chaannwooff/Dartdoc huggingface dataset:
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정밀 항습을 위한 가습부 설계 기술 보유 (SV±0.2%) 5) PLC 기반의 초정밀 제어 기술 (온도, 습도, 냉동시스템) 6) 고객 요구사양에 부합하는 시스템 설계기술 보유 (출처: 워트) PR 도포공정은 전공정 중 핵심 공정인 포토공정 단계 중 하나로 반도체 제조 수율에 큰 영향을 주는 중요 요소입니다. PR 도포공정은 Track장비를 통해 액상의 물질(PR 용액)을 회전하는 웨이퍼 위에 떨어뜨린 후 균일한 박막을 만드는 공정으로, 이때 사용되는 코팅기능장비를 Track 장비라 부릅니다. [Track 설비에서의 PR 도포 공정] Track 설비와 THC spin 장비 (출처: 워트) PR용액의 점도, 스핀 유닛(Unit)내의 에어의 온습도 그리고 웨이퍼를 회전시키는 스핀(Spin)의 속도는 균일한 PR용액의 도포를 위해 가장 중요한 3가지 제어 요소입니다. 이 제어요소들 중 PR용액의 점도와 스핀 유닛의 온습도는 THC 장비를 통해서만 제어가 가능합니다. PR용액의 점도는 THC 장비 내 항온수 공급장치의 항온수의 온도 및 제어도(항온수의 변화율 ±0.05℃)에 좌우되며 스핀 유닛의 온습도는 THC 기본사양인 온습도 제어부에 의해 관리됩니다. 트랙장비용 THC는 투입되는 에어의 온습도제어와 항온수 온도제어로 구분됩니다. 온습도제어의 경우 ⓐTHC 장비에서 1차로 냉동시스템을 이용한 냉각제습 후 가열과 가습을 통한 초정밀 제어된 공기를 ⓑDUCT(관로)를 통하여 ⓒ트랙장비에 보내고 이는 트랙장비 내의 유닛인 ⓓCoater Unit(8~12 UNIT)과 ⓔDeveloper Unit(8~12 UNIT)으로 전달되어 조정밀 제어된 에어를 공급합니다. 항온수 제어의 경우, PR관리 저장장치와 PR이 이동하여 웨이퍼 위로 도포되는 관(Photoresist dispenser)을 일정 온도조절 및 제어가 가능하게 장치와 관(이중배관)을 감싸는 형태로 설치되어 PR의 온도를 일정하게 제어(±0.05℃)하여 PR용액이 동일한 점성도를 유지할수 있게 합니다. PR로 코팅된 웨이퍼는 노광장비를 통해 노광(빛을 통해 PR이 코팅된 웨이퍼에 패턴을 새기는 공정)이 진행되고 다시 트랙장비로 이동하여 다음 공정인 Developer Unit로 이동합니다. Developer unit에서는 Photo Resist가 현상이 되고 노광되지 않은 부위는 남아 패턴을 형성합니다. 이 과정에서도 온습도제어가 되지 않으면 정상적인 패턴 형성이 되지 않아 공정불량 및 수율에 치명적인 결과를 초래할 수 있기 때문에 포토공정에서는 온습도 유지 관리가 매우 중요합니다. [온습도에 따른 PR 도포 두께 변화] 온습도에 따른 pr 도포 두께 변화.jpg 온습도에 따른 PR 도포 두께 변화 (출처: 워트) 이외에도 THC 장비는 공기 중의 미량가스(암모니아 등 유기산성가스)와 파티클을 장비 흡입구의 필터를 통해 약 90%를 제거하고 계측기로 측정할 수 있는 샘플링 포트를 제공합니다. 통상적으로 클린룸의 대기 중 오염물질 농도는 5ppb(part per billion)이하로 유지되며 Track 설비내의 공정에서는 2ppb이하로 더욱 엄격하게 관리됩니다. 특히 공기 중 암모니아가스의 농도가 높을 경우 웨이퍼와 화학작용을 일으켜 반도체 수율에 직접적인 영향을 주기 때문에 정밀한 관리가 필수적입니다. 포토트랙설비는 일반적으로 노광설비에 사용되는 광원별 파장에 따라 구분됩니다. 광원의 파장은 I-LINE에서 EUV까지 구분되고 있으며 파장이 짧을수록 웨이퍼상 회로선폭의 미세화가 가능합니다. 회로선폭이 미세화 될수록 트랙설비에 적용되는 THC장비의 온습도 및 항온수 제어 또한 더욱 높은 정밀도가 요구됩니다. 실제로 고객사마다 별도로 실시간 온습도 모니터링을 진행하면서 일정 제어도가 벗어나면 점검을 요청하고 있습니다. THC장비의 사양서상 온습도 제어도는 각각 ±0.05℃, ±0.5%이나 실제 가동시의 제어도는 각각 ±0.03℃, ±0.2%로 사양서 보다 더욱 높은 수준의 제어가 요구되고 있습니다. 트랙설비는 제조사, 공정 및 생산량에 따라 모델이 각각 존재합니다.
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포토트랙설비는 일반적으로 노광설비에 사용되는 광원별 파장에 따라 구분됩니다. 광원의 파장은 I-LINE에서 EUV까지 구분되고 있으며 파장이 짧을수록 웨이퍼상 회로선폭의 미세화가 가능합니다. [노광설비의 광원별 파장] 광원 λ(nm) I-LINE KrF ArF EUV 회로선폭이 미세화 될수록 트랙설비에 적용되는 THC장비의 온습도 및 항온수 제어 또한 더욱 높은 정밀도가 요구됩니다. 실제로 고객사마다 별도로 실시간 온습도 모니터링을 진행하면서 일정 제어도가 벗어나면 점검을 요청하고 있습니다. THC장비의 사양서상 온습도 제어도는 각각 ±0.05℃, ±0.5%이나 실제 가동시의 제어도는 각각 ±0.03℃, ±0.2%로 사양서 보다 더욱 높은 수준의 제어가 요구되고 있습니다. 트랙장비에는 Coater 및 Developer Unit이 단독 또는 혼합으로 여러 개의 유닛으로 구성되어 있기 때문에 이 중 일부 유닛이 고장 나더라도 다른 유닛에서 대체가 가능합니다. 그러나 THC 장비의 경우 서브팹(sub-fab) 공간 및 트랙설비의 특성상 하나의 시스템으로 구성되어 있어 오작동이 발생할 경우 인라인 설비(트랙+노광설비)전체의 사용이 불가능해져 반도체 생산량에 막대한 영향을 줍니다. 따라서 장시간 사용의 신뢰성 또한 매우 중요한 요소입니다. TCU 장비는 디스플레이 공정에 적용되는 온도제어 시스템으로 동사의 주력제품인THC장비에서 습도제어 기능이 없는 제품입니다. 현재Display Panel을 생산하는 방식은 크게 기존의 진공증착 기술과 차세대 기술인 잉크젯 프린팅(Inkjet Printing) 기술이 있습니다. 진공증착 공정기술은 유기발광 다이오드의 원재료인 유기화합물을 공중으로 뿌려 기판에 증착하는 방식이며, 잉크젯 프린팅 공정기술은 유기화합물을 기판위에 회로를 직접 인쇄하는 방식입니다.진공증착공정은 진공 챔버 등 많은 부대설비가 필요하고 공정도 복잡하기 때문에 공간의 제약이 많고 재료의 사용량이 많아 제품의 원가 상승을 가져오게 됩니다. 잉크젯 프린팅 공정기술은 이에 비해 공정이 간단하고 재료 사용량이 적어 제품의 원가를 획기적으로 절감할 수 있고 공정시간도 대폭 단축할 수 있기 때문에 차세대 공정기술로 각광을 받고 있습니다. 동사는 OLED용 잉크젯 프린팅 설비를 국산화한 세메스와 개발초기부터 참여하여 해당 설비에 적용되는 TCU 장비를 개발하여 양산을 하고 있습니다. [워트 TCU 장비 요약] tcu.jpg TCU 1) 고압 고풍량 에어 공급기술 보유 2) 정밀 고압의 항온에어 공급기술 보유 3) 밀폐 쳄버 설계 기술 보유 4) 고객 요구사항에 부합하는 시스템 설계기술 보유 (출처: 워트) 디스플레이 공정은 기판인 글래스(Glass)의 이동뿐만 아니라, 글래스 위에 회로를 인쇄하는 공정 또한 기판을 부상시킨 상태에서 진행됩니다. 동사의TCU 제품은 디스플레이의 회로 인쇄 공정에서 글래스를 부상시키기 위한 유체(공기, 질소)를 일정온도와 압력으로 잉크젯 공정의 스테이지에 공급하는 역할을 수행합니다. 이때 유체는 글래스에 직접적으로 접촉되므로 파티클이 없어야 하며 공급되는 유체의 온도 및 공급압력에 대한 정밀제어가 필수입니다. 만약 파티클, 온도제어 및 일정 높이의 부상에 문제가 발생시 반도체 공정과 마찬가지로 패턴형성에 문제가 발생됩니다구체적으로, TCU 장비를 통해 메인설비로 공급되는 유체는 20kPa의 높은 압력으로 분사되어 글래스를 부상시킵니다. 높은 압력의 유체를 분사하기 위해서는 Ring Blower를 이용하여 유체를 압축해야하는데 유체의 특성상 압축시 온도가 상승하므로(50~60℃), 이를 상온의 일정온도로 냉각하는 기술이 적용되어야 합니다. 동사의 TCU 장비는 일정한 유속으로 공기를 밀어내는 역할을 하는 링블로워와 냉각기를 밀폐 챔버에 설치하여 압축된 유체의 온도를 공정에서 요구하는 조건까지 냉각 제어하여 스테이지에 분사합니다. FFU는 Clean Room 및 반도체, 디스플레이용 공정 장비 등에 적용되며 미세먼지(Particle)를 관리하는 목적으로 사용되는 고성능 필터와, Fan, 제어기로
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구성되어 있습니다. 동사의 FFU 제품은 반도체 및 디스플레이 공정장비에 주로 적용됩니다. 공정장비에 적용되는 FFU는 제조사마다 사양이 상이하고 각 장비별 내부 설계 또한 상이하므로 설비의 사양에 맞는 Fan의 크기와 기류의 속도, 유체의 균일성(풍속의 차이)를 고려한 맞춤형 FFU 시스템을 제작하는 것이 중요합니다. [워트 FFU 요약] ffu 유닛 1) 다양한 FFU 설계, 제작 기술보유 (슬림형, 차압제어형등) 2) 조명 및 차압모니터링이 장착된 FFU (오작동이 날 경우를 대비하여 압력을 지속적으로 측정) 3) 고객 맟춤형 FFU 통합시스템 UI 구성 4) 고객 요구사양에 부합하는 시스템 설계기술 보유 (출처: 워트) -UVC(Ultra Vacuum Cleaner)UVC는 반도체 또는 디스플레이의 클린룸에서 OHT나 카세트에 탑재되어 사용되는 고청정도의 집진기입니다. 반도체 및 디스플레이 라인은 상시 고청도를 유지하도록 설계되어 있지만, 수많은 작업자와 반도체 장비로 인해 불가피하게 파티클이 발생합니다. 특히 라인내에서 웨이퍼나 글라스를 운반하는 OHT(Overhead Hoist Transport)장비 또는 카세트의 이동시 장비의 롤러와 선로(rail)의 마찰에 의해 다량의 분진이 발생되는데 동사의 UVC장비는 선로상의 분진을 제거하는 용도로 사용됩니다.-초정밀 항온습 Chamber초정밀 측정 검사기기 또한 정밀하고 정확한 검사를 위해 검사기가 설치된 주변의 정밀한 온습도의 제어가 필요합니다. 따라서 고가의 초정밀 장비는 별도의 초정밀 항온습 챔버내에서 구동이 되어야합니다. 동사는 이러한 환경조건을 만족하는 초정밀 항온습 챔버 등을 고객의 요구사양에 맞게 개발하여 납품을 진행하고 있습니다. 나. 경쟁 현황(1) 경쟁업체 현황 및 비교 반도체 장비 시장은 각 회사의 생산설비와 노하우, 고객사와의 협력관계, 기술력, 인적자원이 집적화 되는 시장으로 회사가 보유하고 있는 기술수준과 이를 통해 고객에 대한 가치 제공이 회사의 경쟁력을 판가름하는 기술 집약적인 시장이며 진입장벽이 매우 높은 시장입니다. 그렇기 때문에 반도체 장비산업의 가장 큰 경쟁수단은 연구개발 인력 확보와 반도체 제조사와의 협력, 기술공동개발을 통한 장비의 적시 개발 및 사후 지원입니다. 따라서 장비산업은 빠르게 발전하는 반도체의 기술에 대응할 수 있는 장비확보 여부가 중요하며 특히 공정 미세화에 대응되는 장비의 개발과 양산능력이 핵심 경쟁력 중 하나입니다. 이와 같이 반도체 제조산업은 특성상 기존의 납품실적을 바탕으로 장비의 기술과 품질이 검증되어 다년간의 높은 신뢰성을 확보한 장비 제조사를 우선하기 때문에 신규 업체가 장비를 납품하기란 매우 어렵습니다. 따라서, 반도체 장비산업은 다른 산업군에 비해 진입장벽이 매우 높아 기존 협력사의 경우 신뢰관계를 저해할 만한 특별한 이유가 있지 않은 경우 안정적으로 납품을 할 수 있습니다. 동사는 삼성전자의 자회사인 세메스와 2000년 초 포토트랙설비 개발부터 THC 장비개발에 참여하였으며 다년간의 시행착오와 경험으로 축적된 노하우로 제품의 안전성 및 신뢰성을 인정받았습니다. 동사의 주력 제품인 THC 장비는 반도체 제조의 핵심 공정인 포토 공정에 한정적으로 사용되고 있으며 국내 상장사의 경우 동종업종은 있으나 모두 항온수 제어 장비(Chiller)만을 공급하는 업체로 동사와 같이 초정밀 온습도 제어 시스템과 항온수 제어(Chiller)시스템이 모두 구성된 장비를 공급하는 업체는 없습니다. 국내에서 동사의 유일한 경쟁사는 비상장사 멜콘으로 현재 국내 THC 시장은 워트와 멜콘 두 업체가 양분하고 있습니다. 동사는 삼성전자향 납품실적을 바탕으로2016년 SK하이닉스의 다변화 평가시스템에 채택되어 2017년 6월경 3사 공동평가를 진행하게 되었습니다. 3개월간의 평가를 거쳐 온습도 제어도, 메인설비와 통신 안정성, 알람건수, 재무건전성 등의 평가항목을 통과하여 최종적으로 선정, 2018년1차 협력사로 등록을 완료하였습니다. ① 멜콘동사와 국내 THC 시장을 양분하고 있는 멜콘은 2003년에 SNF
