATÉRIELS
DE GUERRE.
a. dispositifs de mise à feu de détonateurs d'explosifs conçus pour
actionner les détonateurs à commande multiple visés au
paragraphe 3A232;
b. générateurs d'impulsions électriques modulaires (contacteurs)
présentant toutes les caractéristiques suivantes:
1. portables, mobiles ou pour une utilisation exigeant une
robustesse élevée;
2. placés dans un boîtier étanche aux poussières;3. capables de fournir leur énergie en moins de 15 µs;
4. produisant un courant de plus de 100 A;
5. ayant un 'temps de montée' inférieur à 10 µs avec des
charges de moins de 40 ohms;
6. n'ayant aucune dimension supérieure à 254 mm;7. ayant un poids inférieur à 25 kg;
et
8. conçus pour fonctionner sur une plage de température allant
de 223 K (− 50 ºC) à 373 K (100 ºC) ou conçus pour des
applications aérospatiales.
Note: L'alinéa 3A229.b. vise également les dispositifs de
commande de lampes éclairs au xénon.2000R1334 — FR — 19.01.2002 — 003.001 — 117
▼M3
Note technique:
À l'alinéa 3A229.b.5., le 'temps de montée' est défini comme
étant l'intervalle de temps séparant des amplitudes de courant
de 10 à 90 % quand le montage est fait sur charge résistive.
3A230 Générateurs d'impulsions à grande vitesse présentant les deux
caractéristiques suivantes:
a. tension de sortie supérieure à 6 volts dans une charge ohmique
inférieure à 55 ohms; et
b. 'temps de transition des impulsions' inférieur à 500 ps.
Note technique:
Au paragraphe 3A230, le 'temps de transition des impulsions' est
défini comme le temps nécessaire pour passer de 10 à 90 %
d'amplitude de la tension.
3A231 Systèmes générateurs de neutrons, y compris des tubes, présentant
les deux caractéristiques suivantes:
a. conçus pour fonctionner sans installation de vide extérieure; et
b. utilisant l'accélération électrostatique pour déclencher une
réactionn ucléaire tritium-deutérium.
3A232 Détonateurs et systèmes multipoints d'amorçage, comme suit:
N.B.: VOIR ÉGALEMENT LA LISTE DES MATÉRIELS
DE GUERRE.
a. détonateurs d'explosifs à commande électrique, comme suit:
1. amorce à pont (AP);
2. fils à exploser (FE);3. percuteur;
4. initiateur à feuille explosive (IFE);
b. systèmes utilisant un détonateur unique ou des détonateurs
multiples conçus pour amorcer quasi simultanément une
surface explosive de plus de 5 000 mm
2au moyend'unsign al
unique de mise à feu avec un temps de propagation de
l'amorçage sur toute la surface inférieure à 2,5 µs.
Note: Le paragraphe 3A232 ne vise pas les détonateurs faisant
appel uniquement à des explosifs primaires, tels que
l'azoture de plomb.
Note technique:
Les détonateurs visés au paragraphe 3A232 utilisent tous un petit
conducteur électrique (amorce à pont, fil à exploser ou feuille) qui
se vaporise avec un effet explosif lorsqu'une impulsion électrique
rapide à haute intensité passe par ledit conducteur. Dans les
détonateurs de type "non percuteur", le conducteur à explosion
amorce une détonation chimique dans un matériau de contact
fortement explosif comme le PETN (tétranitrate de pentaéry-
thritol). Dans les détonateurs à percuteur, la vaporisation à action
explosive du conducteur électrique amène un "percuteur" à passer
au-dessus d'un écartement et l'impact du percuteur sur un explosif
amorce une détonation chimique. Dans certains cas, le percuteur
est actionné par une force magnétique. L'expression détonateur "à
feuille explosive" peut se référer à un détonateur AP ou à un
détonateur à percuteur. De même, le terme "initiateur" est parfois
employé au lieu du terme "détonateur".
3A233 Spectromètres de masse, autres que ceux visés à l'alinéa 0B002.g.,
capables de mesurer des ions de 230 unités de masse atomique ou
davantage, et d'avoir une résolution meilleure que 2 parties pour230, comme suit, et leurs sources d'ions:
a. spectromètres de masse au plasma associés par couplage
inductifs;
b. spectromètres de masse à décharge luminescente;
c. spectromètres de masse à ionisation thermique;
d. spectromètres de masse à bombardement d'électrons ayant une
chambre source construite en matériaux résistant à l'UF
6ou
pourvue d'une doublure ou d'un placage de tels matériaux;2000R1334 — FR — 19.01.2002 — 003.001 — 118
▼M3
e. spectromètres de masse à faisceau moléculaire comme suit:
1. possédant une chambre source construite à partir, doublée ou
plaquée, d'acier inoxydable ou de molybdène, ainsi qu'un
piège cryogénique capable de refroidir à 193 K (− 80 ºC) ou
moins;ou
2. possédant une chambre source construite avec, doublée ou
plaquée de matériaux résistant à l'UF6;
f. spectromètres de masse équipés d'une source d'ions à micro-
fluoration conçue pour les actinides ou les fluorures d'actinide.2000R1334 — FR — 19.01.2002 — 003.001 — 119
▼M3
3BÉquipements d'essai, de contrôle et de production
3B001 Équipements pour la fabrication de dispositifs ou de matériaux
semi-conducteurs, comme suit, et leurs composants et accessoires
spécialement conçus:
a. équipement de croissance épitaxiale "à commande par
programme enregistré", comme suit:
1. équipements capables de produire une couche d'épaisseur
uniforme avec une précision de ± 2,5 % sur une distance de
75 mm ou plus;
2. réacteurs de dépôt enphase de vapeur par procédé chimique
organométallique (MOCVD) spécialement conçus pour la
croissance cristalline de semi-conducteurs composés par
réactionchimique en tre des matériaux visés aux paragraphes
3C003 ou 3C004;
3. équipement de croissance épitaxiale à jet moléculaire
utilisant des sources gazeuses ou solides;
b. équipements "à commande par programme enregistré" conçus
pour l'implantation ionique et présentant l'une des caractéristi-
ques suivantes:
1. énergie de faisceau (tension d'accélération) de plus de
1 MeV;
2. spécialement conçus et optimisés pour fonctionner à une
énergie de faisceau (tension d'accélération) de moins de2 keV;
3. capacité d'écriture directe;
ou
4. capacité d'implantation à haute énergie d'oxygène dans un
"substrat" de matériau semi-conducteur chauffé;
c. équipements "à commande par programme enregistré" pour
l'élimination par des méthodes sèches anisotropiques par
plasma, comme suit:
1. équipement à fonctionnement cassette à cassette et à sas, et
présentant l'une des deux caractéristiques suivantes:
a. conçu ou optimisé pour produire des dimensions critiques
de 0,3 µm ou moins avec une précision de 3 sigma ±5 %;
ou
b. conçu pour produire moins de 0,04 particules/cm2avec
unedimensiondeparticulemesurablesupérieureà0,1 µm
endiamètre;
2. équipements spécialement conçus pour les équipements
visés à l'alinéa 3B001.e. et présentant l'une des deux
caractéristiques suivantes:
a. conçu ou optimisé pour produire des dimensions critiques
de 0,3 µm ou moins avec une précision de 3 sigma ±5 %;
ou
b. conçu pour produire moins de 0,04 particules/cm2avec
unedimensiondeparticulemesurablesupérieureà0,1 µm
endiamètre;
d. équipements de dépôt en phase vapeur par procédé chimique
amélioré par plasma "à commande par programme enregistré",
comme suit:
1. équipements à fonctionnement cassette à cassette et à sas, et
présentant l'une des deux caractéristiques suivantes:
a. conçu selon les spécifications du fabricant ou optimisé
pour produire des dimensions critiques de 0,3 µmo u
moins avec une précision de 3 sigma ± 5 %; ou
b. conçu pour produire moins de 0,04 particules/cm2avec
unedimensiondeparticulemesurablesupérieureà0,1 µm
endiamètre;
2. équipements spécialement conçus pour les équipements
visés à l'alinéa 3B001.e. et présentant l'une des deux
caractéristiques suivantes:
a. conçu selon les spécifications du fabricant ou optimisé
pour produire des dimensions critiques de 0,3 µmo u
moins avec une précision de 3 sigma ± 5 %; ou2000R1334 — FR — 19.01.2002 — 003.001 — 120
▼M3
b. conçu pour produire moins de 0,04 particules/cm2avec
unedimensiondeparticulemesurablesupérieureà0,1 µm
endiamètre;
e. systèmes centraux de manipulation des plaquettes, "à
commande par programme enregistré", pour le chargement
automatique à chambres multiples, présentant toutes les
caractéristiques suivantes:
1. des interfaces pour l'entrée et la sortie des plaquettes et
auxquelles doivent être connectés plus de deux équipements
de traitement de semi-conducteurs; et
2. ayant été conçues pour former un système intégré dans un
environnement sous vide pour le traitement séquentiel
multiple des plaquettes;
Note: L'alinéa 3B001.e. ne vise pas les systèmes auto-
matiques robotisés de manipulation de plaquettes qui
ne sont pas conçus pour fonctionner dans un
environnement sous vide.
f. équipements de lithographie "à commande par programme
enregistré", comme suit:
1. photorépéteurs d'alignement et d'exposition (réduction
directe sur la plaquette) ou photorépéteurs-balayeurs (scan-
ners) pour le traitement de plaquettes utilisant des méthodes
optiques ou à rayon X, et présentant l'une des caractéristi-
ques suivantes:
a. longueur d'onde de la source lumineuse inférieure à
350 nm; ou
b. capables de produire des figures dont la dimension de
l''élément résoluble minimal' est égale ou inférieure à
0,5 µm;
Note technique:
La dimension de l''élément résoluble minimal' est
calculée à l'aide de la formule suivante:
MRF ¼longueur d0onde de la source
lumineuse d0exposition en µm/C18/C19
/C2facteur KðÞ
ouverture num ´erique
où le facteur K = 0,7.
MRF = dimension de l'élément résoluble minimal.
2. équipements spécialement conçus pour la production de
masques ou le traitement de dispositifs semi-conducteurs,
utilisant un faisceau électronique, un faisceau ionique ou un
faisceau "laser" avec focalisationet balayage du faisceau,
présentant l'une des caractéristiques suivantes:
a. ayant une dimension du spot inférieure à 0,2 µm;
b. capables de produire des figures d'une dimension
inférieure à 1 µm; ou
c. précisionde chevauchemen t meilleure que ± 0,20 µm (3
sigma);
g. masques ou réticules conçus pour circuits intégrés visés au
paragraphe 3A001;
h. masques multicouches comportant une couche à décalage de
phase.
3B002 Équipements de test "à commande par programme enregistré"
spécialement conçus pour le test de dispositifs semi-conducteurs
finis ou non finis comme suit, et leurs composants et accessoires
spécialement conçus:
a. pour le test des paramètres S de transistors à une fréquence
supérieure à 31 GHz;
b. pour le test de circuits intégrés capables d'exécuter des essais de
base (table de vérité) à une 'cadence de signal' supérieure à
333 MHz;2000R1334 — FR — 19.01.2002 — 003.001 — 121
▼M3
Note: L'alinéa 3B002.b. ne vise pas les équipements de test
spécialement conçus pour le test:
1. d'"ensembles" ou de catégories d'"ensembles" pour
applications domestiques ou grand public;
2. de composants électroniques, d'"ensembles" ou de
circuits intégrés non visés;
3. de mémoires.
Note technique:
Aux fins du présent alinéa, on entend par "cadence de signal"
la fréquence maximale de fonctionnement numérique d'un
équipement de test. Elle est donc équivalente au taux de
données le plus élevé que ledit équipement peut fournir dans un
mode non multiplexé. On parle aussi de vitesse d'essai, de
fréquence numérique maximale ou de vitesse numérique
maximale.
c. pour le test de circuits intégrés hyperfréquences visés à l'alinéa
3A001.b.2.2000R1334 — FR — 19.01.2002 — 003.001 — 122
▼M3
3C Matériaux
3C001 Matériaux hétéro-épitaxiés consistant en un "substrat" comportant
des couches multiples empilées obtenues par croissance épitaxiale:
a. de silicium;
b. de germanium;
c. de carbure de silicium; ou
d. de composés III/V de gallium ou d'indium.
Note technique:
Les composés III/V sont des produits polycristallins ou
monocristallins binaires ou complexes constitués d'éléments
des groupes IIIA et VA du tableau de classification périodique
de Mendeleïev (arséniure de gallium, arséniure de gallium-
aluminium, phosphure d'indium, etc.).
3C002 Résines photosensibles (résists), comme suit, et "substrats" revêtus
de résine photosensible sous contrôle:
a. résines photosensibles (résists) positives pour lithographie des
semi-conducteurs spécialement adaptées (optimisées) pour
l'emploi à des longueurs d'onde inférieures à 350 nm;
b. toutes résines photosensibles (résists) destinées à être utilisées
sous l'effet de faisceaux électroniques ou ioniques, ayant une
sensibilité de 0,01 µcoulomb/mm2ou meilleure;
c. toutes résines photosensibles (résists) destinées à être utilisées
sous l'effet des rayons X, ayant une sensibilité de 2,5 mJ/mm2
ou meilleure;
d. toutes résines photosensibles (résists) optimisées pour des
technologies de formation d'images de surface, notamment
résines photosensibles à 'silylation'.
Note technique:
Les techniques de 'silylation' sont des procédés qui comportent
l'oxydation de la surface de la résine photosensible pour
améliorer les performances de développement humide ou à sec.
3C003 Composés organo-inorganiques, comme suit:
a. composés organométalliques d'aluminium, de gallium et
d'indium ayant une pureté (pureté du métal) supérieure à
99,999 %;
b. composés organoarséniés, organoantimoniés et organophos-
phorés ayant une pureté (pureté de l'élément inorganique)
supérieure à 99,999 %.
Note: Le paragraphe 3C003 ne vise que des composés dont
l'élément métallique, partiellement métallique ou non
métallique est lié directement à un carbone de la partie
organique de la molécule.
3C004 Hydrures de phosphore, d'arsenic ou d'antimoine, ayant une pureté
supérieure à 99,999 %, même dilués dans des gaz inertes ou dans
l'hydrogène.
Note: Le paragraphe 3C004 ne vise pas les hydrures contenant
20 % molaire ou plus de gaz inertes ou d'hydrogène.2000R1334 — FR — 19.01.2002 — 003.001 — 123
▼M3
3D Logiciel
3D001 "Logiciel" spécialement conçu pour le "développement" ou la
"production" d'équipements visés par les alinéas 3A001.b. à
3A002.g. ou sous la catégorie 3B.
3D002 "Logiciel" spécialement conçu pour l'"utilisation" d'équipements
"à commande par programme enregistré" visés par la sous-
catégorie 3B.
3D003 "Logiciel" de conception assistée par ordinateur (CAO) présentant
toutes les caractéristiques suivantes:
a. conçu pour le "développement" de dispositifs semi-conducteurs
ou de circuits intégrés; et
b. conçu pour exécuter ou utiliser l'un des éléments suivants:
1. éléments de base de la conception ou éléments de base de la
vérificationdes circuit;
2. simulationdes circuits dessin és; ou
3. 'simulateurs de traitement lithographique' pour la concep-
tion.
Note technique:
Un 'simulateur de traitement lithographique' est un logiciel
utilisé dans la phase de conception pour définir la séquence des
stades de lithographie, de gravure et de dépôt pour transformer
des figures de masque en figures topographiques spécifiques
dans les conducteurs, les diélectriques ou les matériaux semi-
conducteurs.
Note 1: Le paragraphe 3D003 ne vise pas le "logiciel"
spécialement conçu pour la saisie du schéma, la
simulation logique, le placement et le routage, la
vérification du schéma ou la bande de génération de
schéma.
Note 2: Les bibliothèques, caractéristiques de conception ou
données connexes pour la conception de dispositifs
semi-conducteurs ou de circuits intégrés sont
considérées comme de la "technologie".
3D101 "Logiciel" spécialement conçu ou modifié pour l'"utilisation" des
équipements spécifiés à l'alinéa 3A101.b.2000R1334 — FR — 19.01.2002 — 003.001 — 124
▼M3
3E Technologie
3E001 Technologie, au sens de la note générale de technologie, pour le
"développement" oula "production" deséquipements oumatériaux
visés par les sous-catégories 3A, 3B ou 3C.
Note: Le paragraphe 3E001 ne vise pas la "technologie" pour
le "développement" ou la "production" des dispositifs
suivants:
a. transistors hyperfréquences fonctionnant à des
fréquences inférieures à 31 GHz;
b. circuits intégrés visés par les alinéas 3A001.a.3. à
3A001.a.12., présentant toutes les caractéristiques
suivantes:
1. faisant appel à une "technologie" de 0,7 µm ou
plus,et
2. ne comprenant pas de 'structures multicouches'.
Note technique:
Dans la note b.2. au paragraphe 3E001, les termes
'structures multicouches' ne comprennent pas les
dispositifs comprenant un maximum de deux
couches métalliques et deux couches de silicium
polycristallin.
3E002 "Technologie" selon la note générale de technologie, autre que
celle visée au paragraphe 3E001, pour le "développement" ou la
"production" de "microcircuits de micro-ordinateurs" et de
microcircuits de microcontrôleurs ayant une "performance théo-
rique pondérée" ("PTP") égale ou supérieure à 530 millions
d'opérations théoriques par seconde (Motps) et une unité
arithmétique et logique (UAL) ayant une largeur d'accès égale
ou supérieure à 32 bits.
Note: La note d'exclusion au paragraphe 3E001 s'applique
également à l'alinéa 3E002.
3E003 Autres technologies pour le "développement" ou la "production"
de:
a. dispositifs micro-électroniques à vide;
b. dispositifs semi-conducteurs à hétérostructure tels que les
transistors à haute mobilité d'électrons (HEMT), transistors
hétéro-bipolaires (HBT), dispositifs à puits quantique ou à
super-réseaux;
c. dispositifs électroniques à "supraconducteurs";
d. substrats de films de diamant pour composants électroniques;
e. substrats de silicium sur isolant (SOI) pour circuits intégrés
dont l'isolant est le dioxyde de silicium;
f. substrats de carbure de silicium pour composants électroniques.
3E101 "Technologie" selon la note générale de technologie pour
"l'utilisation" des équipements ou du "logiciel" spécifiés en
3A001.a.1. ou 2, 3A101 ou 3D101.
3E102 "Technologie" selon la note générale de technologie pour le
"développement" du "logiciel" spécifié en 3D101.
3E201 "Technologie" selon la note générale de technologie pour
"l'utilisation" des équipements spécifiés en 3A001.e.2.,
3A001.e.3., 3A201, 3A225 à 3A233.2000R1334 — FR — 19.01.2002 — 003.001 — 125
▼M3
CATÉGORIE 4
CALCULATEURS2000R1334 — FR — 19.01.2002 — 003.001 — 126
▼M3
Note 1: Les calculateurs, matériels connexes ou "logiciels"
assurant des fonctions de télécommunications ou de
"réseaux locaux" doivent être évalués également en
regard des caractéristiques de performances définies
dans la catégorie 5, partie 1 (télécommunications).
Note 2: Les unités de commande assurant une interconnexion
directe des bus ou des voies d'unités centrales de
traitement, de "mémoire centrale" ou de contrôleurs de
disques ne sont pas considérées comme des matériels
de télécommunications décrits dans la catégorie 5,
partie 1 (télécommunications).
N.B.: Pour le statut du "logiciel" spécialement
conçu pour la commutation par paquets, voir
5D001.
Note 3: Les calculateurs, matériels connexes ou "logiciels"
assurant des fonctions cryptographiques ou cryptoana-
lytiques, une sécurité multiniveau certifiée ou une
isolation de l'utilisateur certifiée, ou limitant la
compatibilité électromagnétique (EMC), doivent être
évalués également en regard des caractéristiques de
performance définies dans la catégorie 5 partie 2
(sécurité de l'information).
4A Systèmes, équipements et composants
4A001 Calculateurs électroniques et matériels connexes, comme suit, et
leurs "ensembles électroniques" et composants spécialement
conçus:
N.B.: VOIR ÉGALEMENT 4A101
a. Spécialement conçus pour présenter l'une des caractéristiques
suivantes:
1. prévus pour fonctionner à une température ambiante
inférieure à 228 K (− 45 ºC) ou supérieure à 358 K (85 ºC);
Note: L'alinéa 4A001.a.1 n'est pas applicable aux
calculateurs spécialement conçus pour les auto-mobiles ou les trains civils.
2. résistance aux radiations à un niveau dépassant l'une
quelconque des spécifications suivantes:
a. dose totale 5 × 10
3
Gy (silicium);
b. débit de dose 5 × 106
Gy (silicium)/s; ou
c. modification par événement unique 1 × 10−7
erreur/bit/jour;
b. Présentant des caractéristiques ou effectuant des fonctions
supérieures aux limites définies dans la catégorie 5, partie 2
(sécurité de l'information).
Note: L'alinéa 4A001.b. n'est pas applicable aux calcula-
teurs électroniques et matériels connexes qui
accompagnent leur utilisateur pour son usage
personnel.
4A002 "Calculateurs hybrides", comme suit, et leurs "ensembles élec-
troniques" et composants spécialement conçus:
N.B.: VOIR ÉGALEMENT 4A102.
a. contenant des "calculateurs numériques" visés au paragraphe
4A003;
b. contenant des convertisseurs analogique-numérique présentant
toutes les caractéristiques suivantes:
1. comportant 32 voies ou plus; et
2. ayant une résolution de 14 bits (plus le bit de signe) ou plus,
avec un taux de conversion de 200000 conversions/seconde
ou plus.2000R1334 — FR — 19.01.2002 — 003.001 — 127
▼M3
4A003 "Calculateurs numériques", "ensembles électroniques" et leurs
matériels connexes, comme suit, et leurs composants spécialement
conçus:
Note 1: Le paragraphe 4A003 comprend:
a. les processeurs vectoriels;
b. les processeurs matriciels;
c. les processeurs de signaux numériques;
d. les processeurs logiques;
e. les équipements conçus pour le "renforcement
d'image";
f. les équipements conçus pour le "traitement de
signal".
Note 2: Le statut des "calculateurs numériques" ou matériels
connexes décrits au paragraphe 4A003 est régi par le
statut d'autres équipements ou systèmes, à condition
que:
a. les "calculateurs numériques" ou matériels connexes
soient essentiels au fonctionnement de ces autres
équipements ou systèmes;
b. les "calculateurs numériques" ou matériels connexes
ne soient pas un "élément principal" de ces autres
équipements ou systèmes; et
N.B. 1: Le statut des matériels pour le "traite-
ment de signal" ou le "renforcement
d'image" spécialement conçus pour
d'autres équipements, ayant des fonctions
limitées à celles nécessaires au fonction-
nement desdits équipements, est
déterminé par le statut de ces équipe-
ments, même s'ils dépassent le critère
d'"élément principal".
N.B. 2: En ce qui concerne le statut des "calcu-
lateurs numériques" ou de leurs matériels
connexes pour matériels de télécommu-
nications, voir la catégorie 5, partie 1
(télécommunications).
c. la technologie afférente aux "calculateurs numéri-
ques" et matériels connexes soit déterminée par la
sous-catégorie 4E.
a. Conçus ou modifiés pour la "tolérance de panne";
Note: Aux fins de l'alinéa 4A003.a., les "calculateurs
numériques" et matériels connexes ne sont pas
considérés comme conçus ou modifiés pour la
"tolérance de panne" s'ils utilisent l'un des éléments
suivants:
1. des algorithmes de détection et de correction
d'erreur dans "la mémoire centrale";
2. l'interconnexion de deux "calculateurs numéri-
ques", de sorte que, si l'unité centrale de
traitement en activité tombe en panne, l'unité
centrale de traitement inactive mais "en miroir"
permette au système de continuer à fonctionner;
3. l'interconnexion de deux unités centrales de
traitement pardes voies de données ou par l'emploi
d'une mémoire partagée, de sorte qu'une unité
centrale de traitement effectue une autre tâche
jusqu'à ce que la seconde unité centrale de
traitement tombe en panne, la première unité
centrale de traitement prenant alors la relève et
permettant au système de continuer à fonctionner;
ou
4. la synchronisation de deux unités centrales de
traitement par "logiciel", de sorte qu'une unité
centrale de traitement sache quand l'autre unité
centrale de traitement tombe en panne et reprenne
les tâches de celle-ci.2000R1334 — FR — 19.01.2002 — 003.001 — 128
▼M3
b. "Calculateurs numériques" ayant une "performance théorique
pondérée" (PTP) dépassant 28000 millions d'opérations
théoriques par seconde (Motps);
c. "Ensembles électroniques" spécialement conçus ou modifiés
afin de renforcer les performances par agrégation d'"éléments
de calcul" ("EC") de sorte que la "PTP" de l'agrégationdépasse
la limite définie à l'alinéa 4A003.b.;
Note 1: L'alinéa 4A003.c. ne s'applique qu'aux "ensembles
électroniques" et aux interconnexions programma-
bles ne dépassant pas la limite définie à l'alinéa
4A003.b., lorsqu'ils sont expédiés sous forme
d'"ensembles électroniques" non intégrés. Il ne
s'applique pas aux "ensembles électroniques"
intrinsèquement limités par la nature de leur
conception à servir comme matériel connexe visé
par les alinéas 4A003.d. ou 4A003.e.
Note 2: L'alinéa 4A003.c. ne vise pas les "ensembles
électroniques" spécialement conçus pour un produit
ou une famille de produits dont la configuration
maximale ne dépasse pas la limite définie à l'alinéa
4A003.b.
d. Accélérateurs graphiques ou coprocesseurs graphiques ayant un
"taux vectoriel tridimensionnel" dépassant 200000000;
e. Équipements effectuant des conversions analogique-numérique
dépassant les limites définies à l'alinéa 3A001.a.5.
f. Nonutilisé;
g. Équipements spécialement conçus pour permettre l'interconne-
xion externe de "calculateurs numériques" ou matériels associés
autorisant des communications à des débits supérieurs à 1,25
Goctets/s.
Note: L'alinéa 4A003.g. ne vise pas les équipements
d'interconnexion interne (tels que fonds de panier ou
bus), les équipements d'interconnexion passive, les
"contrôleurs d'accès au réseau" ou les "contrôleurs de
communication".
4A004 Calculateurs, comme suit, et leurs matériels connexes, "ensembles
électroniques" et composants spécialement conçus:
a. "calculateurs à réseaux systoliques";
b. "calculateurs neuronaux";
c. "calculateurs optiques".
4A101 Calculateurs analogiques, "calculateurs numériques" ou analyseurs
différentiels numériques, autres que ceux visés à l'alinéa
4A001.a.1., à haute robustesse et conçus ou modifiés pour être
utilisés dans les lanceurs spatiaux visés au paragraphe 9A004 ou
les fusées-sondes visées au paragraphe 9A104.
4A102 "Calculateurs hybrides" spécialement conçus pour le modelage, la
simulation ou l'intégration des lanceurs spatiaux visés au
paragraphe 9A004 ou les fusées-sondes visées au paragraphe
9A104.
Note: Le présent paragraphe ne vise que les équipements
fournis avec le logiciel visé aux paragraphes 7D103 ou
9D103.2000R1334 — FR — 19.01.2002 — 003.001 — 129
▼M3
4BMatériels d'essai, de contrôle et de production
Néant.2000R1334 — FR — 19.01.2002 — 003.001 — 130
▼M3
4C Matériaux
Néant.2000R1334 — FR — 19.01.2002 — 003.001 — 131
▼M3
4D Logiciel
Note: Le statut du "logiciel" pour le "développement", la
"production", ou l'"utilisation" d'équipements décrits
dans d'autres catégories est régi par la catégorie
pertinente; celui du "logiciel" relatif aux équipements
décrits dans la présente catégorie est régi par cette
dernière.
4D001 "Logiciel" spécialement conçu ou modifié pour le "développe-
ment", la "production" ou l'"utilisation" d'équipements ou de
matériaux ou de "logiciels" visés par les sous-catégories 4A001 à
4A004 ou 4D.
4D002 "Logiciel" spécialement conçu ou modifié pour renforcer la
"technologie" visée par la sous-catégorie 4E.
4D003 "Logiciel" spécifique, comme suit:
a. "logiciel" système d'exploitation, outils de développement de
"logiciel" et compilateurs, spécialement conçus pour des
équipements de "traitement de flots de données multiples", en
"code source";
b. non utilisé;
c. "logiciel" présentant des caractéristiques ou exécutant des
fonctions au-delà des limites prévues dans la catégorie 5, partie
2 ("Sécurité de l'information");
Note: L'alinéa 4D003.c. n'est pas applicable aux "logiciels"
qui accompagnent leur l'utilisateur pour son usage
personnel.
d. systèmes d'exploitation spécialement conçus pour des équipe-
ments de "traitement en temps réel" garantissant une "attente
d'interruption globale" de moins de 20 µs.2000R1334 — FR — 19.01.2002 — 003.001 — 132
▼M3
4E Technologie
4E001 "Technologie" selon la note générale de technologie, pour le
"développement", la "production" ou "l'utilisation" des équipe-
ments ou "logiciels" visés aux sous-catégories 4A ou 4D.2000R1334 — FR — 19.01.2002 — 003.001 — 133
▼M3
Note technique relative à la "Performance théorique pondérée" ("PTP")
Abréviations utilisées dans la présente technique
"EC" "élément de calcul" (généralement unité arithmétique et logique)
f virgule flottantex virgule fixe
t temps d'exécution
OUX opération logique de OU exclusifUC unité centrale de traitement
PT performance théorique (d'un "EC" unique)
"PTP" "performance théorique pondérée" (d'un ensemble d'"EC")V vitesse efficace calculéeLM longueur de mot
L pondération de la longueur de mot
× multiplication
Le temps d'exécution "t" est exprimé en microsecondes, la PT et la
"PTP" sont exprimées en millions d'opérations théoriques par seconde
(Motps) et la LM est exprimée en bits.
Descriptionde la méthode de calcul de la "PTP"
La "PTP" est une mesure des capacités de calcul, exprimée en millions
d'opérations théoriques par seconde (Motps). Les trois opérations ci-après sont
nécessaires pour le calcul de la "PTP" d'une agrégation d'"EC":
1. calcul de la vitesse efficace calculée V pour chaque "EC";
2. application de la pondération de la longueur de mot (L) à la vitesse efficace
calculée (V), résultant en une performance théorique (PT) pour chaque "EC";
3. s'il existe plus d'un "EC", combinaison des PT résultant en une "PTP" pour
l'agrégation.
Le détail de ces opérations figure dans les sections ci-après.
Note 1 Pour les agrégations de plusieurs "EC" comportant des sous-systèmes,
les uns avec, les autres sans partage de mémoire, le calcul de la "PTP"
sera effectué de façon hiérarchique, en deux temps: effectuer
premièrement l'agrégation des groupes d'"EC" partageant leur
mémoire; deuxièmement, calculer la "PTP" des groupes en utilisant
la méthode de calcul applicable aux "EC" multiples ne partageant pas
leur mémoire.
