English: This is a form of chemical vapor deposition where gaseous trichlorosilane is blown across a pure silicon rod to grow polycrystalline silicon (polysilicon) with a purity of 99.9999%.
Telugu: ఇది 99.9999% స్వచ్ఛత కలిగిన పాలిక్ స్ట్రెస్లైన్ సిలికాన్ (పాలిసిలికాన్) ను పెరగడానికి ఒక స్వచ్ఛమైన సిలికాన్ రాడ్లో వాయురహిత ట్రైక్లోరోసిలెన్ను కరిగించిన రసాయన ఆవిరి నిక్షేపణ రూపంగా చెప్పవచ్చు.