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Solution이라는 이름으로 설립되어 2015년에 멜콘으로 사명을 변경하였습니다. 멜콘의 주요 제품으로는 노광공정 내의 온습도 환경을 제어하는 THC가 있으며 그 외에는 실내공기를 냉각시켜 Chamber 내의 습도를 제어하는 제습기, 사용자 목적에 따라 항온수 온도를 조정하기 위해 사용되는 Chiller공급 사업을 영위하고 있습니다. 멜콘은 글로벌 반도체 장비업체인 도쿄일렉트론(TEL)과 협력을 통해 2012년 THC 장비를 개발하였으며 이에 따라 주로 TEL사의 트랙장비에 적용되는 THC 장비를 납품하고 있으며 2003년 SK하이닉스 업체 등록 및 2006년 삼성전자 업체 등록을 마쳤습니다. 그 외 국내에 상장된 반도체 환경제어 장비 제조사 중 초정밀 온습도 제어장비와 항온수 제어(Chiller)시스템이 동시에 구성된 장비를 공급하는 업체는 없으나, Chiller 시스템을 제조하는 업체는 GST, 에프에스티, 유니셈이 있으며 장비의 사용목적이 다르나 웨이퍼 이송용기에 질소를 주입하여 습도를 조절하는 저스템이 있습니다. Chiller 시스템은 유체에 대한 온도제어 기능만 수행하고 있어 반도체 환경제어 장비에 속하지만 THC와는 구분이 됩니다. ② GSTGST는 코스닥 상장사로 반도체 및 디스플레이 제조공정 등에서 사용 후 배출되는 유해가스를 정화하는 가스정화장비인 Scrubber와 반도체 및 디스플레이 제조 공정상 안정적인 온도유지를 제공함으로써 공정효율을 개선하는 온도조절 장비인 Chiller 제조를 주요사업으로 영위하고 있습니다. 주요 제품인 Scrubber의 매출 비중은 2022년 기준 56.6%이며, Chiller의 매출 비중은 21.2%입니다. ③ 에프에스티에프에스티는 1987년에 설립되어 2000년에 코스닥 시장에 상장하였으며 현재 펠리클 사업부, TCU사업부, 솔루션사업부로 나누어져 있습니다. 에프에스티는 EUV용 펠리클과 Chiller장비를 주요 사업으로 영위하고 있습니다. 펠리클은 반도체 노광공정 또는 LCD/OLED Panel 제조시 사용되는 Photomask를 이물질로부터 보호하기 위해 필요한 제품으로 주요 고객사는 삼성전자입니다. 에프에스티의 2022년 기준 Chiller 관련 제품 매출액은 51%, 펠리클 매출 비중은 39%입니다.④ 유니셈1988년에 설립된 유니셈은 Gas Scrubber를 국내 최초로 국산화 하는데 성공하였으며 주요제품은 Scrubber, Chiller 장비입니다. 유니셈은 국내 Gas Scrubber 시장점유율 45% 이상, Chiller 시장점유율 30% 이상을 확보하고 있으며 주요 고객으로 삼성전자, SK하이닉스, 마이크론, LG디스플레이 등이 있습니다. 회사의 부문별 매출 비중은 Scrubber가 약 35%, Chiller가 약 30%, 유지보수 외 기타사업이 약 25%입니다. (2)경쟁업체 대비 비교우위 사항 동사의 THC 장비는 반도체 전공정 중 가장 중요한 노광장비에 인라인으로 연결되는 트랙설비에 적용되며 만약 온습도제어의 기능이 작동하지 않으면 노광설비도 가동할 수 없습니다. 따라서 동사 제품은 반도체 공정의 수율에 영향을 주기 때문에 높은 신뢰성이 요구되고 즉각적인 유지관리 대응을 필요로 합니다. ① 숙련된 전문 인력 동사의 주요 엔지니어들은 설계, 제조분야에 있어 평균 12년 이상의 경력을 가지고 있습니다. 반도체 장비 업체는 전방산업을 영위하는 반도체 제조업체의 영향을 받으며, 양측이 반도체 공정 Technical road를 맞춰야 효율이 극대화 됩니다. 반도체 공정은 불과 몇 년 만에 마이크로 단위의 미세화 공정에서 현재는 2~5나노공정으로 전환되었으며 장비의 웨이퍼 처리용량이 시간당 300매에서 440매까지 증대되고 있습니다. 이에 따라 반도체 장비 역시 이에 대응하기 위해 지속적인 업그레이드가 필요합니다. 이러한 과정에서 장비의 개발은 곧 양산으로 이어지므로 숙련된 전문 엔지니어가 있다는 것은 매우 중요한 경쟁요소입니다. 대부분의 장비업체가 비용절감을 위해 외주에 의존하고 있지만, 동사는 기구부 및 제어부를 포함한 대부분을 내재화하고 제품의
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제조 역시 공정의 대부분을 동사 직원이 직접 자체 제작하고 있습니다. 설계 후 전장은 외주 처리를 하고 있으나 외주가공비 비중은 전체 원가에서 3% 내외에 불과하며 그 외 제조 작업은 동사 인력이 직접 제작, 평가, 검수, 포장에 이르는 대부분의 프로세스를 진행하고 있어 장비의 신뢰성을 유지하고 있습니다. ② 에너지 절감 기술동사는 20여년의 THC 개발과정을 통해 안정적이면서 신뢰성 있는 저비용으로 운전 가능한 에너지 절감 기술을 업계 최초로 개발하여 양산에 성공하였습니다. THC장비의 1세대는 전기히터를 이용한 온도 및 항온수 제어방식이며, 2세대가 폐열과 전기히터의 병행사용으로 에너지 절감기술을 적용했다면 3세대는 Heatless 가열시스템으로 장비내에 히터를 제거하고 THC 냉동시스템에서 불가피하게 발생되는 폐열만을 이용, 온도제어가 가능한 가열시스템을 적용한 기술입니다. [워트 세대별 THC장비 특징] 워트의 세대별 장비.jpg 워트의 세대별 장비 특징 항목 1세대 2세대 3세대 가열방식 전기히터 전기히터+폐열 Heatless 시스템 적용년도 2013년이전 2013년 2021년 실 사용전력(kWh) 에너지 절감률(1세대대비) 에너지소비저감량(TOE/Year) 특허 동사의 3세대 Heatless 시스템에 적용된 에너지 절감기술은 전기히터를 제거하고 핀타입의 가열코일을 적용한 기술입니다. 이는 THC장비 내부 냉각시스템의 압축기에서 압축된 냉매의 고온고압 가스를 응축기에서 고온고압 액상(포화) 상태로 만들기 위해 상온(18℃)의 냉각수(PCW)를 이용하여 열교환을 시키면 냉각수가 중고온(35℃)상태가 되며 이를 전기히터 대신 이용하는 기술입니다. 해당 기술이 적용된 3세대 THC장비는 1세대와 비교시 약 50%의 에너지 절감을 가능하게 하였습니다. 또한 THC장비 내부 냉각시스템의 응축기에서 발생되는 폐열(중고온의 냉각수)을 재활용함으로서 THC장비에서 팹내 유틸리티로 보내어지는 냉각수의 온도가 자연스럽게 팹에서 요구되는 온도(약18℃)와 비슷한 수준으로 낮아지기 때문에 팹 유틸리티 시스템에서 냉각수의 온도를 제어하기 위한 전력사용이 줄어들게 됩니다. 동사의 3세대 에너지 절감기술 적용은 THC장비와 팹내 유틸리티 시스템 가동부하를 동시에 최소화함으로서 장비자체의 에너지뿐만 아니라 팹 전체의 에너지 절감에 기여를 하고 있습니다. 이는 현재 냉각시스템의 냉동기에서 토출되는 냉매의 핫가스(Hot gas)를 이용한 가열시스템을 사용하는 경쟁사 대비 에너지 절감 및 시스템의 안정성 측면에서 경쟁력 우위를 점할 수 있는 요소입니다. ③ Fab 내 유지관리에 용이한 설계 기술 동사는 장비 설계시 유지관리 용이성에 중점을 두고 설계를 진행하여 THC 장비를 제어판넬, 항온수공급부 및 항온항습부로 구분하여 설계 배치함으로서 유지관리 시 3면에서 접근하여 대응할 수 있도록 하고, 제품 신뢰성을 확보하기 위해 수년간의 시행착오로 쌓아 온 데이터를 기반으로 부품을 선정하여 파트자체 고장으로 인한 고장횟수 및 시간을 최소화하였습니다. 또한 산업현장에 가장 많이 사용되고 있는 PLC(Programable Logic Controller)를 중심으로하는 제어반을 구축하여 장비구동 안정화에 최우선을 두었습니다. 이를 통해 고장발생시 팹내에서 원인을 파악하고 장비교체 없이 현장에서 직접 수리가 가능하게끔 설계되어있기 때문에 유지보수를 위해 장비를 팹 밖으로 반출해야 하는 경쟁사 대비 트랙장비의 정지시간을 최소화할 수 있습니다. 만약, 타사에서 하는 방식대로 장비에 문제가 발생할 때마다 트랙 장비에서 THC 제품을 완전히 분리한 후 수리 과정을 거쳐 트랙 장비에 다시 장착해야 되는 상황이 발생된다면, 고객사 입장에서 생산차질이 불가피하기 때문에 동사의 설계기술이 경쟁력을 가질 수 있습니다. 다. 기술성(1) 보유 기술의 경쟁력 ① THC 장비 관련 기술 ㉠ 온도 오차±0.05℃ 및 습도 오차±0.5% 이내 제어 가능 초정밀 온습도 제어 기술동사 장비의 핵심 기술은 초정밀 온습도 제어를 오차범위 내에서 유지하는 기술입니다. 이를 위해서는
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3가지 요소가 필수적입니다. 첫째는 O.A(Out Air, 외부의 공기)를 초정밀 온습도 제어를 위해 1차적으로 일정온도(통상 10.5℃)로 낮추어 공기 중의 습도를 떨어뜨리기 위한 냉각시스템입니다. 냉각시스템은 크게 압축기(Compressor), 응축기(Condenser), 팽창밸브(EEV) 그리고 증발기(Evaporator) 총 4가지로 구성되어 있습니다. 압축기는 저온저압상태의 냉매를 흡입하여 고온고압의 과포화 상태로 압축하며 응축기는 압축기에서 과포화된 냉매가스를 고온고압 포화상태의 냉매로 변화시켜줍니다. 이후 팽창밸브를 통해 고온고압의 냉매는 저온저압의 냉매가스로 변화되어 증발기로 보내며 증발기는 흡열반응을 통해 O.A(외부의 공기)를 냉각제습 합니다. 초정밀 온습도 구현을 위해서 장비내의 냉각시스템은 외기변화에 따른 증발기에서의 부하변동 발생시 일정한 증발압력을 유지하면서 가동되도록 보상시스템이 적용되어야 합니다. 동사는 전자팽창변(EEV; Electric Expansion Valve)과 PLC를 이용하여 증발압력이 항상 일정하게 유지 될 수 있도록 로직을 개발하여 외기변화에 따른 실시간 자동제어가 가능하도록 구현되었습니다. 전자팽창변은 압축기 흡입단에 설치된 압력센서(LP)에서 전달되는 시그널과 PLC제어기기에 입력되어있는 기존 설정값을 실시간 비교를 통해 EEV밸브를 자동으로 조절하여 증발기로 흘러가는 증발압력을 조절합니다. 이러한 자동조절이 제대로 작동하지 않은 경우 증발기를 통한 O.A에 대한 냉각온도가 변동되므로 초정밀 온습도제어에 불리한 조건으로 작용합니다. 둘째는 1차적으로 냉각제습된 공기를 가열하여 트랙장비에서 요구하는 온도로(통상 23℃±0.05°C) 가온제어하는 가열시스템입니다. 타사의 경우 가열시스템으로 전기 핀히터(Fin heater)를 사용하고 있지만 동사는 폐열을 이용한 가열 핀코일(Fin Coil)을 적용하여 응축기에서 열교환된 폐열을 재활용과 동시에 공기의 접촉률을 90%이상 향상시켜 제어도 향상과 에너지 절감을 동시에 실현하였습니다. 셋째는, 가열시스템을 통해 온도가 제어된 공기에 습도(오차 ±0.5%)를 제어하는 가습시스템이으로 저수조의 물에 열을 가하여 발생되는 수증기를 이용한 습도제어 방식입니다. 가습시스템을 위한 저수조의 물은 항상 일정량 유지될 수 있도록 수위감지센서가 적용되어 있으며 보다 빠른 증발을 유도하기 위해 최종 공급되는 공기의 일부를 블로워에서 우회시켜 원활한 기류 형성을 유도하도록 설계되어 기존보다 저온에서의 증발을 유도시킴으로써 에너지를 절감(전력량의 약 10%)하였습니다. 이 3가지 시스템의 모든 정보는 수년간의 연구 및 양산화를 통해 최적화되어 있으며 PLC제어부에 입력되어 자동제어 될 수 있게끔 프로그램화 하였습니다. 최신 THC장비 기준, 고객사는 제품 사양은 온도±0.05℃, 습도 ±0.5%, 그리고 초기가동시 안정화시간 30분을 요구하고 있습니다. 하기의 그래프는 실제 가동되는 동사 THC장비의 온도제어도, 습도제어도를 보여주고 있으며 온도의 경우 ±0.03℃, 습도는 ±0.2% 이내에서 제어되고 초기가동시 안정화시간은 10분 내외로 고객사가 요구하는 사양 대비 높은 품질을 구현하고 있습니다. [THC 장비 사용 시, 온습도 안정화 시간] thc 장비 사용에 따른 온습도 안정화 시간.jpg THC 장비 사용에 따른 온습도 안정화 시간 (출처: 워트) ㉡ 에너지 절감형 초정밀 항온수 공급기술 및 온도제어 기술동사는 2013년 발생한 에너지 대란과 고객사의 탄소배출 저감 정책에 발맞추어 업계 최초로 에너지 절감형 THC장비를 개발하였습니다. 기존의 THC 장비는 항온수 제어시 냉각시스템과 가열히터가 적용된 방식을 적용하였으나 동사는 팹에서 공급되는 냉각수(PCW)를 이용한 항온수 공급시스템과 냉각시스템의 응축기에서 발생되는 폐열을 온도제어시 열원으로 재활용하는 시스템을 통해 가열히터를 대체하였습니다. 동사가 2013년 개발완료한 2세대 THC장비에서는 응축기에서 발생한 폐열을 보조열원으로 쓰게 하여 가열히터의 용량을 줄였다면 2021년