Note 2 Les "EC" qui sont limités aux fonctions entrée-sortie ou aux fonctions
de périphériques (par exemple, les contrôleurs d'unités de disques, de
communications et d'écrans vidéo) ne sont pas agrégés pour le calcul
de la "PTP".2000R1334 — FR — 19.01.2002 — 003.001 — 134
▼M3
Le tableau ci-après montre la méthode de calcul de la vitesse efficace calculée V
pour chaque "EC":
Opération1: "vitesse efficace calculée V"
Pour les "EC" réalisant:
Note:Chaque "EC" doit être évalué de façon
indépendanteVitesse efficace calculée, V
Virgule fixe seule
Vx¼1
3/C2tx addðÞ
si aucune addition n'est exécutable:
Vx¼1
tx multðÞ
si ni l'addition ni la multiplication ne sont
exécutables, prendre en compte l'opération
arithmétique disponible la plus rapide, comme
suit:
Vx¼1
3/C2tx
Voir notes X, Z
Virgule flottante seule
Vf¼max1
tf addðÞ;1
tf multðÞ
Voir notes X, Y
À la fois fixe et flottante Calculer à la fois Vx,Vf
Pour les processeurs logiques simples n'effec-
tuant aucune des opérations arithmétiques
spécifiéesV¼1
3/C2tlog
tlogsétant le temps d'exécution de OUX, ou pour
l'entité logique n'effectuant pas de OUX,
l'opérationlogique simple la plus rapide
Voir notes X, Z
Pour les processeurs logiques spéciaux n'effec-
tuant aucune des opérations logiques ou arith-
métiques précédentesV=V′× LM/64
V′étant le nombre de résultats par seconde, LM
le nombre de bits sur lequel s'effectue l'opéra-
tionlogique et 64 le facteur de n ormalisationà
64 bits2000R1334 — FR — 19.01.2002 — 003.001 — 135
▼M3
Note W Pour un "EC" en pipeline, capable d'exécuter jusqu'à une opération
arithmétique ou logique par cycle d'horloge une fois que le pipeline
est rempli, une vitesse en pipeline peut être déterminée. La vitesse
efficace calculée (V) pour un tel "EC" est la vitesse en pipeline ou la
vitesse d'exécution non en pipeline, le chiffre à retenir étant celui de la
vitesse la plus élevée.
Note X Pour un "EC" exécutant des opérations multiples d'un type spécifique
en un cycle unique (par exemple deux additions par cycle ou deux
opérations logiques identiques par cycle), le temps d'exécution t est le
suivant:
t¼dur´ee du cycle
nombre d0op´erations identiques par cycle machine
Les "EC" exécutant différents types d'opérations arithmétiques ou
logiques en un seul cycle machine doivent être traités en tant que
multiples "EC" séparés fonctionnant simultanément (par exemple un
"EC" exécutant une addition et une multiplication en un cycle doit être
traité en tant que deux "EC", le premier exécutant une addition en un
cycle et le second une multiplication en un cycle).
Si un "EC" unique possède à la fois la fonction scalaire et la fonction
vectorielle, retenir la valeur du temps d'exécution la plus faible.
Note Y Pour un "EC" qui n'exécute pas l'addition en virgule flottante ni la
multiplication en virgule flottante mais qui effectue la division en
virgule flottante:
Vf¼1
tf div/C0/C1
Si un "EC" exécute la réciproque en virgule flottante mais non
l'addition en virgule flottante, la multiplication en virgule flottante ni
la division en virgule flottante:
Vf¼1
tr´eciproque f/C0/C1
Si aucune des instructions spécifiées n'est exécutable, la vitesse
efficace en virgule flottante est égale à zéro.
Note Z Dans les opérations logiques simples, une instruction unique effectue
une manipulation logique unique de pas plus de deux opérandes de
longueurs données.
Dans des opérations logiques complexes, une instruction unique
effectue des manipulations logiques multiples pour produire un ou
plusieurs résultats à partir de deux ou plus de deux opérandes.
Les vitesses doivent être calculées pour toutes les longueurs
d'opérande exécutables, en tenant compte des opérations en pipeline
(si elles sont exécutables) et des opérations non en pipeline, au moyen
des instructions d'exécution les plus rapides pour chacune des
longueurs d'opérande, en se basant sur:
1. les opérations en pipeline ou de registre à registre. Exclure les
temps d'exécution exceptionnellement brefs obtenus pour des
opérations correspondant à un (des) opérande(s) prédéterminé(s)
(par exemple multiplication par 0 ou par 1). Si l'"EC" n'exécute pas
d'opération de registre à registre, appliquer le point 2;
2. la plus rapide des opérations: soit de registre à mémoire, soit de
mémoire à registre. Si celles-ci n'existent pas non plus, alors
appliquer le point 3;
3. les opérations de mémoire à mémoire.
Pour chacun des cas ci-dessus, utiliser le temps d'exécution le plus
rapide certifié par le fabricant.2000R1334 — FR — 19.01.2002 — 003.001 — 136
▼M3
Opération 2: "Pondération pour chaque longueur d'opérande LM exécutable"
Ajuster la vitesse calculée V (ou V') par le coefficient de pondération selon la
longueur de mot L, comme suit:
P T=V×L
avec: L = (1/3 + LM/96)
Note: La longueur de mot LM utilisée dans ces calculs est la longueur en bits
de l'opérande. (Si une opération utilise des opérandes de différentes
longueurs, retenir la plus importante.)
Pour le calcul de la "PTP", la combinaison d'une unité arithmétique et
logique à mantisse et d'une unité arithmétique et logique exposant, dans
un processeur ou une unité à virgule flottante, est considérée comme un
"EC" ayant une longueur de mot (LM) égale au nombre de bits dans la
représentation de données (généralement 32 ou 64).
Cette pondération ne s'applique pas aux processeurs logiques spécialisés
n'effectuant pas l'instruction OUX. Dans ce dernier cas, PT = V.
Retenir la valeur maximale de PT obtenue:
chaque virgule fixe — "EC" uniquement (Vx);
chaque virgule flottante — "EC" uniquement (Vf);
chaque "EC" à virgule fixe et flottante combinée (V);chaque processeur logique simple n'effectuant aucune des opérations arithméti-
ques spécifiées;
et
chaque processeur logique spécial n'effectuant aucune des opérations logiques ou
arithmétiques précédentes.
Opération 3: "PTP" des agrégations d'"EC", notamment des UC
Pour une UC ayant un seul "EC",
"PTP" = PT
[Pour les "EC" utilisant à la fois les opérations en virgule fixe et en virgule
flottante
PT = max (PTf,P Tx)]
La "PTP" des agrégations de plusieurs "EC" fonctionnant simultanément est
calculée comme suit:
Note 1: Pour les agrégations ne permettant pas le fonctionnement simultané
de tous les "EC", la combinaison possible des "EC" procurant la
"PTP" la plus élevée sera utilisée. La PT de chaque "EC" concerné
doit être agrégée sous sa valeur maximale théoriquement possible,
avant que la "PTP" de la combinaison n'en soit déduite.
N.B.: Afin de déterminer les combinaisons possibles d'"EC"
fonctionnant simultanément, produire une séquence d'ins-
tructions en vue d'effectuer des opérations en "EC" multiples
en commençant par l'"EC" le plus lent (celui nécessitant le
plus grand nombre de cycles pour mener à terme l'opération)
et en finissant par l'"EC" le plus rapide. Lorsde chaque cycle
de la séquence, la combinaison des "EC" qui sont exploités
lors du cycle est une combinaison possible. La séquence
d'instructions doit tenir compte de toutes les contraintes
résultant du matériel et/ou de l'architecture sur les
opérations exécutées simultanément.
Note 2: Une seule puce ou une seule carte de circuits intégrés peut contenir
des "EC" multiples.
Note 3: Des opérations simultanées sont supposées exister lorsque le fabricant
ducalculateur stipule dans unmanuel ou une brochure ducalculateur,
l'existence d'un fonctionnement ou d'une exécution en mode concur-
rent, parallèle ou simultané.
Note 4: Les valeurs de "PTP" ne doivent pas être agrégées pour les
combinaisons d'"EC" (inter)connectées par des réseaux locaux,
réseaux étendus, connexions/dispositifs à entrées/sorties partagées,
contrôleurs d'entrée/sortie et toutes interconnexions de communica-
tions mises en œuvre par du logiciel.
Note 5: Les valeurs de "PTP" doivent être agrégées pour les "EC" multiples
spécialement conçus pour améliorer les performances par agrégation,
fonctionnant simultanément et partageant leur mémoire, ou les
combinaisons mémoires/"EC" multiples fonctionnant simultanément2000R1334 — FR — 19.01.2002 — 003.001 — 137
▼M3
et utilisant du matériel spécialement conçu. Cette agrégation ne
s'applique pas aux "ensembles électroniques" décrits à l'alinéa
4A003.c.
CTP = PT1+C2×P T2+…+Cn×P Tn,
les PT étant classées par ordre décroissant, PT1étant la plus élevée,
PT2la valeur immédiatement inférieure, …, PTnla plus faible et Ciétant le coefficient déterminé par la force d'interconnexion entre les"EC", comme suit:
Pour les agrégations de plusieurs "EC" fonctionnant simultanément et partageant
leur mémoire:
C
2=C3=C4=…=Cn= 0,75.
Note 1: Lorsque la "PTP" calculée par la méthode ci-dessus ne dépasse pas
194 Motps, la formule suivante peut être employée pour calculer Ci:
Ci¼0;75ﬃﬃﬃﬃmpi¼2;... ;n ðÞ
m = nombre d'"EC" ou de groupes d'"EC" partageant l'accès à
condition que:
1. la PTide chaque "EC" ou groupe d'"EC" ne dépasse pas 30 Motps;
2. les "EC" ou groupes d'"EC" partagent l'accès à la mémoire
centrale (à l'exclusion de la mémoire cache) sur une seule voie; et
3. un seul "EC" ou groupe d'"EC" puisse utiliser la voie à tout
moment.
N.B.: La présente note ne s'applique pas aux équipements visés par
la catégorie 3.
Note 2: Les "EC" partagent leur mémoire s'ils ont accès à une section
commune d'une mémoire à semi-conducteurs. Cette dernière peut
inclure une mémoire cache, une mémoire centrale ou une autre
mémoire interne. Des dispositifs mémoire périphériques, tels que les
unités de disques, les dérouleurs de bande magnétique ou les disques
RAM ne sont pas inclus.
Pour les agrégations de plusieurs "EC" ou groupes d'"EC" ne partageant pas leur
mémoire et interconnectés par une ou plusieurs voies de données:
Ci= 0,75 × ki(i = 2, …, 32) (voir note ci-dessous)
= 0,60 × ki(i = 33, …, 64)
= 0,45 × ki(i = 65, …, 256)
= 0,30 × ki(i > 256)
La valeur de Ciest fondée sur le nombre d'"EC", et non sur le nombre de nœuds.
ki= min(Si/Kr,1 )e t
Kr= facteur de 20 Moctets/s permettant de retourner à une vitesse de base.
Si= somme des débits maximaux (enMoctets/s) pour toutes les voies de
données connectées au ième"EC" ou groupe d'"EC" partageant leur
mémoire.
Lors du calcul de Cipour ungroupe d'"EC", le n uméro du premier "EC" du
groupe détermine la limite convenable pour Ci. Par exemple, pour une agrégation
de groupes comportant chacun 3 "EC", le 22èmegroupe comprendra "EC"64, "EC"65et "EC"66.
La limite convenable de Cipour ce groupe est 0,60.
L'agrégation(d'"EC" ou de groupes d'"EC") doit aller du plus rapide au plus len t,
de sorte que:
TP1≥TP2≥TP3≥…T Pnet
dans le cas où PTi=P Ti+1l'opérationdoit s'effectuer du plus puissan t au plus
faible, de sorte que:
Ci≥Ci+1.
Note: Le facteur kine doit pas être appliqué aux "EC" 2 à 12 si la TPide
l'"EC" ou du groupe d'"EC" est supérieure à 50 Motps, de sorte que Ciest égal à 0,75 pour les "EC" 2 à 12.2000R1334 — FR — 19.01.2002 — 003.001 — 138
▼M3
CATÉGORIE 5
TÉLÉCOMMUNICATIONSET "SÉCURITÉDE L'INFORMATION"2000R1334 — FR — 19.01.2002 — 003.001 — 139
▼M3
PARTIE 1
TÉLÉCOMMUNICATIONS
Note 1: Le statut des composants, des "lasers", des équipements
d'essai et de production et de leurs "logiciels",
spécialement conçus pour les équipements ou systèmes
de télécommunications, est défini par la présente
catégorie.
Note 2: Les "calculateurs numériques", matériels connexes ou
"logiciels", lorsqu'ils sont essentiels au fonctionnement
et au soutien des équipements de télécommunications
décrits dans la présente catégorie, sont considérés
comme des composants spécialement conçus, à condi-
tion que ce soient les modèles standards normalement
fournis par le fabricant. Il convient d'entendre par là
les systèmes informatiques d'exploitation, d'administra-
tion, de maintenance, d'ingénierie ou de facturation.
5A1 Équipements, ensembles et composants
5A001 a. Tout type d'équipement de télécommunications présentant l'une
des caractéristiques, réalisant l'une des fonctions ou comportant
l'un des éléments suivants:
1. spécialement conçus pour résister aux effets transitoires
électroniques ou à l'impulsion électromagnétique consécutifs
à une explosion nucléaire;
2. spécialement durcis contre les rayonnements gamma,
neutroniques ou ioniques; ou
3. spécialement conçus pour fonctionner en dehors de la
gamme de température allant de 218 K (- 55 ºC) à 397 K
(124 ºC).
Note: L'alinéa 5A001.a.3. s'applique uniquement aux
équipements électroniques.
Note: Les alinéas 5A001.a.2. et 5A001.a.3. ne visent pas les
équipements conçus ou modifiés pour être utilisés à
bord de satellites.
b. Matériels de transmission pour les télécommunications ou
systèmes de transmission pour les télécommunications, et leurs
composants et accessoires spécialement conçus, présentant
l'une des caractéristiques, réalisant l'une des fonctions ou
comportant l'un des éléments suivants:
1. Étant des systèmes de communications sous-marins présen-
tant l'une des caractéristiques suivantes:
a. fréquence porteuse acoustique située en dehors de la
gamme comprise entre 20 et 60 kHz;
b. employant une fréquence porteuse électromagnétique
inférieure à 30 kHz; ou
c. employant des techniques électroniques d'orientation du
faisceau;
2. Étant des matériels radio fonctionnant dans la bande de 1,5 à
87,5 MHz et présentant l'une des caractéristiques suivantes:
a. comprenant des techniques adaptatives assurant une
suppression de plus de 15 dB d'un signal d'interférence;
ou
b. présentant toutes les caractéristiques suivantes:
1. prévisionet sélectionautomatiques des fréquen ces et
des "taux de transfert numériques totaux" par voie afin
d'optimiser l'émission; et
2. comprenant une configuration d'amplificateur de
puissance linéaire ayant la capacité de traiter simulta-
nément des signaux multiples à une puissance de
sortie de 1 kW ou plus dans la gamme de fréquences
de 1,5 à 30 MHz ou de 250 W ou plus dans la gamme
de fréquences de 30 à 87,5 MHz, sur une "bande
passante instantanée" d'une octave ou plus avec un
taux d'harmonique de sortie et de distorsion meilleur
que - 80 dB;2000R1334 — FR — 19.01.2002 — 003.001 — 140
▼M3
3. Étant des équipements radio employant des techniques à
"spectre étalé", y compris des techniques à "sauts de
fréquences" et présentant l'une des caractéristiques
suivantes:
a. codes d'étalement programmables par l'utilisateur; ou
b. bande passante d'émission totale égale à 100 fois ou plus
de 100 fois la bande passante de l'une quelconque des
voies d'information et supérieure à 50 kHz;
Note: L'alinéa 5A001.b.3.b. ne vise pas les équipe-
ments radio spécialement conçus pour être
utilisés avec des systèmes de radiocommunica-
tions cellulaires civiles.
Note: L'alinéa 5A001.b.3. ne vise pas les équipements de
contrôle conçus pour fonctionner à une puissance
de sortie de 1,0 Watt ou moins.
4. Étant des récepteurs radio à commande numérique présen-
tant toutes les caractéristiques suivantes:
a. ayant plus de 1000 canaux;
b. ayant un "temps de commutation de fréquence" inférieur
à 1 ms;
c. explorant ou balayant automatiquement une partie du
spectre électromagnétique; et
d. identifiant les signaux reçus ou le type d'émetteur; ou
Note: L'alinéa 5A001.b.4. ne vise pas les équipements
radio spécialement conçus pour être utilisés
avec des systèmes de radiocommunications
cellulaires civiles.
5. Employant les fonctions du "traitement de signal" numé-
rique pour assurer le vocodage à des vitesses inférieures à
2 400 bits/s.
c. câbles de télécommunications à fibres optiques, fibres optiques
et leurs accessoires comme suit:
1. fibres optiques d'une longueur de plus de 500 m et spécifiées
par le fabricant comme ayant la capacité de supporter une
charge de rupture aux essais de mise à l'épreuve égale ou
supérieure à 2 × 109N/m2;
Note technique:
essais de mise à l'épreuve: essais de production en continu
ou en différé qui appliquent dynamiquement une charge de
rupture définie sur une fibre de 0,5 à 3 m de long à une
vitesse de défilement de 2 à 5 m/s, lors du passage entre des
cabestans d'approximativement 150 mm de diamètre. La
température ambiante nominale est de 293 K (20 ºC) et
l'humidité relative de 40 %. Les normes nationales
équivalentes pourront être utilisées pour effectuer les essais
de mise à l'épreuve.
2. Câbles à fibres optiques et accessoires conçus pour l'usage
subaquatique.
Note: L'alinéa 5A001.c.2. ne vise pas les câbles et
accessoires standard pour les télécommunications
civiles.
N.B. 1: Pour les câbles ombilicaux et leurs connecteurs, voir
l'alinéa 8A002.a.3.
N.B. 2: Pour les pénétrateurs ou connecteurs de cloison
étanche à fibres optiques, voir l'alinéa 8A002.c.
d. "Antennes à réseaux phasés, électroniquement orientables",
fonctionnant au-dessus de 31 GHz.
Note: L'alinéa 5A001.d. ne vise pas les antennes à réseaux
phasés électroniquement orientables pour les systèmes
d'atterrissage aux instruments répondant aux normes
de l'OACI couvrant les systèmes d'atterrissage hyper-
fréquences (MLS).
5A101 Équipements de télémesure et de télécommande utilisables pour
les "missiles".
Note: Le paragraphe 5A101 ne vise pas les équipements
spécialement conçus pour être utilisés pour la commande2000R1334 — FR — 19.01.2002 — 003.001 — 141
▼M3
à distance de maquettes d'avions, de navires ou de
véhicules et ayant une intensité de champ électrique
inférieure ou égale à 200 microvolts par mètre à une
distance de 500 mètres.2000R1334 — FR — 19.01.2002 — 003.001 — 142
▼M3
5B1 Équipement d'essai, de contrôle et de production
5B001 a. Équipements et leurs composants et accessoires spécialement
conçus pour le "développement", la "production" ou l'"utilisa-
tion" des équipements, des fonctions ou des éléments visés aux
paragraphes 5A001, 5B001, 5D001 ou 5E001.
Note: Le paragraphe 5B001.a. ne vise pas les équipements
de caractérisation des fibres optiques ne faisant pas
appel à des "lasers" à semi-conducteurs.
b. Équipements et leurs composants et accessoires spécialement
conçus pour le "développement" d'un des équipements de
transmission des télécommunications ou de commutation à
"commande par programme enregistré":
1. Les équipements employant des techniques numériques, y
compris le mode de transfert asynchrone ("M.T.A."), conçus
pour fonctionner à un "débit de transfert numérique total"
supérieur à 1,5 Gbits/s;
2. Les équipements employant un "laser" et présentant l'une
des caractéristiques suivantes:
a. ayant une longueur d'onde de transmission supérieure à
1 750 nm;
b. effectuant l'"amplification optique";
c. employant des techniques de transmission optique
cohérentes ou des techniques de détection optique
cohérentes (également dénommées techniques optiques
hétérodynes ou homodynes); ou
d. employant des techniques analogiques et ayant une bande
passante supérieure à 2,5 GHz;
Note: L'alinéa 5B001.b.2.d. ne vise pas les équipe-
ments conçus spécialement pour le
"développement" des systèmes de télévision
commerciale.
3. Les équipements employant la "commutation optique";4. Les équipements radios employant des techniques de
modulationd'amplitude enquadrature (QAM) au-delà du
niveau 128;
ou
5. Les équipements employant la "signalisation sur voie
commune" fonctionnant en mode d'exploitation non associée
ou quasi associée.2000R1334 — FR — 19.01.2002 — 003.001 — 143
▼M3
5C1 Matériaux
Néant2000R1334 — FR — 19.01.2002 — 003.001 — 144
▼M3
5D1 Logiciel
5D001 a. "Logiciel" spécialement conçu ou modifié pour le "développe-
ment", la "production" ou l'"utilisation" des équipements, des
fonctions ou des éléments visés aux paragraphes 5A001 ou
5B001;
b. "logiciel" spécialement conçu ou modifié pour le soutien de la
technologie visée au paragraphe 5E001;
c. "logiciel" spécifique, comme suit:
1. "logiciel" spécialement conçu et modifié pour fournir l'une
des caractéristiques, l'une des fonctions ou l'un des éléments
des équipements visés aux paragraphes 5A001 ou 5B001;
2. non utilisé;3. "logiciel" sous forme autre qu'exécutable par la machine,
spécialement conçu pour le "routage adaptatif dynamique";
d. "logiciel" spécialement conçu ou modifié pour le "développe-
ment" d'un des équipements de transmission des
télécommunications ou de commutation "à commande par
programme enregistré" suivants:
1. les équipements employant des techniques numériques, y
compris le mode de transfert asynchrone ("M.T.A."), conçus
pour fonctionner à un "débit de transfert numérique total"
supérieur à 1,5 Gbits/s;
2. les équipements employant un "laser" et présentant l'une des
caractéristiques suivantes:
a. ayant une longueur d'onde de transmission supérieure à
1 750 nm;
ou
b. employant des techniques analogiques et ayant une bande
passante supérieure à 2,5 GHz;
Note: L'alinéa 5D001.d.2.b. ne vise pas les "logiciels"
spécialement conçus ou modifiés pour le
"développement" des systèmes de télévision
commerciale.
3. Les équipements employant la "commutation optique"; ou
4. Les équipements radios employant des techniques de
modulationd'amplitude enquadrature (QAM) au-delà du
niveau 128.
5D101 "Logiciel" spécialement conçu ou modifié pour l'"utilisation" des
équipements visés au paragraphe 5A101.2000R1334 — FR — 19.01.2002 — 003.001 — 145
▼M3
5E1 Technologie
5E001 a. "Technologie", au sens de la note générale relative à la
technologie, pour le "développement", la "production", ou
l'"utilisation" (à l'exclusion de l'exploitation), des équipements,
fonctions, éléments ou "logiciels" visés aux paragraphes
5A001, 5B001 ou 5D001;
b. technologies spécifiques, comme suit:
1. "technologie" "nécessaire" au "développement" ou à la
"production" d'équipements de télécommunications spécia-lement conçus pour servir à bord de satellites;
2. "technologie" pour le "développement" ou l'"utilisation" des
techniques de communication "laser" permettant l'acquisi-
tion et la poursuite automatiques des signaux et le maintien
des communications à travers les milieux exoatmosphéri-
ques ou sous-marins;
3. "technologie" pour le "développement" de systèmes radio-
cellulaires numériques;
4. "technologie" pour le "développement" de techniques à
"spectre étalé", y compris des techniques à "sauts de
fréquence";
c. "Technologies" au sens de la note générale relative à la
technologie, pour le "développement" ou la "production" d'un
des équipements, fonctions ou éléments de transmission des
télécommunications ou de commutation "à commande par
programme enregistré" suivants:
1. les équipements employant des techniques numériques, y
compris le mode de transfert asynchrone ("M.T.A."), conçus
pour fonctionner à un "débit de transfert numérique total"
supérieur à 1,5 Gbits/s;
2. les équipements employant un "laser" et présentant l'une des
caractéristiques suivantes:
a. ayant une longueur d'onde de transmission supérieure à
1 750 nm;
b. effectuant l'"amplification optique" en employant des
amplificateurs à fibre fluorée dopés au praséodyme
(PDFFA);
c. employant des techniques de transmission optique
cohérentes ou des techniques de détection optique
cohérentes (également dénommées techniques optiques
hétérodynes ou homodynes);
d. employant des techniques de multiplexage en longueur
d'onde au-delà de 8 porteurs optiques dans une seule
fenêtre de fibre optique;
ou
e. employant des techniques analogiques et ayant une bande
passante supérieure à 2,5 GHz;
Note: L'alinéa 5E001.c.2.e. ne vise pas les "technolo-
gies" pour le "développement" ou la
"production" des systèmes de télévision
commerciale.
3. les équipements employant la "commutation optique";4. les équipements radio employant une des techniques
suivantes:
a. techniques de modulation d'amplitude en quadrature
(QAM) au-delà du niveau 128;
ou
b. fonctionnant à des fréquences d'entrée ou de sortie
supérieures à 31 GHz; ou
Note: L'alinéa 5E001.c.4.b. ne vise pas les "technolo-
gies" pour le "développement" ou la
"production" d'équipements conçus ou modifiés
pour fonctionner dans une bande de fréquences
quelconque "allouée par l'UIT" pour les servi-
ces de radiocommunications, mais pas pour la
radiodétermination.
5. les équipements employant la "signalisation sur voie
commune" fonctionnant en mode d'exploitation non associée
ou quasi associée.2000R1334 — FR — 19.01.2002 — 003.001 — 146
▼M3
5E101 "Technologie" au sens de la note générale relative à la technologie,
pour le "développement", la "production" ou l'"utilisation" des
équipements décrits au paragraphe 5A101.2000R1334 — FR — 19.01.2002 — 003.001 — 147
▼M3
Partie 2
"SÉCURITÉ DE L'INFORMATION"
Note 1: Le statut des équipements, des "logiciels", des systèmes
des "ensembles électroniques" spécifiques à une
application donnée, des modules, des circuits intégrés,des composants ou des fonctions assurant la "sécurité
de l'information" est défini dans la catégorie 5 — partie
2, même s'il s'agit de composants ou d'"ensembles
électroniques" d'autres matériels.
Note 2: La catégorie 5 — partie 2 ne vise pas les produits qui
accompagnent leur utilisateur pour son usage
personnel.
Note 3: Note cryptographique
Les paragraphes 5A002 et 5D002 ne visent pas les
biens pour lesquels toutes les conditions ci-après sont
remplies:
a. sont couramment à la disposition du public en étant
vendus directement sur stock, sans restriction, à des
points de vente au détail, que cette vente soit
effectuée:
1. en magasin;
2. par correspondance;
3. par transaction électronique; ou
4. par téléphone;
b. la fonctionnalité cryptographique ne peut pas être
modifiée facilement par l'utilisateur;
c. sont conçus pour être installés par l'utilisateur sans
assistance ultérieure importante de la part du
fournisseur; et
d. si nécessaire, les indications précises sur les biens
sontaccessibles et seront fournies, surdemande, aux
autorités compétentes de l'État membre où l'expor-
tateur est établi afin de vérifier le respect des
conditions visées aux points a. à c. ci-dessus.
Note technique
Dansla catégorie 5 —partie 2, les bits de pariténe sontpasinclus
dans la longueur de clé.
5A2 Systèmes, équipements et composants
5A002 a. Systèmes, équipements, "ensembles électroniques" spécifiques
à une application donnée, modules et circuits intégrés assurant
la "sécurité de l'information", comme suit, et leurs autres
composants spécialement conçus:
N.B.: Pour les systèmes globaux de navigation par satellites
recevant des équipements contenant ou employant le
déchiffrement (à savoir, GPS ou GLONASS), voir le
paragraphe 7A005.
1. conçus ou modifiés pour utiliser la "cryptographie" faisant
appel à des techniques numériques assurant toute fonction
cryptographique autre que l'authentification ou la signature
numérique et présentant l'une des caractéristiques suivantes:
Notes techniques:
1. Les fonctions d'authentification et de signature numé-
rique comprennent la fonction connexe de gestion des
clés.
2. L'authentification comprend tous les aspects du
contrôle d'accès lorsqu'il n'y a pas chiffrement des
fichiers ou des textes, sauf lorsqu'il est directement lié
à la protection des mots de passe, des numéros
d'identification personnels ou autres données simi-
laires empêchant l'accès non autorisé.
3. La "cryptographie" ne comprend pas les techniques de
compression ou de codage de données "fixes".2000R1334 — FR — 19.01.2002 — 003.001 — 148
▼M3
Note: L'alinéa 5A002.a.1. comprend les équipements
conçus ou modifiés pour utiliser la "cryptographie"
employant des principes analogiques lorsqu'elle est
mise en œuvre à l'aide de techniques numériques.
a. un "algorithme symétrique" employant une longueur de
clé supérieure à 56 bits; ou
b. un "algorithme asymétrique" dont la sécurité est fondée
sur une des caractéristiques suivantes:
1. Factorisationd'en tiers au-delà de 512 bits (par
exemple, RSA);
2. Calcul des logarithmes discrets dans un groupe
multiplicatif d'ensemble fini supérieur à 512 bits (par
exemple, Diffie-Hellmansur Z/pZ); ou
3. logarithmes discrets dans un groupe autre que celui
mentionné à l'alinéa 5A002.a.1.b.2 de plus de 112 bits
(par exemple, Diffie-Hellmansur un e courbe ellip-
tique);
2. conçus ou modifiés pour effectuer des fonctions cryptoana-
lytiques;
3. non utilisé;4. conçus ou modifiés spécialement pour supprimer les
émanations compromettantes de signaux porteurs d'informa-
tion au-delà de ce qui est nécessaire pour les normes en
matière de santé, de sécurité ou d'interférence électroma-
gnétique;
5. conçus ou modifiés pour employer des techniques crypto-
graphiques pour générer le code d'étalement pour le "spectre
étalé", y compris le code de saut pour les systèmes à "sauts
de fréquence";
6. conçus ou modifiés pour assurer une "sécurité multiniveau"
ou une isolation de l'utilisateur certifiées ou certifiables à un
niveau dépassant la classe B2 de la norme "Trusted
Computer System EvaluationCriteria" (TCSEC) ou d'un e
norme équivalente;
7. systèmes de câbles de télécommunication conçus ou
modifiés en faisant appel à des moyens mécaniques,
électriques ou électroniques pour détecter les intrusions
subreptices.
