English: These methods can be classified by the resulting ZnO form (bulk, thin film, nanowire), temperature ("low", that is close to room temperature or "high", that is T ~ 1000 C), process type (vapor deposition or growth from solution) and other parameters.
Telugu: ఈ పద్ధతులు జింకు ఆక్సైడ్ ఏర్పడుట, ఉష్ణోగ్రత ("తక్కువ", గది ఉష్ణోగ్రతకు దగ్గరగా లేదా "ఎక్కువ", T ~ 1000 °C వద్ద), ప్రక్రియ రకం (ఆవిరి నిక్షేపం లేదా ద్రావణం నుండి పెరుగుదల), ఇతర పరామితుల ఆధారంగా వర్గీకరించబడ్డాయి.