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개발완료한 3세대 THC장비는 응축기에서 발생한 폐열과 팹에서 공급되는 냉각수 2가지 열원을 통해 가열히터를 완벽하게 대체하였습니다. 이에 대한 상세한 기술설명은 다음과 같습니다. [에너지 절감형 2새대 THC장비 도식도] [초저전력 3세대 THC장비 도식도] 에너지 절감형 2세대 thc 장비.jpg 에너지 절감형 2세대 THC 장비 초저전력 3세대 thc 장비.jpg 초저전력 3세대 THC 장비 (출처: 워트) 냉각시스템은 압축, 응축, 팽창, 증발 총 4가지의 단계로 이루어져 있습니다. 이중 마지막 단계인 증발기(Evaporator)에서는 EEV밸브를 통해 온도와 압력이 떨어진 저온, 저압의 액체냉매가 주변의 기화열을 흡수하여 기체화 되며 증발기를 통과하는 공기의 온도와 습도를 낮추는 작용을 합니다. 즉 액체냉매의 기체화가 진행되는 과정과 동시에 증발기내의 냉매온도가 3℃까지 내려가는 현상이 수반됩니다. 온도가 3℃ 까지 떨어진 증발기에 O.A(외부 공기)를 통과 시켜 차가운 증발기와 외부공기간의 열교환을 진행시킵니다. 이 과정에서 외부공기의 온도는 23℃에서 포화온도(노점온도, 약 10℃)까지 떨어지며 외부 공기에 포함되어 있던 수분이 응축(기체→물)되어 응축수로 배출되어 공기 중의 수분이 감소되며 절대 습도가 낮아지게 됩니다. 이렇게 10℃까지 낮아진 공기는 동사가 설계한 온도보상열교환기를 통과하며 열교환을 시켜 줌으로 공기 온도를 1차로 보상시켜 줍니다. 이어서 응축기에서 발생한 폐열(약 35℃)을 특화된 설계기술인 “폐열을 이용한 정밀제어 기술”을 통해 공기온도를 최종적으로 보상하여 23℃±0.05℃ 범위로 정밀 제어를 구현하고 있습니다. 이후 낮아진 절대습도를 상대습도인 45%까지 제어하어 최종적으로 온습도가 초정밀제어된 공기가 공급됩니다. 2세대 THC의 경우 응축기에서 발생한 폐열만 재활용하기 때문에 최종 가열히터의 보조열원으로 사용되었으나 3세대 THC의 경우 응축기에서 발생한 폐열 + 팹에서 사용되는 PCW의 열원 모두를 재활용하여 가열히터를 완벽하게 대체하였습니다. [세대별 THC 장비의 열원 활용 구조도] 3세대 (2021~현재) 전기히터 전기히터+폐열 HEATLESS 시스템 세대별 thc 장비 열원 활용 구조도.jpg 세대별 THC 장비 열원 활용 구조도 이를 통해 2세대 THC장비는 기존 THC 장비보다 약 37%의 에너지 절감효과(사용전력 30KWh→19KWh)를 이루었으며 3세대 THC장비는 1세대 보다 약 50%, 2세대 보다 약 15%의 소비전력을 낮출 수 있었습니다. 또한 복잡한 냉각시스템 및 히터 제어를 하지 않게 되므로 시스템이 단순화되어 신뢰성 및 공급단가 측면에서 경쟁력을 높일 수 있었습니다. ㉢ Fab 내 유지관리에 용이한 장비를 설계하는 설계 기술력 동사의 장비는 고장발생시 팹 안에서 원인을 파악하고 장비교체 없이 현장에서 직접 수리가 가능하게끔 설계되어있기 때문에 유지보수를 위해 장비를 팹 밖으로 반출해야 하는 경쟁사 대비 트랙장비의 정지시간과 비용을 최소화하고 있습니다. 동사의 THC 장비는 하기 그림과 같이 제어판넬, 항온수공급부 및 항온항습부로 구분하여 설계 배치함으로서 제품 유지보수시3면에서 접근하여 대응 할 수 있도록 제작되었습니다 [워트 THC 장비 구조] 워트 thc 장비 구조.jpg 워트 THC 장비 구조 (출처: 워트) 또한 소프트웨어와 장비를 설계한 엔지니어가 직접 현장 대응하는 것도 팹 현장에서 즉각적인 유지보수(소요시간 4~6시간)가 가능한 이유 중 하나입니다. 만약 제품에 대한 문제가 발생할 때마다 트랙장비에서 THC장비를 완전히 분리한 후 반출하여 수리작업을 진행하고 트랙장비에 다시 장착해야 되는 상황이 발생한다면 공정상 막대한 생산차질이 발생될 수 있습니다. 2022년 국내기준 총 588대의 동사 THC장비가 삼성전자에 가동 중이며 해당연도 AS대응 발생건수는 총 222건으로 연단위 유지보수 대당 발생건수가 0.38건으로 매우 낮습니다. 또한 건당 수리비용의 평균은 316,000원으로 제품을 반출해야하는 경쟁사 대비 적은 비용이 소요되는
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것으로 추정하고 있습니다. 이러한 유지보수의 용이성과 낮은 비용발생은 고객사의 비용절감 뿐만 아니라 동사의 높은 인당 업무효율성에도 기여하고 있습니다. ② TCU 장비 관련 기술 동사는 OLED용 잉크젯 프린팅 설비를 국산화한 세메스와 개발초기부터 참여하여 해당 설비에 적용되는 TCU 장비를 개발하여 양산을 하고 있습니다. 디스플레이 공정은 기판인 글래스(Glass)의 이동뿐만 아니라, 글래스 위에 회로를 인쇄하는 공정 또한 기판을 부상시킨 상태에서 진행됩니다. 동사의TCU 제품은 디스플레이의 회로 인쇄 공정에서 글래스를 부상시키기 위한 유체(공기, 질소)를 파티클이 없는 상태로 일정온도와 압력으로 정밀제어 하여 잉크젯 공정의 스테이지에 공급하는 역할을 수행합니다. [OLED 기판 부상 스테이지] oled 기판 부상 스테이지.jpg OLED 기판 부상 스테이지 ㉠ 고압 고풍량 에어 공급기술동사의 TCU는 OLED 제조공정에서 Glass또는 Plate를 부상하기 위하여 필요한 에어 또는 N2(질소)를 해당 장비의 스테이지에 공급하는 역할을 하고 있으며, 이때 공정상 플레이트에 직접적으로 에어나 N2가 공급되므로 해당유체(에어 및 N2)에 파티클이 없어야 됩니다. TCU는 공급되는 유체의 온도 및 공급압력을 정밀제어가 가능한 기술을 통해서 공급하여야 합니다. 파티클과 온도제어, Glass나 Plate의 일정 높이 부상에 문제가 발생시에 반도체 공정과 마찬가지로 패턴형성에 문제가 발생 할 수 있기에 동사는 Glass Floating용 초정밀 항온 에어공급장치를 자체적으로 기술개발 완료하고 양산화에 성공하였습니다. ㉡ 정밀 고압의 항온에어 공급기술디스플레이 제조 공정에 공급되는 에어의 경우 노즐분사를 하여야 하므로 높은 압력(20kPa)이 요구되며, 이때 유체의 특성상 압축이 되면 온도가 50~ 60℃까지 상승하기 때문에 동사는 이를 상온의 일정온도로 냉각하는 기술을 적용하였습니다. N2(질소)의 경우 가스 특성상 순환구조로 설계를 하여하므로 일반 에어를 사용하는 방식보다 체계적인 노하우를 제품에 적용했으며, N2 순환라인 자체를 완전 밀폐형식으로 가능하게 설계했습니다. 뿐만 아니라 동사의 TCU는 밀폐 챔버내에 블로워 냉각코일 등을 배치하였으며, TCU 전원 및 시그널 커넥터등도 일반 커넥터가 아닌 방수용 커넥터를 사용하여 해당 장비를 제작하였습니다. ③ FFU 관련 기술 동사의 FFU는 Clean Room, 반도체 및 디스플레이용 공정 설비 등에 적용되어 미세먼지(Particle)를 관리하는 목적으로 사용되고 있으며, 대부분의 반도체 장비에 기본적으로 설치되는 제품으로 모든 반도체 장비당 최소 2대에서 최대 15대 정도 설치되고 있습니다. 반도체 공정 장비에 사용되는 동사의 FFU는 고객사 마다 요구 사양이 상이하고 각 장비별 내부 설계에 대한 사양 또한 상이합니다. 따라서 단순한 구조의 FFU를 제공하는 것이 아닌 장비의 사양에 맞는 Fan의 크기와 기류의 속도, 유체의 균일성(풍속의 차이)를 고려한 맞춤형 FFU 시스템을 제작하고 있는 것이 동사 제품의 특징입니다. ㉠ 다양한 형태의 FFU 제작 기술기존의 FFU 제조업체들은 규격화된 FFU 제품생산에 국한되어 있었으나, 동사는 고객사의 다양한 Needs와 옵션들을 반영한 FFU를 제작 및 제공하고 있습니다. 해당 장비를 개발시, 고객사의 기본적인 요구사양을 제시 받아 장비 내부의 기류 조건 통합 및 설계 등을 고려하여 제품 검토를 통해 고객사에 제안 및 수주를 받은 후, 커스터마이징(슬림형, 차압제어형 등) 방식으로 제작하고 있습니다. 이렇게 제작된 FFU 제품은 동일한 모델에 있어서 동사 제품을 지속적으로 납품 및 공급 가능하게 하고 있습니다. ㉡ 조명 및 차압모니터링이 장착된 FFU 제작 기술동사는 FFU 제작시 제품 내부에 조명을 내장하여 추후 수리 및 대응 서비스를 원활하게 가능하게 하고 있으며, 해당 제품에 대한 차압 모니터링(장비와 관련된 두 개의 압력을 측정)을 통해서 정밀한 장비의 제작이 가능합니다. 반도체 제조사는 변경점에 관련된 리스크를 매우
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중요한 요소로 판단하며, 이는 동종의 경쟁업체가 환경적 민감도가 높은 반도체 제조 공정 장비에 진입하기 어렵다는 의미입니다. 동사는 창립 이후 수많은 납품실적과 이를 토대로 습득한 기술 노하우를 통해 장비용 FFU를 선점하고 해당 사업 규모를 확대하고 있습니다. [워트의 차압형 FFU] 차압형 ffu.jpg 차압형 FFU (2) 보유 기술의 완성도 동사는 기업부설연구소를 운영하고 있으며, 연구소장을 포함하여 증권신고서 제출일 현재 10명의 연구원이 재직하고 있습니다. 동사의 기업부설연구소는 동사의 THC, TCU, FFU, 기타 장비 및 소프트웨어 개발과 설계 연구를 수행하고 있으며, 증권신고서 제출일 현재 조직 구성은 아래와 같습니다. [워트의 기업부설연구소 조직도] 기업부설연구소 조직도.jpg 기업부설연구소 조직도 동사는 설립 이후 지속적인 연구개발 및 투자를 통해 기존사업 부문을 넘어서 신규사업부문의 매출 시현화를 위한 기술적 근간을 구축해가면서 기술적 완성도를 높여 가고 있습니다. 증권신고서 제출일 현재까지의 동사의 주요 연구 실적 현황을 기술하면 다음과 같습니다. [연구개발 실적1] 연구과제 Photo KrF 공정용 초정밀 항온습 항온수 공급장치(THC) 연구기관 워트 기업부설연구소(자체개발) 연구결과 양산화 (세메스, 삼성전자, SK하이닉스) 기대효과 - 현재 주요 양산 공정중 하나인 KrF 공정용 THC 개발로 수요확대 - 친환경 ECO 기술 적용으로 에너지 25%이상 절감 - 초정밀 온·습도 제어 성능 확보 - 에너지 절감형 시스템 (특허 등록) 제공 - 가열부가 없는 항온수 공급장치 (범위 ; 22~25℃) - 폐열을 이용한 온도제어(에너지 절감) 성능확보 - 기존 양산 THC에 해당 기술 적용하여 탄소 중립화 기여 - 전기히터 제외(최소화)로 화재 위험성 감소 - 고객사 운전비용 감소: 원가경쟁력 확보 상품화 내용 KrF공정사양의 초정밀 항온습 및 항온수 공급장치 비고 [연구개발 실적2] 연구과제 Photo ArF공정용 초정일 항온습 항온수 공급장치(THC) 연구기관 워트 기업부설연구소 + 고객사(자체개발) 연구결과 양산화 (세메스, 삼성전자) 기대효과 - 현재 최상위 공정중 하나인 ArF 공정용 THC 개발 - 기존 양산 THC에 해당 기술 적용하여 탄소 중립화 기여 - 전기히터 제외(최소화)로 화재 위험성 감소 - 고객사 운전비용 감소: 원가경쟁력 확보 상품화 내용 ArF공정사양의 초정밀 항온습 및 항온수 공급장치 비고 [연구개발 실적3] 연구과제 연구기관 워트 기업부설연구소(자체개발) 연구결과 양산화 (세메스) 기대효과 - Display 포토공정을 대체하는 신규공정인 INKJET 설비에 TCU 적용 - 재료 사용량이 적어 제품의 원가 절감 가능 - 공정 시간 단축화 상품화 내용 Glass floating용 초정밀 항온 에어공급장치 비고 [연구개발 실적4] 연구과제 EUV용 Pod Stocker용 항온에어 공급장치 연구기관 워트 기업부설연구소(자체개발) 연구결과 양산화 (한화) 기대효과 - 신규 FAB 건설시 필수 설비인 STOCKER 용 FFU System 개발 상품화 내용 비고 [연구개발 실적5] 연구과제 반도체 OHT 탑재형 Clean module 연구기관 워트 기업부설연구소(자체개발) 연구결과 양산화 (에스에프에이, 세메스) 기대효과 - 생산라인내에서 발생되는 파티클 제거함으로써 불량률 감소에 기여 상품화 내용 반도체 OHT 탑재형 소형 집진기 비고 [정부과제 수행 실적] (단위: 백만원) 연구과제명 주관 부서 연구기간 정부출연금 관련제품 비고 웨이퍼 프로브 척(Chuck)의-40℃ 극저온 유지를 위한청정건조공기(CDA) 기반의4kW급 냉동시스템 국산화 개발 한국에너지기술평가원 '17.12.31 THC 현재까지 동사의 주요 기술 개발 실적의 특징을 보면 기존 매출 라인(THC, TCU)의 기술적 완성도를 높임과 동시에 OHT, Pod Stocker 등 제품 라인 다변화를 통해 사업 안정성 확보뿐만 아니라 확장성을 진전하는 점, 그리고 정부과제의 수행 능력 등을 고려할 때 기술적