Note: Le paragraphe 5A002 ne vise pas:
a. les "cartes à microprocesseur personnalisées" lorsque
la capacité cryptographique est destinée à servir
uniquement avec les équipements ou systèmes non
visés aux points b. à f. de la présente note. Si une"carte à microprocesseur personnalisée" a des
fonctions multiples, le statut de chaque fonction est
évalué individuellement.
b. équipements de réception pour la radiodiffusion, la
télévision payante ou la diffusion similaire réservée à
un nombre limité de consommateurs du grand public,
sans capacité de chiffrement numérique, à l'exception
de celui utilisé exclusivement pour renvoyer les
informations relatives aux factures ou aux
programmes aux diffuseurs;
c. équipements où la capacité de chiffrement n'est pas
accessible à l'utilisateur et spécialement conçus et
limités pour permettre l'une des opérations suivantes:
1. exécution de "logiciel" protégé;
2. accès à une des opérations suivantes:
a. contenu protégé en écriture stocké sur un
support en lecture seule;
ou
b. informations stockées d'une manière chiffrée sur
des supports (par exemple, en ce qui concerne
la protection des droits de propriété intellec-
tuelle) lorsque le support est vendu au grand
public en sets identiques; ou
3. copie unique de données audio/vidéo protégées;2000R1334 — FR — 19.01.2002 — 003.001 — 149
▼M3
d. équipements cryptographiques spécialement conçus et
limités pour servir dans des opérations bancaires ou
"opérations financières";
Note technique
Les termes "opérations financières" à la note d. du
paragraphe 5A002 comprennent la perception et le
règlement des tarifs ou les fonctions de crédit.
e. radiotéléphones portatifs ou mobiles destinés à l'usage
civil (par exemple pour l'emploi avec les systèmes de
radiocommunications cellulaires commerciaux civils)
qui ne sont pas en mesure de procéder au chiffrement
de bout en bout;
f. équipements téléphoniques sans fil qui ne sont pas en
mesure de procéder au chiffrement de bout en bout
lorsque la portée réelle de l'opération sans fil non
activée (par exemple, un saut unique non relayé entre
le terminal et la station de base) est inférieure à 400
mètres conformément aux prescriptions du fabricant.2000R1334 — FR — 19.01.2002 — 003.001 — 150
▼M3
5B2 Équipements d'essai, de contrôle et de production
5B002 a. Équipements spécialement conçus pour:
1. le "développement" des équipements ou des fonctions visés
aux paragraphes 5A002, 5B002,5D002ou 5E002,y compris
les équipements de mesure ou d'essai;
2. la "production" des équipements ou des fonctions visés aux
paragraphes 5A002, 5B002, 5D002, 5E002, y compris les
équipements de mesure, d'essai, de réparation ou de
production;
b. équipements de mesure spécialement conçus pour évaluer et
valider les fonctions de "sécurité de l'information" visés aux
paragraphes 5A002 ou 5D002.2000R1334 — FR — 19.01.2002 — 003.001 — 151
▼M3
5C2 Matériaux
Néant.2000R1334 — FR — 19.01.2002 — 003.001 — 152
▼M3
5D2 Logiciel
5D002 a. "Logiciel" spécialement conçu ou modifié pour le "développe-
ment", la "production" ou l'"utilisation" des équipements ou
"logiciels" visés aux paragraphes 5A002, 5B002 ou 5D002;
b. "logiciel" spécialement conçu ou modifié pour le soutien de la
"technologie" visée au paragraphe 5E002;
c. "logiciel" spécifique, comme suit:
1. "logiciel" présentant les caractéristiques ou exécutant ou
simulant les fonctions des équipements visés aux para-
graphes 5A002 ou 5B002;
2. "logiciel" destiné à certifier le "logiciel" visé à l'alinéa
5D002.c.1;
Note: L'alinéa 5D002 ne vise pas:
a. le "logiciel" nécessaire à l'"utilisation" des
équipements exclus du contrôle aux termes des
notes relatives au paragraphe 5A002;
b. le "logiciel" réalisant l'une des fonctions des
équipements exclus du contrôle aux termes des
notes relatives au paragraphe 5A002.2000R1334 — FR — 19.01.2002 — 003.001 — 153
▼M3
5E2 Technologie
5E002 "Technologie", au sens de la note générale de technologie, pour le
"développement", la "production" ou l'"utilisation" des équipe-
ments ou du "logiciel" visés aux paragraphes 5A002, 5B002 ou
5D002.2000R1334 — FR — 19.01.2002 — 003.001 — 154
▼M3
CATÉGORIE 6
CAPTEURS ET LASERS2000R1334 — FR — 19.01.2002 — 003.001 — 155
▼M3
6A Systèmes, équipements et composants
6A001 Acoustique
a. Systèmes et équipements acoustiques marins, et leurs compo-
sants spécialement conçus, comme suit:
1. systèmes, équipements actifs (émetteurs ou émetteurs et
récepteurs) et leur composants spécialement conçus, comme
suit:
Note: L'alinéa 6A001.a.1. ne vise pas:
a. les écho-sondeurs fonctionnant à la verticale
au-dessous de l'appareil, ne possédant pas de
fonction de balayage de plus de ± 20º et limités
à la mesure de la profondeur d'eau, de la
distance d'objets immergés ou enterrés ou à la
détection de bancs de poissons;
b. les balises acoustiques, comme suit:
1. les balises de détresse acoustiques;
2. les émetteurs d'impulsions sous-marins
(pingers) spécialement conçus pour retro-
uver une position sous-marine ou y
retourner.
a. systèmes d'hydrographie bathymétriques à large couloir
couvert pour l'établissement de cartes topographiques des
fonds marins, présentant toutes les caractéristiques
suivantes:
1. conçus pour effectuer des mesures sous un angle
supérieur à 20º de la verticale;
2. conçus pour mesurer des profondeurs de plus de
600 mètres au-dessous de la surface de l'eau; et
3. conçus pour:
a. comporter plusieurs faisceaux dont l'un quelconque
est de moins de 1,9º; ou
b. assurer des précisions meilleures que 0,3 % de la
profondeur d'eau en travers du couloir, cette
précision constituant la moyenne des mesures
individuelles effectuées à l'intérieur du couloir;
b. systèmes de détectionou de localisationd'objets
présentant l'une des caractéristiques suivantes:
1. fréquence d'émission inférieure à 10 kHz;
2. pression sonore supérieure à 224 dB (référence 1 µPa
à 1 m) pour les équipements fonctionnant dans la
bande comprise entre 10 et 24 kHz inclus;
3. pression sonore supérieure à 235 dB (référence 1 µPa
à 1 m) pour les équipements opérant dans la bande
comprise entre 24 et 30 kHz;
4. formationde faisceaux de moin s de 1º sur tout axe et
fonctionnement sur des fréquences inférieures à
100 kHz;
5. conçus pour mesurer des distances d'objets avec une
portée supérieure à 5 120 m; ou
6. conçus pour supporter, en fonctionnement normal, la
pressionde profon deurs supérieures à 1 000 m, et
comportant des transducteurs:
a. à compensation dynamique de la pression; ou
b. utilisant dans leurs éléments de transduction un
matériau autre que le titanate-zirconate de plomb;
c. projecteurs acoustiques, y compris les transducteurs
comportant des éléments piézo-électriques, magnétos-
trictifs, électrostrictifs, électrodynamiques ou
hydrauliques fonctionnant séparément ou selon une
combinaison déterminée, et présentant l'une des caracté-
ristiques suivantes:
Note 1: Le statut des projecteurs acoustiques, y
compris les transducteurs, spécialement2000R1334 — FR — 19.01.2002 — 003.001 — 156
▼M3
conçus pour un autre équipement est déter-
miné par le statut de cet équipement.
Note 2: L'alinéa 6A001.a.1.c. ne vise ni les sources
électroniques à direction du son exclusive-
ment verticale, ni les sources de bruit
mécaniques (par exemple, canons pneumati-
ques ou canons à vapeur) ni les sources de
bruit chimiques (par exemple, explosifs).
1. 'puissance volumique acoustique' rayonnée instan-
tanée supérieure à 0,01 mW/mm2/Hz pour les
dispositifs fonctionnant sur des fréquences inférieures
à 10 kHz;
2. 'puissance volumique acoustique' rayonnée continue
supérieure à 0,001 mW/mm2/Hz pour les dispositifs
fonctionnant sur des fréquences inférieures à 10 Hz;
ou
Note technique:
La 'puissance volumique acoustique' est obtenue en
divisant la puissance acoustique de sortie par le
produit de la surface de rayonnement et de la
fréquence de fonctionnement.
3. dotés d'une suppression des lobes secondaires supé-
rieure à 22 dB;
d. systèmes et équipements acoustiques pour déterminer la
position des engins de surface ou sous-marins conçus
pour fonctionner à une portée supérieure à 1 000 m avec
une précision de positionnement de moins de 10 m valeur
efficace mesurée à une portée de 1 000 m, et leurs
composants spécialement conçus:
Note: L'alinéa 6A001.a.1.d. comprend:
a. les équipements qui utilisent le "traitement
de signal" cohérent entre deux ou plus de
deux balises et l'unité d'hydrophone trans-
portée par l'engin de surface ou sous-marin;
b. les équipements qui sont capables d'effectuer
une correction automatique des erreurs de
propagation de la vitesse du son pour le
calcul d'un point.
2. systèmes, équipements passifs (récepteurs, reliés ou non, en
fonctionnement normal, à un équipement actif séparé), et
leurs composants spécialement conçus, comme suit:
a. hydrophones présentant l'une des caractéristiques
suivantes:
Note: Le statut de contrôle des hydrophones spécia-
lement conçus pour d'autres équipements est
déterminé par le statut de contrôle de cesderniers.
1. comprenant des capteurs flexibles continus ou ensem-
bles de capteurs discrets dont le diamètre ou la
longueur est inférieur à 20 mm et dont l'écart entre les
éléments est inférieur à 20 mm;
2. comprenant l'un des éléments sensibles suivants:
a. fibres optiques;
b. polymères piézo-électriques;
ou
c. céramiques piézo-électriques souples;
3. une 'sensibilité des hydrophones' meilleure que −
180 dB à toute profondeur sans compensation de
l'accélération;
4. lorsqu'ils sont conçus pour fonctionner à des profon-
deurs dépassant 35 m avec compensation de
l'accélération; ou
5. conçus pour fonctionner à des profondeurs de plus de
1 000 m;2000R1334 — FR — 19.01.2002 — 003.001 — 157
▼M3
Note technique:
La 'sensibilité d'un hydrophone' correspond à 20 fois le
logarithme en base 10 du rapport de la tension de sortie
efficace à une référence de 1 V, lorsque le capteur de
l'hydrophone sans préamplificateur est placé dans un
champ acoustique d'ondes planes ayant une pression
efficace de 1 µPa. Par exemple, un hydrophone d'une
sensibilité de − 160 dB (référence 1 V par µPa) donnera
une tension de sortie de 10−8V dans ce champ, tandis
qu'un hydrophone d'une sensibilité de − 180 dB ne
produira qu'une tension de sortie de 10−9V. Ainsi, une
sensibilité de − 160 dB est meilleure qu'une sensibilité de
− 180 dB.
b. batteries d'hydrophones acoustiques remorquées présen-
tant l'une des caractéristiques suivantes:
1. espacement entre les groupes d'hydrophones de moins
de 12,5 m;
2. conçus ou 'pouvant être modifiés' pour fonctionner à
des profondeurs de plus de 35 m;
Note technique:
Les termes 'pouvant être modifiés' à l'alinéa
6A001.a.2.b.2. signifient qu'il existe des moyens de
modifier le câblage ou les interconnexions afin de
modifier l'espacement d'un groupe d'hydrophones ou
les limites de profondeur de fonctionnement. Ces
moyens sont ducâblage de rechange représentant plus
de 10 % du nombre de câbles, des blocs d'ajustement
d'espacement de groupes d'hydrophones ou des
dispositifs internes de limitation de profondeur qui
sont ajustables ou qui contrôlent plus d'un groupe
d'hydrophones.
3. capteurs de cap visés à l'alinéa 6A001.a.2.d.;4. chemises de batteries renforcées longitudinalement;5. diamètre de la batterie assemblée inférieur à 40 mm;
6. signaux de groupes d'hydrophones multiplexés conçus
pour fonctionner à des profondeurs supérieures à 35 m
ou ayant un dispositif de détection de profondeur
pouvant être ajusté ou échangé pour fonctionner à des
profondeurs supérieures à 35 m;
ou
7. caractéristiques d'hydrophones visées à l'alinéa
6A001.a.2.a.;
c. équipement de traitement de signaux spécialement conçu
pour les batteries d'hydrophones acoustiques remorquées,
ayant une "programmabilité accessible à l'utilisateur" et
un traitement et une corrélation dans le domaine temps
ou fréquence, y compris l'analyse spectrale, le filtrage
numérique et la formation de faisceau au moyen de
transformée de Fourier rapide ou d'autres transformées ou
processus;
d. capteurs de cap présentant toutes les caractéristiques
suivantes:
1. une précision meilleure que ± 0,5º; et
2. conçus pour fonctionner à des profondeurs supérieures
à 35 m ou ayant un dispositif de détection de
profondeur pouvant être ajusté ou échangé pour
fonctionner à des profondeurs supérieures à 35 m;
e. systèmes de câbles sous-marins posés au fond ou
suspendus présentant l'une des caractéristiques suivantes:
1. comportant des hydrophones visés à l'alinéa
6A001.a.2.a.; ou
2. comportant des signaux de groupes d'hydrophones
multiplexés présentant toutes les caractéristiques
suivantes:
a. conçus pour fonctionner à des profondeurs supé-
rieures à 35 m ou ayant un dispositif de détection
de profondeur pouvant être ajusté ou échangé pour
fonctionner à des profondeurs supérieures à 35 m;
et2000R1334 — FR — 19.01.2002 — 003.001 — 158
▼M3
b. pouvant être remplacés en cours de fonctionnement
par des batteries d'hydrophones acoustiques remor-
qués;
f. équipement de traitement spécialement conçu pour les
systèmes de câbles sous-marins posés au fond ou
suspendus ayant une "programmabilité accessible à
l'utilisateur" et un traitement du domaine temps ou
fréquence et corrélation, y compris l'analyse spectrale, le
filtrage numérique et la formation de faisceau au moyen
de transformée de Fourier rapide ou d'autres transformées
ou processus;
b. équipement d'enregistrement sonar à corrélation de vitesse
conçu pour la détermination de la vitesse horizontale de
l'équipement porteur par rapport au fond à des distances
supérieures à 500 m entre cet équipement et le fond.
6A002 Capteurs optiques
NB: VOIR ÉGALEMENT 6A102.
a. Détecteurs optiques, comme suit:
Note: L'alinéa 6A002.a. ne vise pas les dispositifs photo-
sensibles au germanium ou au silicium.
1. détecteurs semi-conducteurs "qualifiés pour l'usage spatial",
comme suit:
a. détecteurs semi-conducteurs "qualifiés pour l'usage
spatial", présentant toutes les caractéristiques suivantes:
1. réponse de crête dans la gamme de longueur d'onde
dépassant 10 nm mais ne dépassant pas 300 nm; et
2. réponse de moins de 0,1 % par rapport à la réponse de
crête pour les longueurs d'onde de plus de 400 nm;
b. détecteurs semi-conducteurs "qualifiés pour l'usage
spatial", présentant toutes les caractéristiques suivantes:
1. réponse de crête dans la gamme de longueurs d'onde
supérieure à 900 nm mais non supérieure à 1 200 nm;
et
2. "constante de temps" de réponse de 95 ns ou moins;
c. détecteurs semi-conducteurs "qualifiés pour l'usage
spatial" ayant une réponse de crête dans la gamme de
longueurs d'onde supérieure à 1 200 nm mais non
supérieure à 30000 nm;
2. tubes intensificateurs d'image et leurs composants spéciale-
ment conçus, comme suit:
a. tubes intensificateurs d'image présentant toutes les
caractéristiques suivantes:
1. ayant une réponse de crête dans la gamme de
longueurs d'onde supérieure à 400 nm mais non
supérieure à 1 050 nm;
2. comportant une plaque à microcanaux pour l'amplifi-
cation électronique de l'image, présentant un
espacement des trous (espacement centre à centre)
de 15 µm ou moins; et
3. comportant des photocathodes, comme suit:
a. photocathodes S-20, S-25 ou multialcalines avec
une sensibilité lumineuse excédant 240 µA/lm;
b. photocathodes à l'arséniure de gallium (GaAs) ou à
l'arséniure de gallium-indium (GaInAs); ou
c. autres photocathodes à semi-conducteurs composés
III-V;
Note: L'alinéa 6A002.a.2.a.3.c. ne vise pas les
photocathodes à semi-conducteurs
composés dont la sensibilité d'énergie
radiante maximale est de 10 mA/W ou
moins.
b. composants spécialement conçus, comme suit:
1. plaques à microcanaux présentant un espacement des
trous (espacement centre à centre) de 15 µm ou moins;2000R1334 — FR — 19.01.2002 — 003.001 — 159
▼M3
2. photocathodes à l'arséniure de gallium (GaAs) ou à
l'arséniure de gallium-indium (GaInAs);
3. autres photocathodes semi-conducteurs composés III-
V;
Note: L'alinéa 6A002.a.2.b.3 ne vise pas les photo-
cathodes semi-conducteurs composés dont la
sensibilité d'énergie radiante maximale est
de 10 mA/W ou moins.
3. "matrices planfocal" n on"qualifiées pour l'usage spatial",
comme suit:
Note technique:
Les groupes de détecteurs à éléments multiples linéaires ou
mosaïque sont appelés "matrices plan focal".
Note 1: L'alinéa 6A002.a.3. comprend les réseaux photo-
conducteurs et les réseaux photovoltaïques.
Note 2: L'alinéa 6A002.a.3. ne vise pas:
a. les "matrices plan focal" au silicium;
b. les cellules photoconductrices encapsulées à
plusieurs éléments (pas plus de 16 éléments)
utilisant soit du sulfure de plomb soit du
séléniure de plomb;
c. les détecteurs pyroélectriques, utilisant un des
matériaux ci-après:
1. sulfate de triglycine et variantes;
2. titanate de zirconium-lanthane-plomb et
variantes;
3. tantalate de lithium;4. fluorure de polyvinylidène et variantes;
ou
5. niobate de strontium-baryum et variantes.
a. "matrices planfocal" n on"qualifiées pour l'usage spatial"
présentant toutes les caractéristiques suivantes:
1. comportant des éléments individuels dont la réponse
de crête se situe dans la gamme de longueurs d'onde
supérieure à 900 nm mais non supérieure à 1 050 nm;
et
2. ayant une "constante de temps" de réponse de moins
de 0,5 ns;
b. "matrices planfocal" n on"qualifiées pour l'usage spatial"
présentant toutes les caractéristiques suivantes:
1. comportant des éléments individuels dont la réponse
de crête se situe dans la gamme de longueurs d'onde
supérieureà1 050nmmaisnonsupérieureà1 200nm;
et
2. ayant une "constante de temps" de réponse de 95ns ou
moins;
c. "matrices planfocal" n on"qualifiées pour l'usage spatial"
comportant des éléments individuels dont la réponse de
crête se situe dans la gamme de longueurs d'onde
supérieure à 1 200 nm mais non supérieure à 30000 nm;
b. "capteurs d'imagerie monospectraux" et "capteurs d'imagerie
multispectraux" conçus à des fins de télédétection, comportant
l'une des caractéristiques suivantes:
1. Champ de vision instantané de moins de 200 µrad (micro-
radians); ou
2. prévus pour fonctionner dans la gamme de longueurs d'onde
supérieure à 400 nm mais non supérieure à 30000 nm et
présentant toutes les caractéristiques suivantes:
a. fournissant une sortie de données d'imagerie en format
numérique; et
b. présentant l'une des caractéristiques suivantes:
1. "qualifiés pour l'usage spatial"; ou2000R1334 — FR — 19.01.2002 — 003.001 — 160
▼M3
2. conçus pour l'usage aéronautique embarqué et utilisant
des détecteurs autres qu'au silicium et ayant un champ
de vision instantané de moins de 2,5 mrad (millira-
dians);
c. matériels d'imagerie à 'vision directe' opérant dans le spectre
visible ou l'infrarouge et comportant:
1. des tubes intensificateurs d'image visés à l'alinéa
6A002.a.2.a.; ou
2. des "matrices planfocal" visées à l'alin éa 6A002.a.3.;
Note technique:
Les termes 'vision directe' se réfèrent à un matériel d'imagerie
opérant dans le spectre visible ou l'infrarouge qui présente à un
observateur humain une image visible sans la convertir en un
signal électronique pour affichage sur écran de télévision et qui
ne peut enregistrer ou emmagasiner l'image par des moyens
photographiques, électroniques ou autres.
Note: L'alinéa 6A002.c. ne vise pas les équipements suivants
incorporant des photocathodes autres qu'à l'arséniure
de gallium (AsGa) ou à l'arséniure de gallium-indium
(AsInGa):
a. systèmes servant à détecter des présences indésira-
bles et à donner l'alarme dans des locaux
industriels ou civils, systèmes de contrôle ou de
comptage de la circulation ou des déplacements
dans l'industrie;
b. équipements médicaux;
c. équipements industriels utilisés pour l'examen, le
tri ou l'analyse des propriétés des matériaux;
d. détecteurs de flamme pour fours industriels;
e. équipements spécialement conçus pour l'usage en
laboratoire.
d. composants auxiliaires spéciaux pour capteurs optiques, comme
suit:
1. systèmes de refroidissement cryogéniques "qualifiés pour
l'usage spatial";
2. systèmes de refroidissement cryogéniques non "qualifiés
pour l'usage spatial" ayant une température de la source de
refroidissement inférieure à 218 K (− 55 ºC), comme suit:
a. à cycle fermé et ayant une valeur spécifiée du temps
moyen(observé) jusqu'à défaillan ce (MTTF) ou du temps
moyen de bon fonctionnement (MTBF) dépassant
2 500 heures;
b. mini-refroidisseurs Joule-Thomson à autorégulation à
diamètres extérieurs d'alésage de moins de 8 mm;
3. fibres de détection optiques spécialement fabriquées dans
leur compositionou leur structure, ou modifiées par
revêtement, de façon à être sensibles aux effets acoustiques,
thermiques, inertiels, électromagnétiques ou aux radiations
nucléaires;
e. "matrices planfocal" "qualifiées pour l'usage spatial" ayan t plus
de 2 048 éléments par matrice et ayant une réponse de crête
dans la gamme de longueur d'onde dépassant 300 nm mais ne
dépassant pas 900 nm.
6A003 Appareils de prises de vues
N.B.: VOIR ÉGALEMENT 6A203.
N.B.: En ce qui concerne les appareils de prises de vues
spécialement conçus oumodifiés pour l'usage sous-marin,
voir les alinéas 8A002.d. et 8A002.e.
a. Appareils de prises de vues d'instrumentation et leurs
composants spécialement conçus, comme suit:
Note: Les appareils de prises de vue d'instrumentation visés
aux alinéas 6A003.a.3. à 6A003.a.5. et munis de
structures modulaires doivent être évalués à leur
capacité maximale à l'aide de modules d'extension2000R1334 — FR — 19.01.2002 — 003.001 — 161
▼M3
existants d'après les spécifications fournies par le
fabricant de l'appareil.
1. caméras à vitesse élevée utilisant tout format de film, du
8 mm au 16 mm inclus, dans lesquelles le film avance de
façon continue pendant toute la période d'enregistrement, et
qui sont capables d'enregistrer à des cadences de plus de
13150 images par seconde;
Note: L'alinéa 6A003.a.1. ne vise pas les caméras
destinées à des fins civiles.
2. appareils de prises de vues mécaniques à vitesse élevée dans
lesquels le film ne se déplace pas et qui sont capables
d'enregistrer à des vitesses de plus de 1 million d'images par
seconde pour la hauteur totale de cadrage de film 35 mm ou
à des vitesses proportionnellement plus élevées pour des
hauteurs de cadrage inférieures ou à des vitesses propor-
tionnellement plus basses pour des hauteurs de cadrage
supérieures;
3. appareils de prises de vues à balayage, mécaniques ou
électroniques, ayant une vitesse d'enregistrement de plus de
10 mm/µs;
4. caméras électroniques à image intégrale ayant une vitesse de
plus de 1 milliond'images par secon de;
5. caméras électroniques présentant les deux caractéristiques
suivantes:
a. vitesse d'obturationélectron ique (capacité de suppression
de faisceau) de moins de 1 µs par image complète; et
b. temps de lecture permettant une cadence de plus de
125 images complètes par seconde;
6. modules d'extension présentant toutes les caractéristiques
suivantes:
a. spécialement conçus pour des appareils de prises de vues
d'instrumentation à structure modulaire qui sont spécifiésà l'alinéa 6A003.a.; et
b. permettant à ces appareils de répondre aux caractéristi-
ques indiquées aux alinéas 6A003.a.3., 6A003.a.4. ou
6A003.a.5., d'après les spécifications fournies par le
fabricant.
b. caméras d'imagerie, comme suit:
Note: L'alinéa 6A003.b. ne vise pas les caméras de
télévision et les caméras vidéo spécialement conçues
pour être utilisées dans la télédiffusion.
1. caméras vidéo contenant des capteurs à semi-conducteurs,
présentant l'une des caractéristiques suivantes:
a. plus de 4 × 106"pixels actifs" par matrice sensible pour
les caméras monochromes (noir et blanc);
b. plus de 4 × 106"pixels actifs" par matrice sensible pour
les caméras couleurs comportant trois éléments de
surface sensible; ou
c. plus de 12 × 106"pixels actifs" pour les caméras couleurs
comportant un élément de surface sensible;
Note technique:
Aux fins du présent point, les caméras vidéo numériques
doivent être évaluées d'après le nombre maximum de "pixels
actifs" utilisés pour la capture d'images mobiles.
2. caméras à balayage et systèmes de caméras à balayage,
présentant toutes les caractéristiques suivantes:
a. réseaux de détecteurs linéaires de plus de 8192 éléments
par réseau; et
b. balayage mécanique dans une direction;
3. caméras utilisant des intensificateurs d'image visés à l'alinéa
6A002.a.2.a.;
4. caméras comportant des "matrices plan focal" visées à
l'alinéa 6A002.a.3.2000R1334 — FR — 19.01.2002 — 003.001 — 162
▼M3
Note: L'alinéa 6A003.b.4. ne vise pas les caméras de
contrôle comportant des "matrices plan focal" à
douze éléments ou moins, n'utilisant pas le retard
temporel et l'intégration à l'intérieur de l'élément,
conçues pour l'un des usages suivants:
a. systèmes servant à détecter des présences
indésirables et à donner l'alarme dans des
locaux industriels ou civils ou systèmes de
contrôle ou de comptage de la circulation ou
des mouvements dans l'industrie;
b. équipements industriels utilisés pour l'inspec-
tion ou le contrôle des flux de chaleur dans les
constructions, les équipements et les procédés
industriels;
c. équipements industriels utilisés pour l'examen,
le tri ou l'analyse des propriétés des matériaux;
d. équipements spécialement conçus pour l'usage
en laboratoire; ou
e. équipements médicaux.
6A004 Optique
a. Miroirs optiques (réflecteurs), comme suit:
1. "miroirs déformables" à surfaces continues ou à éléments
multiples, et leurs composants spécialement conçus, capa-
bles de repositionner de manière dynamique des parties de la
surface du miroir à des fréquences supérieures à 100 Hz;
2. miroirs monolithiques légers, d'une "masse surfacique
équivalente" moyenne de moins de 30 kg/m2et d'unpoids
total supérieur à 10 kg;
3. structures légères de miroirs "composites" ou cellulaires,
d'une "masse surfacique équivalente" moyenne de moins de
30 kg/m2et d'unpoids total supérieur à 2 kg;
4. miroirs d'orientation du faisceau d'un diamètre (ou d'une
longueur de l'axe principal) supérieur à 100 mm, conservant
une planéité de lambda/2 ou meilleure (lambda est égal à
633 nm) et ayant une bande passante de pilotage de plus de
100 Hz;
b. composants optiques composés de séléniure de zinc (ZnSe) ou
de sulfure de zinc (ZnS) transmettant dans la gamme de
longueurs d'onde supérieure à 3 000 nm mais non supérieure à
25000 nm, et présentant l'une des caractéristiques suivantes:
1. volume supérieur à 100 cm3;ou
2. diamètre (ou longueur de l'axe principal) supérieur à 80 mm
et épaisseur (profondeur) supérieure à 20 mm;
c. composants "qualifiés pour l'usage spatial" pour systèmes
optiques, comme suit:
1. allégés jusqu'à moins de 20 % de "masse surfacique
équivalente" par rapport à une ébauche pleine ayant la
même ouverture et la même épaisseur;
2. substrats bruts, substrats ayant un revêtement de surface
(monocouches ou multicouches, métalliques ou diélectri-
ques, conducteurs, semi-conducteurs, ou isolants), ou
comportant des films protecteurs;
3. segments ou ensembles de miroirs conçus pour être
assemblés dans l'espace en un système optique ayant une
ouverture collectrice équivalente à ou plus grande que celle
d'une optique unique de 1 mètre de diamètre;
4. fabriqués à partir de matériaux "composites" ayant un
coefficient de dilatation thermique linéaire égal ou inférieur
à5×1 0−6dans toute direction coordonnée;
d. équipements de commande pour optiques, comme suit:
1. spécialement conçus pour préserver la courbure de face ou
l'orientation des composants "qualifiés pour l'usage spatial"
visés aux alinéas 6A004.c.1. ou 6A004.c.3.;
2. comportant des bandes passantes d'orientation, de poursuite,
de stabilisation ou d'alignement du résonateur, égales ou2000R1334 — FR — 19.01.2002 — 003.001 — 163
▼M3
supérieures à 100 Hz avec une précision de 10 µrad
(microradians) ou moins;
3. cardans présentant toutes les caractéristiques suivantes:
a. undébattemen t maximal supérieur à 5º;
b. une bande passante égale ou supérieure à 100 Hz;
c. des erreurs de pointage angulaire égales ou inférieures à
200 µrad (microradians); et
d. présentant l'une des caractéristiques suivantes:
1. comportant un axe principal ou un diamètre dépassant
0,15 m mais ne dépassant pas 1 m et capables
d'effectuer des accélérations angulaires de plus de
2 rad (radians)/s2;ou
2. comportant un axe principal ou un diamètre supérieur
à 1 m et capables d'effectuer des accélérations
angulaires de plus de 0,5 rad (radians)/s2;
4. spécialement conçus pour maintenir l'alignement de
systèmes à miroirs à réseaux phasés ou à segments phasés
composés de miroirs dont le diamètre du segment ou la
longueur de l'axe principal est de 1 m ou plus;
e. 'éléments optiques asphériques' présentant toutes les caracté-
ristiques suivantes:
1. la dimension la plus grande de l'ouverture optique est
supérieure à 400 mm;
2. la rugosité de surface est inférieure à 1 nm (valeur
quadratique moyenne) pour des longueurs d'échantillon
égales ou supérieures à 1 mm; et
3. la magnitude absolue du coefficient de dilatation thermique
linéaire est inférieure à 3 × 10−6/K à 25 ºC.
Note technique
1. Un 'élément optique asphérique' est tout élément utilisé
dans un système optique dont la ou les surfaces d'image
sont conçues pour s'écarter de la forme d'une sphère
idéale.
2. Les fabricants ne sont pas tenus de mesurer la rugosité de
surface visée à l'alinéa 6A004.e.2., sauf si l'élément
optique a été conçu ou produit dans le but de respecter,
ou de dépasser, le paramètre de contrôle.
Note: L'alinéa 6A004.e. ne vise pas les éléments
optiques asphériques présentant l'une des carac-
téristiques suivantes:
a. la plus grande dimension d'ouverture optique
inférieure à 1 m et un ratio distance focale/
ouverture égal ou supérieur à 4.5:1;
b. la plus grande dimension d'ouverture optique
égale ou supérieure à 1 m et un ratio distance
focale/ouverture égal ou supérieur à 7:1;
c. conçus comme éléments optiques Fresnel, à
lentille multiple, à bandes, à prisme ou
diffringente;
d. fabriqués avec du verre borosilicaté ayant un
coefficient de dilatation thermique linéaire
supérieur à 2,5 × 10−6/K à 25 ºC; ou
e. élément optique à rayons X possédant des
caractéristiques de miroir interne (par
exemple les miroirs à tubes).
