English: (4) the input current and sputtering time of the target can be controlled and the high-precision film thickness can be easily obtained.
Telugu: (4) లక్ష్య ఇన్పుట్ కరెంట్ మరియు స్పట్టరింగ్ సమయాన్ని నియంత్రించవచ్చు, మరియు అధిక-ఖచ్చితమైన ఫిల్మ్ మందం పొందడం సులభం.