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완성도에 중요한 문제가 있을 가능성은 낮다고 판단됩니다. 따라서, 증권신고서 제출일 현재 동사의 기술적 완성도는 일정 수준 이상 완성도가 존재한다고 판단됩니다. (3) 보유 지적재산권 동사에서는 기술 선점이 필요한 분야 혹은 경쟁사의 특허권 방어를 목적으로 제한적으로 특허를 출원 및 관리하고 있습니다. 다음은 동사에서 보유하고 있는 특허권의 목록입니다. [워트 보유 특허 현황] 번호 구분 내용 권리자 출원일 등록일 적용제품 주무 관청 특허권 에너지 효율성이 우수한 온, 습도 제어장치 워트 THC 특허청 특허권 기판 처리 장치 및 항온 항습 방법 세메스 워트 THC 특허청 특허권 반도체 제조 공정용 초절전 항온습 및 항온수 제어 장치 워트 THC 특허청 (4) 보유 기술인력의 우수성 증권신고서 제출일 현재 동사의 기업부설연구소에 소속된 연구개발인력은 총 10명입니다. [워트 연구개발 인력 현황] 학력 박사 석사 학사 합계 인원수 1명 9명 10명 동사의 연구인력에 대한 상세한 내역은 다음과 같습니다. [워트 연구개발 인력 상세 경력] 직위 성명 담당 업무 주요경력 주요연구실적 연구 소장 김우상 기계설계 연구개발 -한밭대학교기계공학석사('06) -㈜에이스랩 반도체 및 디스플레이 프로젝트 신규개발 총괄 연구원 이인규 기계설계 연구개발 한밭대학교기계공학 학사('07) 1) OLED TFE Floating Stage용 초정밀온도제어기능을 가진 고압에어 공급 시스템 개발 2) UV Lamp용 정밀 온도제어용 Smart Cooler 시스템 개발 3) 반도체 OHT 탑재형 초미세먼지 Clean 시스템 개발 4) 반도체 Photo KrF 공정용 THC 개발 5) 반도체 Photo ArF Immersion 공정용 대용량 THC 개발 6) 반도체 Debonding 공정용 UV Lamp의 수명 및 조도 균일도 향상을 위한 Cooler 시스템 개발 7) 반도체 Photo KrF공정용 차세대 THC개발 연구원 이00 기계설계 연구개발 경기대학교기계공학 학사('16) 2) S社 반도체Photo KrF 공정용 THC 개발 3) 반도체Photo KrF 공정용 THC 개발 4) 반도체 OHT 탑재형 초미세먼지 Clean 시스템 개발 5) 반도체 Photo KrF공정용 차세대 THC개발 6) 반도체 Debonding 공정용 UV Lamp의 수명 및 조도 균일도 향상을 위한 Cooler 시스템 개발 연구원 문00 기계설계 연구개발 세종대학교기계공학 학사('17) 1) 반도체 Photo 고점도(PSPI) 공정 대응 THC 개발 2) OLED TFE Floating Stage에 공급하는 초정밀 온도 제어 시스템 개발 3) 해외용 반도체 Photo KrF 및 ArF 공정용 THC 개발 4) 반도체 Photo Trim Down 공정용 절전형 THC 개발 6) 반도체 Photo 설비의 제약적인 Space에서 다풍량을 제공할 수있는 직렬형 FFU 시스템 개발 연구원 김00 기계설계 연구개발 한국폴리텍Ⅳ대학컴퓨터응용기계과전문학사('19) 1) FFU system 업그레이드 2) 반도체 Clean 공정용 미세먼지 제거 장치 FFU 개발 3) MASK STOCKER용 청정유지및 온도제어을 위한 HEATERLESS 시스템 개발 연구원 송00 기계설계 연구개발 대림대학교메카트로닉스공학과 학사('20) 1) FFU system 업그레이드 2) 반도체 Photo 공정용 CIRCULATER 수명개선을 위한 검증 JIG 시스템 개발 3) 반도체 Photo KrF 및 ArF 공정용 FFU 개발 4) 반도체 Track 설비용 고균일도 Air Chamber 개발 5) 반도체 Photo Track 설비용 다풍량 직렬형 FFU 개발 연구원 심진석 기계설계 연구개발 공주대학교공과대학 학사('20) 1) FFU system 업그레이드 2) 반도체 Photo KrF 공정용 차세대 THC개발 3) 반도체 Track 설비용 고균일도 Air Chamber 개발 4) 반도체 Photo Track설비용 다풍량 직렬형 FFU개발 연구원 유00 기계설계 연구개발 한남대학교 전자공학 학사('10)
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1) 반도체 Photo KrF 공정용/차세대 THC 전장설계 및 PLC/Touch Screen 프로그램 개발 2) 반도체 Photo ArF Immersion 공정용 대용량 THC 전장설계 및 PLC/Touch Screen 프로그램 개발 3) 반도체 Trim Down 공정용 절전형 THC 전장설계 및 PLC/Touch Screen 프로그램 개발 연구원 손00 기계설계 연구개발 한밭대학교 전기공학 학사('08) 1) OLED TFE Floating Stage용 초정밀 온도 제어 시스템 전장설계 및 PLC/Touch Screen 프로그램 개발 2) UV Lamp용 정밀 온도제어용 Smart Cooler 전장설계 및 PLC/Touch Screen 프로그램 개발 3) 반도체 Debonding 공정용 UV Lamp의 수명 및 조도 균일도 향상을 위한 Cooler 시스템 전장설계 및 PLC/Touch Screen 프로그램 개발 4) 해외용 반도체 Photo KrF 및 ArF 공정용 THC 전장설계 및 PLC/Touch Screen 프로그램 개발 연구원 신00 기계설계 연구개발 명지대학교 전기공학 학사('18) 1) OLED TFE Floating Stage용 초정밀 온도 제어 시스템 전장설계 및 PLC/Touch Screen 프로그램 개발 2) UV Lamp용 정밀 온도제어용 Smart Cooler 전장설계 및 PLC/Touch Screen 프로그램 개발 3) 반도체 Debonding 공정용 UV Lamp의 수명 및 조도 균일도 향상을 위한 Cooler 시스템 전장설계 및 PLC/Touch Screen 프로그램 개발 4) Stocker 설비 내부 Cooling 시스템 전장설계 및 PLC/Touch Screen 프로그램 개발 증권신고서 제출일 현재 동사의 연구조직 구축 현황 및 인력 수준, 구성 인력의 경력과 연구 실적 등을 검토한 결과 동사의 연구인력은 대부분의 인력이 기술개발에 필요한 공학 기술과 소프트웨어 기술을 보유하고 있으며, 또한 다수의 연구개발실적을 통해 동사의 반도체 환경제어 장비 전반에 대한 기술 개발 노하우를 갖고 있는 연구원들을 중심으로 구성되어 있어 충분한 전문성과 숙련도를 확보하고 있다고 판단됩니다. 라. 재무상황 (1) 재무적 안정성 동사의 재무적 안정성을 나타내는 재무비율 등의 내역은 다음과 같습니다. [워트의 재무안정성 비율] (단위: 백만원) 구 분 2023년 반기 (제20기 반기) 2022년 (제19기) 2021년 (제18기) 2020년 (제17기) 워트 업종평균 유동비율(%) 부채비율(%) 차입금의존도 이자보상배율(배) 518.54배 당좌비율 재고자산 회전율(회) 1.57회 5.64회 9.96회 6.15회 11.69회 매출채권 회전율(회) 6.74회 9.59회 11.39회 5.65회 11.97회 주1) 업종평균 재무비율은 한국은행에서 발간하는 '기업경영분석(2021년 기준)'을 참조하였으며,한국표준산업분류상 'C292. 특수 목적용 기계’을 참조하였습니다. 동사의 2023년 반기 기준 부채비율은 4.4%로 지속적인 흑자 시현, 무차입 경영을 통해 동종 업계에 비해 현저히 낮은 부채비율을 유지하고 있습니다. 또한 동사의 2023년 반기 기준 유동비율은 2,172.3%로 업종평균을 상회하고 있어 단기적인 유동성 이슈로 인한 자금 경색 등의 가능성은 제한적입니다. 동사의 매출채권 회전율은 2023년 반기 기준 6.74회로 2022년 9.56회, 2021년 11.39회 대비 하락하였습니다. 이는 2023년 고객사의 중 한곳의 결제 기간이 늘어난 것에 기인하나 이를 반영하더라도 대부분의 매출채권은 세금계산서 발행 후 60일 이내에 회수가 이루어지고 있으며 업종평균 5.65회를 상회하여 양호한 수준으로 판단됩니다. 또한 동사의 매출은 대부분 대기업향 매출로 매출채권 회수의 지연 등으로 인한 재무안정성 악화 등이 발생할 가능성은 매우 낮습니다 동사의 재고자산회전률은 2023년 반기 1.57회, 2022년 5.64회로 2021년 9.96회 대비 감소하고 있는 추세입니다. 이는 2021년 반도체 원자재
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공급부족에 따라 안전재고 확보를 위해 장비 납기 준수와 고객사 유지보수 등을 위해 유통기한이 없는 부품 재고를 증가시킨 것과, 최종수요처인 삼성전자, SK하이닉스의 투자 축소에 따라 설비 납품이 지연되면서 재고자산이 크게 증가한것에 기인하나 관련 재고는 반도체 업황 회복에 따라 순차적으로 납품 예정입니다. (2) 매출의 우량도 (단위 : 백만원) 구분 2023년 반기 (제20기) 2022년 (제19기) 2021년 (제18기) 2020년(제17기) 매출액 수출금액 (비중) 기말 매출채권 (6개월 이상 채권) 부도금액 (업체수) 매출총이익률 동사는 반도체 전공정의 핵심 공정인 포토공정(Photolithography)에 주로 도입되는 THC장비와 세정 및 트랙장비 등에 부착되어 장비의 미세먼지를 관리하는 FFU 제품의 판매를 주사업으로 영위하고 있습니다. 동사의 주요 매출처는 삼성전자, SK하이닉스, 세메스로 해당 기업들은 글로벌 반도체 제조 및 장비회사로 신용등급과 재무안정성이 높기 때문에 매출채권의 부도발생 가능성은 매우 낮습니다. 동사의 연도별 기말 미회수 매출채권 중 6개월 이상 채권 비중은 극히 적고 안정적으로 매출채권을 회수하고 있습니다. 2023년 반기 기준 6개월 이상 매출채권 190백만원은 삼성전자향 장비판매에 따른 유상 보증 및 수리 용역에 대한 매출채권으로 수익이 기간에 걸쳐 인식되고 있습니다.동사의 매출은 2022년부터 시작된 반도체 사이클 불황에 따라 2021년 이후 하락하는 추세입니다. 다만, 반도체 시장 업황개선에 따라 주요 고객사들의 지연되었던 설비투자가 재개되고 반도체 HBM공정(후공정)에 대한 주요 고객사들의 투자 증가에 따라 동사 장비의 후공정 매출이 증가될 것으로 예상되어 동사의 향후 매출 및 이익의 성장은 지속적일 것으로 전망됩니다. (3) 수익성 (단위 : 백만원) 구 분 2023년 반기 (제20기) 2022년 (제19기) 2021년 (제18기) 2020년(제17기) 매출액 매출원가 (매출원가율) 판관비 영업이익(손실) (영업이익률) 당기순이익(손실)(당기순이익률) (출처: 동사) 동사의 매출액은 2020년 234억원, 2021년 267억원, 2022년 228억원 및 2023년 상반기 75억원으로 매출액의 증가율은 2020년 155.0%, 2021년 13.8%, 2022년 -14.4%로 2021년까지 증가하는 추세를 나타내었으나 2022년 부터 반도체 전방 산업의 투자가 축소되며 2023년 반기까지 감소하는 추세를 보이고 있습니다. 이에 따라 동사의 영업이익률과 당기순이익률 또한 고정비 효과로 인해 하락하였습니다. 다만, 동사의 고객사들이 속한 반도체 전방시장은 반도체 재고자산의 안정화에 따른 반도체 가격 상승, AI 반도체 및 전장용 반도체 수요의 증가에 따라 지속적으로 상승할 것으로 예상되고 있어 이에 따른 동사의 매출 상승으로 영업이익률과 당기순이익률은 개선될 것으로 판단됩니다. [최근 3개년 항목별 매출] (단위: 백만원) 제품명 2023년도 반기 2022년도 2021년도 2020년도 매출액 비율 매출액 비율 매출액 비율 매출액 비율 제품 THC초정밀온습도제어장비 FFU장비용 팬필터유닛 TCU초정밀 온도제어장비 기타 소 계 상품 기타 합 계 (출처: 동사) 동사의 주 매출 중 하나인 THC장비는 주로 반도체 전공정 중 포토공정에 도입되어 반도체 웨이퍼의 PR용액 코팅과 현상 공정에서 초정밀한 온습도 제어를 유지할 수 있도록 하는 장치로 주요 고객사는 글로벌 반도체 제조사들입니다. 동사의 THC장비 매출액과 판매 비중은 반도체 기술 미세화에 따른 초정밀 온습도 장비의 중요도 증대와 HBM공정의 투자 증가에 따라 지속적으로 증가할 것으로 예상됩니다. THC장비는 기술 집약적인 고부가가치 반도체 전공정에 도입되기 때문에 동사의 다른 제품 대비 높은 매출총이익률을 기록하고 있습니다. 이에 따라 THC장비의 매출과 매출비중이 늘어날 경우 수익성 또한 증가할 것으로 판단됩니다. 마. 성장성(1) 성장 이력 동사는 반도체 클린룸 장비 기업인 에이스랩의 반도체 장비 팀장으로 근무하고