Note: Pour les éléments optiques asphériques spécia-
lement conçus pour les équipements de
lithographie, voir le paragraphe 3B001.
6A005 "Lasers" autres que ceux visés à l'alinéa 0B001.g.5. ou 0B001.h.6.,
composants et équipements optiques, comme suit:
N.B.: VOIR ÉGALEMENT 6A205.
Note 1: Les "lasers" à impulsion comprennent ceux qui
fonctionnent en ondes entretenues avec des impulsions
qui se superposent.2000R1334 — FR — 19.01.2002 — 003.001 — 164
▼M3
Note 2: Les "lasers" excités par impulsion comprennent ceux
qui fonctionnent en mode d'excitation continue, avec
des impulsions de pompage qui se superposent.
Note 3: Le statut des "lasers" Raman est déterminé par les
paramètres des sources de pompage "laser". Lessources de pompage "laser" peuvent être constituées
par un des "lasers" décrits ci-après.
a. "lasers" à gaz, comme suit:
1. "lasers" à excimères présentant l'un des ensembles de
caractéristiques suivants:
a. longueur d'onde de sortie non supérieure à 150 nm et
présentant l'une des caractéristiques suivantes:
1. une énergie émise en impulsions supérieure à 50 mJ
par impulsion;
ou
2. une puissance de sortie moyenne supérieure à 1 W;
b. longueur d'onde de sortie supérieure à 150 nm mais non
supérieure à 190 nm et présentant l'une des caractéristi-
ques suivantes:
1. une énergie émise en impulsions supérieure à 1,5 J par
impulsion; ou
2. une puissance de sortie moyenne supérieure à 120 W;
c. longueur d'onde de sortie supérieure à 190 nm mais non
supérieure à 360 nm et présentant l'une des caractéristi-
ques suivantes:
1. une énergie émise en impulsions supérieure à 10 J par
impulsion; ou
2. une puissance de sortie moyenne supérieure à 500 W;
ou
d. longueur d'onde de sortie supérieure à 360 nm et
présentant l'une des caractéristiques suivantes:
1. une énergie émise en impulsions supérieure à 1,5 J par
impulsion; ou
2. une puissance de sortie moyenne supérieure à 30 W;
Note: Pour les "lasers" à excimères spécialement
conçus pour les équipements lithographiques,
voir 3B001.
2. "lasers" à vapeur métallique, comme suit:
a. "lasers" à vapeur de cuivre (Cu) ayant une puissance de
sortie moyenne supérieure à 20 W;
b. "lasers" à vapeur d'or (Au) ayant une puissance de sortie
moyenne supérieure à 5 W;
c. "lasers" à vapeur de sodium (Na) ayant une puissance de
sortie supérieure à 5 W;
d. "lasers" à vapeur de baryum (Ba) ayant une puissance de
sortie moyenne supérieure à 2 W;
3. "lasers" à oxyde de carbone (CO) présentant l'une des
caractéristiques suivantes:
a. une énergie émise en impulsions supérieure à 2 J par
impulsion et une "puissance de crête" émise en
impulsions supérieure à 5 kW; ou
b. une puissance de sortie moyenne ou en ondes entretenues
supérieure à 5 kW;
4. "lasers" à anhydride carbonique (CO2) présentant l'une des
caractéristiques suivantes:
a. puissance de sortie en ondes entretenues supérieure à
15 kW;
b. énergie émise en impulsions ayant une "durée d'impul-
sion" supérieure à 10 µs et présentant l'une des
caractéristiques suivantes:
1. une puissance de sortie moyenne supérieure à 10 kW;
ou2000R1334 — FR — 19.01.2002 — 003.001 — 165
▼M3
2. une "puissance de crête" émise en impulsions supé-
rieure à 100 kW; ou
c. énergie émise en impulsions ayant une "durée d'impul-
sion" égale ou inférieure à 10 µs et présentant l'une des
caractéristiques suivantes:
1. une énergie émise en impulsions supérieure à 5 J par
impulsion; ou
2. une puissance de sortie moyenne supérieure à 2,5 kW;
5. "lasers chimiques", comme suit:
a. "lasers" à fluorure d'hydrogène (HF);
b. "lasers" à fluorure de deutérium (DF);
c. "lasers à transfert", comme suit:
1. "lasers" à dioxyde d'iode (O2I);
2. "lasers" à fluorure de deutérium-anhydride carbonique
(DF-CO2);
6. "lasers" à krypton ionisé ou à argon ionisé présentant l'une
des caractéristiques suivantes:
a. énergie émise en impulsions supérieure à 1,5 J par
impulsion et "puissance de crête" émise en impulsions
supérieure à 50 W; ou
b. puissance de sortie moyenne ou en ondes entretenues
supérieure à 50 W;
7. autres "lasers", à gaz présentant l'un des ensembles de
caractéristiques suivants:
Note: L'alinéa 6A005.a.7. ne vise pas les "lasers"à azote.
a. longueur d'onde de sortie non supérieure à 150 nm, et
présentant l'une des caractéristiques suivantes:
1. une énergie émise en impulsions supérieure à 50 mJ
par impulsion et une "puissance de crête" émise en
impulsions supérieure à 1 W; ou
2. une puissance de sortie moyenne ou en ondes
entretenues supérieure à 1 W;
b. longueur d'onde de sortie supérieure à 150 nm mais non
supérieure à 800 nm, et présentant l'une des caractéristi-
ques suivantes:
1. une énergie émise en impulsions supérieure à 1,5 J par
impulsion et une "puissance de crête" émise en
impulsions supérieure à 30 W; ou
2. une puissance de sortie moyenne ou en ondes
entretenues supérieure à 30 W;
c. longueur d'onde de sortie supérieure à 800 nm mais non
supérieure à 1 400 nm, et présentant l'une des caracté-
ristiques suivantes:
1. une énergie émise en impulsions supérieure à 0,25 J
par impulsion et une "puissance de crête" émise en
impulsions supérieure à 10 W; ou
2. une puissance de sortie moyenne ou en ondes
entretenues supérieure à 10 W; ou
d. longueur d'onde de sortie supérieure à 1 400 nm et
puissance de sortie moyenne ou en ondes entretenues
supérieure à 1 W;
b. "lasers" à semi-conducteurs, comme suit:
1. "lasers" à semi-conducteurs monomodes transverses indivi-
duels, présentant toutes les caractéristiques suivantes:
a. une longueur d'onde inférieure à 950 nm ou supérieure à
2 000 nm; et
b. une puissance de sortie moyenne ou en ondes entretenues
supérieure à 100 mW;2000R1334 — FR — 19.01.2002 — 003.001 — 166
▼M3
2. "lasers" à semi-conducteurs multimodes transverses indivi-
duels, présentant toutes les caractéristiques suivantes:
a. une longueur d'onde inférieure à 950 nm ou supérieure à
2 000 nm; et
b. une puissance de sortie moyenne ou en ondes entretenues
supérieure à 10 W.
3. réseaux de "lasers" à semi-conducteurs individuels, présen-
tant l'une des caractéristiques suivantes:
a. une longueur d'onde inférieure à 950 nm et une puissance
de sortie moyenne ou en ondes entretenues supérieure à
60 W; ou
b. une longueur d'onde égale ou supérieure à 2 000 nm et un
puissance de sortie moyenne ou en ondes entretenues
supérieure à 10 W;
Note technique:
Les "lasers" à semi-conducteurs sont communément appelés
diodes "lasers".
Note 1: L'alinéa 6A005.b. comprend les "lasers" à semi-
conducteurs ayant des connecteurs d'émission
optique (par ex. fibres amorces).
Note 2: Le statut des "lasers" à semi-conducteurs spéciale-
ment conçus pour d'autres équipements est
déterminé par le statut de ces équipements.
c. "lasers" à barreaux cristallins, comme suit:
1. "lasers" "accordables" présentant l'un des ensembles de
caractéristiques suivants:
Note: L'alinéa 6A005.c.1. comprend les "lasers" à
saphir-titane (Ti:AI2O3), YAG-thulium (Tm:YAG),
YSGG-thulium (Tm: YSGG), à alexandrite (Cr:
BeAI2O4) et "lasers" à centres colorés.
a. longueur d'onde de sortie inférieure à 600 nm, et
présentant l'une des caractéristiques suivantes:
1. une énergie émise en impulsions supérieure à 50 mJ
par impulsion et une "puissance de crête" émise en
impulsions supérieure à 1 W; ou
2. une puissance de sortie moyenne ou en ondes
entretenues supérieure à 1 W;
b. longueur d'onde de sortie égale ou supérieure à 600 nm,
mais non supérieure à 1 400 nm, et présentant l'une des
caractéristiques suivantes:
1. une énergie émise en impulsions supérieure à 1 J par
impulsion et une "puissance de crête" émise en
impulsions supérieure à 20 W; ou
2. une puissance de sortie moyenne ou en ondes
entretenues supérieure à 20 W; ou
c. longueur d'onde de sortie supérieure à 1 400 nm, et
présentant l'une des caractéristiques suivantes:
1. une énergie émise en impulsions supérieure à 50 mJ
par impulsion et une "puissance de crête" émise en
impulsions supérieures à 1 W; ou
2. une puissance de sortie moyenne ou en ondes
entretenues supérieure à 1 W;
2. "lasers" non "accordables", comme suit:
Note: L'alinéa 6A005.c.2. comprend les "lasers" à
barreaux cristallins à transition atomique.
a. "lasers" à verre dopé au néodyme, comme suit:
1. "lasers déclenchés" (Q-switch) présentant l'un des
ensembles de caractéristiques suivants:
a. énergie émise en impulsions supérieure à 20 J mais
non supérieure à 50 J par impulsion et puissance de
sortie moyenne supérieure à 10 W; ou2000R1334 — FR — 19.01.2002 — 003.001 — 167
▼M3
b. énergie émise en impulsions supérieure à 50 J par
impulsion;
2. "lasers non déclenchés (non-Q-switch) présentant l'un
des ensembles de caractéristiques suivants:"
a. énergie émise en impulsions supérieure à 50 J mais
non supérieure à 100 J par impulsion et puissance
de sortie moyenne supérieure à 20 W; ou
b. énergie émise en impulsions supérieure à 100 J par
impulsion;
b. "lasers" (autres qu'à verre) dopés au néodyme ayant une
longueur d'onde de sortie supérieure à 1 000 nm mais non
supérieure à 1 100 nm, comme suit:
Note: En ce qui concerne les "lasers" (autres qu'à
verre) dopés au néodyme ayant une longueur
d'onde de sortie non supérieure à 1 000 nm ou
supérieure à 1 100 nm, voir l'alinéa
6A005.c.2.c.
1. "lasers déclenchés" (Q-switch), pompés par impulsion,
en mode bloqué, ayant une "durée d'impulsion" de
moins de 1 ns et présentant l'une des caractéristiques
suivantes:
a. "puissance de crête" supérieure à 5 GW;
b. puissance de sortie moyenne supérieure à 10 W; ou
c. énergie émise en impulsions supérieure à 0,1 J;
2. "lasers déclenchés" (Q-switch) pompés par impul-
sions, ayant une "durée d'impulsion" égale ou
supérieure à 1 ns et présentant l'un des ensembles de
caractéristiques suivants:
a. une sortie monomode transverse ayant:
1. "puissance de crête" supérieure à 100 MW;
2. puissance de sortie moyenne supérieure à 20 W;
ou
3. énergie émise en impulsions supérieure à 2 J; ou
b. une sortie multimode transverse présentant l'une
des caractéristiques suivantes:
1. "puissance de crête" supérieure à 400 MW;
2. puissance de sortie moyenne supérieure à 2 kW;
ou
3. énergie émise en impulsions supérieure à 2 J;
3. "lasers non déclenchés" (non-Q-switch) pompés par
impulsion, ayant soit:
a. une sortie monomode transverse présentant l'une
des caractéristiques suivantes:
1. "puissance de crête" supérieure à 500 kW; ou
2. puissance de sortie moyenne supérieure à
150 W;ou
b. une sortie multimode transverse présentant l'une
des caractéristiques suivantes:
1. "puissance de crête" supérieure à 1 MW; ou
2. puissance de sortie moyenne supérieure à 2 kW;
4. "lasers" excités en continu, ayant soit:
a. une sortie monomode transverse présentant l'une
des caractéristiques suivantes:
1. puissance de crête supérieure à 500 kW; ou
2. puissance de sortie moyenne ou en ondes
entretenues supérieure à 150 W; ou
b. une sortie multimode transverse présentant l'une
des caractéristiques suivantes:
1. "puissance de crête" supérieure à 1 MW; ou2000R1334 — FR — 19.01.2002 — 003.001 — 168
▼M3
2. puissance de sortie moyenne ou en ondes
entretenues supérieure à 2 kW;
c. autres "lasers" non "accordables" présentant l'un des
ensembles de caractéristiques suivants:
1. longueur d'onde inférieure à 150 nm, et l'une des
caractéristiques suivantes:
a. uneénergieémiseenimpulsionssupérieureà50mJ
par impulsion et une "puissance de crête" émise en
impulsions supérieure à 1 W; ou
b. une puissance de sortie moyenne ou en ondes
entretenues supérieure à 1 W;
2. longueur d'onde égale ou supérieure à 150 nm mais
non supérieure à 800 nm, et l'une des caractéristiques
suivantes:
a. une énergie émise en impulsions supérieure à 1,5 J
par impulsion et une "puissance de crête" émise en
impulsions supérieure à 30 W; ou
b. une puissance de sortie moyenne ou en ondes
entretenues supérieure à 30 W;
3. longueur d'onde supérieur à 800 nm mais non
supérieure à 1 400 nm, comme suit:
a. "lasers déclenchés" (Q-switch) présentant l'une des
caractéristiques suivantes:
1. énergie émise en impulsions supérieure à 0,5 J
par impulsionet "puissan ce de crête" émise en
impulsions supérieure à 50 W; ou
2. énergie moyenne supérieure à:
a. 10 W pour les "lasers" monomodes trans-
verses;
b. 30 W pour les "lasers" multimodes trans-
verses;
b. "lasers non déclenchés" (non Q-switch) présentant
l'une des caractéristiques suivantes:
1. énergie émise en impulsions supérieure à 2 J par
impulsionet "puissan ce de crête" émise en
impulsions supérieure à 50 W; ou
2. puissance de sortie moyenne ou en ondes
entretenues supérieure à 50 W; ou
4. longueur d'onde supérieure à 1 400 nm et l'une des
caractéristiques suivantes:
a. une énergie émise en impulsions supérieure à
100 mJ par impulsion et une "puissance de crête"émise enimpulsion s supérieure à 1 W;
ou
b. une puissance de sortie moyenne ou en ondes
entretenues supérieure à 1 W;
d. "lasers" à colorants et autres "lasers" à liquide présentant l'un
des ensembles des caractéristiques suivants:
1. longueur d'onde inférieure à 150 nm et soit:
a. une énergie émise en impulsions supérieure à 50 mJ par
impulsion et une "puissance de crête" émise en
impulsions supérieure à 1 W; soit
b. une puissance de sortie moyenne ou en ondes entretenues
supérieure à 1 W;
2. longueur d'onde égale ou supérieure à 150 nm mais non
supérieure à 800 nm et l'une des caractéristiques suivantes:
a. énergie émise en impulsions supérieure à 1,5 J par
impulsion et "puissance de crête" émise en impulsions
supérieure à 20 W;
b. puissance de sortie moyenne ou en ondes entretenues
supérieure à 20 W; ou
c. oscillateur monomode longitudinal pulsé ayant une
puissance de sortie moyenne supérieure à 1 W et une2000R1334 — FR — 19.01.2002 — 003.001 — 169
▼M3
fréquence de répétition supérieure à 1 kHz si la durée
d'impulsion est inférieure à 100 ns;
3. longueur d'onde supérieure à 800 nm mais non supérieure à
1 400 nm et l'une des caractéristiques suivantes:
a. une énergie émise en impulsions supérieure à 0,5 J par
impulsion et une "puissance de crête" émise en impulsion
supérieure à 10 W; ou
b. une puissance de sortie moyenne ou en ondes entretenues
supérieure à 10 W; ou
4. longueur d'onde supérieure à 1 400 nm et l'une des
caractéristiques suivantes:
a. une énergie émise en impulsions supérieure à 100 mJ par
impulsion et une "puissance de crête" émise en
impulsions supérieure à 1 W; ou
b. une puissance de sortie moyenne ou en ondes entretenues
supérieure à 1 W;
e. composants, comme suit:
1. miroirs refroidis par 'refroidissement actif' ou par refroidis-
sement par caloducs;
Note technique:
Le 'refroidissement actif' est une technique de refroidisse-
ment pour composants optiques, mettant en jeu des fluides
en mouvement sous la surface des composants (spécifique-
ment à moins de 1 mm en dessous de la surface optique) afin
d'évacuer la chaleur de l'optique.
2. miroirs optiques ou composants optiques à transmission
optique totale ou partielle ou composants électro-optiques,
spécialement conçus pour être utilisés avec les "lasers"
visés;
f. équipements optiques, comme suit:
Note: En ce qui concerne les éléments optiques à ouverture
commune capables de servir dans les applications de
"lasers à très grande puissance" ("SHPL"), voir la
liste des matériels de guerre.
1. équipements de mesure de front d'onde (phases) dynami-
ques, capables de cadrer au moins cinquante positions sur un
front d'onde de faisceau, présentant l'un des ensembles de
caractéristiques suivants:
a. cadences égales ou supérieures à 100 Hz et discrimina-
tion de phase d'au moins 5 % de la longueur d'onde du
faisceau; ou
b. cadences égales ou supérieures à 1 000 Hz et discrimina-
tion de phase d'au moins 20 % de la longueur d'onde du
faisceau;
2. équipements de diagnostic "laser" capables de mesurer des
erreurs d'orientation angulaire du faisceau d'un système de
"laser à très grande puissance" ("SHPL") égales ou
inférieures à 10 µrad;
3. équipements, ensembles et composants optiques spéciale-
ment conçus pour un système de "laser à très grande
puissance" ("SHPL") à réseau phasé destinés à assurer la
combinaison cohérente des faisceaux avec une précision
lambda/10 à la longueur d'onde prévue ou de 0,1 µm, la
valeur retenue étant la plus faible;
4. télescopes de projection spécialement conçus pour être
utilisés avec des systèmes de "lasers à très grande puissance"
("SHPL").
6A006 "Magnétomètres", "gradiomètres magnétiques", "gradiomètres
magnétiques intrinsèques" et systèmes de compensation, et leurs
composants spécialement conçus, comme suit:
Note: Le paragraphe 6A006 ne vise pas les instruments
spécialement conçus pour effectuer des mesures bioma-
gnétiques en vue de diagnostics médicaux.
a. "magnétomètres" faisant appel à la "technologie" des "supra-
conducteurs", du pompage optique ou de la précession2000R1334 — FR — 19.01.2002 — 003.001 — 170
▼M3
nucléaire (protons/Overhauser), ayant un "niveau de bruit"
(sensibilité) inférieur à (meilleur que) 0,05 nT valeur efficace
par racine carrée de Hertz;
b. "magnétomètres" à bobine d'induction ayant un "niveau de
bruit" (sensibilité) inférieur à (meilleur que):
1. 0,05 nT valeur efficace par racine carrée de Hertz à des
fréquences inférieures à 1 Hz;
2. 1 × 10−3nT valeur efficace par racine carrée de Hertz à des
fréquences égales ou supérieures à 1 Hz mais non
supérieures à 10 Hz; ou
3. 1 × 10−4nT valeur efficace par racine carrée de Hertz à des
fréquences supérieures à 10 Hz;
c. "magnétomètres" à fibres optiques ayant un "niveau de bruit"
(sensibilité) inférieur à (meilleur que) 1 nT valeur efficace par
racine carrée de Hertz;
d. "gradiomètres magnétiques" utilisant des "magnétomètres"
multiples visés aux alinéas 6A006.a., 6A006.b. ou 6A006.c.;
e. "gradiomètres magnétiques intrinsèques" à fibres optiques
ayant "un niveau de bruit" de gradient de champ magnétique
(sensibilité) inférieur à (meilleur que) 0,3 nT/m valeur efficace
par racine carrée de Hertz;
f. "gradiomètres magnétiques intrinsèques" utilisant une "techno-
logie" autre que celle des fibres optiques, ayant un "niveau de
bruit" de gradient de champ magnétique (sensibilité) inférieur à
(meilleur que) 0,015 nT/m valeur efficace par racine carrée de
Hertz;
g. systèmes de compensation magnétique pour capteurs magnéti-
ques conçus pour fonctionner sur des plates-formes mobiles;
h. capteurs électromagnétiques "supraconducteurs" contenant des
composants fabriqués à partir de matériaux "supraconducteurs"
et présentant les caractéristiques suivantes:
1. conçus pour fonctionner à des températures inférieures à la
"température critique" d'un au moins de leurs constituants
"supraconducteurs" [y compris les dispositifs à effet
Josephson ou les dispositifs "supraconducteurs" à interfé-
rence quantique (SQUIDS)];
2. conçus pour détecter des variations du champ électroma-
gnétique à des fréquences de 1 kHz ou moins; et
3. présentant l'une des caractéristiques suivantes:
a. comportant des dispositifs "supraconducteurs" à inter-
férence quantique (SQUIDS) à film mince dont la
dimension minimale d'élément est inférieure à 2 µm,
avec leurs circuits connexes de couplage d'entrée et de
sortie;
b. conçus pour fonctionner avec un taux d'oscillation du
champ magnétique de plus de 1 × 106quanta de flux
magnétique par seconde;
c. conçus pour fonctionner dans le champ magnétique
terrestre ambiant sans blindage magnétique; ou
d. ayant un coefficient de température de moins de (plus
petit que) 0,1 quantum de flux magnétique par kelvin.
6A007 Gravimètres et gradiomètres à gravité, comme suit:
N.B.: VOIR ÉGALEMENT 6A107.
a. gravimètres conçus ou modifiés pour l'usage terrestre ayant une
précisionstatique de moin s de (meilleure que) 10 µgal;
Note: L'alinéa 6A007.a. ne vise pas les gravimètres au sol
du type à élément de quartz (Worden).
b. gravimètres pour plates-formes mobiles, présentant toutes les
caractéristiques suivantes:
1. une précision statique de moins de (meilleure que) 0,7 mgal;
et
2. une précision en service (opérationnelle) de moins de
(meilleure que) 0,7 mgal avec untemps de mon tée à l'état
stable de moins de 2 minutes quelle que soit la combinaison
des compensations et influences dynamiques en jeu;2000R1334 — FR — 19.01.2002 — 003.001 — 171
▼M3
c. gradiomètres à gravité.
6A008 Systèmes, matériels et ensembles radars présentant l'une des
caractéristiques suivantes, et leurs composants spécialement
conçus:
N.B.: VOIR ÉGALEMENT 6A108.
Note: Le paragraphe 6A008 ne vise pas les équipements
suivants:
a. radars secondaires de surveillance (SSR);
b. radars d'automobile conçus pour la prévention des
collisions;
c. affichages ou récepteurs utilisés pour le contrôle de la
circulation aérienne (ATC) ne comportant pas plus de
12 éléments de résolution par millimètre;
d. radars météorologiques.
a. fonctionnant sur des fréquences de 40 GHz à 230 GHz et ayant
une puissance de sortie moyenne supérieure à 100 mW;
b. ayant une fréquence accordable supérieure à ± 6,25 % de la
'fréquence de fonctionnement centrale';
Note technique:
La 'fréquence de fonctionnement centrale' correspond à la
moitié de la somme de la fréquence de fonctionnement spécifiée
la plus élevée et de la fréquence de fonctionnement spécifiée la
plus faible.
c. capables de fonctionner en mode simultané sur plus de deux
fréquences porteuses;
d. capables de fonctionner en mode d'ouverture synthétique
(SAR), d'ouverture synthétique inverse (ISAR) ou en mode
radar aéroporté à antenne latérale (RAAL);
e. comprenant des "antennes à réseaux phasés électroniquement
orientables";
f. capables de rechercher la hauteur de cibles non concourantes;
Note: L'alinéa 6A008.f. ne vise pas les matériels radar
d'approche de précision (PAR) conformes aux normes
de l'OACI.
g. spécialement conçus pour fonctionner en mode embarqué
(montés sur ballon ou cellule d'avion) et ayant une capacité
de "traitement de signal" Doppler pour la détection de cibles
mobiles;
h. dotés d'un système de traitement de signaux radar faisant appel
à:
1. des techniques de "spectre étalé (radar)"; ou
2. des techniques d'"agilité de fréquence (radar)";
i. assurant un fonctionnement au sol avec une "portée instru-
mentée" maximale supérieure à 185 km;
Note: L'alinéa 6A008.i. ne vise pas:
a. les radars de surveillance des lieux de pêche;
b. les matériels radar au sol spécialement conçus
pourle contrôle de la circulation aérienne en cours
de vol, à condition qu'ils:
1. aient une "portée instrumentée" maximale de
500 km ou moins;
2. aient une configuration telle que les données
relatives aux cibles radar puissent être trans-
mises uniquement de l'installation radar à un ou
plusieurs centres de contrôle de la circulation
aérienne civile;
3. ne comportent pas de capacités de télécom-
mande de la vitesse de balayage du radar à
partir du centre de contrôle de la circulation
aérienne en cours de vol; et
4. soient installés de façon permanente;
c. radars de poursuite de ballons météorologiques.2000R1334 — FR — 19.01.2002 — 003.001 — 172
▼M3
j. consistant en matériels radar à "laser" ou LIDAR, présentant
l'une des caractéristiques suivantes:
1. "qualifiés pour l'usage spatial"; ou
2. faisant appel à des techniques de détection hétérodynes ou
homodynes cohérentes et ayant un pouvoir séparateur
angulaire inférieur à (meilleur que) 20 µrad (microradians);
Note: L'alinéa 6A008.j. ne vise pas les matériels LIDAR
spécialement conçus pour la topographie ou l'obser-
vation météorologique.
k. comportant des sous-systèmes pour le "traitement de signal"
utilisant la "compression d'impulsions" et présentant l'une des
caractéristiques suivantes:
1. unrapport de "compressiond'impulsion s" supérieur à 150;
ou
2. une largeur d'impulsion inférieure à 200 ns; ou
l. comportant des sous-systèmes de traitement de données
présentant l'une des caractéristiques suivantes:
1. "poursuite automatique de la cible" fournissant, à l'une
quelconque des rotations de l'antenne, la position prévue de
la cible au-delà du moment de passage suivant du faisceau
d'antenne;
Note: L'alinéa 6A008.l.1. ne vise pas les moyens d'alerte
de systèmes de contrôle de la circulation aérienne
en cas de trajectoires incompatibles ni les radars
marins ou portuaires.
2. calcul de la vitesse de la cible à partir des radars primaires
ayant des vitesses de balayage non périodiques (varia-
bles);go 1
3. traitement pour la reconnaissance automatique du tracé
(sélectionde caractéristiques) et la comparaisonavec des
bases de données des caractéristiques de la cible (formes
d'onde ou imagerie) pour identifier ou classer les cibles; ou
4. superposition et corrélation, ou fusion de données de cible, à
partir de deux ou plus de deux "capteurs radar intercon-
nectés" et "géographiquement dispersés",afin de renforcer et
de distinguer les cibles.
Note: L'alinéa 6A008.l.4. ne vise pas les systèmes,
équipements ou ensembles servant au contrôle de
la circulation maritime.
6A102 'Détecteurs' résistants aux rayonnements, autres que ceux visés au
paragraphe 6A002, spécialement conçus ou modifiés pour la
protection contre les effets nucléaires (exemple: impulsion
électromagnétique d'explosion atomique, rayons X, effets de
souffle et effets thermiques combinés) et utilisables pour les
"missiles", conçus pour ou pouvant nominalement résister à des
intensités de rayonnement produisant une dose totale d'irradiation
égale ou supérieure à 5 × 105rads (silicium).
Note technique:
Dans le présent paragraphe, on entend par 'détecteur' un dispositif
mécanique, électrique, optique ou chimique qui détecte, identifie et
enregistre ou relève automatiquement un stimulus tel qu'un
changement de pression ou de température ambiante, un signal
électrique ou électromagnétique ou un rayonnement provenant
d'une matière radioactive. Sont également visés les dispositifs qui
détectent par une opération ou une défaillance en un temps.
6A107 Gravimètres et composants conçus pour les gravimètres et les
gradiomètres à gravité, comme suit:
a. gravimètres, autres que ceux qui sont visés au paragraphe
6A007.b., conçus ou modifiés pour un usage marin ou
aéronautique, et ayant une précision statique ou opérationnelle
de 7 × 10−6m/s2(0,7 milligal) ou moins (meilleur que), et un
temps de montée à l'état stable de deux minutes ou moins;
b. composants spécialement conçus pour les gravimètres visés à
l'alinéa 6A007.b. ou à l'alinéa 6A107.a. et les gradiomètres à
gravité visés à l'alinéa 6A007.c.2000R1334 — FR — 19.01.2002 — 003.001 — 173
▼M3
6A108 Systèmes radar et systèmes de poursuite, autres que ceux visés au
paragraphe 6A008, comme suit:
a. systèmes radar et systèmes radar à "laser" conçus ou modifiés
pour être employés dans les lanceurs spatiaux visés au
paragraphe 9A004 ou dans les fusées sondes visées au
paragraphe 9A104;
Note: L'alinéa 6A108.a. inclut les équipements suivants:
a. équipements pour l'établissement de cartes à
courbes de niveau;
b. équipements de capteurs-imageurs;
c. équipements pour le mappage et la corrélation de
scènes (actifs et passifs);
d. équipements de radionavigation Doppler.
b. systèmes de poursuite de précisionutilisables pour les
"missiles", comme suit:
1. systèmes de poursuite utilisant un décodeur en liaison soit
avec des références terrestres ou aéroportées, soit avec des
systèmes de satellites de navigation, pour fournir des
mesures entemps réel de la positionet de la vitesse envol;
2. radars de télémétrie incluant des dispositifs de poursuite
optiques/à infrarouges associés et présentant toutes les
propriétés suivantes:
a. résolution angulaire meilleure que 3 milliradians
(0,5 mils);
b. portée égale ou supérieure à 30 km, avec une précision de
distance meilleure que 10 m valeur efficace;
c. résolutionde la vitesse meilleure que 3 m/s.
6A202 Tubes multiplicateurs de photoélectrons présentant les deux
caractéristiques suivantes:
a. une surface de photocathode supérieure à 20 cm2;et
b. un temps de montée de l'impulsion anodique inférieur à 1 ns.
