English: First, a layer of silicon dioxide is deposited on the surface of the silicon wafer, then that layer is covered with a photoresist.
Telugu: మొదటిది, సిలికాన్ డయాక్సైడ్ యొక్క పొర సిలికాన్ పొర ఉపరితలంపై జమ చేస్తుంది, ఆ పొర ఫోటోసరిస్ట్తో కప్పబడి ఉంటుంది.