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있던 박승배 대표이사를 필두로 6명의 경력자들과 그들의 기술력을 바탕으로 2004년 4월 대전시에서 설립됐습니다. 설립 초기에는 대표이사와 세메스와의 과거 납품이력 관계를 바탕으로 고성능 필터가 적용된 FFU 제품을 주로 공급 했으나 이후 THC 제품 개발 성공을 바탕으로2차 벤더로서의 납품 이력을 쌓기 시작했습니다. 이후 디스플레이 공정에 사용되는 THC 장비를 개발하여 제품 라인업을 다변화 하였으며 또한 최종 수요처 인근으로 본사를 이전하여 동사 제품의 납품 및 설치와 유지관리에 이점을 가져오며 기존 고객사의 신뢰 확보 및 신규 고객 발굴을 지속할 수 있었습니다. 현재 동사는 과거부터 쌓아온 고객사와의 신뢰와 업계 평판을 바탕으로 고객사에 직접 THC 제품을 납품하는 1차 협력사로 선정되는 등 꾸준한 성장을 이어오고 있습니다. [워트의 설립 이후 성장 과정] 구분 내용 성과 출범기(2004년 ~ 2008년) -반도체 클린룸 장비 기업 출신 인력들로 회사 설립-대표이사의 고객사 거래 이력을 바탕으로 FFU 제품 납품-조직, 인력 구축 및 제품개발 수행-THC 제품 개발 수행 -THC 제품 개발 완료-THC 장비를 삼성전자의 2차 벤더로서 Fab에 납품 시작 성장기(2008년 ~ 2017년) -THC 장비 지속 납품을 통한 업계 평판 구축-제품 성능 향상 및 신규 제품 개발을 위한 연구 지속-본사 이전(동탄)을 통해 기존 고객 유지 및 신규 고객 발굴-기업부설연구소 설치 -디스플레이 공정 장비의 냉각제어 시스템인 TCU 장비 개발-고객사와 근접하게 되며 Fab 내부에 설치되는 동사 장비의 납품, 설치 및 유지관리에 이점 확보 도약기(2018년 ~ 현재) -반도체 미세공정화에 따른 주력 제품의 성능향상을 위한 연구개발 지속-본사 이전 후 향상된 고객사 대응능력을 바탕으로 업계 평판 지속 확대-기존 보유 기술을 바탕으로 반도체 외 부문 제품연구개발 -최종 고객사에 직접 납품하는 1차 협력사 전환-최종 고객사 해외 Fab 납품 실적 확보-그 외 국내외 고객사에 납품 테스트, 협의 진행 중-2차 전지 테스트 공정 냉온쳄버 개발 준비 중 (2) 성장을 위한 향후 사업계획가) 신규 제품 개발 동사는 반도체 공정 미세화에 따라 각 공정에서 차단되어야 하는 먼지, 가스 등 오염으로부터 공정 환경을 제어하는 기술의 중요성이 커지고 있으며 따라서 현재 동사 제품이 적용되고 있는 노광공정(Photo공정)뿐 아니라 그 외 다른 반도체 공정까지도 환경제어기술이 확대 적용될 것을 예상하고 있습니다. 또한 같은 이유로 반도체 산업 외에도 디스플레이, 2차 전지 등 점차 다양한 산업에서 동사의 제품이 확대 적용될 것을 기대하고 있습니다. 이에 대비하여 동사는 다음과 같은 신규 제품 개발을 위한 연구를 계획하고 있습니다. ① 에너지 절감 차세대 THC 개발 세계적인 기후변화 및 그린에너지 정책에 따라 선진국을 포함한 대다수의 국가들은 탄소중립을 목표로 정책을 추진하고 있습니다. 우리나라는 2050년까지 탄소중립 목표를 설정하였고 이를 실현하기 위해서는 산업체 전반에 걸쳐 지속적인 에너지 절감이 필수입니다. 동사는 향후 2~3년간 에너지 절감 기술을 추가적으로 개발하여 국내외 경쟁력을 갖추고자 합니다. 또한 AI 기술을 접목한 분석시스템을 개발하여 제품 고장을 미리 인지하는 시스템을 구축하여 제품의 신뢰성을 높이고자 합니다. ② 차세대 TCU 개발 TCU 장비는 디스플레이 공정에 주로 사용하기 때문에 라인 특성상 장비의 개념보다는 설비의 개념과 유사하게 매 프로젝트 마다 사양 등이 변경되는 경우가 반도체 공정에 비해 잦습니다. 따라서 프로젝트별 고객사에 대한 제안 등의 작업이 빈번하므로 3D 설계프로그램 시뮬레이션 등의 시스템을 추가로 구축하여 고객 만족도를 높임으로써 매출비중을 확대하고자 합니다. 또한 THC 장비에서 개발된 에너지 절감기술 및 AI 기술을 이용한 분석시스템 등도 일부 접목할 수 있어 추가적인 제품향상을 통해 고객 다변화에 노력하고자 합니다. ③ FFU 제품 기술 내재화 FFU는 가장 기본적인 환경제어 시스템으로, 모든 장비
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및 설비에 기본적으로 적용되어 운용되고 있습니다. 이는 반도체나 디스플레이에서 가장 기본적 환경제어인 파티클 제거와 외부로부터의 유입을 막는 목적이 있습니다. 기존의 단순 출력 방식을 벗어나 시스템과 유기적으로 대응하기 위한 시스템을 개발하고자 합니다. 이는 능동적 기류제어시스템의 구축으로 가능한데 이를 구축하기 위해서는 시스템의 주요 파트인 팬모터 및 제어기의 자체 기술을 구축이 필수적입니다. 동사는 이러한 주요 제품들을 내재화 시켜 시장을 선도하고자 합니다. ④ 극저온 칠러(Chiller) 개발 동사는 반도체 공정의 후공정에 속하는 EDS 공정에 필요한 극저온 칠러를 개발예정입니다. EDS공정은 프로브 카드(Probe card)에 웨이퍼를 접촉시켜 칩의 정상 작동유무를 진행합니다. 해당공정에서 극저온환경과 극고온환경에서의 칩작동 유무를 확인하며 극저온 칠러를 이용됩니다. 극저온칠러 수요는 일반 칠러보다 작지만 기술적 난이도가 높아 일반 칠러보다 부가가치가 높습니다. 나) 설비투자 현재 동사의 클린룸 시설 내에서 동시에 양산 가능한 THC 장비는 허용 면적 기준 최대 월 16대 정도입니다. 향후 반도체에 대한 지속적인 투자 확대에 대한 대응 및 해외 진출을 위해서는 생산시설의 확충이 필수적이며, 이에따라 동사는 반도체 클러스터 지역에 현재 생산량 대비 약 2배 수준의 생산량을 갖춘 시설을 구축할 계획을 갖고 있습니다. 또한 운영중인 기업부설연구소의 역량을 확대하여 기존 제품의 개선 및 신규 제품의 연구개발, 신사업팀 구성을 통한 미래 먹거리 확보를 위한 R 신축을 계획하고 있습니다. 다) 해외 진출 전략 글 로벌 반도체 시장은 전기차, AI 반도체, 데이터센터 등 급증하는 반도체 수요와 더불어 COVID-19로 인한 공급망 훼손이 겹쳐 2022년 상반기까지 반도체 수급 불균형을 겪었습니다. 이후 세계 각국은 미국의 CHIPS 법안과 같은 반도체 Fab 증설을 위한 지원책을 발표하였고 이에 대응해 향후 글로벌 Fab 설립 규모는 증가할 것으로 예상됩니다. 한편 동사는 2004년 설립 이후 지속적인 연구개발 및 납품실적을 통해 높은 제품 신뢰도와 업계 평판을 쌓아왔으며, 증권신고서 제출일 현재 국내의 글로벌 선두 반도체 고객사에 제품을 공급하고 있습니다. 동사는 2021년 삼성전자의 중국 시안 Fab에 THC 장비를 납품한 것을 시작으로 해외 진출을 시작하였으며, 향후 해외 시장의 성장 가능성을 눈여겨 보고 2021년 동 Fab에 납품되는 장비의 유지보수를 위한 자회사 WOT China 설립 및 중국 반도체 장비 Agency와 계약을 체결하여 중국 내 반도체 기업에 영업활동을 진행하고 있습니다. 이 외에도 삼성전자의 미국 텍사스에 건설 예정인 Fab에도 영업활동을 전개하고 있으며 협의 결과에 따라 삼성전자 미국 신규 Fab에 동사의 THC 장비 납품 및 유지관리를 진행할 예정입니다. [워트의 해외진출 내역] 국가 진출(계약) 연도 진출 목적 사무소명 비고 중국 2021년 제품영업 Agency 중국 2021년 제품 유지보수 중국 2021년 제품 유지보수 WOT CHINA 현지 법인 미국 협의 진행 중 제품 영업 및 유지보수 CJ Tech Agency 향후 동사는 글로벌 고객사를 확보하고 기존의 고객관리 서비스를 강화하기 위해 해외 오피스를 설립하고 현지 반도체 장비 유통 전문 업체들과 영업권 계약을 체결하여 운영을 확장할 계획을 갖고 있습니다. 특히, 2022년 3월 중국 KINGSEMI로부터 THC 장비 1대를 수주 받아 중국 현지 평가를 성공적으로 마무리하였으며 2023년 양산납품을 목표로 하고 있는 등 중국 진출을 적극적으로 진행하고자 합니다. 또한 미국 테일러시의 삼성전자 Fab에 THC장비 도입이 확정될 시 이를 토대로 미국 현지 지사를 설립하여 유지관리 및 현지 영업을 직접 진행할 계획입니다. 반도체는 다가오는 미래산업의 모든 장비에 적용되는 필수 물품이며 동시에 군사안보 전략산업으로 국가적 안보와도 직결되어 있습니다. 현재 세계적으로 자국에 반도체 Fab을 건설을 추진 또는 계획하고 있는 만큼 동사는
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국내의 글로벌 반도체 장비업체와 긴밀한 협업 관계를 통해 해외 판매 시 동사의 제품을 적용하여 판매할 수 있도록 영업활동을 더욱더 강화할 예정입니다. 바. 경영환경(1) CEO의 자질 동사의 대표이사 박승배의 주요 약력 및 경영철학 등은 다음과 같습니다. 성명 박 승 배 생년월일 학력 졸업년도 학교명 전공 비고 경남대학교 기계공학과 학사 경력 기간 회사명 최종직위 블루코드테크놀로지㈜ 기술/과장 ㈜에이스랩 기술/부장 워트㈜ 대표이사 취임배경 동사의 설립자인 박승배 대표이사는 1991년 신성이엔지 산하 신성기술연구소(블루코드테크놀로지)에 입사하여 장비 개발팀에서 업무를 수행하였으며 이후 2000년 1월에 대전 대덕테크노 밸리에 위치한 에이스랩(ACE LAB)의 장비개발팀으로 이직하여 반도체 공정용 항온항습장비 개발을 핵심 업무로 수행하였습니다. 이러한 경력을 바탕으로 워트 주식회사(WOT: Worldwide Our Technology)를 설립하여 초정밀 온습도제어장비, FFU 등의 공정용 국부환경제어 장비를 주력으로 생산하고 있으며 반도체 및 디스플레이 공정에 납품하고 있습니다. 주요 기술활동 내역으로는 반도체 핵심공정인 포토 트랙설비에 안정적인 온습도를 공급하는 역할을 담당하고 있으며 지속적인 에너지 절감 기술을 개발하여 조금이나마 글로벌 탄소저감 활동에 보탬이 되고자 노력하고 있습니다. 지속적인 반도체 산업의 고도화 및 급속한 변화에 따라 회사의 연구개발 역량이 더욱 더 중요해 지고 있습니다. 이러한 역량을 토대로 워트 주식회사를 반도체 산업에 있어 글로벌 기업으로의 성장을 이루어 미래 반도체 산업에 대한 가치창조를 이루고자합니다. 설립이후 경영의 효율성과 투명성을 확보하고자 2011년부터 외부회계감사를 진행하였고 주주이익가치의 향상을 위해 꾸준한 노력을 기울이고 있습니다. 대표이사로서 풍부한 반도체장비 산업지식과 전문 경영인으로서의 능력은 동사의 모든 직원을 하나로 묶는 자연스러운 리더쉽을 형성할 것으로 기대되며 회사 발전의 새로운 도약이 될 것으로 판단되고 있습니다. 경영철학 [Mission] 회사의 핵심역량을 배가하여 최고의 제품을 공급함으로써 고객 만족 극대화와 회사 제품에 대한 임직원의 자긍심을 고취하자. 1. 품질 우선의 개발 및 설계 2. 제 일의 품질로 고객의 감동을 실현 3. 소통의 장으로 사내외 상호신뢰와 존경으로 협업관계 유지 [Vision] 1. 기본에 충실하고 고객만족의 연구개발 및 품질관리 2. 초정밀 항온습 제어 장비의 선두기업 3. 지속적 기술투자와 신기술 개발로 최고의 제품창출 법률위반사항 해당사항 없음 동사의 창립자인 박승배 대표이사는 기계공학과를 전공한 후 블루코드테크놀로지(주), ㈜에이스랩 근무를 통해 반도체 관련 장비 개발에 전념하였습니다. 동종 업계에서 수년간의 연구개발 경험을 바탕으로 동사를 설립하게 되었으며, 반도체 공정용 초정밀 온습도 제어장비(THC)를 개발을 주력사업으로 하여 지속적인 이익 실현과 매출 성장을 이루어낼 수 있었습니다. 박승배 대표이사의 총괄하에 개발된 동사의 THC 장비는 삼성전자, SK하이닉스와 같은 국내 주요 반도체 제조업체로부터 우수한 평가를 받아 꾸준한 납품실적을 기록하고 있습니다. 취임부터 현재까지의 동사의 발전 추이 및 임직원의 조직 충실도, 그리고 현재까지 기업 경영에 있어 관련 법률 위반이나 소송, 분쟁 등이 발생하지 않은 점 등을 고려할 때, 박승배 대표이사는 코스닥시장 상장 기업의 CEO로서 충분한 자질을 갖추고 있다고 판단됩니다. (2) 인력 및 조직 경쟁력 동사의 증권신고서 제출일 현재 조직도는 아래와 같습니다. 동사는 증권신고서 제출일 현재 41명의 임직원으로 구성되어 있으며, 대표이사 및 업무집행이사 4명과 10개의 팀으로 구성되어 있습니다. 이 중 장비 개발 및 설계를 담당하는 연구소 인원은 총원 10명으로 전체 인원의 약 24%를 차지하고 있습니다. 동사의 조직도 및 인력 현황은 다음과 같습니다. [워트 조직도] 워트 조직도.jpg 워트 조직도 주) 증권신고서 제출일 현재 기준 [워트 업무분장표] 구 분 업무내용