6A203 Appareils de prises de vue et leurs composants, autres que ceux
visés au paragraphe 6A003, comme suit:
a. appareils de prises de vue mécaniques à miroir tournant,
comme suit, et leurs composants spécialement conçus:
1. caméras à image intégrale dont la vitesse est supérieure à
225000 images par seconde;
2. caméras à balayage ayant une vitesse d'enregistrement
supérieure à 0,5 mm par microseconde;
Note: À l'alinéa 6A203.a., les composants de ces caméras
comprennent leurs composants électroniques de
synchronisation et leurs ensembles de rotors, à savoir
turbines, miroirs et roulements.
b. caméras électroniques à balayage, caméras électroniques à
image intégrale, tubes et dispositifs, comme suit:
1. caméras électroniques à balayage capables d'une résolution
temporelle de 50 ns ou moins;
2. les tubes à balayage pour les caméras visées à l'alinéa
6A203.b.1.;
3. caméras électroniques à image intégrale (ou à obturateur
électronique) capables d'une durée d'exposition d'encadrage
égale ou inférieure à 50 ns;
4. tubes à image intégrale et dispositifs d'imagerie fixe destinés
à être employés avec les caméras visées à l'alinéa
6A203.b.3., comme suit:
a. tubes intensificateurs d'image réglée par proximité dont
la photocathode est déposée sur un revêtement conduc-
teur transparent pour réduire la résistance de la plaque/
feuille de photocathode;
b. tubes intensificateurs vidicon silicium à grille (SIT), dans
lesquels unsystème rapide permet de séparer les
photoélectrons venant de la photocathode avant qu'ils
ne heurtent la plaque de la cible multiplicatrice;2000R1334 — FR — 19.01.2002 — 003.001 — 174
▼M3
c. obturateurs électro-optiques à cellule de Kerr ou de
Pockels;
d. autres tubes à image intégrale et dispositifs d'imagerie à
semi-conducteurs ayant un temps de déclenchement
rapide pour image de moins de 50 ns spécialement
conçus pour les caméras visées à l'alinéa 6A203.b.3.;
c. caméras de télévision résistant aux rayonnements ou objectifs
correspondants, spécialement conçus pour ou pouvant nomina-
lement résister à une dose de rayonnement totale de plus de
50 × 103Gy (silicium) [5 × 106rad (silicium)] sans que leur
fonctionnement soit altéré.
Note technique:
Le terme Gy (silicium) désigne l'énergie en Joules par
kilogramme absorbée par un échantillon de silicium non blindé
lorsqu'il est exposé à un rayonnement ionisant.
6A205 "Lasers", amplificateurs "laser" et oscillateurs autres que ceux
visés aux alinéas 0B001.g.5., 0B001.h.6. ou au paragraphe 6A005,
comme suit:
a. "lasers" à argon ionisé présentant les deux caractéristiques
suivantes:
1. fonctionnant sur une longueur d'onde comprise entre 400 et
515 nm; et
2. une puissance de sortie moyenne supérieure à 40 W;
b. oscillateurs "laser" à colorant monomodes à impulsions et
accordables, présentant toutes les caractéristiques suivantes:
1. une longueur d'onde comprise entre 300 et 800 nm;
2. une puissance de sortie moyenne supérieure à 1 W;
3. une fréquence de répétition supérieure à 1 kHz; et
4. une durée d'impulsion inférieure à 100 ns;
c. amplificateurs et oscillateurs de "lasers" à colorant à impulsions
et accordables, présentant toutes les caractéristiques suivantes:
1. une longueur d'onde comprise entre 300 et 800 nm;
2. une puissance de sortie moyenne supérieure à 30 W;3. une fréquence de répétition supérieure à 1 kHz;
et
4. une durée d'impulsion inférieure à 100 ns;
Note: L'alinéa 6A205.c. ne vise pas les oscillateurs mono-
modes.
d. "lasers" à dioxyde de carbone à impulsions présentant toutes les
caractéristiques suivantes:
1. une longueur d'onde comprise entre 9000 et 11000 nm;
2. une fréquence de répétition supérieure à 250 Hz;
3. une puissance de sortie moyenne supérieure à 500 W; et
4. une durée d'impulsion inférieure à 200 ns;
e. déphaseurs Raman au para-hydrogène conçus pour fonctionner
avec une longueur d'onde de sortie de 16 µm et une fréquence
de répétitionsupérieure à 250 Hz;
f. "lasers" (autres qu'à verre) dopés au néodyme, déclenchés (Q-
switch) et excités par impulsion, présentant toutes les
caractéristiques suivantes:
1. une longueur d'onde de sortie supérieure à 1 000 nm mais
non supérieure à 1 100 nm;
2. une durée d'impulsion égale ou supérieure à 1 ns; et
3. une sortie multimode transverse ayant une puissance de
sortie moyenne supérieure à 50 W.
6A225 Interféromètres de mesure de la vitesse destinés à mesurer des
vitesses supérieures à 1 km/s pendant des périodes inférieures à
10 microsecondes.
Note: Le paragraphe 6A225 comprend les interféromètres de
mesure de la vitesse tels que les VISAR (interféromètres
de mesure de la vitesse pour tout réflecteur) et les ILD
(interféromètres à laser Doppler).2000R1334 — FR — 19.01.2002 — 003.001 — 175
▼M3
6A226 Capteurs de pression, comme suit:
a. jauges au manganin destinées à mesurer des pressions supé-
rieures à 10 GPa;
b. capteurs de pression destinés à fonctionner avec des pressions
supérieures à 10 GPa.2000R1334 — FR — 19.01.2002 — 003.001 — 176
▼M3
6BÉquipements d'essai, de vérification et de production
6B004 Équipements optiques, comme suit:
a. équipements destinés à mesurer le facteur de réflexion absolue
avec une précision de ± 0,1 % de la valeur de réflexion;
b. équipements, autres que les équipements de mesure par
dispersion des surfaces optiques, ayant une ouverture nette
supérieure à 10 cm, spécialement conçus pour la mesure
optique sans contact d'une forme (profil) de surface optique non
plane avec une "précision" égale ou inférieure à (meilleure que)
2 nm par rapport au profil souhaité.
Note: Le paragraphe 6B004 ne vise pas les microscopes.
6B007 Équipements de production, d'alignement et d'étalonnage de
gravimètres au sol ayant une précision statique meilleure que
0,1 mgal.
6B008 Systèmes de mesure de la surface équivalente vis-à-vis de radars à
impulsions ayant une largeur d'impulsion de 100 ns ou moins, et
leurs composants spécialement conçus.
N.B.: VOIR ÉGALEMENT 6B108.
6B108 Systèmes autres que ceux visés au paragraphe 6B008 spécialement
conçus pour mesurer la surface équivalente radar et qui sont
utilisables pour les "missiles" et leurs sous-systèmes.2000R1334 — FR — 19.01.2002 — 003.001 — 177
▼M3
6C Matériaux
6C002 Matériaux de capteurs optiques, comme suit:
a. tellure (Te) élémentaire ayant des niveaux de pureté égaux ou
supérieurs à 99,9995 %;
b. monocristaux (y compris les plaquettes épitaxiales) d'un des
matériaux suivants:
1. tellurure de cadmium-zinc (CdZnTe), d'une teneur en zinc
inférieure à 6 % en 'titre molaire';
2. tellurure de cadmium (CdTe), quel que soit le niveau de
pureté;ou
3. tellurure de mercure-cadmium (HgCdTe), quel que soit le
niveau de pureté
Note technique:
Le "titre molaire" est le rapport du nombre de moles de ZnTe
au nombre total de moles de CdTe et de ZnTe présents dans le
cristal.
6C004 Matériaux optiques, comme suit:
a. "substrats bruts" en séléniure de zinc (ZnSe) et sulfure de zinc
(ZnS) obtenus par dépôt en phase vapeur par procédé chimique,
présentant l'une des caractéristiques suivantes:
1. unvolume de plus de 100 cm3;ou
2. undiamètre de plus de 80 mm et un e épaisseur égale ou
supérieure à 20 mm;
b. cristaux piriformes bruts des matériaux électro-optiques
suivants:
1. arséniate de potassium titanyl (KTA);
2. séléniure de gallium-argent (AgGaSe2);
3. séléniure d'arsenic-thallium (Tl3AsSe3, également désigné
par l'acronyme SAT);
c. matériaux optiques non linéaires présentant toutes les caracté-
ristiques suivantes:
1. une susceptibilité du troisième ordre (chi 3) égale ou
supérieure à 10−6m2/V2;et
2. un temps de réponse inférieur à 1 ms;
d. "substrats bruts" de carbure de silicium ou de dépôt béryllium/
béryllium (Be/Be) d'un diamètre ou d'une dimension de l'axe
principal supérieur à 300 mm;
e. verre, y compris la silice fondue, le verre phosphaté, le verre
fluoro-phosphaté, le fluorure de zirconium (ZrF4) et le fluorure
de hafnium (HfF4), présentant toutes les caractéristiques
suivantes:
1. concentration en ion hydroxyle (OH-) inférieure à 5 ppm;
2. moins de 1 ppm d'impuretés métalliques intégrées; et
3. homogénéité élevée (variation de l'indice de réfraction)
inférieure à 5 × 10−6;
f. matériaux de diamant synthétique, ayant des taux d'absorption
inférieurs à 10−5cm−1pour des longueurs d'onde supérieures à
200 nm mais non supérieures à 14000 nm.
6C005 Matériaux cristallins hôtes pour "lasers", sous forme brute, comme
suit:
a. saphir dopé au titane;
b. alexandrite.2000R1334 — FR — 19.01.2002 — 003.001 — 178
▼M3
6D Logiciel
6D001 "Logiciel" spécialement conçu pour le "développement" ou la
"production" d'équipements visés aux paragraphes 6A004, 6A005,
6A008 ou 6B008.
6D002 "Logiciel" spécialement conçu pour l'"utilisation" d'équipements
visés à l'alinéa 6A002.b. ou aux paragraphes 6A008 ou 6B008.
6D003 Autres "logiciels" comme suit:
a. 1. "logiciel" spécialement conçu pour la formation de faisceaux
acoustiques destinée au "traitement en temps réel" de
données acoustiques pour réception passive utilisant des
batteries d'hydrophones remorquées;
2. "code source" pour le "traitement en temps réel" de données
acoustiques pour réceptionpassive utilisan t des batteries
d'hydrophones remorquées;
3. "logiciel" spécialement conçu pour la formation de faisceaux
acoustiques destinée au "traitement en temps réel" de
données acoustiques pour réception passive utilisant des
systèmes de câbles sous-marins posés au fond ou suspendus;
4. "code source" pour le "traitement en temps réel" de données
acoustiques pour réceptionpassive utilisan t des systèmes de
câbles sous-marins posés au fond ou suspendus;
b. 1. "logiciel" spécialement conçu pour des systèmes de
compensation magnétique de capteurs magnétiques conçus
pour fonctionner sur des plates-formes mobiles;
2. "logiciel" spécialement conçu pour la détection magnétique
d'anomalies sur les plates-formes mobiles;
c. "logiciel" spécialement conçu pour la compensation des
influences dynamiques sur les gravimètres ou les gradiomètres
à gravité;
d. 1. "programmes" d'applicationfaisan t partie du "logiciel", pour
le contrôle de la circulation aérienne, situés dans des
ordinateurs universels installés dans des centres de contrôle
de la circulation aérienne, et présentant l'une des capacités
suivantes:
a. traiter et afficher plus de 150 "pistes produites par le
système" ensimultan é; ou
b. accepter des données relatives aux cibles radar provenant
de plus de quatre radars primaires;
2. "logiciel" de conception ou de "production de radomes":
a. spécialement conçus pour protéger les "antennes à
réseaux phasés électroniquement orientables" visées à
l'alinéa 6A008.e.; et
b. donnant un diagramme d'antenne ayant un 'taux moyen
des lobes latéraux' de plus de 40 dB en-dessous de la
crête du niveau du faisceau principal.
Note technique:
À l'alinéa 6D003.d.2.b., le 'taux moyen des lobes
latéraux' est mesuré sur l'ensemble du réseau, à
l'exclusion de l'extension angulaire du faisceau principal
et des deux premiers lobes latéraux de chaque côté du
faisceau principal.
6D102 "Logiciel" spécialement conçu ou modifié pour l'"utilisation" des
biens visés au paragraphe 6A108.
6D103 "Logiciel" traitant les informations enregistrées après le vol,
permettant de déterminer la position du véhicule d'après sa
trajectoire de vol, spécialement conçus ou modifiés pour les
"missiles".2000R1334 — FR — 19.01.2002 — 003.001 — 179
▼M3
6E Technologie
6E001 "Technologie", au sens de la note générale relative à la
technologie, pour le "développement" des équipements, matériaux
ou "logiciels" visés par les sous-catégories 6A, 6B, 6C ou 6D.
6E002 "Technologie", au sens de la note générale relative à la
technologie, pour la "production" des équipements ou matériaux
visés par les sous-catégories 6A, 6B ou 6C.
6E003 Autres "technologies", comme suit:
a. 1. "technologie" de revêtement et de traitement des surfaces
optiques "nécessaire" à l'obtention d'une uniformité égale à
99,5 % ou meilleure pour des revêtements optiques ayant un
diamètre ou un axe principal de 500 mm ou plus et une perte
totale (absorption et dispersion) de moins de 5 × 10−3;
N.B.: Voir également 2E003.f.
2. "technologie" de fabrication optique utilisant des techniques
de tournage à pointe de diamant unique produisant des
précisions de fini de surface meilleures que 10 nm valeur
efficace sur des surfaces non planes supérieures à 0,5 m2;
b. "technologie" "nécessaire" au "développement", à la "produc-
tion" ou à l'"utilisation" d'instruments de diagnostic ou de cibles
spécialement conçus pour les installations d'essai pour l'essai
des "lasers à très haute puissance" (SHPL) ou l'essai ou
l'évaluationde matériaux irradiés par des faisceaux de "lasers à
très haute puissance" (SHPL);
c. "technologie" "nécessaire" au "développement" ou à la
"production" de sondes de magnétomètres ou de systèmes de
sondes de magnétomètres présentant l'une des caractéristiques
suivantes:
1. un "niveau de bruit" inférieur à 0,05 nT valeur efficace par
racine carrée de Hertz à des fréquences inférieures à 1 Hz;
ou
2. un "niveau de bruit" inférieur à 1 × 10−3 nT valeur efficace
par racine carrée de Hertz à des fréquences de 1 Hz ou plus.
6E101 "Technologie", au sens de la note générale relative à la
technologie, pour l'"utilisation" des équipements ou des "logiciels"
visés au paragraphe 6A002, aux alinéas 6A007.b. et c., aux
paragraphes 6A008, 6A102, 6A107, 6A108, 6B108, 6D102 ou
6D103.
Note: Le paragraphe 6E101 ne vise la "technologie" pour les
équipements visés au paragraphe 6A008 que si ceux-ci
sont conçus pour des applications aéronautiques à bord
et utilisables dans les "missiles".
6E201 "Technologie", au sens de la note générale relative à la
technologie, pour l'"utilisation" des équipements visés au para-
graphe 6A003, aux alinéas 6A005.a.1.c., 6A005.a.2.a.,
6A005.c.1.b., 6A005.c.2.c.2., 6A005.c.2.d.2.b., et aux paragraphes
6A202, 6A203, 6A205, 6A225 ou 6A226.2000R1334 — FR — 19.01.2002 — 003.001 — 180
▼M3
CATÉGORIE 7
NAVIGATIONET AÉRO-ÉLECTRONIQUE2000R1334 — FR — 19.01.2002 — 003.001 — 181
▼M3
7A Systèmes, équipements et composants
Note 1: En ce qui concerne les pilotes automatiques pour
véhicules submersibles, voir la catégorie 8.
En ce qui concerne les radars, voir la catégorie 6.
Note 2: En ce qui concerne les équipements de navigation à
inertie pour navires et véhicules submersibles, voir la
Liste des matériels des guerre.
7A001 Accéléromètres linéaires conçus pour être utilisés dans des
systèmes de navigation à inertie ou des systèmes de guidage et
présentant l'une des caractéristiques suivantes, et leurs composants
spécialement conçus:
N.B.: VOIRÉGALEMENT7A101.Pourlesaccéléromètres
angulaires ou rotatifs, voir 7A002.
a. "stabilité" de "biais" inférieure à (meilleure que) 130 micro g
par rapport à une valeur d'étalonnage fixe sur une période d'un
an;
b. "stabilité" de "facteur d'échelle" inférieure à (meilleure que)
130 ppm par rapport à une valeur d'étalonnage fixe sur une
période d'unan ; ou
c. spécifiés pour fonctionner à des niveaux d'accélération supé-
rieurs à 100 g.
7A002 Gyroscopes et accéléromètres angulaires ou rotatifs présentant
l'une des caractéristiques suivantes et leurs composants spéciale-
ment conçus:
N.B.: VOIR ÉGALEMENT 7A102.
a. "stabilité" de "vitesse de précession" mesurée dans un
environnement de 1 g sur une période de trois mois par rapport
à une valeur d'étalonnage fixe:
1. inférieure à (meilleure que) 0,1 º par heure lorsque l'appareil
est spécifié pour fonctionner à des niveaux d'accélération
linéaire en dessous de 10 g; ou
2. inférieure à (meilleure que) 0,5 º par heure lorsque l'appareil
est spécifié pour fonctionner à des niveaux d'accélération
linéaire de 10 à 100 g inclus; ou
b. spécifiés pour fonctionner à des accélérations supérieures à
100 g.
7A003 Systèmes de navigation à inertie (à cardan et liés) et équipements à
inertie conçus pour "aéronefs", véhicules terrestres et véhicules
spatiaux, pour l'attitude, le guidage ou le contrôle, présentant l'une
des caractéristiques suivantes, et leurs composants spécialement
conçus:
N.B.: VOIR ÉGALEMENT 7A103.
a. erreur de navigation (inertie seule) après un alignement normal
de 0,8 mille nautique par heure (erreur circulaire probable à
50 %) ou moins (meilleure); ou
b. spécifiés pour fonctionner à des niveaux d'accélération linéaire
supérieurs à 10 g.
Note 1: Les paramètres visés à l'alinéa 7A003.a. sont applica-
bles dans chacune des conditions environnementales
suivantes:
1. vibration aléatoire d'entrée ayant une magnitude
globale de 7,7 g rms dans la première demi-heure et
une durée d'essai totale d'une heure et demie par
axe dans chacun des trois axes perpendiculaires,
lorsque la vibration aléatoire répond aux conditions
suivantes:
a. une densité spectrale de puissance (DSP) cons-
tante de 0,04 g2/Hz sur un intervalle de fréquence
de 15 à 1 000 Hz; et
b. la DSP s'atténue avec une fréquence de 0,04 g2/
Hz à 0,01 g2/Hz sur un intervalle de fréquence de
1 000 à 2000 Hz; ou
2. vitesse de roulis et de lacet égale ou supérieure à
+ 2,62 radian/s (150 deg/s); ou2000R1334 — FR — 19.01.2002 — 003.001 — 182
▼M3
3. conformément aux normes nationales équivalant aux
points 1 ou 2 ci-dessus.
Note 2: Le paragraphe 7A003 ne vise pas les systèmes de
navigation à inertie qui sont homologués pour une
utilisation sur "aéronefs civils" par les autorités civiles
d'un "État participant".
7A004 Gyro-astro-compas, et autres appareils permettant de déterminer la
positionou l'orien tationpar poursuite automatique des corps
célestes ou satellites, avec une précision d'azimut égale ou
inférieure à (meilleure que) 5 secondes d'arc.
N.B.: VOIR ÉGALEMENT 7A104.
7A005 Équipements de réception de systèmes de navigation globale par
satellite (GPS ou GLONASS) présentant l'une des caractéristiques
suivantes, et leurs composants spécialement conçus:
N.B.: VOIR ÉGALEMENT 7A105.
a. employant le décryptage; ou
b. antenne auto-adaptive.
7A006 Altimètres de bord opérant sur des fréquences non comprises entre
4,2 et 4,4 GHz et présentant l'une des caractéristiques suivantes:
N.B.: VOIR ÉGALEMENT 7A106.
a. "contrôle de puissance rayonnée"; ou
b. employant de la modulation discrète de phase.
7A007 Équipements radiogoniométriques opérant à des fréquences supé-
rieures à 30 MHz et présentant toutes les caractéristiques
suivantes, et leurs composants spécialement conçus:
a. "bande passante instantanée" de 1 MHz ou plus;
b. traitement simultané/en parallèle de plus de 100 canaux de
fréquences; et
c. vitesse de traitement supérieure à 1000 résultats de radio-
goniométrie par seconde et par canal de fréquences.
7A101 Accéléromètres, autres que ceux visés au paragraphe 7A001,
comme suit, et leurs composants spécialement conçus:
a. accéléromètres ayant un seuil égal ou inférieur à 0,05 g, ou un
défaut de linéarité de moins de 0,25 % de la pleine échelle, ou
ces deux caractéristiques, conçus pour les systèmes de
navigation par inertie ou pour les systèmes de guidage de
tous types;
Note: L'alinéa 7A101.a. ne vise pas les accéléromètres qui
sont spécialement conçus et développés comme
capteur MWD (technique de mesure pendant forage)
pour utilisation dans des opérations de forage.
b. accéléromètres en régime continu conçus pour fonctionner à
des niveaux d'accélération supérieurs à 100 g.
7A102 Gyroscopes de type quelconque, autres que ceux visés au
paragraphe 7A002, utilisables dans les "missiles", ayant une
"stabilité" de "vitesse de précession" inférieure à 0,5 (1 sigma ou
valeur efficace) par heure dans un environnement de 1 g, et leurs
composants spécialement conçus.
7A103 Équipements et systèmes d'instrumentation, de navigation et de
repérage, autres que ceux visés au paragraphe 7A003, comme suit,
et leurs composants spécialement conçus:
a. équipements à inertie ou autres, utilisant des accéléromètres
visés aux paragraphes 7A001 ou 7A101, ou des gyroscopes
visés aux paragraphes 7A002 ou 7A102 et systèmes compre-
nant de tels équipements;
Note: L'alinéa 7A103.a. ne vise pas les équipements
contenant les accéléromètres visés au paragraphe
7A001, lorsque ceux-ci sont spécialement conçus et
développés comme capteurs MWD (mesure pendant
forage) pour l'utilisation dans des opérations de
forage.
b. systèmes d'instruments de vol intégrés comprenant stabilisa-
teurs gyroscopiques ou pilotes automatiques, conçus ou2000R1334 — FR — 19.01.2002 — 003.001 — 183
▼M3
modifiés pour être utilisés dans les systèmes visés aux
paragraphes 9A004 ou 9A104.
7A104 Gyro-astro-compas et autres appareils, autres que ceux visés au
paragraphe 7A004, permettant de déterminer la position ou
l'orientation par poursuite automatique des corps célestes ou des
satellites, et leurs composants spécialement conçus.
7A105 Équipements de réception de positionnement global par satellite
(GPS) ou équipements similaires de réception satellite, autres que
ceux visés au paragraphe 7A005, permettant d'obtenir des
informations de navigation dans les conditions de fonctionnement
suivantes, conçus oumodifiés pour être utilisés dans les lanceurs et
véhicules spatiaux visés au paragraphe 9A004 ou dans les fusées
sondes visées au paragraphe 9A104:
a. à une vitesse supérieure à 515 m/s; et
b. à une altitude supérieure à 18 km.
7A106 Altimètres, autres que ceux visés au paragraphe 7A006, du type
radar ou laser-radar, conçus ou modifiés pour être utilisés dans les
lanceurs et véhicules spatiaux visés au paragraphe 9A004 ou dans
les fusées sondes visées au paragraphe 9A104.
7A115 Capteurs passifs permettant de déterminer le gisement de sources
électromagnétiques spécifiques (équipements radiogoniométri-
ques) ou des caractéristiques de terrain, conçus ou modifiés pour
être utilisés dans les lanceurs et véhicules spatiaux visés au
paragraphe 9A004 ou dans les fusées sondes visées au paragraphe
9A104.
Note: Le paragraphe 7A115 comprend les capteurs utilisés
dans les équipements suivants:
a. équipements pour l'établissement de cartes à courbes
de niveau;
b. équipements de capteurs-imageurs (actifs et passifs);
c. équipements d'interféromètres passifs.
7A116 Systèmes de commande de vol, conçus ou modifiés pour être
utilisés dans les lanceurs et véhicules spatiaux visés au paragraphe
9A004 ou dans les fusées sondes visées au paragraphe 9A104,
comme suit:
a. systèmes de commande de vol hydrauliques, mécaniques,
électro-optiques, ou électromécaniques (y compris commandes
de vol électriques);
b. systèmes de commande d'attitude.
7A117 "Sous-ensembles de guidage" utilisables dans les "missiles"
conférant au système une précision égale ou inférieure à 3,33 %
de la distance (par exemple, une "erreur circulaire probable" de
10 km ou moins à une distance de 300 km).2000R1334 — FR — 19.01.2002 — 003.001 — 184
▼M3
7BÉquipements d'essai, de contrôle et de production
7B001 Équipements d'essai, d'étalonnage ou d'alignement spécialement
conçus pour les équipements visés par la sous-catégorie 7A.
Note: Le paragraphe 7B001 ne vise pas les équipements
d'essai, d'étalonnage ou d'alignement de maintenancede niveaux I ou II.
Notes techniques:
1. Maintenance de niveau I
La panne d'une unité de navigation à inertie est détectée sur
l'aéronef par les indications de l'unité de contrôle et
visualisation (CDU) ou par le message d'état du sous-système
correspondant. En suivant le manuel d'utilisation du cons-
tructeur, la cause de la panne peut être localisée au niveau de
l'unité remplaçable en piste (URP) défaillante. L'exploitant
procède alors à la dépose de cette unité (URP) et à son
remplacement par un équipement de rechange.
2. Maintenance de niveau II
L'unité remplaçable en piste (URP) défaillante est expédiée à
l'atelier d'entretien (celui du constructeur ou celui de
l'exploitant responsable de la maintenance de niveau II). À
l'atelier, l'équipement en panne est testé par différents moyens
adaptés pour localiser le module défaillant de l'unité
remplaçable en atelier (URA) responsable de la panne. Ce
module est déposé et remplacé par un module de rechange en
état de marche. Le module défaillant (ou éventuellement l'unité
remplaçable en piste (URP) complète) est alors envoyé au
constructeur.
Note: La maintenance de niveau II ne comprend par la
dépose de l'unité remplaçable en atelier (URA) des
accéléromètres ou gyroscopes soumis au contrôle.
7B002 Équipements, comme suit, spécialement conçus pour la qualifica-
tion des miroirs pour gyro-lasers en anneaux:
N.B.: VOIR ÉGALEMENT 7B102.
a. diffusiomètres ayant une précision de mesure égale ou
inférieure à (meilleure que) 10 ppm;
b. profilomètres ayant une précision de mesure égale ou inférieure
à (meilleure que) 0,5 nm (5 angströms).
7B003 Équipements spécialement conçus pour la production d'équipe-
ments visés par la sous-catégorie 7A.
Note: Le paragraphe 7B003 comprend:
a. les postes d'essai pour la mise au point de gyroscopes;
b. les postes d'équilibrage dynamique de gyroscopes;
c. les postes d'essai pour le rodage de moteurs
d'entraînement de gyroscopes;
d. les postes d'évacuation et de remplissage de gyro-
scopes;
e. les dispositifs de centrifugation pour paliers de
gyroscopes;
f. les postes d'alignement de l'axe d'accéléromètres.
7B102 Réflectomètres spécialement conçus pour la qualification des
miroirs pour gyro-lasers, ayant une précision de mesure égale ou
inférieure à (meilleure que) 50 ppm.
7B103 "Équipements d'assistance à la production" et "équipements de
production" comme suit:
a. "équipements d'assistance à la production" spécialement conçus
pour les équipements visés au paragraphe 7A117;
b. équipements de production, et autres équipements d'essai,
d'étalonnage et d'alignement, autres que ceux visés aux
paragraphes 7B001 à 7B003, conçus ou modifiés pour être
utilisés avec les équipements visés au paragraphe 7A.2000R1334 — FR — 19.01.2002 — 003.001 — 185
▼M3
7C Matériaux
Néant.2000R1334 — FR — 19.01.2002 — 003.001 — 186
▼M3
7D Logiciel
7D001 "Logiciel" spécialement conçu ou modifié pour le "développe-
ment" ou la "production" des équipements visés aux sous-
catégories 7A ou 7B.
7D002 "Code source" pour l'"utilisation" de tout équipement de naviga-
tion à inertie, y compris les équipements à inertie non visés aux
paragraphes 7A003 ou 7A004, ou systèmes de référence de cap et
d'attitude (AHRS).
Note: Le paragraphe 7D002 ne vise pas le "code source" pour
l'"utilisation" des systèmes de référence de cap et
d'attitude à cardan.
Note technique:
Les systèmes de référence de cap et d'attitude (AHRS) diffèrent
généralement des systèmes de navigation à inertie car ils
fournissent des informations relatives au cap et à l'attitude et ne
fournissent habituellement pas d'information ayant trait à
l'accélération, à la vitesse et à la position associées aux systèmes
de navigation à inertie.
7D003 Autres "logiciels", comme suit:
a. "logiciel" spécialement conçu ou modifié afin d'améliorer les
performances opérationnelles ou de réduire l'erreur de naviga-
tion des systèmes jusqu'aux niveau définis aux paragraphes
7A003 ou 7A004;
b. "code source" pour systèmes intégrés hybrides améliorant les
performances opérationnelles ou réduisant l'erreur de naviga-
tion des systèmes jusqu'au niveau défini au paragraphe 7A003,
en combinant de façon continue des données inertielles avec
l'une des données de navigation suivantes:
1. vitesse de radar Doppler;
2. références de positionnement global par satellite (GPS ou
GLONASS); ou
3. base de données de terrain;
c. "code source" pour systèmes aéro-électroniques (avionique) ou
de mission intégrés combinant des données de capteurs et
employant des "systèmes experts";
d. "code source" pour le "développement" de l'un des systèmes
suivants:
1. systèmes numériques de gestion de vol pour la "commande
totale de vol";
2. systèmes de commande intégrés de la propulsion et du vol;3. systèmes de commande de vol électriques ou à fibres
optiques;
4. "systèmes de commande active de vol" à tolérance de panne
ou à auto-reconfiguration;
5. équipements de bord de goniométrie automatiques;
6. centrales aérodynamiques utilisant des mesures de prises
statiques de surface;
ou
7. visuels tête haute de type à trame ou visuels à trois
dimensions;
e. "logiciel" de conception assistée par ordinateur (CAO)
spécialement conçu pour le "développement" de "systèmes de
commande active de vol", de commandes de vol électriques ou
à fibres optiques à plusieurs axes ou de "systèmes anti-couple à
commande par circulation ou systèmes de commande de
direction à commande par circulation" pour hélicoptères, dont
la "technologie" est visée aux alinéas 7E004.b., 7E004.c.1. ou
7E004.c.2.
7D101 "Logiciel" spécialement conçu ou modifié pour l'"utilisation" des
équipements visés aux paragraphes 7A001 à 7A006, 7A101 à
7A106, 7A115, 7A116.a., 7A116.b., 7B002, 7B003, 7B102 ou
7B103.
7D102 "Logiciel" d'intégration comme suit:
a. "logiciel" d'intégration pour les équipements visés à l'alinéa
7A103.b.;2000R1334 — FR — 19.01.2002 — 003.001 — 187
▼M3
b. "logiciel" d'intégration spécialement conçu pour les équipe-
ments visés au paragraphe 7A003 ou à l'alinéa 7A103.a.
7D103 "Logiciel" spécialement conçu pour la modélisation ou la
simulationdes "sous-en sembles de guidage" visés au paragraphe
7A117 ou pour la conception de leur intégration avec les lanceurs
et véhicules spatiaux visés au paragraphe 9A004 ou les fusées
sondes visées au paragraphe 9A104.
Note: Le "logiciel" visé au paragraphe 7D103 demeure sous
contrôle lorsqu'il est associé au matériel spécialement
conçu visé au paragraphe 4A102.2000R1334 — FR — 19.01.2002 — 003.001 — 188
▼M3
7E Technologie
7E001 Technologie, au sens de la note générale relative à la technologie,
pour le "développement" des équipements ou du "logiciel" visés
aux sous-catégories 7A, 7B ou 7D.