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인원수(명) 임원 CEO, CFO, 사외이사 등 경영지원본부 회계팀, 자금팀, 인사총무팀 연구소(개발, 설계) 연구개발, 기구설계 변경관리 제어팀 제어(전장 PLC 프로그램) 영역 설계 및 프로그래밍 제조팀 생산 , TEST 및 평가관리 서비스팀 고객대응, 유지보수 구매자재 팀 구매관리, 자재관리 영업팀 영업관리 품질 팀 품질관리, 검사관리, 측정장비 관리, 부적합관리 주) 증권신고서 제출일 현재 기준 한편 증권신고서 제출일 현재 동사의 임원 현황 및 주요 이력은 다음과 같습니다. [워트 임원 현황 및 주요 이력] 직책명 성명(출생연일) 담당업무 약력 대표이사 박승배 CEO 83.03∼91.02 경남대학교기계공학과졸업 99.12~00.01 블루코드테크놀로지㈜ 기술팀 과장00.02~04.03 ㈜에이스랩기술팀부장 04.04∼현 재 워트(주) 대표이사 사내이사(상근/비등기) 이호성 CFO 85.03~92.02 성균관대학교 경제학과 졸업 12.09~13.12 미시건주립대 재무학 석사 18.02~20.12 KRX 코스닥시장본부 부서장 21.01~22.03 ㈜파운트 부사장 21.12~현 재 ㈜윙스풋 사외이사 23.04~현 재 워트(주) 상무 사내이사(상근/등기) 양귀철 연구소 91.03~97.02 조선대학교기계공학과졸업 97.03~99.02 인하대학교 열및유체석사 00.07~04.04 ㈜에이스랩 대리 04.05~현 재 워트㈜ 상무 사내이사(상근/등기) 박용일 생산팀 91.03~94.02 논산고등학교 졸업 20.07~04.04 ㈜에이스랩 대리 04.05~현 재 워트㈜ 이사 사외이사(비상근/등기) 배기범 이사 80.03~98.02 숭실대학교경영학과 98.03~00.02 숭실대학교대학원경영학과 00.03~04.09 ㈜예스피치대리 17.03~현 재 ㈜대정알파 대표이사 21.07~현 재 워트(주) 사외이사 사외이사(비상근/등기) 임석 이사 87.03~96.02 한양대학교 토목과졸업 00.12~12.04 ㈜대우건설근무 12.05~17.04 ㈜씨엘근무 21.07~현 재 워트(주) 사외이사 감사(비상근/등기) 조태환 감사 84.03~88.02 인하대학교 전자공학과졸업 89.05~10.03 인천광역시 정보통신부팀장 10.03~14.04 인천경제과학구역청 기획조정본부팀장 14.04~18.08 인천광역시도시철도 건설본부담당 18.08~20.12 인천광역시기획조정실담당 21.07~현 재 워트(주) 감사 동사의 임원들은 동종업계에서 오랜 기간 경험을 통해 전문성을 길러온 전문인력들로, 동사는 앞으로도 지속적인 전문인력 영입과 인재 발굴을 통해 반도체 장비산업의 핵심 경쟁력인 인력경쟁력을 확보해 나갈 수 있을 것으로 판단됩니다. (3) 경영의 투명성 및 안정성 동사의 이사회는 대표이사를 포함한 사내이사 3인과 사외이사 2인으로 구성되어 있으며, 감사로는 비상근 감사 1인을 두고 있습니다. 동사의 이사회는 2011년에 제정된 이사회 운영규정에 의해 운영되고 있었으며, 주관사 실사 이후 2022년 5월 23일 상장사 표준 이사회 운영규정을 준용하여 개정 및 증권신고서 제출일 현재까지 운영되고 있습니다. 검토 결과 동사의 이사회 운영규정은 이사회의 권한, 구성, 소집권자 및 절차, 부의사항과 결의방법 등을 적절하게 규정하고 있습니다. 한편, 상법 제363조 제2항에 의거 주주총회 목적사항이 이사 선임에 관한 사항인 경우 이사후보자의 성명, 약력 등 상법 제542조의4 및 시행령이 정하는 사항을 총회 2주 전에 주주에게 서면을 통해 통지 공고하고 있습니다. 동사는 상기 지배구조 및 이사회 구성을 통한 경영투명성 제고 외에도 내부통제의 명료성 및 체계성을 제고하고, 운영의 효과성 및 효율성 제고를 위해 각종 내부통제 관련 사규 정비 및 운영을 하고 있으며, 내부통제 수준 강화 및 코스닥시장 상장 예정 기업으로서 부정 및 오류 발생 가능성을 최소화하기 위해 내부회계관리제도를 운영할 예정에 있습니다. 또한 동사는코스닥시장 상장 이후 상장사로서 공시의무의 충실한 이행 및 주식담당업무의 원활한 수행 등을 위하여 다음과 같이 공시 조직을 구성하여 운영할
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예정입니다. 직위 성명 담당업무 주요경력 비고 상무 이호성 CFO 85.03~92.02 성균관대학교 경제학과 졸업 12.09~13.12 미시건주립대 재무학 석사 18.02~20.12 KRX 코스닥시장본부 부서장 21.01~22.03 ㈜파운트 부사장 21.12~현재 ㈜윙스풋 사외이사 23.04~현재 워트(주) 상무 공시 책임자 과장 이은미 회계팀 04.03~06.02 경복대학교 산업 디자인학과 02.03~06.04 ㈜명석전기 경리부 사원 06.06~09.07 ㈜건설산업지원센터 관리팀 사원 12.09~현재 워트(주) 공시 담당자 동사는 상장사협회에서 규정한 표준 공시정보관리규정을 준용하여 공시정보 관리규정을 제정 및 운영하고 있습니다. 회사는 해당 규정에 따라 내부정보를 이용한 주식매매의 금지, 내부자의 단기매매차익 반환 등을 규정해 내부정보관리에 만전을 기하고 있습니다. 또한 관리임원(CFO)의 책임 하에 회사의 중요한 재무 자료, 회사가 추진 중인 신규사업 진출 등 회사의 주가에 중대한 영향을 미칠 수 있는 사안 등에 대하여 정보의 비대칭이 발생하지 않도록 철저하게 관리할 예정입니다. 한편 동사의 공모 전후 지분 구조 변동과 관련하여, 증권신고서 제출일 현재 동사의 최대주주는 70% 지분을 보유하고 는 박승배 대표이사며 이외에도 최대주주의 친인척, 임원을 포함한 5인이 16.75%의 지분을 보유하고 있습니다. 최대주주와 특수관계인(박승배 외5인)이 보유하고 있는 공모 전 기준 지분은 총 86.75%입니다. 동사의 최대주주 등은 공모 후에도 64.58%의 지분율을 확보하여 동사는 공모 후에도 최대주주인 박승배 대표이사와 그 특수관계인을 중심으로 안정적인 지배구조를 유지할 수 있을 것으로 판단됩니다. [공모 전후 지분 변동] 구분 공모 전 공모 후 주식수 지분율 주식수 지분율 최대주주 특수관계인(5인) 최대주주 등 소계 5% 이상 소유주주 1% 이상 소유주주 기타 소액주주 공모주주 의무인수 합 계 주1) 공모 전 5% 이상 소유주주는 공모 후 지분율이 5% 미만으로 하락하여 공모 후 1% 이상 소유주주에 포함하여 기재했습니다 주2) 청약 결과에 따른 상장주선인의 실권주 인수 수량에 따라 의무인수 수량은 달라질 수 있습니다. (4) 경영의 독립성 동사는 정관 및 제반 내부운영규정의 제정 및 운영, 그리고 독립적인 이사회 구성 등을 통해 경영의 독립성 등을 위한 제반 내부통제를 구축하여 운영하고 있다고 판단됩니다. 현재 동사는 사외이사 2인을 선임하고 있으며, 감사로 비상근 감사 1인을 두고 있습니다. 동사는 증권신고서 제출일 현재 자산규모 1천억원 미만의 비상장 벤처기업으로서 사외이사 선임의 의무가 없지만 향후 코스닥시장 상장 예정 법인으로서 상장사에 준하는 내부통제를 갖추기 위해 동사와 독립적이고 이해관계에 놓여있지 않은 배기범, 임석 사외이사를 2021년 7월 12일자 임시주주총회에서 선임하였습니다. 동사의 사외이사는 수년간 검사 직무를 수행하며 익힌 전문성을 토대로 이사회에 대한 엄격한 감독을 수행할 수 있을 것으로 판단되며, 또한 상법 제382조 제3항 및 동법 제542조의8 제2항 각호에 따라 사외이사 결격요건을 검토해본 결과 결격사유에 해당하는 사항이 없습니다. 또한 동사는 엄격한 내부규정을 통해 이해관계자 간의 거래에 투명성 및 독립성 등을 제고하기 위한 통제절차를 구비하고 있으며, 특히 내부통제시스템 강화를 위해 주된 사업활동과 관련된 거래를 제외하고는 원칙적으로 이해관계자와의 거래를 제한하고 있으며, 불가피한 거래 발생 시를 대비하여 2021년 4월에 '이해관계자거래규정'을 신설하여 운영하고 있습니다. 동 규정은 이해관계자거래를 유형별로 분류하고 경상적인 영업/기업 활동에서 발생하는 거래를 제외하고는 원칙적으로 수행할 수 없게 규정하고 있으며, 부득이 이해관계자거래를 수행해야 할 경우에는 거래의 목적과 그 상대방, 거래의 객관성 및 당위성 등을 이사회에 설명하고 이사회의 결의를 통해 수행하도록 하고 있습니다. 특히 대여와 출자를 포함하는 금융거래와 담보 및 보증 거래는 원천금지토록 규정하고 있으며,
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특정 규모 이상의 이해관계자거래는 주주총회에 보고하도록 규정하여 엄격한 견제장치를 구축하고 이해관계자거래에 대한 투명성을 확보하여 독립적인 경영체제를 유지하기 위해 노력하고 있습니다. 이 외에도 동사는 감사의 경영정보접근을 위해 정관으로써 감사의 직무 및 감사록의 작성과 같은 내부 감사의 경영 감시 권한을 강화함으로서 경영의 독립성을 제고하고자 하는 노력을 지속하고 있습니다. 사. 기타 투자자보호 증권신고서 제출일 현재 대표주관회사인 키움증권은 동사의 주권을 상장하는 것이 투자자보호 및 코스닥시장의 건전한 발전을 저해할 우려가 있다고 인정되는 사유가 없다고 판단합니다. 동사는 설립 이후 증권신고서 제출일 현재까지 회사의 경영 및 자금조달을 위하여수차례 유상증자를 실시하였으며, 자본거래와 관련하여 중요한 흠결사항은 없는 것으로 판단됩니다. 4. 공모가격에 대한 의견 가. 평가결과 대표주관회사인 키움증권㈜는 워트㈜의 영업현황, 산업전망 및 주식시장 상황 등을 고려하여 희망 공모가격을 다음과 같이 제시하였습니다. 구 분 내 용 주당 희망 공모가격 확정 공모가격결정방법 수요예측 결과 및 주식시장 상황 등을 고려하여 대표주관회사와발행회사인 워트㈜가 확정 공모가격을 결정할 예정입니다. 상기 표에서 제시한 희망 공모가격 범위는 워트㈜의 절대적인 가치를 의미하는 것은 아니며, 향후 국내외 경기, 주식시장 상황, 산업 성장성, 영업환경 변화 등 다양한 요인의 영향으로 인하여 예측, 평가 정보는 변동될 수 있음을 유의하여 주시기 바랍니다.금번 워트㈜의 코스닥시장 상장공모를 위한 확정 공모가격은 향후 수요예측 결과및 주식시장 상황 등을 고려하여 대표주관회사인 키움증권㈜와 발행회사인 워트㈜가 협의 후 최종 결정 예정입니다. 나. 공모가액의 산출방법 대표주관회사인 키움증권㈜는 상기와 같이 제시된 공모희망가액을 바탕으로 국내외 기관투자자를 대상으로 수요예측을 실시할 예정이며, 확정 공모가액은 동 수요예측 결과 및 주식시장 상황 등을 고려하여 발행회사인 워트㈜와 키움증권㈜이 협의하여 최종 확정할 예정입니다. (1) 희망공모가액 산출 방법 개요 대표주관회사인 키움증권㈜는 금번 공모를 위한 워트㈜의 주당가치를 평가함에 있어 한국거래소에 기상장된 유사회사를 이용한 상대가치 평가법을 이용하였으며, 2023년 2분기 말 기준 12개월(2022년 3분기 ~ 2023년 2분기) 경영성과로 산정한 PER을 적용하여 주당평가가액을 산정한 후, 주당평가가액을 할인하여 희망공모가액을 산정하였습니다. (2) 유사회사 선정 방법 워트㈜는 반도체 수율 향항을 위한 초정밀 온습도 제어 장비 사업을 영위하고 있으며, 대부분의 매출이 반도체 향 입니다. 동사는 한국표준산업분류 상 반도체 제조용 기계 제조업(C29271)에 분류되어 있습니다.동사의 업종분류 및 사업내용의 유사성, 비재무적 비교가능성 및 재무적 비교가능성 등을 종합적으로 고려하여 최종 비교회사를 선정하였으며, 최종 선정된 유사회사는 정보보안 사업을 영위하는 기업 중에서 영업성과를 시현하는 회사를 선정하였으나 영위하는 사업의 차이가 존재합니다. 또한 사업전략, 영업환경, 시장내 위치 등의 차이가 존재할 수 있으므로,투자자들께서는 비교참고 정보를 토대로 한 투자의사 결정 시 이러한 차이점이 존재한다는 사실에 유의하시기 바랍니다. (가) 유사회사 선정 개요 [유사회사선정 기준표] 구분 선정기준 세부검토기준 해당기업 1차 업종 유사성(한국표준산업분류) 한국표준산업분류상 다음 중 하나에 속하는 상장회사- 반도체 제조용 기계 제조업 (C29271)- 전자감지장치 제조업(C26295)- 물질 검사, 측정 및 분석기구 제조업(C27213) 총61개사49개사8개사4개사 2차 재무적 유사성 1차 유사회사로 선정된 기업 중① 2022년 온기 기준 영업이익 및 당기순이익을 시현 하였을 것② 2023년 2분기 기준 최근 4개 분기(2022년 3분기 ~ 2023년 2분기) 합산 영업이익 및 당기순이익 시현 ③ 결산월이 12월말로 동일할 것 44개사 3차 주력사업의 유사성 ① 반도체 장비 매출 비중이 가장 높을 것② 2023년
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2분기 기준 회사의 매출 품목 중 반도체 온도 혹은 습도 제어, 열처리 장비의 매출 비중이 가장 높을 것. 4개사 4차 비재무적 유사성 ① 최근 사업연도 감사의견 적정② 코스닥 상장 법인일 것③ 평가일로부터 1년 이내에 관리종목, 불성실공시법인 지정사유 및 기업회계기준 위배로 인한 조치를 받은 사실이 없는 기업④ 분석기준일 현재 상장 후 1년이 경과하였을 것⑤ PER 50 이상의 비경상적 배수 제외 4개사 (나) 유사회사 선정 세부내역 1) 1차 선정기준(업종의 유사성) 주관사인 키움증권㈜은 워트㈜의 지분증권 평가를 위한 유사회사 선정에 있어 유가증권시장 및 코스닥시장 상장법인 중 유사한 업종을 영위하는 회사를 기준으로 비교기업을 선정하고자 표준산업분류상 반도체 제조용 기계 제조업 (C29271), 전자감지장치 제조업(C26295), 물질 검사, 측정 및 분석기구 제조업(C27213)에 속한 상장사를 1차 유사회사로 선정하였습니다. 이와 같은 기준으로 선정되어 모집단에 속한 유사기업은 다음과 같습니다. [1차 유사기업 선정 내역] 한국표준산업분류 해당기업 기업수 반도체 제조용 기계 제조업 (C29271) 케이씨텍, 원익홀딩스, 피에스케이홀딩스, 유니셈, 주성엔지니어링, 이오테크닉스, 에스티아이, 한미반도체, 기가레인, 미래컴퍼니, 프로텍, 로체시스템즈, HB테크놀러지, 젬백스, 엘오티베큠, GST, 유진테크, 유니테스트, 동아엘텍, 테크윙, 코세스, 에이피티씨, 제이스텍, 엑시콘, 테스, 한솔아이원스, 예스티, 뉴파워프라즈마, 싸이맥스, 베셀, 코미코, 디바이스이엔지, 제너셈, 러셀, 더코디, 엔투텍, 와이아이케이, 원익IPS, 오션브릿지, 씨앤지하이테크, 원텍, 지앤비에스 에코, HPSP, 레이저쎌, 저스템, 엔젯, KX하이텍 49개사 전자감지장치 제조업(C26295) 자화전자, 일진머티리얼즈, 경인전자, 에프에스티, 픽셀플러스, 아이윈플러스, 트루윈, 아이쓰리시스템 8개사 물질 검사, 측정 및 분석기구 제조업(C27213) 위드텍, 진시스템, 피엠티, 제이티 4개사 2) 2차 선정기준(재무적 유사성) 2차 유사회사 선정은 기업의 재무적 유사성을 고려하여 산정하였습니다. 2022년 온기기준 영업이익과 당기순이익 시현, 2023년 2분기 기준 최근 4개 분기(2022년 3분기 ~ 2023년 2분기) 합산 영업이익과 당기순이익 시현, 결산월이 12월말인 기업을 대상으로 선정하였으며, 이와 같은 기준으로 선정된 기업은 총 44개사 입니다. [2차 유사기업 선정 내역] (단위 : 백만원) 회사명 2022년 온기 2023년 2분기 LTM 결산월 선정 여부 매출액 영업이익 당기순이익 매출액 영업이익 당기순이익 한미반도체 12월 선정 케이씨텍 12월 선정 이큐셀 6월 선정 피에스케이홀딩스 12월 선정 뉴파워프라즈마 12월 선정 원익IPS 12월 선정 엔투텍 12월 선정 제너셈 12월 선정 유진테크 12월 선정 케이엔제이 12월 선정 미래컴퍼니 12월 선정 동아엘텍 12월 미선정 원익홀딩스 12월 선정 베셀 12월 미선정 엘오티베큠 12월 선정 더코디 12월 미선정 주성엔지니어링 12월 선정 HB테크놀러지 12월 선정 테크윙 12월 선정 에이피티씨 12월 미선정 프로텍 12월 선정 에스티아이 12월 선정 젬백스 12월 미선정 윈텍 12월 선정 유니테스트 12월 미선정 KX하이텍 12월 선정 코세스 12월 선정 로체시스템즈 12월 선정 씨앤지하이테크 12월 선정 테스 12월 선정 지앤비에스 에코 12월 선정 GST 12월 선정 코미코 12월 선정 기가레인 12월 미선정 와이아이케이 12월 선정 이오테크닉스 12월 선정 제이스텍 12월 선정 러셀 12월 선정 예스티 12월 미선정 디바이스이엔지 12월 선정 싸이맥스 12월 선정 오션브릿지 12월 선정 엑시콘 12월 선정 한솔아이원스 12월 선정 유니셈 12월 선정 저스템 12월 미선정 레이저쎌 12월 미선정 엔젯 12월 선정 HPSP 12월 선정 자화전자 12월 미선정 롯데에너지머티리얼즈 12월 미선정 경인전자 12월 선정 에프에스티 12월 선정 픽셀플러스 12월 미선정
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아이윈플러스 12월 미선정 트루윈 12월 미선정 아이쓰리시스템 12월 선정 위드텍 12월 선정 피엠티 12월 미선정 제이티 12월 선정 진시스템 12월 미선정 주1) 연결 재무제표 작성법인은 연결 재무제표 지배주주 순이익 기준입니다.출처 : 각 사 사업보고서 및 분기보고서(DART공시) 3) 3차 선정기준(사업 및 제품의 유사성) 3차 유사회사 선정은 주력사업의 유사성을 고려하여 선정하였습니다. 주력 사업으로 반도체 장비를 제조하며 2023년 2분기 기준 회사의 매출 품목 중 반도체 온도 혹은 습도 제어, 열처리 장비의 비중이 가장 높은 기업을 대상으로 선정하였으며, 이와 같은 기준으로 선정된 기업은 총4개사입니다 [3차 유사기업 선정 내역] 회사명 2023년 2분기 주력사업(매출비중) 선정여부 한미반도체 케이씨텍 반도체 전공정 제조(연마, 세정) 장비 및 연마 소재 등 75.7%%, 디스플레이 제조(Wet Station, Coater) 장비 24.3% 피에스케이홀딩스 반도체 후공정 제조(패키징) 장비 85.0%, 패키징 장비 관련 부품·용역 15.0% 제너셈 반도체 후공정 반도체 제조(레이저마커,Saw Singulation, EMI Shield Solution, 테스트핸들러, 이송 등) 장비 100.0% 이큐셀 반도체 플라즈마 공정장치(고투과/저저항 투명전극 저온박막증착장치) 2.80%, 2차전지 물류자동화 시스템 92.90%, 장비 유지보수 관련 4.30% 엔투텍 반도체 장비 부품(진공밸브, Vacuum Chamber, T/M Vacuum, Chamber 등) 37.6%, LED 응원봉 및 MD상품 외 62.4% 뉴파워프라즈마 반도체 박막/식각 공정 장비 Plasma Cleaning 모듈 25.44%, 반도체 플라즈마 전원장치(RF Generator) 부품 2.27%, 방산부문 58.76%, 기타 13.53% 원익IPS 원익홀딩스 반도체 장비(TGS) 36.7%, 반도체용 및 일반산업용 가스 59.5%, 부동산 임대관리 2.6%, 경영관리 컨설팅 1.6% 엘오티베큠 반도체 장비용 진공펌프 92.6%, 반도체 액정표시장치(LCD) 제어장비 제조 7.4% 유니셈 반도체 CHILLER(온도조절 및 유지)장비 39.52%, 반도체 가스스크러버 (공정용 유해가스 정화) 장비 30.84%, 공사 및 용역 34.7% O 유진테크 반도체 전공정 제조(증착) 장비 88.8%, 반도체 산업가스 등 3.3%, 원부자재 7.9% 케이엔제이 디스플레이 제조(Cell분배, 연마, 검사) 장비 25.85%, 반도체 전공정 식각 소재 및 부품 등 74.15% 미래컴퍼니 반도체/디스플레이 제조(연마,검사,적재 등) 장비 등 95.6%, 기타 4.4% 주성엔지니어링 반도체/디스플레이/태양전지 제조 장비 86.4%, 원부자재 13.6% 프로텍 반도체/디스플레이/태양전지 제조 장비 72.4%, 원부자재 27.6% HPSP 반도체 전공정 고압수소 열처리 장비(GENI-SYS) 92.77%, 기타용역 7.23% O 코세스 반도체 후공정 제조 장비 19.92% 및 Conversion Kit·A/S 등 21.62%, 반도체·디스플레이 제조(가공-레이져) 장비 및 2차전지 제조장비 58.28%, 기타 0.18% 로체시스템즈 반도체 및 디스플레이 물류이송장비 96.41%, 유지보수 관련 2.09% 씨앤지하이테크 화학약품 혼합장치 외 36.6%, 불소수지 외 상품 21.1%, 용역공사 외 29.8%, 기타 12.6% 테스 반도체(PECVD, Gas Etcher 등) 및 디스플레이, UVC LED 장비 등 77.1%, 유지보수용역 등 22.9% 지앤비에스 에코 유해가스 및 분진 처리공정장비 76.68%, 유지보수용역 23.32% 테크윙 반도체 온도제어 테스트 핸들러 장비 49.65%, 테스트 핸들러 장비 관련 부품 등 44.53%, 디스플레이 검사 장비 및 PCB 설계 6.18% O GST 반도체 유해가스 정화 장치 57.0%, 반도체 칠러 장비 18.9%, 기타 및 용역 24.1% 코미코 반도체 부품(세정 38.9%, 코팅 51.7%, 부품 4.0%,
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세정) 94.6%, 반도체 상품 5.4% 와이아이케이 반도체 후공정 검사(메모리 웨이퍼 테스터 및 반도체 제조장비 부속품 외) 장비 97.3%, 용역매출 2.8% 이오테크닉스 반도체 생산 레이저마커 및 레이저응용 장비 75.9%, 기타 상품 24.1% 제이스텍 반도체 디스플레이 제조 장비 및 후공정 세정 장비 등 66%, 바이오진단키트 장비(30%), 2차전지 사업부(4%) 러셀 반도체 전공정 제조(증착) 장비 79.62%, 무인자동화 23.37% 에프에스티 반도체 CHILLER(온도조절 및 유지)장비 51.97%, 반도체 펠리클(Pellicle) 재료 45.14%, 기타 등 2.89% O 디바이스이엔지 반도체 전공정·디스플레이 제조(세정) 장비 99.92%, 고정밀 Filter 외 0.08% 싸이맥스 반도체 전·후공정 웨이퍼 이송 장비 90.27%, 환경설비 등 9.97% 오션브릿지 반도체 전공정 소재(케미컬) 37.27%, 반도체 제조(케미컬 공급장치) 장비 62.73%, 엑시콘 한솔아이원스 반도체 전공정 제조(정밀가공) 장비 68.15% 및 세정 장비 30.69%, 디스플레이 제조(정밀가공) 장비 1.17% 위드텍 반도체 클린룸 고감도 정밀측정과 오염제어 장비 59.15%, 용역 40.48% HB테크놀러지 반도체 디스플레이 검사기 및 2차전지 검사기 등 18.26%, 반도체 디스플레이 부품 46.43%, 금융투자관련 35.30% 에스티아이 반도체 패키징 공정장비(C.C.S.S.) 92.0%, 반도체 세정/식각(WET System) 장비 5.2%, 기타 2.8% 윈텍 전자 부품 관련 검사장비 91.3%, 디스플레이 관련 검사장비 8.4%, 필름 관련 검사장비 0.1% KX하이텍 반도체 재료 28.7%, SSD Case 및 Turnkey Box 15.7%, 위성방송 수신기 55.6% 경인전자 아이쓰리시스템 적외선 및 X-Ray 영상센서 등 99.41%, 용역 등 0.59% 제이티 반도체 검사장비 98.73%, 장비/설비 임대 1.27% 엔젯 EHD 잉크젯 프린팅 솔루션 97.24%, EHD 코팅 솔루션 0.75%, 기타 2.04% 주1) 출처 : 각 사 사업보고서 및 분기보고서(DART공시) * 4) 4차 선정 기준(비재무적 유사성) 대표주관회사인 키움증권(주)는 발행회사인 워트(주)의 평가가액 산출시 상대 비교를 위한 유사회사를 선정함에 있어서, 하기의 비재무적 선정기준을 바탕으로 4개 회사를 최종 유사회사로 선정하였습니다. 비재무적기준 ① 최근 사업연도 감사의견 적정② 코스닥 상장 법인일 것③평가일로부터 1년 이내에 관리종목, 불성실공시법인 지정사유 및 기업회계기준 위배로 인한 조치를 받은 사실이 없는 기업④분석기준일 현재 상장 후 1년이 경과하였을 것⑤ PER 50 이상의 비경상적 배수 제외 4개사 [4차 유사기업 선정 내역] 회사명 요건충족 여부 선정여부 최근사업연도감사의견 적정 코스닥 상장법인 평가일 기준 1년 이내 관리종목, 투자유의 등 없을 것 상장 후 1년 경과 PER 50이하 HPSP 적정 O O O O 선정 유니셈 적정 O O O O 선정 에프에스티 적정 O O O O 선정 테크윙 적정 O O O O 선정 출처 : 각 사 사업보고서 및 분기보고서(DART공시) (다) 유사회사 기준주가 기준주가는 시장상황의 일시적인 변동요인을 배제하고, 일정 기간 이상의 추세를 반영하기 위하여 신고서 제출 4영업일 전일인 분석기준일로부터 소급하여 1개월간(2023년 08월 09일 ~ 2023년 09월 05일)의 종가를 산술평균, 1주일간(2023년 8월 30일~9월 05일)종가의 산술평균을 산정한 후 이들을 평가기준일(2023년 9월 05일) 종가와 비교하여 가장 낮은 가액으로 산정하였습니다. - 기준주가 = MIN[1개월 평균 종가, 1주일 평균 종가, 분석기준일 종가] [비교회사 기준주가 산정 내역] (단위 : 원) 구분 HPSP 유니셈 에프에스티 테크윙 1개월 평균 종가 (A) 1주일 평균 종가 (B) 분석기준일 종가 (C) 유사회사의 주가Min(A,B,C) (라) 유사회사 선정과 관련한 투자자 유의사항