7E002 Technologie, au sens de la note générale relative à la technologie,
pour la "production" des équipements visés aux sous-catégories 7A
ou 7B.
7E003 Technologie, au sens de la note générale relative à la technologie,
pour la réparation, la révision ou la rénovation des équipements
visés aux paragraphes 7A001 à 7A004.
Note: Le paragraphe 7E003 ne vise pas la "technologie" de
maintenance directement liée à l'étalonnage, à la dépose
et au remplacement d'unités remplaçables en piste (URP)
et d'unités remplaçables en atelier (URA) endommagées
ou inutilisables d'"aéronefs civils", telle que décrite par
la maintenance de niveau I ou la maintenance de niveau
II.
NB: Voir notes techniques au paragraphe 7B001.
7E004 Autres "technologies" comme suit:
a. "technologie" pour le "développement" ou la "production" de:
1. matériels goniométriques automatiques de bord opérant à
des fréquences supérieures à 5 MHz;
2. centrales aérodynamiques utilisant exclusivement des
mesures de prises statiques de peau, c'est-à-dire qui
éliminent la nécessité de capteurs aérodynamiques conven-
tionnels;
3. visuels tête haute de type à trame ou visuels à trois
dimensions pour "aéronefs";
4. systèmes de navigation à inertie ou gyro-astro-compas
contenant des accéléromètres ou des gyroscopes visés aux
paragraphes 7A001 ou 7A002;
5. actionneurs électriques (à savoir, ensembles d'actionneurs
électromécaniques, électrohydrostatiques et intégrés) spécia-
lement conçus pour la "commande de vol primaire";
6. "réseau de capteurs optiques de commande de vol"
spécialement conçu pour la mise en œuvre de "systèmes
de commande active de vol";
b. "technologie" de "développement", comme suit, pour les
"systèmes de commande active de vol" (y compris commande
électrique ou à fibres optiques):
1. conception de configuration pour l'interconnexion de
plusieurs éléments de traitement micro-électroniques (calcu-
lateurs embarqués) afinde réaliser le "traitemen t entemps
réel" envue de la mise enœuvre des lois de con trôle;
2. compensation des lois de contrôle pour tenir compte de
l'emplacement des capteurs ou des charges dynamiques de la
cellule, c'est-à-dire compensation de l'environnement vibra-
toire des capteurs ou de la modificationde l'emplacemen t
des capteurs par rapport au centre de gravité;
3. gestion électronique de la redondance des données ou de la
redondance des systèmes, pour la détection de pannes, la
tolérance de pannes, la localisation de pannes ou la
reconfiguration;
Note: L'alinéa 7E004.b.3. ne vise pas la "technologie" de
conception de redondance matérielle.
4. commande de vol permettant la reconfiguration en vol des
commandes de force et de moment pour la commande
autonome en temps réel du véhicule aérien;
5. intégration de données de commande de vol numérique, de
commande de navigation et de propulsion en un système
numérique de gestion de vol pour la "commande totale de
vol";
Note: L'alinéa 7E004.b.5. ne vise pas:
a. la "technologie" de "développement" pour
l'intégration de données de commande de vol2000R1334 — FR — 19.01.2002 — 003.001 — 189
▼M3
numérique, de commande de navigation et de
propulsion en un système numérique de gestion
de vol pour l'"optimisation de la trajectoire de
vol";
b. la "technologie" pour le "développement" de
systèmes aéronautiques d'instruments de vol
intégrés exclusivement pour la navigation ou
les approches VOR, DME, ILS ou MLS.
6. commande de vol numérique pleine autorité ou systèmes de
gestion de mission multi-capteurs comprenant des "systèmes
experts"
NB.: En ce qui concerne la "technologie" des commandes
électroniques numériques de moteur pleine autorité
("FADEC"), voir le paragraphe 9E003.a.9.
c. "technologie" pour le "développement" d'organes d'hélicoptère,
comme suit:
1. commandes de vol électriques ou à fibres optiques à
plusieurs axes qui combinent en un seul élément de
commande deux au moins des fonctions suivantes:
a. commande de pas général;
b. commande de pas cyclique;
c. commande de lacet;
2. "systèmes anti-couple à commande par circulation ou
systèmes de commande de direction à commande par
circulation";
3. pales de rotor d'hélicoptères comportant des surfaces
aérodynamiques à géométrie variable pour systèmes utilisant
la commande individuelle des pales.
7E101 "Technologie", au sens de la note générale relative à la
technologie, pour l'"utilisation" des équipements visés aux
paragraphes 7A001 à 7A006, 7A101 à 7A106, 7A115 à 7A117,
7B001, 7B002, 7B003, 7B102, 7B103, 7D101 à 7D103.
7E102 "Technologie" pour la protection des sous-systèmes d'aéro-
électronique et électriques contre les risques d'impulsion élec-
tromagnétique (IEM) et de perturbation électromagnétique
provenant de sources extérieures, comme suit:
a. "technologie" de conception des systèmes de protection;
b. "technologie" de conception de la configuration des circuits et
sous-systèmes électriques résistant aux rayonnements;
c. "technologie" de conception pour la détermination des critères
de renforcement aux rayonnements afférents aux technologies
visées aux alinéas 7A102.a. et 7A102.b.
7E104 "Technologie" pour l'intégration des données de commandes de
vol, de guidage et de propulsionenunsystème de gestionde vol
pour l'optimisationde la trajectoire d'unsystème fusée.2000R1334 — FR — 19.01.2002 — 003.001 — 190
▼M3
CATÉGORIE 8
MARINE2000R1334 — FR — 19.01.2002 — 003.001 — 191
▼M3
8A Systèmes, équipements et composants
8A001 Véhicules submersibles et navires de surface, comme suit:
Note: Pour le statut des équipements pour véhicules submersi-
bles, voir:
— pour les matériels de télécommunications codés, la
catégorie 5 partie 2 "sécurité de l'information";
— pour les capteurs, la catégorie 6;
— pour le matériel de navigation, les catégories 7 et 8;— pour le matériel sous-marin, la sous-catégorie 8A.
a. véhicules submersibles habités, attachés, conçus pour fonc-
tionner à des profondeurs supérieures à 1000 m;
b. véhicules submersibles habités, non attachés, présentant l'une
des caractéristiques suivantes:
1. conçus pour un 'fonctionnement autonome' et ayant une
capacité de levage:
a. de 10 % ou plus de leur poids dans l'air;
et
b. de 15 kN ou plus;
2. conçus pour fonctionner à des profondeurs supérieures à
1 000 m; ou
3. présentant toutes les caractéristiques suivantes:
a. conçus pour transporter un équipage de quatre personnes
ou plus;
b. conçus pour un 'fonctionnement autonome' pendant 10
heures ou plus;
c. ayant un 'rayon d'action' de 25 milles nautiques ou plus;
et
d. ayant une longueur de 21 m ou moins;
Notes techniques:
1. À l'alinéa 8A001.b., on entend par 'fonctionnement
autonome' le fonctionnement d'un sous-marin entièrement
immergé, sans schnorchel, tous les systèmes fonctionnant,
et naviguant à la vitesse minimale à laquelle le sous-
marin peut contrôler en toute sécurité sa profondeur de
manière dynamique au moyen de ses seuls plans de
profondeur, n'ayant pas besoin d'un navire ou d'une base
de soutien logistique en surface, sur la côte ou au fond de
la mer, et possédant un système de propulsion utilisable
en plongée ou en surface.
2. À l'alinéa 8A001.b., on entend par 'rayon d'action', la
moitié de la distance maximale que peut parcourir un
véhicule submersible.
c. véhicules submersibles non habités, attachés, conçus pour
fonctionner à des profondeurs supérieures à 1 000 m et
présentant l'une des caractéristiques suivantes:
1. conçus pour des manœuvres autopropulsées au moyen de
moteurs de propulsionou de systèmes de poussée visés à
l'alinéa 8A002.a.2.; ou
2. disposant d'une liaison de données à fibres optiques;
d. véhicules submersibles non habités, non attachés, présentant
l'une des caractéristiques suivantes:
1. conçus pour déterminer une trajectoire par rapport à une
référence géographique quelconque, sansassistance humaine
entemps réel;
2. disposant d'une liaison de données ou de commande
acoustique; ou
3. disposant d'une liaison de données ou de commande à fibres
optiques supérieure à 1 000 m;
e. systèmes de récupération océanique ayant une capacité de
levage supérieure à 5 MN pour la récupérationd'objets situés à2000R1334 — FR — 19.01.2002 — 003.001 — 192
▼M3
des profondeurs supérieures à 250 m et présentant l'une des
caractéristiques suivantes:
1. systèmes dynamiques de positionnement capables de
maintenir la position à 20 m près d'un point indiqué par le
système de navigation; ou
2. systèmes d'intégration de navigation sur les fonds marins et
de navigation pour des profondeurs supérieures à 1 000 m
avec desprécisions de positionnement à 10m prèsd'unpoint
prédéterminé;
f. véhicules à effet de surface (de type à jupe complète) présentant
toutes les caractéristiques suivantes:
1. une vitesse maximale prévue, en pleine charge, supérieure à
30 nœuds avec une hauteur de vague significative de 1,25 m
(état de la mer de niveau 3) ou plus;
2. une pression de coussin supérieure à 3 830 Pa; et
3. un rapport de déplacement navire lège/pleine charge
inférieur à 0,70;
g. véhicules à effet de surface (de type à quilles latérales) ayant
une vitesse maximale prévue, en pleine charge, supérieure à 40
nœuds avec une hauteur de vague significative de 3,25 m (état
de la mer de niveau 5) ou plus;
h. hydroptères dotés de systèmes actifs pour la commande
automatique des systèmes d'ailes ayant une vitesse maximale
prévue, en pleine charge, de 40 nœuds ou plus avec une hauteur
de vague significative de 3,25 m (état de la mer de niveau 5) ou
plus;
i. 'bâtiments de surface à coques immergées' présentant l'une des
caractéristiques suivantes:
1. un déplacement, en pleine charge, supérieur à 500 tonnes,
avec une vitesse maximale prévue, en pleine charge,
supérieure à 35 nœuds avec une hauteur de vague
significative de 3,25 m (état de la mer de niveau 5) ou
plus;ou
2. un déplacement pleine charge supérieur à 1500 tonnes, avec
une vitesse maximale prévue, en pleine charge, supérieure à
25 nœuds avec une hauteur de vague significative de 4 m
(état de la mer de niveau 6) ou plus.
Note technique:
Les 'bâtiments de surface à coques immergées' sont définis par
la formule suivante: la ligne de flottaison pour un tirant d'eau
opérationnel donné doit être inférieure à 2 × (volume déplacé
pour ce tirant d'eau)2/3.
8A002 Systèmes et équipements, comme suit:
Note: Pour les systèmes de communications sous-marines, voir
la catégorie 5, partie 1 — Télécommunications.
a. systèmes et équipements spécialement conçus ou modifiés
pour les véhicules submersibles, conçus pour fonctionner à des
profondeurs supérieures à 1 000 m, comme suit:
1. enceintes ou coques pressurisées ayant undiamètre intérieur
maximal de la chambre supérieur à 1,5 m;
2. moteurs de propulsionou systèmes de poussée à couran t
continu;
3. câbles ombilicaux et leurs connecteurs, utilisant des fibres
optiques et comportant des éléments de force synthétiques;
b. systèmes spécialement conçus ou modifiés pour la commande
automatisée des déplacements d'équipements pour véhicules
submersibles visés au paragraphe 8A001, utilisant des
informations de navigation et comportant des asservissements
enboucle fermée:
1. permettant au véhicule de rejoindre à 10 m près un point
prédéterminé de la colonne d'eau;
2. maintenant la position du véhicule à 10 m près d'un point
prédéterminé de la colonne d'eau; ou
3. maintenant la position du véhicule à 10 m près, en suivant
un câble posé sur ou enfoui sous les fonds marins;2000R1334 — FR — 19.01.2002 — 003.001 — 193
▼M3
c. dispositifs de pénétration ou de connexion de coque à fibres
optiques;
d. systèmes de visionsous-marin s, comme suit:
1. systèmes de télévisionet caméras de télévision , comme
suit:
a. systèmes de télévision (comprenant une caméra, des
équipements de surveillance et de transmission de
signaux) ayant une résolution limite mesurée dans l'air
supérieure à 800 lignes et spécialement conçus ou
modifiés pour fonctionner à distance avec un véhicule
submersible;
b. caméras de télévision sous-marines ayant une résolution
limite mesurée dans l'air supérieure à 1 100 lignes;
c. caméras de télévision pour faible niveau lumineux
spécialement conçues ou modifiées pour l'usage sous-
marin contenant tous les éléments suivants:
1. des tubes intensificateurs d'image visés à l'alinéa
6A002.a.2.a.; et
2. plus de 150000 "pixels actifs" par élément de surface
sensible;
Note technique:
Dans le domaine de la télévision, la résolution limite est
une mesure de la résolution horizontale, généralement
exprimée par le nombre maximal de lignes par hauteur
d'image distinguées sur une mire, en suivant la norme
IEEE 208/1960 ou toute autre norme équivalente.
2. systèmes spécialement conçus ou modifiés pour fonctionner
à distance avec un véhicule sous-marin et employant des
techniques destinées à réduire les effets de la rétrodiffusion
lumineuse, y compris les dispositifs de tomoscopie en
lumière pulsée ou les systèmes "laser";
e. appareils photographiques spécialement conçus ou modifiés
pour l'usage sous-marin à une profondeur supérieure à 150 m,
dont le format du film est de 35 mm ou plus et comportant l'un
des éléments suivants:
1. annotation de la pellicule avec des données fournies par une
source extérieure à l'appareil;
2. correctionautomatique de la distan ce focale postérieure; ou
3. commande de compensation automatique spécialement
conçue pour pouvoir utiliser un boîtier de caméra sous-
marine à des profondeurs supérieures à 1000 m;
f. systèmes d'imagerie électronique spécialement conçus ou
modifiés pour l'usage sous-marin, capables de stocker
numériquement plus de 50 images impressionnées;
g. systèmes lumineux, comme suit, spécialement conçus ou
modifiés pour l'usage sous-marin:
1. systèmes lumineux stroboscopiques capables de fournir une
énergie lumineuse en sortie supérieure à 300 J par éclair et
de produire plus de 5 éclairs par seconde;
2. systèmes lumineux à arc à l'argon spécialement conçus pour
être utilisés à des profondeurs supérieures à 1 000 m;
h. "robots" spécialement conçus pour l'usage sous-marin,
commandés au moyen d'uncalculateur spécialisé à "commande
par programme enregistré", et présentant l'une des caractéristi-
ques suivantes:
1. systèmes de commande de "robot" utilisant des informa-
tions provenant de capteurs qui mesurent la force ou le
couple appliqués à unobjet extérieur, la distan ce d'unobjet
extérieur ou une perception tactile d'un objet extérieur par
le "robot"; ou
2. la capacité d'exercer une force de 250 N ou plus ou un
couple de 250 Nm ou plus et utilisant des alliages de titane
ou des matériaux "fibreux ou filamenteux" "composites"
dans leurs éléments de structure;2000R1334 — FR — 19.01.2002 — 003.001 — 194
▼M3
i. manipulateurs articulés télécommandés, spécialement conçus
ou modifiés pour être utilisés avec des véhicules submersibles
et présentant l'une des caractéristiques suivantes:
1. systèmes de commande de manipulateur utilisant des
informations provenant de capteurs qui mesurent le couple
ou la force appliqués à unobjet extérieur, ou un e perception
tactile d'unobjet extérieur par le man ipulateur; ou
2. commandés par des techniques maître-esclave proportion-
nelles ou au moyen d'un calculateur spécialisé à
"commande par programme enregistré" et disposant de 5
degrés de liberté de mouvement ou plus;
Note: Seules les fonctions comportant une commande
proportionnelle par rétroaction positionnelle ou
par calculateur spécialisé "commandé par
programme enregistré" sont prises en compte
lors de la détermination des degrés de liberté de
mouvement.
j. systèmes d'alimentation indépendants de l'air, comme suit,
spécialement conçus pour l'usage sous-marin:
1. systèmes d'alimentation indépendants de l'air à moteur à
cycle Brayton, ou Rankine, comprenant l'un des éléments
suivants:
a. systèmes d'épurationou d'absorptionspécialemen t
conçus pour l'élimination du gaz carbonique, de l'oxyde
de carbone et des microparticules provenant du recy-
clage de l'échappement du moteur;
b. systèmes spécialement conçus pour l'utilisation d'un gaz
monoatomique;
c. dispositifs ou boîtiers spécialement conçus pour la
réduction du bruit sous-marin à des fréquences de moins
de 10 kHz, ou dispositifs de montage spéciaux pour
l'amortissement des chocs; ou
d. systèmes spécialement conçus pour:
1. mettre enpressionles produits de la réactionou la
mise enforme du combustible;
2. stocker les produits de la réaction; et
3. décharger les produits de la réaction contre une
pressionde 100 kPa ou plus;
2. systèmes d'alimentation indépendants de l'air à moteur à
cycle diesel, comportant tous les éléments suivants:
a. systèmes d'épurationou d'absorptionspécialemen t
conçus pour l'élimination du gaz carbonique, de l'oxyde
de carbone et des microparticules provenant du recy-
clage de l'échappement du moteur;
b. systèmes spécialement conçus pour l'utilisation d'un gaz
monoatomique;
c. dispositifs ou boîtiers spécialement conçus pour la
réduction du bruit sous-marin à des fréquences de moins
de 10 kHz, ou dispositifs de montage spéciaux pour
l'amortissement des chocs; et
d. systèmes d'échappement spécialement conçus, qui ne
déchargent pas de façon continue les produits de la
combustion;
3. systèmes d'alimentation indépendants de l'air utilisant des
piles à combustible ayant une puissance de sortie de plus de
2 kW et comportant l'un des éléments suivants:
a. dispositifs ou boîtiers spécialement conçus pour la
réduction du bruit sous-marin à des fréquences de moins
de 10 kHz, ou dispositifs de montage spéciaux pour
l'amortissement des chocs; ou
b. systèmes spécialement conçus pour:
1. mettre enpressionles produits de la réactionou la
mise enforme du combustible;
2. stocker les produits de la réaction; et
3. décharger les produits de la réaction contre une
pressionde 100 kPa ou plus;2000R1334 — FR — 19.01.2002 — 003.001 — 195
▼M3
4. systèmes d'alimentation indépendants de l'air à moteur à
cycle Stirling, comportant tous les éléments suivants:
a. dispositifs ou boîtiers spécialement conçus pour la
réduction du bruit sous-marin à des fréquences de moins
de 10 kHz, ou dispositifs de montage spéciaux pour
l'amortissement des chocs; et
b. systèmes d'échappement spécialement conçus, qui
déchargent les produits de la réaction contre une
pressionde 100 kPa ou plus;
k. jupes, joints et doigts présentant l'une des caractéristiques
suivantes:
1. conçus pour des pressions de coussin de 3830 Pa ou plus,
fonctionnant avec une hauteur de vague significative de
1,25 m (état de la mer de niveau 3) ou plus et spécialement
conçus pour les véhicules à effet de surface (de type à jupe
complète) visés à l'alinéa 8A001.f.; ou
2. conçus pour des pressions de coussin de 6224 Pa ou plus,
fonctionnant avec une hauteur de vague significative de
3,25 m (état de la mer de niveau 5) ou plus et spécialement
conçus pour les véhicules à effet de surface (de type à
quilles latérales) visés à l'alinéa 8A001.g.;
l. hélices d'élévationprévues pour plus de 400 kW et
spécialement conçues pour les véhicules à effet de surface
visés aux alinéas 8A001.f. ou 8A001.g.;
m. ailes pour hydroptères à phénomène de sous-cavitation et de
sur-cavitation totalement immergées spécialement conçues
pour les hydroptères visés à l'alinéa 8A001.h.;
n. systèmes actifs spécialement conçus ou modifiés pour le
contrôle automatique dumouvement causé par la mer, pour des
véhicules ou navires visés aux alinéas 8A001.f., 8A001.g.,
8A001.h. ou 8A001.i.;
o. hélices, systèmes de transmission de puissance, systèmes de
génération de puissance et systèmes de réduction du bruit,
comme suit:
1. hélices propulsives ou systèmes de transmission de
puissance, comme suit, spécialement conçus pour les
véhicules à effet de surface (de type à jupe complète ou
de type à quilles latérales), hydroptères ou bâtiments de
surface à coques immergées visés aux alinéas 8A001.f.,
8A001.g., 8A001.h. ou 8A001.i.:
a. hélices à sur-cavitation, surventilées, partiellement
immergées ou pénétrant la surface, prévues pour plus
de 7,5 MW;
b. systèmes d'hélices contrarotatives prévus pour plus de
15 MW;
c. systèmes utilisant des techniques de distribution ou de
redressement pour la régularisation du flux dans les
hélices;
d. engrenages réducteurs légers à haute performance
(facteur K supérieur à 300);
e. systèmes d'arbres de transmission, comprenant des
composants en matériaux "composites", capables de
transmettre plus de 1 MW;
2. hélices propulsives, systèmes de génération ou de trans-
mission de puissance destinés à être utilisés sur des navires,
comme suit:
a. hélices à pas réglable et ensemble de moyeux prévus
pour plus de 30 MW;
b. moteurs de propulsionélectrique à refroidissemen t
interne par liquide ayant une puissance de sortie
supérieure à 2,5 MW;
c. moteurs de propulsion"supracon ducteurs" ou moteurs de
propulsion électriques à aimant permanent, ayant une
puissance de sortie supérieure à 0,1 MW;
d. systèmes d'arbres de transmission, comprenant des
composants en matériaux "composites", capables de
transmettre plus de 2 MW;2000R1334 — FR — 19.01.2002 — 003.001 — 196
▼M3
e. systèmes d'hélices ventilées ou à base ventilée prévus
pour plus de 2,5 MW;
3. systèmes de réductiondu bruit destin és à être utilisés sur
des navires d'un déplacement égal ou supérieur à 1000
tonnes, comme suit:
a. systèmes qui atténuent le bruit sous-marin à des
fréquences inférieures à 500 Hz et consistent en
montages acoustiques composés, destinés à l'isolation
acoustique de moteurs Diesel, de groupes électrogènes à
diesel, de turbines à gaz, de groupes électrogènes à
turbine à gaz, de moteurs de propulsion ou d'engrenages
de réduction de la propulsion, spécialement conçus pour
l'isolation du bruit ou des vibrations et ayant une masse
intermédiaire supérieure à 30 % de l'équipement devant
être monté;
b. systèmes actifs de réduction ou d'annulation du bruit, ou
paliers magnétiques, spécialement conçus pour systèmes
de transmission de puissance, et comportant des
systèmes de commande électronique, capables de réduire
activement les vibrations des équipements en générant
des signaux antibruit ou antivibration directement à la
source;
p. systèmes carénés (pompes hélices) ayant une puissance de
sortie supérieure à 2,5 MW qui utilisent des techniques de
tuyères divergentes et d'aubages redresseurs pour le condi-
tionnement du flux afin d'améliorer l'efficacité de propulsion
ou de réduire le bruit sous-marin généré par cette dernière;
q. appareils de plongée sous-marine autonomes, en circuit fermé
ou semi-fermé (réinspiration).
Note: L'alinéa 8A002.q. ne vise pas les appareils indivi-
duels à usage personnel qui accompagnent leur
utilisateur.2000R1334 — FR — 19.01.2002 — 003.001 — 197
▼M3
8BÉquipement d'essai, de contrôle et de production
8B001 Bassins d'essai de carène ayant un bruit de fond inférieur à 100 dB
(référence 1 µPa, 1 Hz), dans la gamme de fréquences comprise
entre 0 et 500 Hz, conçus pour mesurer les champs acoustiques
créés par unflux hydraulique autour des modèles de systèmes de
propulsion.2000R1334 — FR — 19.01.2002 — 003.001 — 198
▼M3
8C Matériaux
8C001 'Mousse syntactique' pour l'usage sous-marin présentant toutes les
caractéristiques suivantes:
a. conçue pour des profondeurs sous-marines supérieures à
1 000 m; et
b. ayant une densité inférieure à 561 kg/m3.
Note technique:
La 'mousse syntactique' est constituée de sphères de plastique ou
de verre creuses noyées dans une matrice de résine.2000R1334 — FR — 19.01.2002 — 003.001 — 199
▼M3
8D Logiciel
8D001 "Logiciel" spécialement conçu ou modifié pour le "développe-
ment", la "production" ou l'"utilisation" des équipements ou
matériaux visés aux sous-catégories 8A, 8B ou 8C.
8D002 "Logiciel" spécifique spécialement conçu ou modifié pour le
"développement", la "production", la réparation, la révision ou la
rénovation (réusinage) des hélices spécialement conçues pour la
réductiondu bruit sous-marin .2000R1334 — FR — 19.01.2002 — 003.001 — 200
▼M3
8E Technologie
8E001 "Technologie", au sens de la note générale relative à la
technologie, pour le "développement" ou la "production" des
équipements ou matériaux visés aux sous-catégories 8A, 8B ou
8C.
8E002 Autres "technologies", comme suit:
a. "technologie" pour le "développement", la "production", la
réparation, la révision ou la rénovation (réusinage) des hélices
spécialement conçues pour la réduction du bruit sous-marin;
b. "technologie" pour la révision oula rénovation des équipements
visés au paragraphe 8A001, aux alinéas 8A002.b., 8A002.j.,
8A002.o. ou 8A002.p.2000R1334 — FR — 19.01.2002 — 003.001 — 201
▼M3
CATÉGORIE 9
SYSTÈMES DE PROPULSION, VÉHICULES SPATIAUX ET ÉQUIPE-
MENTS CONNEXES2000R1334 — FR — 19.01.2002 — 003.001 — 202
▼M3
9A Systèmes, équipements et composants
N.B.: Pour les systèmes de propulsion conçus ou prévus pour
résister aux rayonnements neutroniques ou aux rayonne-
ments ionisants transitoires, voir la liste des matériels de
guerre.
9A001 Moteurs à turbine à gaz aéronautiques comportant l'une des
"technologies" visées à l'alinéa 9E003.a., comme suit:
N.B.: VOIR ÉGALEMENT 9A101.
a. non certifiés pour l'"aéronef civil" spécifique auquel ils sont
destinés;
b. non certifiés pour des utilisations civiles par les autorités
aéronautiques d'un "État participant";
c. conçus pour voler en croisière à une vitesse supérieure à Mach
1,2 pendant plus de 30 minutes.
9A002 'Moteurs à turbine à gaz marins' ayant une puissance continue ISO
égale ou supérieure à 24245 kW et une consommation spécifique
de carburant inférieure à 0,219 kg/kWh dans la plage de puissance
de 35 à 100 %, et leurs ensembles et composants spécialement
conçus
Note: L'expression 'moteur à turbine à gaz marin' comprend les
moteurs à turbine à gaz industriels ou dérivés de
l'aéronautique qui sont adaptés pour la génération de
puissance électrique ou la propulsion d'un navire.
9A003 Ensembles et composants spécialement conçus comportant l'une
des "technologies" visées à l'alinéa 9E003.a., pour les systèmes ci-
après de propulsionà moteurs à turbin e à gaz, comme suit:
a. visés au paragraphe 9A001;
b. dont la conception ou la production sont soit originaires d'un
"État non participant", soit d'une provenance inconnue du
constructeur.
9A004 Lanceurs spatiaux et "véhicules spatiaux".
N.B.: VOIR ÉGALEMENT 9A104.
Note: Le paragraphe 9A004 ne vise pas les charges utiles.
N.B.: Pour le statut des produits contenus dans les
charges utiles des "véhicules spatiaux", voir les
catégories pertinentes.
9A005 Systèmes de propulsion de fusées à propergol liquide contenant
l'undes systèmes ou composan ts visés au paragraphe 9A006.
N.B.: VOIR ÉGALEMENT 9A105 ET 9A119.
9A006 Systèmes et composants spécialement conçus pour les systèmes de
propulsionde fusées à propergol liquide, comme suit:
N.B.: VOIR ÉGALEMENT 9A106 ET 9A108.
a. réfrigérants cryogéniques, vases de Dewar embarqués,
conduites de chaleur cryogéniques ou systèmes cryogéniques
spécialement conçus pour être utilisés dans des véhicules
spatiaux et capables de limiter les pertes de fluide cryogénique
à moins de 30 % par an;
b. réservoirs cryogéniques ou systèmes de réfrigération en cycle
fermé capables d'assurer des températures égales ou inférieures
à 100 K (− 173 ºC) pour des "aéronefs" capables d'un vol
soutenu à des vitesses supérieures à Mach 3, des lanceurs ou
des "véhicules spatiaux";
c. systèmes de transfert ou de stockage de l'hydrogène pâteux;
d. turbopompes ou composants de pompe à haute pression
(supérieure à 17,5 MPa) ou leurs systèmes connexes d'entraî-
nement par turbine à génération de gaz ou à cycle d'expansion;
e. chambres de poussée à haute pression(supérieure à 10,6 MPa)
et leurs tuyères connexes;
f. dispositifs de stockage de propergol fonctionnant selon le
principe de la rétention capillaire ou de l'expulsion positive
(c'est-à-dire à vessies effondrables);2000R1334 — FR — 19.01.2002 — 003.001 — 203
▼M3
g. injecteurs de propergol liquide, dont les orifices individuels ont
un diamètre égal ou inférieur à 0,381 mm (une surface égale ou
inférieure à 1,14 × 10−3cm2pour les orifices non circulaires)
spécialement conçus pour les moteurs à propergol liquide;
h. chambres de poussée carbone-carbone monoblocs ou cônes
d'éjection carbone-carbone monoblocs ayant une densité supé-
rieure à 1,4 g/cm3et une résistance à la traction supérieure à
48 MPa.
9A007 Systèmes de propulsion de fusées à propergol solide présentant
l'une des caractéristiques suivantes:
N.B.: VOIR ÉGALEMENT 9A119.
a. capacité d'impulsiontotale supérieure à 1,1 MNs;
b. impulsionspécifique égale ou supérieure à 2,4 kNs/kg lorsque
l'écoulement de la tuyère est détendu aux conditions ambiantes
du niveau de la mer pour une pression de chambre ajustée de
7 MPa;
c. fractions de la masse par étage supérieur à 88 % et chargement
total de propergol solide supérieur à 86 %;
d. contenant l'un des composants visés au paragraphe 9A008; ou
e. systèmes de collage du propergol et d'isolationutilisan t le
principe de la liaison directe à l'enveloppe pour assurer une
"liaison mécanique solide" ou constituer une barrière à la
migrationchimique en tre le propergol solide et le matériau
d'isolationde l'en veloppe.
Note technique:
À l'alinéa 9A007.e., une 'liaison mécanique solide' est définie
comme ayant une force de liaison égale ou supérieure à la
résistance mécanique du propergol.