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대표주관회사인 키움증권㈜는 워트㈜의 지분 평가를 위한 비교회사의 선정에 있어, 상기의 선정기준을 일정수준 이상 충족하는 HPSP, 유니셈, 에프에스티, 테크윙 총 4개 회사를 최종 유사회사로 선정하였습니다. 이는 비교대상회사의 사업내용이 일정부분 동사의 사업과 유사성을 가지고 있어 기업가치 평가요소의 공통점이 있고, 일정 수준의 질적요건을 충족하는 유사회사를 선정함으로써 지분 평가의 신뢰성을 높이기 위한 것입니다.그러나 선정된 비교회사가 비록 사업의 연관성이 상대적으로 높고, 일정 선정기준을 적용하여 최종선정되었다고 하더라도 선정기준의 임의성으로 인하여 반드시 적합한 유사회사의 선정이라고 볼 수 없습니다. 또한, 유사회사 최고경영자의 경영능력 및 사업구조, 인력 수준, 주매출처의 안정성 및 기타 거래계약, 결제조건 등 기타 주식가치에 영향을 미칠 수 있는 사항의 차이점으로 인하여 유사회사 선정의 부적합성이 존재할 수 있음을 유의하시기 바랍니다. 또한, 동사의 주당 평가가액은 비교대상회사들의 신고서 제출일 전 최근 4개 분기(2022년3분기 ~ 2023년 2분기) 실적 합계를 바탕으로 PER을 적용하여 산출한 상대적 성격의 비교가치로서 동사의 기업가치를 평가하는데 있어 절대성을 내포하고 있는 것은 아니며, 비교대상회사의 기준주가를 특정시점에서 산정하였으므로 향후 발생할 수 있는 비교대상회사의 주가변동에 의하여 동사의 주당 평가가액도 변화할 수 있습니다.따라서, 유사기업의 기준주가가 미래 예상손익에 대한 기대감을 반영하고 있을 가능성을 고려한다면 동사의 주당 평가가액은 동사와 유사기업의 과거 경영실적을 활용하고 있다는점에서 비교평가방법은 평가모형으로서 완전성을 보장받지 못할 수 있습니다. (3) 비교가치의 산출 방법(가) 평가모형의 개요 일반적으로 주식시장에서 기업의 가치를 평가하는 방법으로는 절대가치평가법과 상대가치평가법이 있습니다.절대가치 평가방법으로는 대표적으로 미래현금흐름의 현재가치할인모형(DCF: Discounted Cash Flow Method)과 본질가치평가법이 있으며, 미래현금흐름의 현재가치할인모형(DCF)은 미래에 실현 될 것으로 예상되는 기업의 연도별 현금흐름을 추정하고 이에 적정한 할인율(가중평균자본비용, WACC : Weighted Average Cost Of Capital - 기업의 자본조달원천별 가중치를 곱하여 산출한 자기자본비용과 타인자본비용의 합)을 적용하여 현재가치를 산정하는 평가방법입니다. 이를 위해서는 최소 5년 이상의 미래 현금흐름 및 적정 할인율을 추정하여야 하며, 비교회사와 비교하기 위해서는 비교회사의 미래현금흐름 및 할인율을 추정하여야만 상호비교가 가능한 모형으로이러한 미래 현금흐름 및 적정 할인율을 산정함에 있어 객관적인 기준이 명확하지가 않고 평가자의 주관이 개입될 경우 평가 지표로서 유의성을 상실할 우려가 있습니다. 본질가치평가법은 2002년 8월 "유가증권인수업무에 관한 규칙" 개정 이전에 공모주식의 평가를 위해 사용하던 규정상의 평가방법으로 최근 사업연도의 자산가치와 향후 2개년 추정실적을 기준으로 한 수익가치를 1과 1.5의 가중치로 산출하는 절대가치 평가방법의 한 기법입니다. 그러나, 본질가치를 구성하는 자산가치는 역사적 가치로서 기업가치를 평가함에 있어 과거 실적을 중요시 한다는 점에 있어 한계가 있으며, 또한 이를 보완하는 향후 2개년간 추정손익에 의해 산정되는 수익가치는 손익 추정시 평가자의 주관 개입 가능성, 추정기간의 불충분성 및 자본환원율로 인한 기업 가치의 고평가 가능성 등은 한계점으로 지적되고 있습니다. 상대가치 평가방법(PER, EV/EBITDA, PSR, PBR 등)은 주식시장에 분석대상기업와 동일하거나 유사한 제품을 주요제품으로 하는 비교가능성이 높은 유사 기업들이 존재하고, 주식시장은 이런 기업들의가치를 평균적으로 올바르고 적정하게 평가하고있다는 가정하에 분석대상기업과 비교기업을 비교/평가하는 방법으로서 그 평가방법이 간단하고 연관성을 갖기 때문에 유용한 기업가치 평가방법으로 인정되고 있습니다. 그러나, 비교기업의 선정시 평가자의 주관 개입
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가능성과 시장의 오류(기업가치의 저평가 혹은 고평가)로 인한 기업가치 평가의 오류 발생가능성은 여전히 상대가치 평가방법의 한계점으로 지적되고 있습니다. 이와 같이 상대가치 평가방법(PER 비교, EV/EBITDA 비교, PSR 비교, PBR 비교 등)을 적용하기 위해서는 비교대상 회사들이 우선적으로 일정한 재무적 요건을 충족하여야 하며 또한, 사업적, 기술적, 관련 시장의 성장성, 주력 제품군 등의 질적 측면에서 일정 부분 평가대상회사와 유사성을 갖고 있어야 합니다. (나) 평가모형의 선정 금번 공모의 대표주관회사인 키움증권㈜는 워트㈜의 주당가치를 평가함에 있어 상기 평가방법 중 동사의 2023년 2분기 기준 과거 12개월의 당기순이익을 기준으로 코스닥시장에 기상장된 비교기업 PER 지표를 적용한 상대가치 평가법을 이용하였습니다. [워트㈜ 비교가치 산정시 PER 적용 사유] 적용 투자지표 투자지표의 적합성 PER PER(주가수익비율)는 해당 기업의 주가가 주당순이익(EPS)의 몇 배인지를 나타내는 비율로서 기업 수익력의 성장성, 위험 등의 측면이 총체적으로 반영되는 가장 일반적인 투자지표입니다.PER는 순이익 기준으로 비교가치를 산정하므로 수익성을 잘 반영하고 있을 뿐만 아니라 개별기업 수익력의 성장성, 위험등을 반영하여 업종평균 대비 할증 또는 할인하여 적용할 수 있기 때문에, 동사와 같이 배당의 재원이 되는 수익성(주당순이익)이 중요한 회사의 경우 가치평가의 적합성을 내포하고 있어 적용하였습니다. [워트㈜ 비교가치 산정시 PBR, PSR, EV/EBITDA 제외사유] 적용 투자지표 투자지표의 적합성 PBR PBR(주가순자산비율)은 해당 기업의 주가가 BPS(주당순자산)의 몇배인가를 나타내는 지표로 엄격한 회계기준이 적용되고 자산건전성을 중요시하는 금융기관의 평가나 고정자산의 비중이 큰 장치산업의경우 주로 사용되는 지표입니다.동사의 경우 금융기관이 아니며, 고정자산 비중이 크지 않아 순자산가치가 상대적으로 중요하지 않기 때문에 가치평가의 한계성을 내포하고 있어 가치산정시 제외하였습니다. PSR PSR(주가매출액비율)은 해당 기업의 주가가 SPS(주당매출액)의 몇배인가를 나타내는 지표로 일반적으로 비교기업의 이익이 적자(-)일경우 사용하는 보조지표로 이용되고 있습니다.PSR이 적합한 투자지표로 이용되기 위해서는 비교기업간에 매출액 대비 수익률이 유사해야 하지만 현실적으로 기업마다 매출액 대비 수익율(ROS)은 상이하며, 단순히 매출액과 관련하여 주가 비교시에 수익성을 배제한 외형적 크기만을 비교하여 왜곡된 정보를 제공할 수 있기 때문에 사용하기 적합하지 않습니다. EV/EBITDA EV/EBITDA는 기업가치(EV)와 영업활동을 통해 얻은 이익(EBITDA)과의 관계를 나타내는 지표로 기업이 자기자본과 타인자본을 이용하여 어느 정도의 현금흐름을 창출할 수 있는 지를 나타내는 지표입니다.EBITDA는 유형자산이나 기계장비에 대한 감가상각비 등 비현금성 비용이 많은 산업에 유용한 지표이기 때문에 설비투자가 필요 없는 동사의 사업구조에는 적정한 지표로 사용되기 어렵다는 판단하에 가치산정시 제외하였습니다. (다) 평가모형의 적용 1) 비교회사 PER 산정 [PER을 적용한 비교가치 산정방법의 의의, 산정방법 및 한계점]① 의의- 주가수익비율(PER)은 해당 기업의 주가가 주당순이익(EPS)의 몇 배인지를 나타내는 수익성을 중시하는 대표적 지표입니다.- PER는 대부분의 주식에 적용하여 계산이 간단하고 자료수집이 용이하여 위험, 성장율을 반영한 기업의 특성에 대한 지표로 이용되고 있습니다.② 산정방법- PER를 적용한 비교가치는 신고서 제출일 전 최근 4개 분기(2022년 3분기 ~ 2023년 2분기)순이익을 기준으로 비교대상회사의 PER를 산출한 후 동사에 적용하여 비교가치를산출하였습니다.※ PER를 이용한 비교가치 = 시가총액 ÷ 적용주식수- 대표주관회사인 키움증권㈜는 비교가치 산정시 유사회사의 주식수는 상장주식수를 반영하였으며, 발행사의 발행주식수는 신고서 제출일 기준일 현재 보통주식수에 공모주식수와 희석화 가능
워트 — 증권신고서(지분증권)

주식수를 포함하여 제시하고 있습니다.※ 적용주식수 : 유사회사 - 분석기준일 현재 상장주식수 발행회사 - 신고서 제출일 현재 주식수 + 공모주식수 + 희석요인 + 상장주선인 의무인수 주식수※ 유사회사의 재무자료는 전자공시시스템 홈페이지에 공시된 각 사의 사업보고서 등 을 참조하였습니다.③ 한계점- 당기순이익이 적자(-)를 기록하는 경우 PER을 비교할 수 없습니다.- 현재의 주가수준은 과거의 실적보다 미래의 예상이익에 대한 기대감을 반영하고 있으므로 과거 재무제표에 의거한 비교분석에 한계점이 존재합니다.- 비교대상회사가 동일업종에 속한다고 해도 각 회사에 고유한 사업구성, 시장점유율, 인력수준, 재무위험 등에서 차이가 있기 때문에, 동일업종을 비교분석하는 데에도 한계점이 존재할 수 있습니다.- PER 결정요인에는 주당순이익 뿐만 아니라 배당성향 및 할인율, 성장율 등이 있으므로 동 업종에 속한다고 해도 순이익 규모, 현금창출 능력, 유보율, 자본금 등 여러 요인을 고려할 경우 비교가 곤란할 수 있습니다. [최근 4개 분기 유사회사 평균 PER] 구 분 HPSP 유니셈 에프에스티 테크윙 적용 순이익(백만원) 주1), 주3) 발행주식총수(주) 주2) 적용 주당순이익(EPS, 원) 기준주가(원) PER(배) 평균 PER(배) 23.19배 주1) 연결 재무제표 작성법인은 연결 재무제표 지배주주 순이익 기준입니다. 주2) 발행주식총수는 평가기준일 현재 상장주식총수입니다. 주3) 2023년 2분기 기준 최근 4개 분기(2022년 3분기 ~ 2023년 2분기) 순이익을 기준으로 산정하였습니다. 2) PER을 적용한 주당 평가가액 산출 구 분 산출내역 비 고 적용 당기순이익(천원,A) 주1 유사회사 평균 PER(배,C) 23.19 배 주2 적정시가총액(D) 104,362 백만원 D=BxC 공모 후 주식수(E) 주3 주당 평가가격(F) 6,395 원 F=D/E 주1) 적용 순이익은 2023년 2분기 기준 과거 12개월(LTM) 당기순이익입니다. 주2) 평균 PER 배수는 유사기업의 신고서 제출일 전 최근 4개 분기(2022년 3분기~2023년 2분기)의 순이익 기준 PER을 산술평균하여 적용하였습니다. 주3) 적용주식수 = 발행주식총수(12,000,000주) + 공모주식수(4,000,000주) + 상장주선인 의무 취득에 따른 주식수(120,000주) + 대표주관사 신주인수권(200,000주)= 16,320,000주 상기 주당 평가가액은 대표주관회사의 주관적인 판단요소(유사회사 선정, 가치평가방법의 선정 및 적용방법, 유사회사의 기준주가 선정 등)들이 반영되어 있으며 경기 변동의 위험, 동사의 영업 및 재무에 관한 위험, 동사가 속한 산업의 위험 등이 반영되지 않은 상대적 평가가액으로서, 향후 동사가 코스닥시장에서 거래될 때의 미래가치를 반영한 적정주가라고는 볼 수 없습니다. (4) 공모희망가액 산정 [워트㈜ 공모희망가액 산출내역] 구 분 내 용 비교가치 주당 평가가액 6,395원 평가액 대비 할인율 주1) 공모희망가액 밴드 확정 공모가액 주2) 주1) 주당 희망 공모가액의 산출을 위하여 적용한 할인율은 2023년 코스닥시장에 신규상장한 기업의 주당 희망 공모가액 산출을 위하여 적용한 할인율 등을 종합적으로 고려하여 산정하였습니다. 주2) 확정 공모가액은 수요예측 결과를 반영하여 최종 확정될 예정입니다. [2023년 코스닥시장 신규상장법인의 평가액 대비 할인율] 회사명 상장일 평가액 대비 할인율(%) 하단 상단 한주라이트메탈 티이엠씨 미래반도체 오브젠 삼기이브이 스튜디오미르 꿈비 샌즈랩 제이오 이노진 바이오인프라 나노팀 자람테크놀로지 금양그린파워 엘비인베스트먼트 지아이이노베이션 마이크로투나노 토마토시스템 에스바이오메딕스 트루엔 씨유박스 모니터랩 기가비스 진영 나라셀라 마녀공장 큐라티스 프로테옴텍 시큐센 알멕 오픈놀 이노시뮬레이션 필에너지 센서뷰 와이랩 뷰티스킨 버넥트 파로스아이바이오 에이엘티 시지트로닉스 엠아이큐브솔루션 파두 코츠테크놀로지 큐리옥스바이오시스템즈 빅토리콘텐츠 넥스틸 시큐레터 평균 대표주관회사인 키움증권㈜은 워트㈜의