9A008 Composants, comme suit, spécialement conçus pour les systèmes
de propulsionde fusées à propergol solide:
N.B.: VOIR ÉGALEMENT 9A108.
a. systèmes de collage du propergol et d'isolationutilisan t des
revêtements pour assurer une 'liaison mécanique solide' ou
constituer une barrière à la migration chimique entre le
propergol solide et le matériau d'isolationde l'en veloppe;
Note technique:
À l'alinéa 9A008.a., une 'liaison mécanique solide' est définie
comme ayant une force de liaison égale ou supérieure à la
résistance mécanique du propergol.
b. enveloppes de moteurs en fibres "composites" bobinées ayant
un diamètre supérieur à 0,61 m ou des 'rapports de rendement
structurel (PV/W)' supérieurs à 25 km;
Note technique:
Le 'rapport de rendement structurel (PV/W)' est le produit de la
pression d'éclatement (P) par le volume (V) de l'enveloppe,
divisé par le poids total (W) de cette enveloppe.
c. tuyères ayant des niveaux de poussée dépassant 45 kN ou des
taux d'érosionde cols in férieurs à 0,075 mm/s;
d. tuyères mobiles ou systèmes de commande du vecteur poussée
par injection secondaire de fluide capables d'effectuer l'une des
opérations suivante:
1. mouvement omni-axial supérieur à ± 5º;
2. rotations de vecteur angulaire de 20º/s ou plus; ou
3. accélérations de vecteur angulaire de 40º/s2ou plus.
9A009 Systèmes de propulsionde fusées hybrides ayan t:
N.B.: VOIR ÉGALEMENT 9A109 ET 9A119.
a. une capacité d'impulsion totale supérieure à 1,1 MNs; ou
b. des niveaux de poussée supérieurs à 220 kN aux conditions
extérieures du vide.
9A010 Composants, systèmes et structures, spécialement conçus pour des
lanceurs, des systèmes de propulsion de lanceurs ou des "véhicules
spatiaux", comme suit:2000R1334 — FR — 19.01.2002 — 003.001 — 204
▼M3
N.B.: VOIR ÉGALEMENT 1A002 ET 9A110.
a. composants et structures, dépassant chacun 10 kg, spécialement
conçus pour des lanceurs, fabriqués à partir de matériaux
"composites" à "matrice" métallique, de matériaux "compo-sites" organiques, de matériaux à "matrice" céramique ou de
matériaux intermétalliques renforcés visés aux paragraphes
1C007 ou 1C010;
Note: La limitation de poids ci-dessus n'est pas applicable
aux cônes avant.
b. composants et structures, spécialement conçus pour les
systèmes de propulsionde lan ceurs visés aux paragraphes
9A005 à 9A009, fabriqués à partir de matériaux "composites" à
"matrice" métallique, de matériaux "composites" organiques, de
matériaux à "matrice" céramique ou de matériaux intermétal-
liques renforcés visés aux paragraphes 1C007 ou 1C010;
c. composants structurels et systèmes d'isolation, spécialement
conçus pour contrôler activement la réponse dynamique ou la
distorsiondes structures des "véhicules spatiaux";
d. moteurs à propergol liquide à impulsions ayant un rapport
poussée/poids égal ou supérieur à 1 kN/kg et untemps de
réponse (temps nécessaire pour atteindre 90 % de la poussée
nominale totale depuis le démarrage) inférieur à 30 ms.
9A011 Moteurs statoréacteurs, statoréacteurs à combustionsuperson ique
ou combinés, et leurs composants spécialement conçus.
N.B.: VOIR ÉGALEMENT 9A111 ET 9A118.
9A101 Turboréacteurs et turbopropulseurs légers (y compris les turbomé-
langeurs) utilisables dans les "missiles", autres que ceux visés au
paragraphe 9A001, comme suit:
a. moteurs présentant les deux caractéristiques suivantes:
1. poussée maximale supérieure à 1 000 N (non installé) à
l'exceptiondes moteurs certifiés pour des application s
civiles et dont la poussée excède 8 890 N (non installé); et
2. une consommation spécifique de 0,13 kg/N/h ou moins
(mesurée au niveau de la mer et dans des conditions
standard); ou
b. moteurs conçus ou modifiés pour être utilisés dans des
"missiles".
9A104 Fusées sondes, d'une portée d'au moins 300 km.
N.B.: VOIR ÉGALEMENT 9A004.
9A105 Moteurs fusée à propergol liquide comme suit:
N.B.: VOIR ÉGALEMENT 9A119.
a. moteurs fusée à propergol liquide utilisables dans des missiles,
autres que ceux visés au paragraphe 9A005, ayant une
impulsiontotale supérieure ou égale à 1,1 MNs;
b. moteurs fusée à propergol liquide utilisables dans des systèmes
complets de fusées ou des véhicules aérospatiaux sans
équipage, d'une portée d'au moins 300 km, autres que ceux
visés au paragraphe 9A005 ou à l'alinéa 9A105a, ayant une
impulsiontotale supérieure ou égale à 0,841 MNs.
9A106 Systèmes ou composants, autres que ceux visés au paragraphe
9A006, utilisables dans des "missiles", comme suit, spécialement
conçus pour les systèmes de propulsion de fusée à propergol
liquide:
a. chemises ablatives pour chambres de poussée ou de combus-
tion;
b. tuyères de fusée;
c. sous-système de commande du vecteur poussée;
Note technique:
Des moyens de commande du vecteur poussée visé à l'alinéa
9A106.c. sont, par exemple:
1. tuyère flexible;2000R1334 — FR — 19.01.2002 — 003.001 — 205
▼M3
2. injection de fluide ou de gaz secondaire;
3. moteur ou tuyère mobile;4. déviation du jet de gaz d'échappement (aubes de déviation
de jet ou sondes);
ou
5. correcteurs de poussée.
d. systèmes de commande de propergol liquide et en suspension(y
compris les oxydants), et leurs composants spécialement
conçus, conçus ou modifiés pour fonctionner en ambiancevibratoire de plus de 10 g efficaces entre 20 et 2000 Hz.
Note: l'alinéa 9A106.d ne vise que les servovalves et pompes
suivantes:
a. servovalves conçues pour des débits de 24 l/min ou
plus, sous une pression absolue égale ou supé-
rieure à 7 MPa, ayant un temps de réponse de
l'actionneur inférieur à 100 ms;
b. pompes, pour propergols liquides, dont l'arbre
tourne à une vitesse égale ou supérieure à 8 000 tr/
mn ou dont la pression de sortie est égale ou
supérieure à 7 MPa.
9A107 Moteurs fusée à propergol solide, utilisables dans des systèmes
complets de fusées ou des véhicules aérospatiaux sans équipage,
d'une portée d'au moins 300 km, autres que ceux visés au
paragraphe 9A007, ayant une capacité d'impulsion totale supé-
rieure ou égale à 0,841 MNs.
N.B.: VOIR ÉGALEMENT 9A119.
9A108 Composants, autres que ceux visés au paragraphe 9A008,
utilisables dans des "missiles", comme suit, spécialement conçus
pour les systèmes de propulsionde fusée à propergol solide:
a. enveloppes de moteurs fusée et leurs "revêtements intérieurs" et
"isolation";
b. tuyères de fusées;
c. sous-systèmes de commande du vecteur poussée.
Note technique:
Des moyens de commande du vecteur poussée visé à l'alinéa
9A108.c. sont, par exemple:
1. tuyère flexible;
2. injection de fluide ou de gaz secondaire;
3. moteur ou tuyère mobile;
4. déviation du jet de gaz d'échappement (aubes de déviation
de jet ou sondes); ou
5. correcteurs de poussée.
9A109 Moteurs fusées hybrides, utilisables dans les "missiles", autres que
ceux visés au paragraphe 9A009, et leurs composants spécialement
conçus.
N.B.: VOIR ÉGALEMENT 9A119.
9A110 Structures composites, produits laminés, et produits fabriqués à
partir de ces structures, autres que ceux visés au paragraphe
9A010, spécialement conçus pour être utilisés dans les lanceurs
spatiaux visés au paragraphe 9A004 ou les fusées sondes visées au
paragraphe 9A104 ou dans les sous-systèmes visés aux para-
graphes 9A005, 9A007, à l'alinéa 9A105.a., aux paragraphes
9A106 à 9A108, 9A116 ou 9A119.
N.B.: VOIR ÉGALEMENT 1A002.
9A111 Réacteurs pulsés utilisables dans les "missiles", et leurs compo-
sants spécialement conçus.
N.B.: VOIR ÉGALEMENT 9A011 ET 9A118.
9A115 Équipements de soutien pour le lancement, conçus ou modifiés
pour être utilisés avec les lanceurs et véhicules spatiaux visés au2000R1334 — FR — 19.01.2002 — 003.001 — 206
▼M3
paragraphe 9A004 ou les fusées sondes visées au paragraphe
9A104, comme suit:
a. appareils et dispositifs pour la manutention, le contrôle, la mise
en œuvre et le lancement;
b. véhicules pour le transport, la manutention, le contrôle, la mise
en œuvre ou le lancement.
9A116 Véhicules de rentrée, utilisables dans les "missiles", et leurs
équipements spécialement conçus ou modifiés, comme suit:
a. véhicules de rentrée;
b. boucliers thermiques et leurs composants en matériaux
céramiques ou ablatifs;
c. dissipateurs de chaleur et leurs composants en matériaux légers,
à haute capacité thermique;
d. équipements électroniques spécialement conçus pour les
véhicules de rentrée.
9A117 Dispositifs de séparation d'étages, de séparation, et interétages,
utilisables dans les "missiles".
9A118 Dispositifs de réglage de la combustion, utilisables dans les
moteurs visés aux paragraphes 9A011 ou 9A111 qui peuvent être
utilisés dans les "missiles".
9A119 Étages de fusées pris isolément, utilisables dans des systèmes
complets de fusées ou des véhicules aériens sans équipage, d'une
portée d'au moins 300 km, autres que ceux visés aux paragraphes
9A005, 9A007, 9A009, 9A105, 9A107 et 9A109.2000R1334 — FR — 19.01.2002 — 003.001 — 207
▼M3
9BÉquipements d'essai, de contrôle et de production
9B001 Équipements, outillage et montages spécialement conçus, comme
suit, pour la fabricationdes aubes mobiles, aubes fixes ou
carénages d'extrémité moulés de turbine à gaz:
a. équipements de solidification dirigée ou de moulage mono-
cristallin;
b. noyaux ou carters en céramique.
9B002 Systèmes de commande en ligne (temps réel), instruments (y
compris les capteurs) ou équipements automatisés d'acquisition et
de traitement de données, spécialement conçus pour le "dévelop-
pement" de moteurs à turbines à gaz, de leurs ensembles ou
composants, comportant des "technologies" visées à l'alinéa
9E003.a.
9B003 Équipements spécialement conçus pour la "production" ou l'essai
de joints-balais de turbines à gaz conçus pour fonctionner à des
vitesses à l'extrémité du joint supérieures à 335 m/s et à des
températures supérieures à 773 K (500 ºC), et leurs pièces ou
accessoires spécialement conçus.
9B004 Outils, matrices ou montages pour l'assemblage à l'état solide de
liaisons aubage-disque en "superalliage", en titane ou intermétal-
liques visées aux alinéas 9E003.a.3. ou 9E003.a.6., pour les
turbines à gaz.
9B005 Systèmes de commande en ligne (temps réel), instruments (y
compris les capteurs) ou équipements automatisés d'acquisition et
de traitement de données, spécialement conçus pour l'emploi avec
les souffleries ou les dispositifs suivants:
N.B.: VOIR ÉGALEMENT 9B105.
a. souffleries conçues pour des vitesses égales ou supérieurs à
Mach 1,2, à l'exclusion de celles spécialement conçues à des
fins d'enseignement et ayant une 'dimension de la veine d'essai'
(mesurée latéralement) inférieure à 250 mm;
Note technique:
La 'dimension de la veine d'essai' visée à l'alinéa 9B005.a. est
soit le diamètre du cercle, soit le côté du carré, soit la longueur
du rectangle, mesurée à la partie la plus grande de la veine.
b. dispositifs pour la simulation d'environnement d'écoulement à
des vitesses supérieures à Mach 5, y compris les tubes à choc à
gaz chauffés, les souffleries à arc à plasma, les tubes à ondes de
choc, les souffleries à ondes de choc, les souffleries à gaz et les
canons à gaz léger; ou
c. souffleries ou dispositifs, autres que ceux à deux dimensions,
capables de simuler un écoulement à un nombre de Reynolds
supérieur à 25 × 106.
9B006 Équipements d'essai aux vibrations acoustiques spécialement
conçus, capables de produire une pression sonore à des niveaux
égaux ou supérieurs à 160 dB (rapporté à 20 TPa), avec une
puissance de sortie nominale égale ou supérieure à 4 kW, à une
température de la cellule d'essaisupérieure à 1 273K(1 000ºC),et
leurs dispositifs de chauffage à quartz spécialement conçus.
N.B.: VOIR ÉGALEMENT 9B106.
9B007 Équipements spécialement conçus pour le contrôle de l'intégrité
des moteurs-fusées au moyen de techniques d'essai non destruc-
tives autres que l'analyse planaire aux rayons X ou l'analyse
physique ou chimique de base.
9B008 Transducteurs spécialement conçus pour la mesure directe du
frottement sur le revêtement des parois d'un écoulement d'essai
ayant une température de stagnation supérieure à 833 K (560 ºC).
9B009 Outillage spécialement conçu pour la production de composants de
rotor de moteur à turbine obtenus par métallurgie des poudres,
capables de fonctionner à des niveaux de contrainte égaux ou
supérieurs à 60 % de la résistance limite à la rupture (UTS) et à
des températures du métal égales ou supérieures à 873 K (600 ºC).
9B105 Souffleries conçues pour des vitesses de Mach 0,9 ou plus,
utilisables pour les "missiles" et leurs sous-systèmes.
N.B.: VOIR ÉGALEMENT 9B005.2000R1334 — FR — 19.01.2002 — 003.001 — 208
▼M3
9B106 Chambres d'environnement et chambres anéchoïdes, comme suit:
a. chambres d'environnement capables de simuler les conditions
de vol suivantes:
1. environnement vibratoire de 10 g eff. (rms) ou plus entre 20
et 2 000 Hz communiquant des forces de 5 kN ou plus; et
2. altitudes supérieures ou égales à 15000 m; ou
3. fourchette de températures allant d'au moins 223 K(− 50 ºC)
à 398 K (+ 125 ºC);
b. chambres anéchoïdes capables de simuler les conditions de vol
suivantes:
1. environnement acoustique à un niveau de pression de bruit
total de 140 dB (par rapport à 20 TPa) ou plus ou avec un
niveau de sortie de puissance de 4 kilowatts ou plus; et
2. altitudes supérieures ou égales à 15000 m; ou
3. fourchette de températures allant d'au moins 223 K(− 50 ºC)
à 398 K (+ 125 ºC).
9B115 "Équipements de production" spécialement conçus pour les
systèmes, sous-systèmes et composants visés aux paragraphes
9A005 à 9A009, 9A011, 9A101, 9A105 à 9A109, 9A111 et 9A116
à 9A119.
9B116 "Équipements de production" spécialement conçus pour les
lanceurs spatiaux visés au paragraphe 9A004 ou les systèmes,
sous-systèmes et composants visés aux paragraphes 9A005 à
9A009, 9A011, 9A101, 9A104 à 9A109, 9A111 et 9A116 à
9A119.
9B117 Bancs d'essai et bancs d'essai à frein pour fusées et moteurs fusée à
propergol solide ou liquide, présentant l'une des caractéristiques
suivantes:
a. capables de soutenir une poussée supérieure à 90 kN; ou
b. capables de mesurer simultanément les trois composantes de la
poussée.2000R1334 — FR — 19.01.2002 — 003.001 — 209
▼M3
9C Matériaux
9C110 Fibres préimprégnées de résine et préformés fibreux à revêtement
métallique pour structures composites, produits laminés et produits
fabriqués visés au paragraphe 9A110, faits avec une matrice
organique ou métallique utilisant des renforts fibreux ou
filamentaires possédant une "résistance à la traction spécifique"
supérieure à 7,62 × 104m et un"module spécifique" supérieur à
3,18 × 106m.
N.B.: VOIR ÉGALEMENT 1C010 ET 1C210.
Note: Le paragraphe 9C110 ne vise que les fibres préimpré-
gnées de résine utilisant une résine dont la température
de transition vitreuse (Tg), déterminée selon la norme
ASTM D4065 ou selon une norme équivalente, est
supérieure à 418 K (145 ºC) après polymérisation.2000R1334 — FR — 19.01.2002 — 003.001 — 210
▼M3
9D Logiciel
9D001 "Logiciel" spécialement conçu ou modifié pour le "développe-
ment" des équipements ou de la "technologie" visés aux sous-
catégories 9A, 9B ou au paragraphe 9E003.
9D002 "Logiciel" spécialement conçu ou modifié pourla "production" des
équipements visés aux sous-catégories 9A ou 9B.
9D003 "Logiciel" spécialement conçu ou modifié pour l'"utilisation" des
"commandes électroniques numériques de moteur pleine autorité"
("FADEC") pour les systèmes de propulsionvisés à la sous-
catégorie 9A, ou pour les équipements visés à la sous-catégorie
9B, comme suit:
a. "logiciel" des commandes électroniques numériques pour
systèmes de propulsion, installations d'essai aérospatiales ou
installations d'essai de moteurs aéronautiques aérobies;
b. "logiciel" à tolérance de pannes utilisé dans les systèmes
FADEC pour les systèmes de propulsion et les installations
d'essai connexes.
9D004 Autres "logiciels", comme suit:
a. "logiciel" d'écoulement 2 D ou 3 D visqueux, validé avec des
données d'essai obtenues en souffleries ou en vol, nécessaire à
la modélisation détaillée de l'écoulement dans les moteurs;
b. "logiciel" pour l'essai de moteurs à turbine à gaz aéronautiques
ou de leurs ensembles ou composants, spécialement conçu pour
l'acquisition, la compression et l'analyse de données en temps
réel, et capable de commande rétroactive, y compris les
ajustements dynamiques à apporter aux matériels subissant
l'essai ou aux conditions d'essai, pendant l'essai;
c. "logiciel" spécialement conçu pour la commande de la
solidification dirigée ou des moulages monocristallins;
d. "logiciel" en"code source", "code objet" ou code machin e,
nécessaire à l'"utilisation" de systèmes de compensation active
pour la commande du jeu d'extrémité des pales de rotor.
Note: L'alinéa 09D004.d. ne vise pas le "logiciel" intégré
dans des équipements libres ou nécessaire aux
opérations de maintenance liées à l'étalonnage ou à
la réparation, ou nécessaire à la mise à jour du
système de commande de jeu par compensation active.
9D101 "Logiciels" spécialement conçus pour "l'utilisation" des biens visés
aux paragraphes 9B105, 9B106, 9B116 ou 9B117.
9D103 "Logiciel" spécialement conçu pour la modélisation, la simulation
ou la conception d'intégration des lanceurs spatiaux visés au
paragraphe 9A004 ou des fusées sondes visées au paragraphe
9A104, ou des sous-systèmes visés aux paragraphes 9A005,
9A007, à l'alinéa 9A105.a., aux paragraphes 9A106, 9A108,
9A116 ou 9A119.
Note: Le "logiciel" visé au paragraphe 9D103 reste soumis à
contrôle lorsqu'il est associé au matériel spécialement
conçu visé au paragraphe 4A102.
9D104 "Logiciel" spécialement conçu ou modifié pour l'"utilisation" des
biens visés aux paragraphes 9A001, 9A005, aux alinéas 9A006.d.,
9A006.g., 9A007.a., 9A008.d., 9A009.a., 9A010.d., aux paragra-
phes 9A011, 9A101, 9A105, aux alinéas 9A106.c., 9A106.d., au
paragraphe 9A107, à l'alinéa 9A108.c., aux paragraphes 9A109,
9A111, aux alinéas 9A115.a., 9A116.d., aux paragraphes 9A117
ou 9A118.
9D105 "Logiciel" qui coordonne le fonctionnement de plus d'un sous-
système, spécialement conçu ou modifié pour être utilisé dans les
lanceurs spatiaux visés au paragraphe 9A004 ou les fusées sondes
visées au paragraphe 9A104.2000R1334 — FR — 19.01.2002 — 003.001 — 211
▼M3
9E Technologie
Note: La "technologie" de "développement" ou de "production"
visée aux paragraphes 9E001 à 9E003 pour moteurs à
turbine à gaz, reste soumise à contrôle lorsqu'elle est
utilisée comme "technologie" d'"utilisation" pour la
réparation, la rénovation et la révision. Les données
techniques, les schémas ou la documentation destinés aux
activités de maintenance liées directement à l'étalonnage,
à la dépose ou au remplacement d'unités interchangea-
bles en ligne endommagées ou inutilisables, y compris le
remplacement de moteurs entiers ou de modules de
moteurs, sont exclus du contrôle.
9E001 "Technologie", au sens de la note générale relative à la
technologie, pour le "développement" des équipements ou du
"logiciel" visés à l'alinéa 9A001.c., aux paragraphes 9A004 à
9A011, aux sous-catégories 9B ou 9D.
9E002 "Technologie", au sens de la note générale relative à la
technologie, pour la "production" des équipements visés à l'alinéa
9A001.c., aux paragraphes 9A004 à 9A011 ou à la sous-catégorie
9B.
N.B.: Pour la "technologie" de réparation des structures,
produits laminés ou matériaux sous contrôle, voir l'alinéa
1E002.f.
9E003 Autres "technologies", comme suit:
a. "technologie" "nécessaire" au "développement" ou à la
"production" de l'un des composants ou systèmes de moteurs
à turbine à gaz suivants:
1. aubes mobiles, aubes fixes ou carénages d'extrémités de
turbine à gaz obtenus par solidification dirigée (SD) ou
monocristaux d'alliages ayant (dans l'orientation 001 de
l'indice de Miller) une durée de vie excédant 400 heures à
1 273 K (1 000 ºC) sousune contrainte de 200 MPa, fondée
sur les valeurs moyennes de cette propriété;
2. chambres de combustion à dômes multiples fonctionnant à
des températures moyennes à la sortie du brûleur supé-
rieures à 1 813 K (1 540 ºC) ou chambres de combustion
comprenant des chemises de combustion thermiquement
découplées, des chemises non métalliques ou des carters
non métalliques;
3. composants fabriqués à partir d'un des matériaux suivants:
a. "composites" organiques conçus pour fonctionner au-
dessus de 588 K (315 ºC);
b. matériaux "composites" à "matrice" métallique, maté-
riaux à "matrice" céramique, matériaux intermétalliques
ou intermétalliques renforcés visés au paragraphe
1C007;ou
c. matériaux "composites" visés au paragraphe 1C010 et
fabriqués avec les résines visées au paragraphe 1C008;
4. aubes mobiles, aubes fixes ou carénages d'extrémité ou
autres composants de turbine, non refroidis, conçus pour
fonctionner à des températures du gaz égales ou supé-
rieures à 1 323 K (1 050 ºC);
5. aubes mobiles, aubes fixes ou carénages d'extrémité de
turbine, refroidis, autres que ceux décrits à l'alinéa
9E003.a.1., exposés à des températures du gaz égales ou
supérieures à 1 643 K (1 370 ºC);
6. liaisons aubage-disque au moyen de l'assemblage à l'état
solide;
7. composants de moteurs à turbine à gaz utilisant la
"technologie" du "soudage par diffusion", visé à l'alinéa
2E003.b.;
8. composants rotatifs de moteurs à turbine à gaz à tolérance
de dommages utilisant des matériaux obtenus par métal-
lurgie des poudres visés à l'alinéa 1C002.b.;
9. "FADEC" pour moteurs à turbine à gaz et moteurs
combinés, leurs composants et capteurs de diagnostic
connexes, et leurs composants connexes spécialement
conçus;2000R1334 — FR — 19.01.2002 — 003.001 — 212
▼M3
10. géométrie réglable de la veine et systèmes de commande
connexes pour:
a. turbines de générateur;
b. turbines de soufflante ou de travail;
c. tuyères d'éjection;
Note 1: La géométrie réglable de la veine et les
systèmes de commande connexes visés à l'alinéa
9E003.a.10. ne comprennent pas les aubages
directeurs, les soufflantes à pas variables, les
redresseurs variables ou les vannes de décharge
pour compresseurs.
Note 2: L'alinéa 9E003.a.10., ne vise pas la "techno-
logie" de "développement" ou de "production"
pour la géométrie réglable de la veine pour
l'inverseur.
11. pales de soufflantes creuses à corde large sans amortisseur;
b. "technologie" "nécessaire" au "développement" ou à la
"production" de l'un des éléments suivants:
1. maquettes de souffleries, équipées de capteurs sans intrusion
et pourvues d'un moyen de transmission des données
provenant des capteurs vers le système de saisie de donnée;
ou
2. pales d'hélice ou turbopropulseurs enmatériaux "compo-
sites" capables d'absorber plus de 2 000 kW à des vitesses de
vol supérieures à Mach 0,55;
c. "technologie" "nécessaire" au "développement" ou à la
"production" des composants de moteurs à turbine à gaz
utilisant des procédés de perçage à "laser", à jet d'eau ou à
usinage électrochimique ou électro-érosif, destinés à réaliser
des trous présentant l'un des ensembles de caractéristiques
suivants:
1. toutes les caractéristiques suivantes:
a. une profondeur supérieure à quatre fois leur diamètre;
b. undiamètre in férieur à 0,76 mm; et
c. un angle d'incidence égal ou inférieur à 25º; ou
2. toutes les caractéristiques suivantes:
a. une profondeur supérieure à cinq fois leur diamètre;
b. undiamètre in férieur à 0,4 mm; et
c. un angle d'incidence supérieur à 25º;
Note technique:
Aux fins de l'alinéa 9E003.c., l'angle d'incidence est
mesuré à partir d'un plan tangentiel à la surface de la
voilure au point où l'axe du trou pénètre la surface de la
voilure.
d. "technologie" "nécessaire" au "développement" ou à la
"production" de systèmes de transmission d'énergie d'hélicop-
tères ou d'avions à voilure basculante ou à rotor basculant;
e. "technologie" pour le "développement" ou la "production" de
systèmes de propulsionde véhicules terrestres à moteur Diesel
alternatif présentant toutes les caractéristiques suivantes:
1. 'volume parallélépipédique' égal ou inférieur à 1,2 m3;
2. puissance de sortie globale supérieure à 750 kW, fondée sur
la norme 80/1269/CEE ou sur la norme ISO 2534 ou leurs
équivalents nationaux; et
3. puissance volumique supérieure à 700 kW/m3du 'volume
parallélépipédique';
Note technique:
Le 'volume parallélépipédique' visé à l'alinéa 9E003.e.1. est le
produit de trois dimensions perpendiculaires mesurées de la
façon suivante:
longueur: la longueur du vilebrequin de la bride avant à la
face du volet;2000R1334 — FR — 19.01.2002 — 003.001 — 213
▼M3
largeur: la plus grande des dimensions suivantes:
a. dimension extérieure de cache-soupape à cache-
soupape;
b. dimensions des arêtes extérieures des culasses;
ou
c. diamètre du carter du volant;
hauteur: la plus grande des dimensions suivantes:
a. dimensions de l'axe du vilebrequin à la surface
du cache-soupape (ou de la culasse) plus deux
fois la course; ou
b. diamètre du carter du volant.
f. "Technologie" "nécessaire" à la "production" de composants
spécialement conçus, comme suit, pour moteurs Diesel à haute
performance:
1. "technologie" "nécessaire" à la "production" de systèmes de
moteurs comprenant tous les composants suivants,
employant des matériaux céramiques visés au paragraphe
1C007:
a. chemises de cylindres;
b. pistons;
c. culasses; et
d. unou plusieurs autres composan ts (y compris les orifices
d'échappement, les turbocompresseurs, les guides de
soupapes, les ensembles de soupapes ou les injecteurs
de carburant isolés);
2. "technologie" "nécessaire" à la "production" de systèmes de
turbocompression à un étage de compression, présentant
toutes les caractéristiques suivantes:
a. fonctionnant à des taux de compression de 4:1 ou plus;
b. débit massique dans la gamme de 30à 130kgpar minute;
et
c. surface d'écoulement variable dans le compresseur ou la
turbine;
3. "technologie" "nécessaire" à la "production" de systèmes
d'injection de carburant ayant une capacité multicarburant
spécialement conçues (par exemple, gazole ou propergol)
couvrant une gamme de viscosité allant de celle du gazole
[2,5 cSt à 310,8 K (37,8 ºC)] à celle de l'essence [0,5 cSt à
310,8 K (37,8 ºC)], présentant les deux caractéristiques
suivantes:
a. quantité injectée dépassant 230 mm3par injection par
cylindre; et
b. moyens de commande électronique des caractéristiques
du régulateur de commutation spécialement conçus pour
fournir automatiquement un couple constant, en fonction
des propriétés du carburant, grâce à des capteurs
appropriés;
g. "Technologie" "nécessaire" au "développement" ou à la
"production" de moteurs Diesel à haute performance pour la
lubrificationdes parois de cylin dres par pellicule solide,
gazeuse ou liquide (ou combinaisons de celles-ci) permettant
de fonctionner à des températures supérieures à 723 K (450 ºC)
mesurées sur la paroi du cylindre à l'extrémité supérieure de la
course du segment le plus élevé du piston.
Note technique:
Les termes moteur Diesel à haute performance désignent un
moteur Diesel ayant une pression effective moyenne de frein
spécifiée de 1,8 MPa ou plus à une vitesse de rotation de 2 300
tours/minutes, à condition que la vitesse nominale soit de 2 300
tours/minutes ou plus.
9E101 "Technologie", au sens de la note générale relative à la
technologie, pour le "développement" ou la "production" des
biens visés aux paragraphes 9A101, 9A104 à 9A111 ou 9A115 à
9A119.2000R1334 — FR — 19.01.2002 — 003.001 — 214
▼M3
9E102 "Technologie", au sens de la note générale relative à la
technologie, pour l'"utilisation" des lanceurs spatiaux visés au
paragraphe 9A004 ou des biens visés aux paragraphes 9A005 à
9A011, 9A101, 9A104 à 9A111, 9A115 à 9A119, 9B105, 9B106,
9B115, 9B116, 9B117, 9D101 ou 9D103.2000R1334 — FR — 19.01.2002 — 003.001 — 215
▼M3
ANNEXE II
AUTORISATION GÉNÉRALE COMMUNAUTAIRE D'EXPORTATION
NoEU001
[visée à l'article 6 du règlement (CE) no1334/2000]
Autorité de délivrance: Communauté européenne
Partie 1
La présente autorisation d'exportation couvre les biens suivants:
Tous les biens à double usage précisés dans les rubriques de l'annexe I du présent
règlement, à l'exception de ceux énumérés dans la partie 2.
Partie 2
— Tous les biens précisés à l'annexe IV
— 0C001 "Uranium naturel" ou "uranium appauvri" ou thorium sous la
forme d'unmétal, d'unalliage, d'uncomposé chimique ou
d'un concentré et toute autre matière contenant une ou
plusieurs des substances qui précèdent
— 0C002 "Matières fissiles spéciales", autres que celles visées à
l'annexe IV
— 0D001 "Logiciel" spécialement conçu ou modifié pour le "dévelop-
pement", la "production" ou l'"utilisation" des biens figurant
dans la catégorie 0, dans la mesure où il concerne les biens
visés au paragraphe 0C001 ou les biens du paragraphe 0C002
qui sont exclus de l'annexe IV
— 0E001 "Technologie", au sens de la note relative à la technologie
nucléaire, pour le "développement", la "production" ou
l'"utilisation" des biens figurant dans la catégorie 0, dans la
mesure où elle concerne les biens visés au pargraphe 0C001
ou les biens du paragraphe 0C002 qui sont exclus de l'annexe
IV
— 1A102 Composants carbone-carbone réimprégnés et pyrolisés,
conçus pour les lanceurs spatiaux visés au paragraphe
9A004 ou les fusées sondes visées au paragraphe 9A104
— 7E104 "Technologie" pour l'intégration des données de commandes
de vol, de guidage et de propulsionenunsystème de gestion
de vol pour l'optimisationde la trajectoire d'unsystème fusée
— 9A009.a. Systèmes de propulsion de fusées hybrides ayant une
capacité d'impulsiontotale supérieure à 1,1 MNs
— 9A117 Dispositifs de séparation d'étages, de séparation, et inter-
étages, utilisables dans les "missiles".
Partie 3
La présente autorisation d'exportation est valable sur tout le territoire de la
Communauté pour les exportations vers les destinations suivantes:
Australie
Canada
États-Unis d'AmériqueHongrieJaponNorvègeNouvelle-ZélandePologne
République tchèque
Suisse
Note: La partie 2 et la partie 3 ne peuvent être modifiées que dans le respect
des obligations et engagements que chaque État membre a acceptés en2000R1334 — FR — 19.01.2002 — 003.001 — 216
▼M3
tant que membre des régimes internationaux de non-prolifération et de
contrôle des exportations, et dans le respect des intérêts en matière de
sécurité publique de chaque État membre, comme le reflète sa
compétence pour la suite à réserver aux demandes de licence
d'exportation de produits à double usage, conformément à l'article 6,
paragraphe 2, du présent règlement.
Conditions et exigences pour l'utilisation de la présente autorisation
1) La présente autorisation générale ne peut être utilisée si l'exportateur a été
informé par les autorités compétentes de l'État membre dans lequel il est établi
du fait que les biens en question sont ou peuvent être destinés, entièrement ou
en partie, à contribuer au développement, à la production, au maniement, au
fonctionnement, à l'entretien, au stockage, à la détection, à l'identification ou à
la dissémination d'armes chimiques, biologiques ou nucléaires ou d'autres
dispositifs nucléaires explosifs, ou au développement, à la production, à
l'entretien ou au stockage de missiles pouvant servir de vecteurs à de telles
armes, ou si l'exportateur a connaissance de ce que les biens en question sont
destinés à ces usages.
2) La présente autorisation générale ne peut être utilisée si l'exportateur a été
informé par les autorités compétentes de l'État membre dans lequel il est établi
du fait que les biens en question sont ou peuvent être destinés à une utilisation
finale militaire telle que définie à l'article 4, paragraphe 2, du présent
règlement dans un pays soumis à un embargo sur les armes imposé par l'UE,
l'OSCE ou les Nations Unies, ou si l'exportateur a connaissance du fait que les
biens en questions sont destinés à cet usage.
3) La présente autorisation générale ne peut être utilisée lorsque les biens en
question sontexportés versune zone franche ou unentrepôt franc situé(e) dans
une destination couverte par la présente autorisation.
4) Les États membres définissent les obligations d'enregistrement et de
notification attachées à l'utilisation de la présente autorisation générale ainsi
que les informations complémentaires que l'État membre exportateur pourrait
exiger en ce qui concerne les biens exportés au titre de la présente
autorisation. Ces obligations doivent être fondées sur celles définies pour
l'utilisation des autorisations générales d'exportation accordées par les États
membres qui délivrent de telles autorisations.2000R1334 — FR — 19.01.2002 — 003.001 — 217
▼M3
ANNEXE III a
(formulaire type)
(visé à l'article 10, paragraphe 1)
2000R1334 — FR — 19.01.2002 — 003.001 — 218
▼M3
2000R1334 — FR — 19.01.2002 — 003.001 — 219
▼M3
2000R1334 — FR — 19.01.2002 — 003.001 — 220
▼M3
ANNEXE III b
ÉLÉMENTS COMMUNS POUR LA PUBLICATION DES AUTORISA-
TIONS GÉNÉRALESD'EXPORTATION
(visés à l'article 10, paragraphe 3)
1) Titre de l'autorisationgén érale d'exportation
2) Autorité qui délivre l'autorisation3) Validité CE. Utiliser le texte suivant: "Le présent document est une
autorisationgén érale d'exportationaux termes de l'article 6, paragraphe 2,
du règlement (CE) n
o1334/2000. Cette autorisationest valable dan s tous les
États membres de la Communauté, conformément à l'article 6, paragraphe 2,
du même règlement".
4) Produits couverts: utiliser la formule introductive suivante: "La présente
autorisationd'exportationcouvre les produits suivan ts:"
5) Destinations couvertes: utiliser la formule introductive suivante: "La présente
autorisationd'exportationest valable pour les exportation s vers les
destinations suivantes:"
6) Conditions et exigences2000R1334 — FR — 19.01.2002 — 003.001 — 221
▼M3
ANNEXE IV
[liste visée à l'article 21, paragraphe 1, du règlement (CE) no1334/2000]
Lesrubriquesnecouvrentpastoujoursladescriptioncomplèteduproduitni
lesnotesyafférentestellesqu'ellesfigurentdansl'annexeI (1),laquelleestla
seule à fournir la description complète des produits.
La mention d'unproduitdansla présente annexe n'affecte pasl'application
des dispositions concernant les produits de masse à l'annexe I.
PARTIE I
(possibilité d'une autorisation générale nationale pour les échanges
intracommunautaires)
Produits relevant de la technologie de la furtivité
1C001 Matériaux spécialement conçus pour absorber les ondes élec-
tromagnétiques, ou polymères intrinsèquement conducteurs.
N.B.: VOIR ÉGALEMENT 1C101.
1C101 Matériaux et dispositifs servant à la réduction des éléments
observables tels que la réflectivité radar, les signatures ultra-
violettes/infrarouges et acoustiques, autres que ceux visés au
paragraphe 1C001, utilisables dans les "missiles" et leurs sous-
systèmes.
1D103 "Logiciel" spécialement conçu pour l'analyse des observables
réduits tels que la réflectivité radar, les signatures infrarouges/
ultraviolettes et les signatures acoustiques.
1E101 "Technologie", au sens de la note générale relative à la
technologie (NGT), pour "l'utilisation" des produits visés au
paragraphe 1C101 ou au paragraphe 1D103.
1E102 "Technologie", au sens de la NGT, pour le "développement" des
logiciels visés au paragraphe 1D103.
6B008 Systèmes de mesure de la surface équivalente vis-à-vis de radars à
impulsions ayant une largeur d'impulsion de 100 ns ou moins, et
leurs composants spécialement conçus.
N.B.: VOIR ÉGALEMENT 6B108.
6B108 Systèmes spécialement conçus pour mesurer la surface équiva-
lente radar et qui sont utilisables pour les "missiles" et leurs sous-
systèmes.
Produits relevant du contrôle stratégique communautaire
1C239 Substances à haut pouvoir explosif, autres que celles visées par la
liste des matériels de guerre, ou substances ou mélanges
contenant plus de 2 % de ces substances explosives, dont la
densité cristalline excède 1,8 g/cm3et dont la vitesse de
détonation dépasse 8 000 m/s.
3A002.g.2 Étalons de fréquence atomiques présentant l'une des caractéristi-
ques suivantes:
2. "qualifiés pour l'usage spatial".
3A229 Dispositifs de mise à feu et générateurs équivalents d'impulsions à
haute intensité, comme suit: …
N.B.: VOIRÉGALEMENTLALISTEDESMATÉRIELS
DE GUERRE.
3A232 Détonateurs et systèmes multipoints d'amorçage, comme suit: …
N.B.: VOIRÉGALEMENTLALISTEDESMATÉRIELS
DE GUERRE.
6A001 Acoustique, limitée au matériel suivant:2000R1334 — FR — 19.01.2002 — 003.001 — 222
(1) Les différences de formulation et de portée entre les annexes I et IV sont indiquées en
caractères gras italiques.
▼M3
6A001.a.1.b. systèmes de détection ou de localisation d'objets présentant l'une
des caractéristiques suivantes:
1. fréquence d'émission inférieure à 5 kHz ;
2. pression sonore supérieure à 224 dB (référence 1 µPa à 1 m)
pour les équipements fonctionnant dans la bande comprise
entre 5et 24 kHz inclus;
3. pressionson ore …;
4. formationde faisceaux …;
5. conçus pour mesurer …;
6. conçus pour supporter …;
6A001.a.2.a.1. Hydrophones … comprenant …
6A001.a.2.a.2. Hydrophones … comprenant …6A001.a.2.a.5. Hydrophones … conçus pour …6A001.a.2.b. Batteries d'hydrophones acoustiques remorquées …6A001.a.2.c. équipement de traitement de signaux spécialement conçu pour
l'application en temps réel avec les batteries d'hydrophones
acoustiques remorquées, ayant une "programmabilité accessible à
l'utilisateur" et un traitement et une corrélation dans le domaine
temps ou fréquence, y compris l'analyse spectrale, le filtrage
numérique et la formation de faisceau au moyen de transformée
de Fourier rapide ou d'autres transformées ou processus;
6A001.a.2.d. Capteurs de cap …6A001.a.2.e. Systèmes de câbles sous-marins posés au fond ou suspendus
présentant l'une des caractéristiques suivantes:
1. comportant des hydrophones …;
ou
2. comportant des signaux de groupes d'hydrophones multiplexés
…;
6A001.a.2.f. Équipement de traitement spécialement conçu pour l 'application
en temps réel avec des systèmes de câbles sous-marins posés au
fond ou suspendus ayant une "programmabilité accessible à
l'utilisateur" et un traitement du domaine temps ou fréquence et
corrélation, y compris l'analyse spectrale, le filtrage numérique et
la formationde faisceau au moyende tran sformée de Fourier
rapide ou d'autres transformées ou processus;
6D003.a. "Logiciel" pour le "traitement en temps réel" de données
acoustiques;
8A002.o.3. Systèmes de réductiondu bruit destin és à être utilisés sur des
navires d'un déplacement égal ou supérieur à 1 000 tonnes,
comme suit:
a) systèmes qui atténuent le bruit sous-marin à des fréquences
inférieures à 500 Hz et consistent en montages acoustiques
composés, destinés à l'isolation acoustique de moteurs diesel,
de groupes électrogènes à diesel, de turbines à gaz, de groupes
électrogènes à turbine à gaz, de moteurs de propulsion ou
d'engrenages de réduction de la propulsion, spécialement
conçus pour l'isolation du bruit ou des vibrations et ayant une
masse intermédiaire supérieure à 30 % de l'équipement devant
être monté;
b) systèmes actifs de réduction ou d'annulation du bruit, ou
paliers magnétiques, spécialement conçus pour systèmes de
transmission de puissance, et comportant des systèmes de
commande électronique, capables de réduire activement les
vibrations des équipements en générant des signaux antibruit
ou antivibration directement à la source.
8A002.p. Systèmes carénés (pompes hélices) ayant une puissance de sortie
supérieure à 2,5 MW qui utilisent des techniques de tuyères
divergentes et d'aubages redresseurs pour le conditionnement du
flux afind'améliorer l'efficacité de propulsionou de réduire le
bruit sous-marin généré par cette dernière.
8D002 "Logiciel" spécifique spécialement conçu ou modifié pour le
"développement", la "production", la réparation, la révision ou la
rénovation (réusinage) des hélices spécialement conçues pour la
réductiondu bruit sous-marin .2000R1334 — FR — 19.01.2002 — 003.001 — 223
▼M3
8E002.a. "Technologie" pour le "développement", la "production", la
réparation, la révision ou la rénovation (réusinage) des hélices
spécialement conçues pour la réduction du bruit sous-marin;
Produits relevant ducontrôle stratégique communautaire— Cryptographie
— catégorie 5 — partie 2
5A002.a.2. Équipements conçus ou modifiés pour effectuer des fonctions
cryptoanalytiques.
5D002.c.1 uniquement le "logiciel" présentant les caractéristiques ou
exécutant ou simulant les fonctions des équipements visés à
l'alinéa 5A002.a.2.
5E002 uniquement la "Technologie" pour le "développement", la
"production" ou l'"utilisation" des équipements ou du "logiciel"
visés aux alinéas 5A002.a.2. ou 5D002.c.1. ci-dessus.
Produits relevant de la technologie MTCR
7A117 "Sous-ensembles de guidage", utilisables dans les "missiles",
conférant au système une précision égale ou inférieure à 3,33 %
de la distance (par exemple, une "erreur circulaire probable" de
10 km ou moins à une distance de 300 km), à l'exception des
"sous-ensembles de guidage" conçus pour les missiles d'une
portée inférieure à 300 km ou les aéronefs avec équipage.
7B001 Équipements d'essai, d'étalonnage ou d'alignement spécialement
conçus pour les équipements visés au paragraphe 7A117 ci-
dessus.
Note: Le paragraphe 7B001 ne vise pas les équipements
d'essai, d'étalonnage ou d'alignement de maintenance de
niveaux I ou II.
7B003 Équipements spécialement conçus pour la "production" d'équipe-
ments visés au paragraphe 7A117 ci-dessus .
7B103 "Équipements d'assistance à la production" spécialement conçus
pour les équipements visés au paragraphe 7A117 ci-dessus.
7D101 "Logiciel" spécialement conçu pour l'"utilisation" des équipe-
ments visés au paragraphe 7B003 ou au paragraphe 7B103 ci-
dessus.
7E001 "Technologie", au sens de la note générale relative à la
technologie, pour le "développement" des équipements ou du
"logiciel" visés aux paragraphes 7A117, 7B003, 7B103 ou 7D101
ci-dessus.
7E002 "Technologie", au sens de la note générale relative à la
technologie, pour la "production" des équipements visés aux
paragraphes 7A117, 7B003 et 7B103 ci-dessus.
7E101 "Technologie", au sens de la note générale relative à la
technologie, pour "l'utilisation" des équipements visés aux
paragraphes 7A117, 7B003, 7B103 et 7D101 ci-dessus.
9A004 Lanceurs spatiaux pouvant servir de vecteurs à une charge utile
d'au moins 500 kg et ayant une portée d'au moins 300 km .
N.B.: VOIR ÉGALEMENT 9A104.
Note 1: Le paragraphe 9A004 ne vise pas les charges utiles.
9A005 Systèmes de propulsion de fusées à propergol liquide contenant
l'undes systèmes ou composan ts visés au paragraphe 9A006
pouvant être utilisés dans les lanceurs spatiaux visés au
paragraphe 9A004 ou les fusées sondes visées au paragraphe
9A104.
N.B.: VOIR ÉGALEMENT 9A105 et 9A119.
9A007.a. Systèmes de propulsion de fusées à propergol solide pouvant
être utilisés dans les lanceurs spatiaux visés au paragraphe
9A004 ou les fusées sondes visées au paragraphe 9A104 et
N.B.: VOIR ÉGALEMENT 9A119.
a. capacité d'impulsiontotale supérieure à 1,1 MNs.
9A008.d. Composants, comme suit, spécialement conçus pour les systèmes
de propulsionde fusées à propergol solide:2000R1334 — FR — 19.01.2002 — 003.001 — 224
▼M3
N.B.: VOIR ÉGALEMENT 9A108.c.
d. tuyères mobiles ou systèmes de commande du vecteur poussée
par injection secondaire de fluide pouvant être utilisées dans
les lanceurs spatiaux visés au paragraphe 9A004 ou les
fusées sondes visées au paragraphe 9A104 , capables d'effec-
tuer l'une des opérations suivantes:
1. mouvement omni-axial supérieur à ± 5º;
2. rotations de vecteur angulaire de 20º/s ou plus; ou
3. accélérations de vecteur angulaire de 40º/s2ou plus.
9A104 Fusées sondes pouvant servir de vecteurs à une charge utile d'au
moins 500 kg ayant une portée d'au moins 300 km.
N.B.: VOIR ÉGALEMENT 9A004.
9A105.a. Moteurs fusée à propergol liquide comme suit:
N.B.: VOIR ÉGALEMENT 9A119.
a. moteurs fusée à propergol liquide utilisables dans des missiles,
autres que ceux visés au paragraphe 9A005, ayant une
impulsiontotale supérieure ou égale à 1,1 MNs, à l'exception
des moteurs d'apogée à propergoll iquide conçus ou modifiés
pour des applications satellites et présentant toutes les
caractéristiques suivantes :
1.diamètre du colde tuyère égalou inférieur à 20 mm;
2.pression de la chambre de combustion égale ou inférieure
à 15 bar.
9A106.c. Systèmes ou composants, autres que ceux visés au paragraphe
9A006, utilisables dans des "missiles", comme suit, spécialement
conçus pour les systèmes de propulsion fusée à propergol liquide:
c. sous-systèmes de commande du vecteur poussée, à l'exception
de ceux conçus pour des systèmes de fusée qui ne peuvent pas
servir de vecteurs à une charge d'au moins 500 kg jusqu'à
une portée d'au moins 300 km .
Note technique:
Des moyens de commande du vecteur poussée visé à l'alinéa
9A106.c. sont, par exemple:
1. tuyère flexible;
2. injection de fluide ou de gaz secondaire;3. moteur ou tuyère mobile;
4. déviation du jet de gaz d'échappement (aubes de déviation de
jet ou sondes);
ou
5. correcteurs de poussée.
9A108.c. Composants, autres que ceux visés au paragraphe 9A008,
utilisables dans des "missiles", comme suit, spécialement conçus
pour les systèmes de propulsionfusée à propergol solide:
c. sous-systèmes de commande du vecteur poussée à l'exception
de ceux conçus pour des systèmes de fusée qui ne peuvent pas
servir de vecteurs à une charge d'au moins 500 kg jusqu'à
une portée d'au moins 300 km .
Note technique:
Des moyens de commande du vecteur poussée visé à l'alinéa
9A108.c. sont, par exemple:
1. tuyère flexible;
2. injection de fluide ou de gaz secondaire;
3. moteur ou tuyère mobile;
4. déviation du jet de gaz d'échappement (aubes de déviation de
jet ou sondes); ou
5. correcteurs de poussée.
9A116 Véhicules de rentrée, utilisables dans les "missiles", et leurs
équipements spécialement conçus ou modifiés, comme suit, à2000R1334 — FR — 19.01.2002 — 003.001 — 225
▼M3
l'exception des véhicules de rentrée conçus pour des charges qui
ne sont pas des armes:
a. véhicules de rentrée;
b. boucliers thermiques et leurs composants en matériaux
céramiques ou ablatifs;
c. dissipateurs de chaleur et leurs composants en matériaux
légers, à haute capacité thermique;
d. équipements électroniques spécialement conçus pour les
véhicules de rentrée.
9A119 Étages de fusées pris isolément, utilisables dans des systèmes
fusée complets ou des véhicules sans équipage, pouvant servir de
vecteurs à une charge utile d'au moins 500 kg jusqu'à une
portée de 300 km, autres que ceux visés au paragraphe 9A005 ou
à l'alinéa 9A007.a. ci-dessus.
9B115 "Équipements de production" spécialement conçus pour les
systèmes, sous-systèmes et composants visés aux paragraphes
9A005, 9A007.a., 9A008.d., 9A105.a., 9A106.c., 9A108.c.,
9A116 ou 9A119 ci-dessus.
9B116 "Équipements d'assistance à la production" spécialement conçus
pour les lanceurs spatiaux visés au paragraphe 9A004, ou pour les
systèmes, sous-systèmes et composants visés aux paragraphes
9A005, 9A007.a., 9A008.d., 9A104, 9A105.a., 9A106.c.,
9A108.c., 9A116 ou 9A119 ci-dessus.
9D101 "Logiciel" spécialement conçu pour "l'utilisation" des biens visés
au paragraphe 9B116 ci-dessus.
9E001 "Technologie", au sens de la note générale relative à la
technologie, pour le "développement" des équipements ou du
"logiciel" visés aux paragraphes 9A004, 9A005, 9A007.a.,
9A008.d., 9B115, 9B116 ou 9D101 ci-dessus.
9E002 "Technologie", au sens de la note générale relative à la
technologie, pour la "production" des équipements visés aux
paragraphes 9A004, 9A005, 9A007.a., 9A008.d., 9B115 ou
9B116 ci-dessus.
Note: Pour la "technologie" de réparation des structures,
produits laminés ou matériaux sous contrôle, voir
l'alinéa 1E002.f.
9E101 "Technologie", au sens de la note générale relative à la
technologie, pour le "développement" ou la "production" des
biens visés aux paragraphes 9A104, 9A105.a., 9A106.c.,
9A108.c., 9A116 ou 9A119 ci-dessus.
9E102 "Technologie", au sens de la note générale relative à la
technologie, pour "l'utilisation" des lanceurs spatiaux visés aux
paragraphes 9A004 9A005, 9A007.a., 9A008.d., 9A104,
9A105.a., 9A106.c., 9A108.c., 9A116, 9A119, 9B115, 9B116
ou 9D101 ci-dessus.
Exemptions:
L'annexe IV ne vise pas les produits relevant de la technologie MTCR qui
suivent:
1) les produits qui sont transférés du fait de commandes passées par l'Agence
spatiale européenne (ESA) dans le cadre d'une relation contractuelle ou qui
sont transférés par l'ESA pour l'exercice de ses fonctions officielles;
2) les produits qui sont transférés du fait de commandes passées par une
organisation spatiale d'un État membre dans le cadre d'une relation
contractuelle ou qui sont transférés par cette dernière pour l'exercice de ses
fonctions officielles;
3) les produits qui sont transférés du fait de commandes passées dans le cadre
d'une relation contractuelle en rapport avec un programme communautaire de
développement et de production de lancement spatial signé par au moins deux
gouvernements européens;
4) les produits qui sont transférés vers un site de lancement spatial sous contrôle
de l'État sur le territoire d'un État membre, sauf si ce dernier contrôle les
transferts en question dans le cadre du présent règlement.2000R1334 — FR — 19.01.2002 — 003.001 — 226
▼M3
PARTIE II
(aucune autorisation générale nationale pour les échanges intracommunau-
taires)
Produits relevant de la Convention sur les armes chimiques
1C351.d.4. Ricine.1C351.d.5. Saxitoxine.
Produits relevant de la technologie du NSG
Lacatégorie0del'annexeIestintégralementinclusedansl'annexeIV,sous
réserve des points ci-après:
— 0C001: ce paragraphe n'est pas inclus dans l'annexe IV.
— 0C002: ce paragraphe n'est pas inclus dans l'annexe IV, exception faite des
matières fissiles spéciales comme suit:
a) plutonium séparé:
b) "uranium enrichi des isotopes 235 ou 233" à plus de 20 %.
— 0D001 (le logiciel) est inclus dans l'annexe IV, excepté dans la mesure où il
concerne le paragraphe 0C001 ou les biens du paragraphe 0C002 qui sont
exclus de l'annexe IV.
— 0E001 (la technologie) est incluse dans l'annexe IV, excepté dans la mesure
où elle concerne le paragraphe 0C001 ou les biens du paragraphe 0C002 qui
sont exclus de l'annexe IV.
NB:Pour les matières visées aux paragraphes 0C003et0C004, uniquement si
destinées à être utilisées dans un "réacteur nucléaire" (dans le cadre de
l'alinéa 0A001.a.).
1B226 Séparateurs électromagnétiques d'isotopes, conçus pour ou
équipés de sources ioniques uniques ou multiples capables de
produire un courant total de faisceau ionique de 50 mA ou plus.
Note: Le paragraphe 1B226 comprend les séparateurs:
a. capables d'enrichir des isotopes stables;
b. dans lesquels les sources d'ions et les collecteurs se
trouvent à l'intérieur du champ magnétique et ceux
dans lesquels ils sont extérieurs au champ.
1C012 Matières comme suit:
Note technique:
Ces matières sont généralement utilisées pour des sources de
chaleur nucléaires.
a. plutonium sous une forme quelconque dont la teneur
isotopique enpluton ium 238 est supérieure à 50 % enpoids;
Note: L'alinéa 1C012.a. ne vise pas:
a. des envois portant sur une teneur en plutonium
égale ou inférieure à 1 gramme;
b. des envois égaux ou inférieurs à trois "grammes
effectifs" lorsqu'ils sont contenus dans un organe
détecteur d'un instrument.
b. neptunium 237 "préalablement séparé", sous une forme
quelconque.
Note: L'alinéa 1C012.b. ne vise pas les envois ayant une
teneur en neptunium 237 égale ou inférieure à 1
gramme.
1B231 Installations, unités ou équipements concernant le tritium, comme
suit:
a. installations, ou unités pour la production, la récupération,
l'extraction, la concentration ou la manipulation de tritium;
b. équipements pour les installations ou unités de tritium, comme
suit:
1. unités de refroidissement à l'hydrogène ou à l'hélium,
capables de refroidir jusqu'à 23 K (− 250 ºC) ou moins,
avec une capacité d'extraction de la chaleur supérieure à
150 W;2000R1334 — FR — 19.01.2002 — 003.001 — 227
▼M3
2. systèmes de stockage et de purificationdes isotopes de
l'hydrogène utilisant des hydrures métalliques comme
support de stockage ou de purification.
1B233 Installations ou équipements pour la séparation des isotopes du
lithium, comme suit:
a. installations ou équipements pour la séparation des isotopes du
lithium;
b. équipements pour la séparation des isotopes du lithium,
comme suit:
1. colonnes chargées d'échange liquide-liquide spécialement
conçues pour les amalgames du lithium;
2. pompes à mercure ou amalgame de lithium;
3. cellules d'électrolyse pour amalgame de lithium;4. évaporateurs pour solution concentrée d'hydroxyde de
lithium.
1C233 Lithium enrichi en isotope 6 (
6Li) jusqu'à une concentration
supérieure à 7,5 % d'atomes, et les produits ou dispositifs
contenant du lithium enrichi, comme suit: lithium élémentaire,
alliages, composés ou mélanges contenant du lithium, produits
manufacturés, déchets ou rebuts d'un de ces éléments.
Note: Le paragraphe 1C233 ne vise pas les dosimètres
thermoluminescents.
Note technique:
Le taux naturel d'isotope 6 du lithium est de 7,5 % d'atomes.
1C235 Tritium, composés et mélanges du tritium dans lesquels le rapport
du tritium à l'hydrogène, en atomes, est supérieur à 1/1 000, ou
produits ou dispositifs comprenant l'un de ces éléments.
Note: Le paragraphe 1C235 ne vise pas les produits ou
dispositifs contenant moins de 1,48 × 103GBq (40 Ci)
de tritium.
1E001 "Technologie", au sens de la note générale relative à la
technologie, pour le "développement" ou la "production" des
équipements ou matériaux visés par le paragraphe 1C012.
1E201 "Technologie", au sens de la note générale relative à la
technologie, pour l'"utilisation" des biens visés aux paragraphes
1B226, 1B231, 1B233, 1C233, 1C235 ou 1C239.
3A201 Composants électroniques, autres que ceux visés au paragraphe
3A001, comme suit:
a. condensateurs possédant l'un des ensembles de caractéristiques
suivants:
1. a. voltage nominal supérieur à 1,4 kV;
b. stockage d'énergie supérieur à 10 J;
c. capacitésupérieure à 0,5 µF; et
d. inductance série inférieure à 50 nH; ou
2. a. voltage nominal supérieur à 750 V;
b. capacité supérieure à 0,25 µF; et
c. inductance série inférieure à 10 nH.
3A228 Commutateurs, comme suit:
a. tubes à cathode froide, qu'ils soient ou non remplis de gaz,
fonctionnant de manière similaire à un éclateur à étincelle et
présentant toutes les caractéristiques suivantes:
1. trois électrodes ou plus;
2. tension anodique nominale de crête égale ou supérieure à
2,5 kV;
3. courant anodique nominal de crête égal ou supérieur à 100
A;et
4. temporisation de l'anode égale ou inférieure à 10 µs;
Note: Le paragraphe 3A228 vise également les tubes
krytron à gaz et les tubes sprytron à vide.2000R1334 — FR — 19.01.2002 — 003.001 — 228
▼M3
b. éclateurs à étincelle présentant les deux caractéristiques
suivantes:
1. déclenchés avec une temporisation de l'anode égale ou
inférieure à 15 µs; et
2. fonctionnant avec un courant nominal de crête égal ou
supérieur à 500 A;
c. modules ou ensembles possédant une fonction de commutation
rapide et présentant toutes les caractéristiques suivantes:
1. tension anodique nominale de crête supérieure à 2 kV;
2. courant de plaque nominal de crête égal ou supérieur à 500
A;et
3. temps de commutationégal ou in férieur à 1 µs.
3A231 Systèmes générateurs de neutrons, y compris des tubes, présentant
les deux caractéristiques suivantes:
a. conçus pour fonctionner sans installation de vide extérieure; et
b. utilisant l'accélération électrostatique pour déclencher une
réactionn ucléaire tritium-deutérium.
3E201 "Technologie" selon la note générale de technologie pour
"l'utilisation" des équipements spécifiés en 3A201.a., 3A228,
3A229, 3A231 ou 3A232.
6A203 Appareils de prises de vue et leurs composants, autres que ceux
visés au paragraphe 6A003, comme suit:
a. appareils de prises de vue mécaniques à miroir tournant,
comme suit, et leurs composants spécialement conçus:
1. caméras à image intégrale dont la vitesse est supérieure à
225000 images par seconde;
2. caméras à balayage ayant une vitesse d'enregistrement
supérieure à 0,5 mm par microseconde;
Note: À l'alinéa 6A203.a., les composants de ces caméras
comprennent leurs composants électroniques de
synchronisation et leurs ensembles de rotors, à
savoir turbines, miroirs et roulements.
b. caméras électroniques à balayage, caméras électroniques à
image intégrale, tubes et dispositifs, comme suit:
1. caméras électroniques à balayage capables d'une résolution
temporelle de 50 ns ou moins;
2. les tubes à balayage pour les caméras visées à l'alinéa
6A203.b.1.;
3. caméras électroniques à image intégrale (ou à obturateur
électronique) capables d'une durée d'exposition d'encadrage
égale ou inférieure à 50 ns;
4. tubes à image intégrale et dispositifs d'imagerie fixe
destinés à être employés avec les caméras visées à l'alinéa
6A203.b.3., comme suit:
a. tubes intensificateurs d'image réglée par proximité dont
la photocathode est déposée sur un revêtement conduc-
teur transparent pour réduire la résistance de la plaque/
feuille de photocathode;
b. tubes intensificateurs vidicon silicium à grille (SIT),
dans lesquels un système rapide permet de séparer les
photoélectrons venant de la photocathode avant qu'ils ne
heurtent la plaque de la cible multiplicatrice;
c. obturateurs électro-optiques à cellule de Kerr ou de
Pockels;
d. autres tubes à image intégrale et dispositifs d'imagerie à
semi-conducteurs ayant un temps de déclenchement
rapide pour image de moins de 50 ns spécialement
conçus pour les caméras visées à l'alinéa 6A203.b.3.
6A225 Interféromètres de mesure de la vitesse destinés à mesurer des
vitesses supérieures à 1 km/s pendant des périodes inférieures à
10 microsecondes.
Note: Le paragraphe 6A225 comprend les interféromètres de
mesure de la vitesse tels que les VISAR (interféromètres2000R1334 — FR — 19.01.2002 — 003.001 — 229
▼M3
de mesure de la vitesse pour tout réflecteur) et les ILD
(interféromètres à laser Doppler).
6A226 Capteurs de pression, comme suit:
a. jauges au manganin destinées à mesurer des pressions
supérieures à 10 GPa;
b. capteurs de pression destinés à fonctionner avec des pressions
supérieures à 10 GPa.
6E201 "Technologie", au sens de la note générale relative à la
technologie, pour l'"utilisation" des équipements spécifiés en
6A203.a., 6A203.b., 6A225 ou 6A226.2000R1334 — FR — 19.01.2002 — 003.001 — 230